JP7022706B2 - 層間熱接合部材、層間熱接合方法、層間熱接合部材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、発熱源の熱を速やかに冷却・放熱部に伝達するための層間熱接合部材、熱接合方法、および層間熱接合部材の製造方法に関する。

近年、マイクロプロセッサの高速化やＬＥＤ(Light Emitting Diode)チップの高性能化に伴う発熱量の上昇により、携帯電話、パソコン、ＰＤＡ(Personal Digital Assistant)、ゲーム機などの電子機器やＬＥＤ照明などにおける熱の問題が解決するべき大きな課題となっている。放熱・冷却には熱伝導、熱放射、熱の対流を利用する方法があり、熱の対流を利用する冷却方式としてはヒートシンクや空冷ファンが、熱放射を利用するものとしてはセラミック板が、熱伝導を利用するものとしては各種の熱伝導（拡散）シート、熱伝導性樹脂などがある。発熱源の熱を効果的に放熱・冷却するには、これらの放熱・冷却方式を組み合わせ、発熱部の熱を回路基板や冷却フィン、ヒートシンクなどの放熱・冷却部に効率よく伝達する必要があり、そのためには発熱部と放熱・冷却部間の熱抵抗の低減が重要となる。

発熱部と放熱・冷却部同士を単に接合しても、部材表面の凹凸のために層間の接合は点接触となり、結果として層間には熱伝導率の低い空気層（熱伝導率：０．０２Ｗ／ｍＫ）が存在するため、大きな熱抵抗が生じる。層間熱接合部材（Thermal Interface Material、以下ＴＩＭと略す）はこのような層間の熱抵抗を下げるために用いられ、金属同士や金属とセラミックなどの部材間に挟持して使用される。この場合、ＴＩＭ自体の熱伝導率が高いこと、部材とＴＩＭ間の界面熱抵抗が小さいことが重要となる。

界面での熱抵抗を小さくするためには、界面の接触面積を増大させる（面接触に近づける）ことが必要である。そのために従来、面接触とするための柔軟性・流動性を有する高分子材料と、ＴＩＭ自体を高熱伝導率にするための高熱伝導性無機フィラーを混合したものが用いられてきた（高分子／無機複合体、以下、複合型ＴＩＭと略す）。複合型ＴＩＭによって界面は面接触となり、層間から空気層が除かれるために層間の熱抵抗を低減する事ができる。しかしながら、この様な複合型ＴＩＭでは、高熱伝導性実現のために高熱伝導性無機フィラーの添加量を増加させると柔軟性・流動性が損なわれ、界面の熱抵抗が増加するという問題がある。

さらに、複合型ＴＩＭではマトリックスである柔軟性高分子材料としてアクリル樹脂、エポキシ樹脂、あるいはシリコン樹脂などの高分子が用いられるが、これらのマトリックス高分子を使用する限りにおいては、例えば、２００℃を越えるような厳しい高温での環境では使用に耐えられないことは明らかである。そのため近年のマイクロプロセッサの高速化やＬＥＤチップの高性能化に伴う発熱量の上昇、あるいは自動車のエンジン周り等の厳しい熱環境での使用に耐えられる様な、耐熱性・耐久性に優れるＴＩＭが強く要望されている。

しかし、熱抵抗値は実際に狭持される部材の表面の凹凸によって大きく影響される、という問題がある。その様な観点から、実際の複合型ＴＩＭの場合には狭持される部材の凹凸を考慮してＴＩＭの厚さを厚くしてあり、一般的な複合型ＴＩＭの厚さは０．５～５ｍｍ程度である。これはＴＩＭが部材の凹凸部分に入り込む必要があるからである。

そこで本発明者らはより薄いグラファイト膜ＴＩＭの開発を行なった。具体的には、厚さが１０ｎｍ～１５μｍ、膜面方向の熱伝導率が５００Ｗ／ｍＫ以上で、膜面方向と厚さ方向の熱伝導率の異方性が１００以上であるグラファイト膜ＴＩＭを開発した。このグラファイトＴＩＭは、例えば１．０ｋｇｆ／ｃｍ²の圧力下で０．９８Ｋ・ｃｍ²／Ｗ（厚さ１３μｍ）～０．３３Ｋ・ｃｍ²／Ｗ（厚さ１０５ｎｍ）の優れた熱抵抗特性を示すことを見つけ出し特許出願した（特許文献１）。

特開２０１４－１３３６６９号公報

しかしながら、複合型ＴＩＭを、表面に凹凸のある部材に使用する場合には、通常その熱抵抗値は鏡面部材に狭持した場合の数倍大きくなる。ＴＩＭの実用的な特性である熱抵抗値は、ＴＩＭ自体の熱抵抗と界面での熱抵抗の和であり、複合型ＴＩＭにおける熱抵抗値は０．４～４．０Ｋ・ｃｍ²／Ｗ程度であるが、この熱抵抗値は実際に狭持される部材の表面の凹凸によって大きく影響される、という問題がある。上記の複合体ＴＩＭにおける熱抵抗である０．４～４．０Ｋ・ｃｍ²／Ｗの値はあくまでもほぼ鏡面と考えられる部材で狭持した場合の特性であり、実用的な凹凸を有する部材間で使用する場合にはその値よりも大きな値となる。従って、凹凸のある部材間で使用して１．０Ｋ・ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗特性が実現できれば、十分に高性能のＴＩＭであると評価できる。

また、特許文献１に記載されているグラファイト膜ＴＩＭの特性は鏡面部材間で用いる場合に特に有効なものであり、現実的に凹凸を持つ部材間では十分にその熱抵抗を低くできない。そこで、本発明は、凹凸の存在する実用的な部材間で用いた場合にでも、既存のＴＩＭと同等以上の低熱抵抗特性を持ち、さらに複合型ＴＩＭでは到底達成し得なかった耐熱性・耐久性に優れた層間熱接合部材、層間熱接合方法、及び層間熱接合部材の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、本発明者らによる先願発明（特許文献１）の改良をすすめ、グラファイト膜の厚さ、膜の熱伝導度とその異方性、膜のシワ等の影響を詳細に検討し、特定のグラファイト膜に最適なシワを施す（本発明では、グラファイト膜の算術平均粗さＲａで特定する）事で、凹凸を有する既存の部材間でも優れた熱接合が可能となる事を発見して完成したものである。本発明のグラファイトＴＩＭは複合型ＴＩＭと比較して薄い事からそのバルクの熱抵抗が極めて小さく、面方向に高い熱伝導特性を有することと最適なシワが設けられている事によって後述するような特異な効果（本発明では多点接合効果と表現している）が実現する。本発明者らは、これらの効果により凹凸を有する部材間であってもその界面抵抗（界面の熱抵抗）を極めて小さく出来るという従来全く知られていなかった新たな事実を発見した。具体的に達成できる熱抵抗値は０.２ＭＰａでの加圧時において１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下である。なお本明細書では「加圧する」ことを「荷重を加える」とも言う。

また、本発明の固体ＴＩＭを用いた熱接合では、その熱抵抗値の圧力依存性が極めて小さいと言う特異な熱接合特性を実現できる。具体的には、０.１ＭＰａでの加圧時と０.５ＭＰａでの加圧時の熱抵抗の差（すなわち、０．５ＭＰａで加圧した時の熱抵抗値に対する０．１ＭＰａで加圧した時の熱抵抗値の比）を３倍以内とする事が出来る。固体のＴＩＭでありながら、この様に低い圧力下での熱抵抗値が極めて小さく、その値の圧力依存性が非常に小さい事もまた従来全く知られていない特異な現象である。この様な圧力依存性は、小さな加圧でも低い熱抵抗特性が実現でき、機械的な強い締め付けを必要としない事を意味している。これは機械的な締め付けが緩んだとしてもその熱抵抗がほとんど影響されないという実用上極めて有用な特性となる。

本発明で対応可能な部材の凹凸はＲａ表示で例えば５．０μｍ以下であり、この範囲のＲａは現実的な多くの部材の表面凹凸に対応しているために、本発明は有用な発明である。なお、Ｒａ値は粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さｌだけを抜き取り、この抜き取り部分の平均線の方向にＸ軸を、縦倍率の方向にＹ軸を取り、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表したときに、次の式によって求められる値をμｍで表したものをいう。

すなわち、本発明にかかる層間熱接合部材は２つの部材間に狭持されて熱を伝達する層間熱接合部材であって、グラファイト膜を有し、グラファイト膜の厚さは１μｍ～５０μｍであり、密度は１．４０ｇ／ｃｍ³～２．２６ｇ／ｃｍ³であり、膜面方向の熱伝導度は５００Ｗ／ｍＫ～２０００Ｗ／ｍＫであり（好ましくは５００Ｗ／ｍＫ超、２０００Ｗ／ｍＫ以下）、グラファイト膜の表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ～１０μｍである。

さらに本発明者らは、好ましい態様において、シワの大きさのみでなくその均一性も低熱抵抗特性の実現に重要である事を見出した。シワの均一性は原理的には複数箇所の算術平均粗さＲａを測定した時の各箇所のＲａ値の、全複数箇所での測定結果から求まるＲａの平均値（Ｒａｖｅ）に対する比、(Ｒａ／Ｒａｖｅ）を取れば良い。しかし、一定面積のすべての個所のＲａを測定する事は不可能であり、シワを定量的に記載する事は非常に難しい。そのため、我々は図１に示した方法でシワの均一性の定量化を行なった。まず、試料となるグラファイト膜を５０×５０ｍｍ²に切断し、図１の黒線に示した５ヶ所の線分方向に表面粗さＲａ値を測定した。ここで、１αは約５０ｍｍ角のグラファイト膜の各辺の中点、１βは５箇所の黒い線分の中点であり、１γは約５０ｍｍ角のグラファイト膜の重心である。前記５ヶ所の線分のうち、１つの線分は前記グラファイト膜の各辺と４５°の角をなし、該線分の中点は前記グラファイト膜の重心と一致している。また、他の４つの線分は、前記グラファイト膜の４つの辺に対してそれぞれ平行で、最も近い辺との距離が４ｍｍであり、各線分の中点１βと最も近い辺の中点１αを繋ぐ線分は最も近い辺に垂直である。その結果このような方法で測定した場合に、本発明の優れた熱抵抗特性を実現するためには（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値が０．２～５．０の範囲である事が好ましい事が分かった。前記した（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値が０．２～５．０の範囲であるとは、前記５箇所で測定される算術平均粗さをそれぞれＲa_i（iは１～５のいずれか）とし、Ｒａ₁～Ｒａ₅の平均値をＲａｖｅとするとき、Ｒａ_i／Ｒａｖｅの値がいずれも０．２～５．０であることを意味する。グラファイト膜の面積が５０×５０ｍｍ²よりも小さい場合には、グラファイト膜を正方形に切り出し、上記した５０×５０ｍｍ²の場合と同様に、正方形の四辺にそれぞれ平行で所定距離離れた４つの線分と、正方形の対角線上に位置する線分を測定位置とすればよい。ただし、本発明の好ましい態様で規定されたシワの均一性を評価する指標である（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値はあくまで図１に記載した方法で測定した場合の値であり、この方法以外の方法で測定した（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値（すなわち、Ｒａのバラツキ）が０．２～５．０の範囲を越えたとしても、それが本発明の好ましい範囲を逸脱する事を意味しない。

ＴＩＭの熱抵抗特性は先に述べた様に部材の凹凸によっても影響される。本発明のグラファイトＴＩＭにおいては、たとえグラファイト膜に本発明のシワを設けたとしても部材のすべての大きさの凹凸に対応できる訳ではない。０.２ＭＰａでの加圧時において１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の特性を実現できる範囲は、部材の表面凹凸がＲａ（算術平均粗さ）表示で５．０μｍ以下、Ｒｚ（１０点平均粗さ）表示で２５μｍ以下の場合である。この値を越えるような凹凸に対しては、本発明のグラファイトＴＩＭを用いても１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の特性を実現する事は難しい。一方、部材表面の凹凸がＲａ表示で０．２μｍ未満、Ｒｚ表示で１．０μｍ未満である様な場合には本発明の様な特別なシワの形成を必要としない。すなわち本発明は、少なくとも一方の部材の表面の粗度を表すＲａ値が０．２μｍ～５．０μｍ、Ｒｚ値が１．０μｍ～２５μｍ以下である２つの部材間の熱接合に最適なＴＩＭであって、本発明のＴＩＭを用いる事により熱抵抗値を１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下（ただし、０．２ＭＰａで加圧した場合）とする事が出来る。

本発明の熱接合の特徴として、低熱抵抗特性以外に、熱抵抗特性の圧力依存性を極めて小さく出来るという特徴を挙げる事ができる。すなわち、本発明は、部材の表面算術平均粗さＲａが０．２～５．０μｍの範囲であり、かつ１０点平均粗さＲｚが１．０～２５μｍの範囲である２つの部材間で、０．１ＭＰａでの加圧時と０．５ＭＰａでの加圧時の熱抵抗値の差を３倍以内とする事が可能な層間熱接合方法である。

さらに、本発明のグラファイトＴＩＭは極めて優れた耐熱・耐久性を有しているので、過酷な熱環境において好ましく用いる事ができる。本発明のＴＩＭは１５０℃、２４０時間経過する耐久試験（通常、空気中）において熱抵抗値の増加率を２０％以内にする事が出来る。従って、この様な本発明のグラファイトＴＩＭを用いた熱接合法は少なくとも一方の部材が１５０℃以上である場合には極めて有効な熱接合方法である。

本発明のグラファイトＴＩＭを作製する方法は特に限定されないが、高分子膜を炭素化、黒鉛化する工程によって製造されることが好ましい。

前記、高分子原料の種類については特に限定されないが、縮合系芳香族高分子を含むものである事が好ましい。

さらに、前記縮合系芳香族高分子が、１．６７μｍ～１２５μｍの範囲の厚さの芳香族ポリイミド膜であり、該芳香族ポリイミド膜を２４００℃以上の温度で熱処理する事が好ましい。

前記の様な最適なシワ（粗度）を付与する方法は特に限定されないが、前記炭素化、黒鉛化の少なくとも１つの処理工程で、高分子膜、炭素化膜、またはグラファイト膜を複数の点で保持し、加圧しつつ熱処理する事が好ましい。

さらに、前記炭素化、黒鉛化の少なくとも１つの処理工程で、高分子膜、炭素化膜、又はグラファイト膜の少なくとも片方の面（好ましくは両方の面）と、表面粗さＲａが０．１μｍ以上、１０μｍ以下であるスペーサーを積層し、加圧しつつ熱処理することが好ましい。

前記スペーサーについては必要な凹凸と耐久性、耐熱性をもつものであれば特に限定されないが、スペーサーが炭素繊維またはグラファイト繊維等の炭素材料からなるフェルトである事は好ましい。

すなわち上記課題を解決し得た本発明は以下の通りである。
（１）２つの部材の間に狭持されて熱を伝達する層間熱接合部材であって、層間熱接合部材はグラファイト膜を有し、グラファイト膜の厚さは１μｍ～５０μｍであり、密度は１．４０ｇ／ｃｍ³～２．２６ｇ／ｃｍ³であり、膜面方向の熱伝導度は５００Ｗ／ｍＫ～２０００Ｗ／ｍＫであり、グラファイト膜の表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ～１０μｍである層間熱接合部材。
（２）グラファイト膜は複数箇所の表面の算術平均粗さＲａと算術平均粗さＲａの平均値（Ｒａｖｅ）との比（Ｒａ／Ｒａｖｅ）が０．２～５．０である（１）に記載の層間熱接合部材。
（３）（１）または（２）に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ～５．０μｍであり、２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍであり、０．２ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値が１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下である層間熱接合方法。
（４）（１）または（２）に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２～５．０μｍであり、２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍの範囲であり、０．１ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.1）と０．５ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.5）の比（Ｒ_0.1／Ｒ_0.5）が１.０～３.０である層間熱接合方法。
（５）（１）または（２）に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ～５．０μｍであり、２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍであり、空気中１５０℃の環境下で２４０時間経過する耐久試験の前後において、熱抵抗値の増加率が耐久試験の前における熱抵抗値の２０％以下である層間熱接合方法。
（６）高分子膜を炭素化して炭素化膜を得る炭素化工程および炭素化膜を黒鉛化してグラファイト膜を得る黒鉛化工程を含む（１）または（２）に記載の層間熱接合部材の製造方法。
（７）高分子膜が縮合系芳香族高分子を含む（６）に記載の層間熱接合部材の製造方法。
（８）高分子膜は芳香族ポリイミドを含み、厚さが１．６７μｍ～１２５μｍであり、高分子膜を２４００℃以上の温度で熱処理して得る工程を含む（６）または（７）に記載の層間熱接合部材の製造方法。
（９）炭素化工程および黒鉛化工程の少なくとも１つの工程において、高分子膜、炭素化膜またはグラファイト膜のいずれかが複数の点で保持され、加圧されながら熱処理される（６）～（８）のいずれか１つに記載の層間熱接合部材の製造方法。
（１０）高分子膜、炭素化膜またはグラファイト膜の少なくともいずれかの膜の片側の面にはスペーサーが積層されて熱処理される（６）～（９）のいずれか１つに記載の層間熱接合部材の製造方法。
（１１）スペーサーの表面粗さＲａは０．１μｍ～１０μｍである（１０）に記載の層間熱接合部材の製造方法。
（１２）スペーサーが炭素繊維またはグラファイト繊維からなるフェルトを含む（１０）または（１１）に記載の層間熱接合部材の製造方法。

本発明によれば凹凸を有する部材間に用いても１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の低熱接合特性が実現され、さらに熱抵抗特性の加圧圧力依存性が極めて小さく、耐熱性などの環境安定性にも非常に優れた層間熱接合が実現できる。

本発明における算術的平均表面粗さ（Ｒａ）の測定方法を示す。測定は５０ｍｍ角の正方形のグラファイト膜を用い、表面粗さＲａの測定箇所は、図中の線分で示した５箇所である。ただし、１αはグラファイト膜の各辺の中点、１βは５箇所の線分の中点、１γはグラファイト膜の重心である。５箇所の線分方向に表面粗さ（算術平均粗さＲａ）の測定を行う。 本発明のグラファイト膜のシワの状況を示す断面模式図。（ａ）は部分的にシワのほとんど無い部分を有し、また部分的に不均一で大きな凹凸を有するグラファイト膜断面のイメージ図であり、（ｂ）は均一ではあるが本発明の範囲外の大きな凹凸を有するグラファイト膜の概略断面のイメージ図であり、（ｃ）は本発明の最適な凹凸を有するグラファイト膜の概略断面のイメージ図であり、（ｄ）は凹凸のほとんどない、本発明の範囲外のグラファイト膜の概略断面イメージ図である。 実際のグラファイト膜の表面写真の例。（ａ）不均一で大きなシワが存在するグラファイト膜の例、（ｂ）均一で大きなシワが存在するグラファイト膜の例、（ｃ）均一で適当な好ましい大きさのシワが存在するグラファイト膜の例、（ｄ）シワのほとんど無いグラファイト膜の例。（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は図２で示した断面イメージの実例であり、それぞれ図２の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に対応している。 本発明のグラファイト膜（図３（ｃ））の断面ＳＥＭ写真。適度で均一なシワが形成されている。 平面基板で被処理膜を挟んで加圧焼成する本発明のグラファイトＴＩＭの作製方法の一例を示す概略図。 表面粗度の存在する（すなわち、表面凹凸を有する）部材間の熱抵抗測定法の原理（１）。ＴＩＭを表面粗度（凹凸）の存在する部材間に挟んで、試験ごとに表面粗度を変えてその熱抵抗を測定する。 表面粗度の存在する部材間の熱抵抗特性測定法の原理（２）。片方の面にある大きさの凹凸が存在する銅箔を用い、この銅箔間にグラファイトＴＩＭを狭持して測定を行なう。銅箔の他の面はほぼ鏡面と考えられ銅箔であり、この面は熱測定用ロッドとシリコングリースを介して測定機器のロッドと接合している。 表面粗度の存在する部材間の熱抵抗特性測定法の原理（３）。ほぼ鏡面と考えられる銅箔の両面をシリコングリースでコートした時の熱抵抗値を測定する。この測定で得られた値を図７の方法で測定された熱抵抗値から差し引く。

本発明で得られるＴＩＭ（層間熱接合部材）の熱抵抗特性（熱を伝達する特性）を、本発明者らの先願（特許文献１）で得られているグラファイトＴＩＭの熱抵抗特性と比較・議論する。特許文献１の結果では、厚さ１３μｍ～１８ｎｍの範囲のグラファイト膜において、１.０ｋｇｆ／ｃｍ²での加圧時の特性として０．９８～０．３３℃ｃｍ²／Ｗの特性が得られ、本発明の厚さ範囲である１μｍ以上では０．３８～０．９８℃ｃｍ²／Ｗであると報告されている。（注：本発明においては加圧する荷重の大きさをＭＰａで記載する。１.０ｋｇｆ／ｃｍ²の荷重は、ほぼ０．１ＭＰａに等しい。）しかしながら、これらの特性はあくまでも熱抵抗測定装置によって測定された、鏡面研磨された電極間での特性である。特許文献１のグラファイト膜を凹凸のある部材間に実際に適用した場合には、２倍～５倍に及ぶ大きな熱抵抗特性となる。どの程度熱抵抗値が増加するかは部材の凹凸の大きさによって変わるので特定できないが、大きな凹凸を持つ部材間で用いられるほどその熱抵抗値が大きくなる傾向がある。なお本発明では熱接合される２つの部材を単に「部材」と表現している。

そのために、我々は表面粗度の異なる銅箔を準備し、実施例に述べる方法によって凹凸を有する部材間での熱抵抗値を、試験ごとに表面粗度を変えて測定した。その結果、特許文献１で得られた熱抵抗特性は大きく増加した。例えば、表面粗度Ｒａが０．２６μｍの銅箔で挟んだ時には、熱抵抗値は約３倍増加した。すなわち、上記特許文献１で得られた熱抵抗値である０．３８～０．９８℃ｃｍ²／Ｗの範囲の値は１．２～２．４℃ｃｍ²／Ｗの範囲の値となった。この様な結果から、我々は熱抵抗値の達成目標を１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下と定め、その様な特性を実現できるＴＩＭの開発を行なった。

まず我々は、この様な凹凸のある部材間で用いても熱抵抗値の増加が抑えられる様な手法を検討した。多伎に渡る検討の結果、我々はグラファイト膜に最適なシワを設ける事によりこの熱抵抗値を大幅に低減できる事を見出し、本発明を成すに至った。本発明で到達できる熱抵抗値は１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下であり、最も低い熱抵抗値は０．２℃ｃｍ²／Ｗであった。本発明によれば、１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗値は、０．５ＭＰａの荷重を負荷した際に達成できるのはもちろんのこと、０．２ＭＰａの際にも達成でき、更には０．１ＭＰａの際にも達成できる場合がある。０．２ＭＰａの荷重を負荷した際の熱抵抗値は、好ましくは０．９℃ｃｍ²／Ｗ以下であり、より好ましくは０．８℃ｃｍ²／Ｗ以下であり、更に好ましくは０．７℃ｃｍ²／Ｗ以下である。この様に凹凸を有する部材間の低熱接合がシワを設けたグラファイト膜ＴＩＭを用いる事によって可能であるという事は、従来全く知られていなかった事である。

この様な本発明の熱接合においては、熱抵抗特性の圧力依存性が小さい事もその特徴である。本発明は実用的な１.０～５０μｍの厚さのグラファイト膜ＴＩＭにおいて、０．１ＭＰａ加圧時と０．５ＭＰａ加圧時の熱抵抗の比が３倍以下であるような小さな圧力依存性を実現したものである。つまり、０．１ＭＰａで加圧した時の熱抵抗値Ｒ_0.1の、０．５ＭＰａで加圧した時の熱抵抗値Ｒ_0.5に対する比の値（Ｒ_0.1／Ｒ_0.5）を３．０以下にできる。Ｒ_0.1／Ｒ_0.5の値は、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．２以下である。通常、Ｒ_0.1はＲ_0.5より小さくないので、Ｒ_0.1／Ｒ_0.5は１．０以上である。なお、後記する実施例では、Ｒ_0.1及びＲ_0.5を、それぞれＲ_0.1P及びＲ_0.5Pと表している。

さらに、本発明のＴＩＭは、従来の複合型ＴＩＭと比較して圧倒的に優れた耐熱・耐久特性を有するという特徴がある。例えば、本発明のＴＩＭによって１５０℃、２４０時間経過した後の熱抵抗特性の増加率を２０％以内にする事ができる。この様な耐熱性特性は従来の複合型ＴＩＭを遥かに凌駕するものである。

以下、詳細に本発明について説明する。
（Ａ）グラファイト膜
本発明においてグラファイト膜の厚さは１μｍ以上である事が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、３μｍ以上が更に好ましく、３μｍ超が最も好ましい。また、本発明のグラファイト膜は５０μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下であるが特に好ましい。５０μｍを超えると熱抵抗値が大きくなるという問題がある。１μｍ～５０μｍの範囲の厚さであれば、凹凸のある部材間に用いても特許文献１にあるグラファイト膜ＴＩＭよりはるかに優れた熱抵抗特性を実現する事が出来る。実現された熱抵抗特性（１．０℃ｃｍ²／Ｗ）は従来の複合体ＴＩＭと比較しても優れた特性であり、さらに圧倒的な耐熱性、耐久性を有している。

この様な特性を実現するためには、本発明のグラファイト膜は密度が１．４０～２．２６ｇ／ｃｍ³の範囲であり、膜面方向の熱伝導率が５００Ｗ／ｍＫ以上（特に５００Ｗ／ｍＫ超）である事が好ましい。密度は１．６０～２．２６ｇ／cm³の範囲である事はより好ましく、１．８０～２．２６ｇ／cm³の範囲である事は最も好ましい。なお、密度２．２６ｇ／ｃｍ³は空気層を全く含まない理想的なグラファイトの密度であり、グラファイト膜中に空気層が含まれるかどうかはグラファイト膜の密度を測定することで確認できる。空気層の熱伝導率はきわめて低いので、グラファイト膜の内部に空気層があまり存在しないことが望ましく、密度の条件は空気層の存在を知る目安となる。

さらには、本発明のグラファイトＴＩＭの膜面方向の熱伝導率は５００Ｗ／ｍＫ以上である事が好ましく、５００Ｗ／ｍＫ超がより好ましく、６００Ｗ／ｍＫ以上である事は更に好ましく、８００Ｗ／ｍＫ以上である事は一層好ましく、１０００Ｗ／ｍＫ以上である事は最も好ましい。この様に本発明においてフィルム面方向の熱伝導度が大きい事が重要である理由は次の様に説明できる。すなわち、本発明のグラファイト膜ＴＩＭにおいてはグラファイト膜の面方向の熱伝導度が極めて大きいため、ある一つの接合点から流入した熱はグラファイト膜ＴＩＭの中で速やかに広がり、結果的には多くの接合点から低温側の部材に流れることができる。すなわち、グラファイト膜の高い面方向の熱伝導度は、実際の接合点の数よりも、多くの接合点で接触している場合と同じ効果を持つ。この様な効果は膜面方向の熱伝導度が大きいほど大きいと考えられるので、膜面方向の熱伝導度が重要と考えられる。この様な膜面方向の熱伝導度がＴＩＭ特性の向上に重要である事は本発明によって初めて明らかになった事実である。

また、本発明のグラファイトＴＩＭは表面の少なくとも片方の面（好ましくは両方の面）の算術平均粗さＲａの値が０．１～１０μｍの範囲である事を特徴としている。本発明で特定するグラファイト膜の表面の算術平均粗さＲａは、グラファイト膜の複数箇所で測定した算術平均粗さの平均値であってもよく、前述した図１に示す５箇所で測定した値の平均値であってもよい。Ｒａは、０．２μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．３μｍ以上であり、更に好ましくは０．４μｍ以上である。またＲａは、８．０μｍ以下が好ましく、６．０μｍ以下がより好ましく、４．０μｍ以下が更に好ましい。特に、Ｒａが０．２～８．０μｍの範囲である事はより好ましく、０．３～６．０μｍの範囲である事はさらに好ましく、０．４～４．０μｍの範囲である事は最も好ましい。この表面算術粗さＲａの値は凹凸を有する部材間の低熱接合（すなわち、熱抵抗の小さな熱接合）を行なう上で重要である。この様なシワが重要である理由は、シワが存在する事によって部材の凹凸に対応してより多くの熱接合点を形成できるためであると考えられる。

さらに、本発明のグラファイトＴＩＭにおいては形成されたシワが均一である事が好ましい。シワが均一である事は熱接合面全体で接合点が形成される事を意味し、熱が接合面全体でスムーズに流れ低熱抵抗特性が実現できる事を意味する。シワの均一性を数値として定義するのは極めて難しいが、我々は図１の方法で測定した５箇所の算術平均粗さＲａを測定した時の各箇所の値の、全複数箇所での測定結果から求まるＲａの平均値（Ｒａｖｅ）に対する比（Ｒａ／Ｒａｖｅ）で評価した。種々検討の結果（Ｒａ／Ｒａｖｅ）が０．２～５．０の範囲である事が低熱抵抗特性実現のために好ましい事が分かった。（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値は、０．３以上がより好ましく、０．４以上が更に好ましく、０．５以上が最も好ましく、また４．０以下がより好ましく、３．０以下が更に好ましく、２．０以下が特に好ましい。特に、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値が０．３～４．０の範囲である事はより好ましく、０．４～３．０の範囲である事はさらに好ましく、０．５～２．０の範囲である事は最も好ましい。

以上の様なグラファイトを用いる事により、表面の算術平均粗さＲａが５．０μｍ以下（下限は、０．２μｍ以上であってもよい）、１０点平均粗さＲｚが２５μｍ以下（下限は、１．０μｍ以上であってもよい）の部材間を１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の低熱抵抗値で接合（特に０．２ＭＰａの荷重をかけた際）する事が可能となる。

（Ｂ）高分子膜の製造方法
グラファイト膜の製造方法は特に限定されないが、例えば、高分子フィルムを熱処理する方法によって得ることができる。高分子フィルムとしては、縮合系芳香族高分子である事が好ましい。中でもポリアミド、ポリイミド、ポリキノキサリン、ポリオキサジアゾール、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾール、ポリベンズチアゾール、ポリキナゾリンジオン、ポリベンゾオキサジノン、ポリキナゾロン、ベンズイミダゾベンゾフェナントロリンラダーポリマー、およびこれらの誘導体から選択される少なくとも一種であることが好ましい。

上記高分子フィルムの中でも、グラファイトに転化させることができるという点から縮合系芳香族ポリイミドフィルムが好ましい。また、縮合系芳香族ポリイミドフィルムの中でも、高品質グラファイトへの転化がより容易であるという点から、分子構造およびその高次構造が制御され、配向性に優れたフィルムが好ましい。

縮合系芳香族ポリイミドフィルムは、既知の手法で作製する事ができる。例えば、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸の有機溶剤溶液をエンドレスベルト、ステンレスドラムなどの支持体上に流延し、乾燥・イミド化させることにより製造することができる。ポリアミド酸をイミド化させる方法は特に限定されず、前駆体であるポリアミド酸を加熱でイミド転化する熱キュア法、ポリアミド酸に無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤や、ピコリン、キノリン、イソキノリン、ピリジン等の第３級アミン類をイミド化促進剤として用い、イミド転化するケミカルキュア法を挙げることができる。

ケミカルキュア法によるフィルムの具体的な製造法としては以下の方法が挙げられる。まず、ポリアミド酸溶液に化学量論以上の脱水剤と触媒量のイミド化促進剤を加え、支持板やＰＥＴ等の有機フィルム、ドラム又はエンドレスベルト等の支持体上に流延又は塗布して膜状とし、有機溶媒を蒸発させることにより自己支持性を有する膜を得る。次いで、これを更に加熱して乾燥させつつイミド化させ、ポリイミド重合体からなるポリイミドフィルムを得る。加熱の際の温度は１５０℃から５５０℃の範囲の温度が好ましい。加熱の際の昇温速度には特に制限はないが、連続的もしくは断続的に、徐々に加熱して最高温度が上記の温度になるようにするのが好ましい。さらに、ポリイミドの製造工程中に、収縮を防止するためにフィルムを固定したり、延伸したりする工程を含む事が好ましい。この様な処理によって配向性を高くする事ができる。該ポリイミドフィルムの平均線熱膨張係数は、１００～２００℃で測定した時の値で、例えば０．５×１０^-6～５．０×１０^-5ｃｍ／ｃｍ／℃であり、また複屈折率は例えば０．１～０．２である。

なお、最終的に得られるグラファイト膜の厚さは一般に出発高分子フィルムの種類によって異なるが、芳香族ポリイミドの場合、厚さが１μｍ以上では、元の高分子フィルムの厚さの６０～４０％程度となる事が多い。従って、最終的に厚さ１μｍ～５０μｍのグラファイト膜を得るためには、出発高分子フィルムの厚さは１．６７μｍ～１２５μｍ程度の範囲であることが好ましい。

（Ｃ）グラファイト膜の製造方法
本発明のグラファイト膜ＴＩＭの製造方法は特に限定されないが、上記高分子膜の炭素化、黒鉛化によって作製する事は好ましい。炭素化、黒鉛化の処理は一つの炉で実施しても良く、別々の炉で実施してもよい。ここでは、高分子フィルムの炭素化・黒鉛化の手法について述べる。炭素化の方法としては特に限定されず、例えば出発物質である高分子フィルムを不活性ガス中、あるいは真空中で予備加熱し炭素化を行う。不活性ガスは、窒素、アルゴンあるいはアルゴンと窒素の混合ガスが好ましく用いられる。予備加熱は通常６００～１０００℃程度の温度で行う。予備加熱温度に到達するまでの昇温速度は、特に限定されないが、例えば５～１５℃／分（好ましくは８～１２℃／分）である。予備加熱温度での保持時間は、例えば３０分～２時間程度である。予備加熱の段階では出発高分子フィルムの配向性が失われないように、フィルムの破壊が起きない程度の面方向の張力を加える事が有効である。

黒鉛化の方法としては特に限定されず、例えば上記の方法で炭素化されたフィルムを高温炉内にセットし黒鉛化を行なう。黒鉛化は不活性ガス中で行なうが、不活性ガスとしてはアルゴンが最も適当であり、アルゴンに少量のヘリウムを加えても良い。処理温度は高ければ高いほど良質のグラファイトに転化でき、２４００℃以上が好ましく、２６００℃以上がより好ましく、２８００℃以上が最も好ましい。前記した黒鉛化の処理温度では、所定時間保持することが好ましく、保持時間は例えば５分以上、好ましくは１０分以上であり、また通常２０分以下とすればよい。処理温度の上限は特に限定されないが、例えば３６００℃以下であってもよいし、３５００℃以下であってもよい。予備加熱から黒鉛化の処理温度までの昇温速度は特に限定されないが、例えば１０～３０℃／分（好ましくは１５～２５℃／分）である。黒鉛化処理後は、例えば３０～５０℃／分で降温すればよい。

（Ｄ）最適なシワの形状と評価
上記の一般的な手法で作製されるグラファイト膜の場合には、膜全面にわたって、シワのほとんど無い領域や、不均一なシワ（凹凸）が多い領域が存在する。また、発生するシワの凹凸の大きさの制御も困難である。図２（ａ）は従来の方法で作製された、部分的にシワのほとんど無い部分を有し、また部分的に大きな凹凸を有する不均一なシワを有するグラファイト膜の概略断面のイメージ図である。一般に、炭素化、黒鉛化の工程で以下に述べるような製造方法の工夫を加えない場合には、この様な不均一なシワが発生する事が多い。また、従来の製造プロセスでは、シワの均一性のみでなく発生するシワの凹凸の大きさの制御も困難であった。こうした従来のグラファイト膜は、ＴＩＭの特性に大きな影響を与え、シワの制御されたグラファイト膜を作製するためには製造方法に新たな工夫を加える事が好ましい。

本発明者らは、好ましい態様において、優れたＴＩＭ特性を実現するためには、シワ（凹凸）の均一性を制御することが重要であることを明らかにした。図２（ｂ）は均一ではあるが本発明外の大きなシワを有するグラファイト膜の概略断面のイメージ図であり、Ｒａの値が１０μｍ超の状態を模式的に示している。（ｃ）は本発明の最適な大きなシワを有するグラファイト膜の概略断面のイメージ図であり、模式的にＲａの値が０．１～１０μｍの場合を表現している。（ｄ）はシワのほとんどない、本発明外のグラファイト膜ＴＩＭを説明するための概略断面イメージ図であり、Ｒａ値が０．１μｍ未満の状態を模式的に示している。

図３は、図２で示したグラファイト膜の概略断面イメージの実際の表面写真の例である。図３の（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、それぞれ図２の（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に対応している。また、図４は、（ｃ）の状態のグラファイト膜の断面ＳＥＭ写真であり、適度な高さのシワが均一に形成された状態であることを示している。先に述べた様に、図３（ａ）は炭素化、黒鉛化工程を圧力を加えずに実施した場合にしばしば発生するシワの例である。また、（ｂ）は炭素化処理を鏡面冶具で挟んで実施し、圧力を加えずに黒鉛化処理を実施した場合にしばしば発生するシワの例であり、（ｃ）は以下に述べる本発明の手法で作製した最適なシワを有するグラファイト膜の例である。さらに（ｄ）は鏡面冶具で挟んで炭素化、黒鉛化処理した場合に得られる事がある、シワのほとんど無いグラファイト膜の例である。

検討の結果、（ａ）（ｂ）の様なシワが存在する場合には優れたＴＩＭ特性は実現できず、また、意外な事に（ｄ）の様にシワがほとんどないグラファイト膜の場合も優れたＴＩＭ特性は実現できない事が分かった。優れたＴＩＭ特性が実現できるのは（ｃ）の様に制御された最適な大きさのシワを有するグラファイト膜の場合である。しかしながら、グラファイト膜のシワの大きさを（ｃ）に示すような最適な範囲に制御する方法は従来知られておらず、適度なシワを付与するには新たなシワ制御方法を開発する必要がある。

すなわち、本発明のグラファイト膜ＴＩＭは、図２（ａ）（ｂ）（ｄ）に示すような状態を避け、（ｃ）に示す様なシワが適切な範囲に制御されて形成されている事が好ましい。この様な算術平均粗さＲａは、既存の方法、すなわち触針式表面粗さ計や、レーザー顕微鏡等の光学的方法や、ＳＴＭ（Scanning Tunneling Microscope）、ＡＦＭ（Atomic Force Microscope）等の方法により決定できる。これらに関する規定としては、例えばＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１を適用または準用できる。

グラファイト膜のシワの大きさと均一性を、図２（ｃ）に示すような好ましい範囲に制御する方法は従来知られていないため、適度な粗度のシワを付与するには新たな方法を開発する必要があった。本発明者らは、炭素化工程又はグラファイト工程の少なくとも一つの工程で、適切な大きさの凹凸を有するスペーサーを、高分子膜、炭素化膜、グラファイト膜などの試料の少なくともいずれかの膜の片側の面（好ましくは両側の面）と積層し、これを平滑な冶具で挟んで両側から適切な圧力で加圧しつつ、炭素化温度、黒鉛化温度で処理すれば好ましいシワを形成できることを見出し、本発明を完成した。

グラファイト膜の表面のＲａは、前記の範囲を満足するようにグラファイト膜の厚さに応じて適切な範囲であればよいが、好ましい態様において、安定な特性の実現にはシワの均一性も必要となる。この均一性を評価する指標として、我々は、図１に示す方法で５箇所の算術平均粗さＲａを測定した時の各箇所の値（Ｒａ）の、全複数箇所（すなわち、５箇所）での測定結果から求まるＲａの平均値（Ｒａｖｅ）に対する比、(Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値で評価する事が有効である事を見出した。本発明のグラファイトＴＩＭの場合そのバラツキ（すなわち、前記Ｒａ／Ｒａｖｅの値）は０．２～５．０の範囲であることが好ましい。すなわち、５箇所において算出されるＲａ／Ｒａｖｅの値がいずれも０．２～５．０であることが好ましい。この様に膜内でのシワの凹凸の均一性を高めることで、安定したＴＩＭ特性を実現できるため好ましい。

（Ｅ）シワの形成方法
本発明の適度な大きさや、均一なシワの形成方法については特に制限はないが、従来の方法で高分子膜からグラファイト膜を製造するだけでは、適切なシワを形成することは困難である。高分子膜として芳香族ポリイミドを用いて炭素化する場合、炭素化時に炭素化膜の面積は元の高分子膜の５６～７２％程度にまで収縮することが多い。また、最終的に得られるグラファイト膜の面積は炭素膜に比べて伸び、元の高分子膜の寸法の７２～９０％程度となることが多い。こうした自然の収縮・膨張のために、グラファイト膜には大きなシワが偏っている領域とシワがあまり無い領域が混在したりして、適切なシワを形成する事が出来ない。

本発明では、スペーサーを用いたプレス処理によって収縮や膨張を制御して、適切なシワを形成した。具体的には、高分子膜、炭素化膜、又はグラファイト膜のいずれかの片面（好ましくは両面）に、適切な大きさの凹凸を有するスペーサーを積層し、これを平滑なプレス板で挟んで両側から適切な圧力でプレスしつつ、炭素化温度、黒鉛化温度で処理することで、適切なシワの形成が可能となる。なお炭素化は高分子膜に対して実施する処理であり、黒鉛化は炭素化膜に対して実施する処理である。また、必要に応じて再黒鉛化処理を行なっても良い。再黒鉛化はグラファイト膜に対して実施する処理である。高分子膜を炭素化した後、黒鉛化する場合、炭素化及び黒鉛化の片方で前記プレス処理を行ってもよく、両方で処理を行ってもよい。

図５は、平面基板で被処理膜を挟んでプレスする方法の概略断面図である。５ａはグラファイト膜、５ｂはスペーサー、５ｃはプレス冶具を示す。この例では２枚の平面基板（すなわちプレス冶具）の間（プレス冶具とグラファイト膜との間）に適当な凹凸を有するスペーサーが置かれ、平板基板によって加圧される。被処理膜のプレスに用いる前記プレス板、およびスペーサーの材質は、高温の処理温度に対する耐久性を有する限り特に限定されないが、一般的にはカーボン材料や黒鉛系材料が好ましい。例えば、等方性黒鉛であるＣＩＰ（Cold Isotropic Press：冷間静水圧プレス）製や、グラッシーカーボン製の基板を用いることができる。

本発明で用いられるスペーサーは適当な大きさの凹凸を持っており、スペーサーの表面粗さ（Ｒａ）は、１０μｍ以下である事が好ましく、８μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。また、スペーサーの表面粗さは０．１μｍ以上である事が好ましく、０．２μｍ以上、より好ましくは０．４μｍ以上である。

プレス条件は、スペーサー形状、被処理物の種類（高分子膜、炭化膜、グラファイト膜）、厚さなどの要因が複雑にからみあうため、プレス条件を一義的に決定することは困難であるが、下記条件を考慮して設定すればよい。すなわち高分子膜は炭化の工程で縮み、黒鉛化の工程で伸びるために、加圧の力が強すぎると収縮の工程でフィルムが細かく割れてしまう。また、黒鉛化の工程で不均一なしわが発生する。一方、加圧の圧力が小さすぎる場合にはスペーサーの凹凸をグラファイト膜の凹凸として反映出来なくなる。したがって、加圧の仕方は炭素化、黒鉛化で均一な圧力ではなく、それぞれの伸び、縮みを考慮してその大きさを変える事が好ましい。

連続的に加圧するか、あるいは断続的に加圧するかによらず、例えばプレスの圧力は、１ｇｆ／ｃｍ²以上、２０００ｇｆ／ｃｍ²以下の範囲から適宜設定できる。プレス圧力は、２ｇｆ／ｃｍ²以上である事がより好ましく、５ｇｆ／ｃｍ²以上が更に好ましく、１０ｇｆ／ｃｍ²以上とすることが特に好ましい。また１０００ｇｆ／ｃｍ²以下がより好ましく、６００ｇｆ／ｃｍ²以下が更に好ましく、４００ｇｆ／ｃｍ²以下とすることが特に好ましい。

プレス時間は諸条件に応じて適宜設定され、複数回のプレスを行ってもよい。ただし、黒鉛化時のプレスでは、早い段階でプレスを終了するのでなく、最高温度に到達するまでプレスを継続することが望ましい。黒鉛化処理時には、最高温度になるまでグラファイト膜の膜面方向の寸法が伸びるので、早い段階でプレスを終えると、その後の伸びによって不均一なシワが形成されてしまう恐れがある。また黒鉛化時のプレスでは、グラファイト膜の伸びが開始してからプレスを開始することが望ましい。グラファイト膜の伸び開始前の段階からプレスを開始すると、グラファイト膜の伸びを大きく抑制してしまい、かえって不均一なシワを発生させる恐れがある。黒鉛化時のプレスのタイミングは、例えば、２２００℃以上、好ましくは２４００℃以上、より好ましくは２６００℃以上の段階でプレスを開始し、最高到達温度までプレスを継続することが望ましい。さらには本発明では、短時間のプレスを繰り返して最高温度付近でもプレスを行ってもよい。プレスの圧力、時間、タイミングなどの細部は、適宜最適化すればよい。

プレス手段は機械的圧力制御が可能なプレス手段（プレス機構）であってもよく、プレス板の自重を利用したもの、又はプレス板の上に黒鉛製やカーボン製の重石を置いたものなどのように非機械的手段であってもよい。非機械的手段は炭素化中、黒鉛化中に終始一定の弱い加重を加える事に適しており、グラファイト膜に適度な高さのシワを形成する事ができ、好ましい。

スペーサーとしては、処理温度とプレス圧に対する耐久性を兼ね備えたものであれば特に制限はないが、例えば、粉体状粒子や、繊維状物質から作製されたフィルムや織物であってもよい。特に、炭素系又は黒鉛系の粒子（特に粉体状粒子）又は、炭素系又は黒鉛系の繊維状物質（特に該繊維状物質から作成されたフィルムや織物）が好ましく用いられる。粉体状粒子として、グラッシーカーボン粒子、黒鉛粒子、黒鉛鱗片などが挙げられ、繊維状物質としては、炭素繊維やグラファイト繊維が挙げられる。また、鱗片状シリカ、アルミナ、球状アルミナ、鱗片状窒化ホウ素のような無機粒子等を適宜用いることができる。本発明のスペーサー材料には、シリカのように黒鉛化の最終段階である２８００℃等の高温にまで耐えられない物質も含まれるが、これらは炭素化の工程で使用する場合の材料である。粒子状スペーサーの場合には潤滑効果を持つ粒子がより好ましい。炭素系・黒鉛系のスペーサーは、入手しやすく、グラファイト膜や電気炉内に付着しても、同じカーボン系の物質であるために問題になりにくく、一定の潤滑性もあるという利点があり、好ましい。

フィルム状や織物状に成型されたスペーサー表面の粗度（凹凸）は作製されるグラファイト膜の凹凸形成に大きな影響を与えるが、スペーサー表面の粗度とグラファイト膜の表面粗度の大きさは必ずしも一致しない。それはスペーサー表面の凹凸が場合によってはグラファイト膜を点で支える役目を果たすためである。この事はスペーサーの大きな役であって、この事によりグラファイト膜の熱処理工程における収縮や延伸による破断を防ぐ事ができる。この事は加える圧力が小さい場合には特に顕著となり、大面積のグラファイトＴＩＭ膜を作製するための有効な手法となる。

スペーサー原料が粒子状物である場合の平均粒径（ｄ₅₀）、スペーサー原料が繊維状物である場合の繊維径、及びスペーサー原料が鱗片状物である場合のその厚さ（以下、粒子の平均粒径（ｄ₅₀）、繊維の直径及び鱗片の厚さを総称して、スペーサーの厚さという場合がある）は、例えば、０．２μｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、例えば、２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。スペーサーとしてはこの様な粒子や繊維等を含み均一に分布する突起を有するシート（例えば、サンドペーパーのような形態のもの）でも良く、また繊維状のものが集合して作られた不織布のようなものであっても良い。

さらに、スペーサーとペースト、オイル、ワックス等とを複合化して用いることも、潤滑性の調節や、形成するグラファイト膜のシワの凹凸の程度をさらに細かく制御するという観点から好ましく用いられる。またペースト、オイル、ワックスなどに使用する物質は適宜選択すればよい。例えば、オイルであれば鉱油、合成炭化水素油、エステル油、ポリグリコール油、シリコン油、フッ素油、キャノーラ油やこれらの混合物を好適に用いることができる。あるいは変性オイルであってもよく、例えばシリコンオイルであれば、エポキシ変性シリコンオイル、ポリエーテル変性シリコンオイル、アミノ変性シリコンオイル、エポキシ変性シリコンオイルを用いることができる。これらのペースト、オイル、ワックス等は最終的には熱処理工程で失われるが、試料とスペーサー間の抵抗を軽減しすべり易くする効果がある。

さらに、プレス冶具の表面に凹凸を設けこの凹凸をスペーサーとして利用してもよい。この場合、プレス冶具表面をサンドペーパー、サンドブラスト、研磨材などで処理することにより、プレス板表面に一定の形状や表面粗さを持たせることが好ましい。この様な目的にため、プレス冶具として表面を一定の程度に均一に粗化したＣＩＰ材製やグラッシーカーボン製のプレス板を用いてもよい。さらに炭素繊維を高温でプレスして、炭素繊維を表面に固着させたＣＩＰ材製やグラッシーカーボン製のプレス板を用いることも好ましい。

本発明のシワ形成方法の様に原料高分子膜又は炭素化膜を複数の点で支えて炭素化、あるいは黒鉛化する場合に、圧力が大きすぎる場合や静電気による張り付きによって、得られるグラファイト膜が破損する場合がある。この様な場合には適当な帯電防止剤やイオナイザーによる徐電を行なう事が好ましい。

以上述べた、グラファイトＴＩＭ膜に最適な粗度を設ける各種手法は製造プロセスに応じて適宜選択すればよく、下記に示す実施例の内容に制限されるものではない。さらに、本発明のグラファイトＴＩＭの製造方法は、多数枚を重ねて一度に焼成できるため、生産性に優れる。また、被処理膜の厚さが本発明の範囲の様に極めて薄く、物理的に破れやすい場合でも適用可能である。

本発明のグラファイトＴＩＭ膜の製造方法によれば適切な大きさで均一なシワを形成できる。

（Ｆ）層間熱接合方法
本発明のＴＩＭを用いた層間熱接合方法は、上記ＴＩＭを熱接合する部材間に設置する工程を含む。すなわち、本発明の層間熱接合方法は、本発明に係る層間熱接合部材を、表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ～５．０μｍであり、かつ表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍである２つの部材と接触させて２つの部材間に設置し（挟持させる）、片方の部材（第一の部材）から他方の部材（第二の部材）へ熱を伝達する層間熱接合方法である。本発明のＴＩＭを層間（第一の部材と第二の部材の間）に狭持させることにより、熱発生源あるいは熱発生源と熱的に接合された部材（第一の部材）から、それ以下の温度（好ましくは第一の部材の温度より低い温度）である第二の部材へ熱を伝える層間熱接合を行うことができる。グラファイト膜は熱源に近い部材と熱源から遠い部材の間に挟持されて設置され、グラファイト膜とそれぞれの部材は直接面接触している。第一及び第二の部材の算術平均粗さＲａは、４．５μｍ以下が好ましく、より好ましくは４．０μｍ以下であり、またＲａが０．２３μｍ以上や０．２５μｍ以上であっても、低熱抵抗値を実現できる。また、第一及び第二の部材の１０点平均粗さＲｚは、好ましくは２３μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ以下であり、１０点平均粗さＲｚが１．５μｍ以上や１．８μｍ以上であっても、低熱抵抗値を実現できる。

本発明では各種の接着層を用いなくてもグラファイト膜のみで優れた耐熱性の層間熱接合を実現出来る。接着層を用いないことで優れた耐熱・耐久性の熱接合が可能になる。接着層を介さずに層間熱接合を実現する方法として、単に機械的な圧力で固定しても良い。機械的に、ビスやネジ、あるいはバネ等によってかしめる事は直接熱接合のため有効であり好ましい。しかしながら、本発明の特徴である低圧力下で低熱抵抗が実現できる点や熱抵抗の圧力依存性が小さい事を考慮すれば、必ずしも強くかしめる必要はなく、万一かしめる圧力が変化した場合でもその影響が小さいために、実用的には極めて有効な層間熱接合が実現できる。機械的な圧力等により圧力をかけるときは、その圧力の値は例えば０．１ＭＰａ以上であり、好ましくは０．２ＭＰａ以上である。圧力の上限は特に限定されないが、大きくなりすぎても効果が飽和することや、過度な圧力によりＴＩＭ材料が破損する恐れがあることから、例えば１ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは０．８ＭＰａ以下である。この様な方法の熱接合により、０．２ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値は１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下とすることができる。また、０．１ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.1）と０．５ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.5）の比（Ｒ_0.1／Ｒ_0.5）が１.０～３.０とできる。更に、例えば、１５０℃の環境下での２４０時間経過の耐久試験（空気中）において、その熱接合特性をほとんど変化しないような（すなわち、耐久試験前の熱抵抗値に対する、耐久試験前後の熱抵抗値の変化量で表される熱抵抗値の増加量が２０％以下である）熱接合が可能と成る。この様なすぐれた耐熱性を有する熱接合方法は今までに知られていない。

従って、本発明の熱接合方法は、特に高温の環境で使用する場合には優れた方法となる。特に、熱接合部材の少なくとも一方の温度が１５０℃以上である場合には極めて有効な接合方法であり、ＬＥＤやパワー半導体、あるいは自動車のエンジン周りなどの過酷な環境においてその有効性を発揮する事ができる。

本願は、２０１７年２月２日に出願された日本国特許出願第２０１７－０１７６９３号に基づく優先権の利益を主張する。２０１７年２月２日に出願された日本国特許出願第２０１７－０１７６９３号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって制限を受けるものではなく、その趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらは本発明の技術的範囲に包含される。

＜物性測定方法＞
最初に、下記実施例における物性の測定法について以下に示す。
（１）グラファイト膜の厚さ
５０×５０ｍｍ²に切り出したグラファイト膜の任意の５箇所の厚さを接触式厚さ計にて測定し、その平均値をグラファイト膜の厚さとした。

（２）グラファイト膜の密度
密度は乾式自動密度計アキュピックＩＩ １３４０（株式会社島津製作所製）を用いて測定した。５０×５０ｍｍ²に切り出した５枚のグラファイト膜について１枚ずつ密度を測定し、その平均値を密度とした。

（３）グラファイト膜の熱伝導度
熱拡散率は、周期加熱法による熱拡散率測定装置（アルバック理工（株）社「ＬａｓｅｒＰｉｔ」装置）を用いて、２５℃、真空下（１０^-2Ｐａ程度）、１０Ｈｚの周波数を用いて測定した。これはレーザー加熱の点から一定距離だけ離れた点に熱電対を取り付け、その温度変化を測定する方法である。熱伝導率（Ｗ／ｍＫ）は、熱拡散率（ｍ²／ｓ）と密度（ｋｇ／ｍ³）と比熱（７９８ｋＪ／（ｋｇ・Ｋ））を掛け合わせることによって算出した。

（４）グラファイト膜の表面の算術平均粗さＲａ
グラファイト膜の表面粗さ（算術平均粗さ）Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づき、表面粗さ測定機Ｓｕｒｆｃｏｍ ＤＸ（(株)東京精密製）を使用し、室温（２０℃）雰囲気下で値を測定した。測定は５ｃｍ角の正方形のグラファイト膜を用い、表面粗さＲａの測定箇所は、図１の線分で示した５箇所である。基準長さの決定は、ＪＩＳ Ｂ ０６３３に従い、送り速度０．０５ｍｍ／秒で描いたチャートから基準長さＬの部分を切り取り、その切り取り部分の中心線をＸ軸、縦方向をＹ軸として、粗さ曲線Ｙ＝ｆ（Ｘ）で表したとき、次の式（２）で得られる値をμｍで表したものが算術平均粗さＲａである。グラファイト膜の５箇所（５つの線分１ａの中央部分１β）にてそれぞれＲａの値を求め、さらにその平均値を求め、これをグラファイト膜の算術平均粗さＲａとした。

（５）グラファイト膜のＲａ／Ｒａｖｅ比の算出
選択されたグラファイト膜について、前記５箇所の算術平均粗さＲａを測定した時の各箇所の値（Ｒａ）の、全複数箇所での測定結果から求まるＲａの平均値（Ｒａｖｅ）に対する比、(Ｒａ／Ｒａｖｅ）を求めその値をシワの均一性とした。

（６）グラファイト膜の熱抵抗測定
本発明のグラファイトＴＩＭの熱抵抗測定は、日立テクノロジーアンドサービス製精密熱抵抗測定装置を用いて行なった。本測定装置は精密な熱抵抗測定が可能な装置であって、その誤差は±０．００２℃ｃｍ²／Ｗである。試料寸法は１０×１０ｍｍ²、荷重は１０～５０Ｎ（０．１ＭＰａ～０．５ＭＰａに相当）の範囲、測定温度は６０℃である。具体的には、まず界面温度が６０℃になる様に加えるワット数（Ｗ）を調節し、測定は温度変化が一定になった後１０回測定し、その平均値を測定値とした。

上記は標準的な熱抵抗値の測定方法であるが、上記熱抵抗測定装置の測定ロッド面は鏡面仕上げされたものであり、実用的な凹凸の存在する部材面とは異なっている。我々の知りたい値は図６に示すような凹凸のある界面での熱抵抗値の値である。６ａは第一の部材、６ｂは層間熱接合材、６ｃは第二の部材を示す。上記測定装置を用いて凹凸のある部材間の熱抵抗測定を行うために、我々は以下の様な実験を行った。

表面粗度を有する（表面凹凸を有する）部材を用い、試験ごとに部材の表面粗度を変化させた場合の熱抵抗値の測定法を図７に示す。７ａは上記、日立テクノロジーアンドサービス製精密熱抵抗測定装置の測定ロッド、７ｂはシリコングリースである。７ｃは片方の面にある大きさの凹凸を有する銅箔であり、この銅箔はロッド７ａとシリコングリース７ｂを用いて接合されている。７ｄはグラファイト膜である。最初に、グラファイト膜を挟まない状況で表面粗度の異なる銅箔を用いて荷重を変化させながら熱抵抗特性を測定する。この時の測定値をｘとする。測定条件は上記の通りである。次に、グラファイト膜を図７の様に挟んでそれぞれの場合の熱抵抗値を測定する。この時の測定値をｙとする。しかしながら、この方法で測定された熱抵抗値には７ａ－７ｂ間、７ｂ－７ｃ間の熱抵抗値（それぞれ上下２ヶ所、計４ヶ所）が含まれた値であり、測定したい７ｃ－７ｄ－７ｃ間の熱抵抗値のみを示す値ではない。７ｃ－７ｄ－７ｃ間の熱抵抗値を知るためには、測定値から７ａ－７ｂ間、７ｂ－７ｃ間の熱抵抗値を見積もり、その値を差し引く必要がある。そのために、図８に示した方法で８ａ－８ｂ間、８ｂ－８ｃ間の熱抵抗値を測定した。図８の熱抵抗値は原理的に図７の７ａ－７ｂ間、７ｂ－７ｃ間の熱抵抗値と同じになる。この時の値をｚとする。この方法で測定された値を図７の方法で測定された熱抵抗値から差し引いて、すなわちｙ－ｚの値を求めるべき熱抵抗値とした。ｘ－ｚの値、ｙ－ｚの値を比較する事で本発明のグラファイトＴＩＭの効果（界面での熱抵抗を含まないＴＩＭ材料そのものの効果）を見積もる事が出来る。この様な方法は幾つかの仮定を含むものであり、直接ＴＩＭそのものの熱抵抗値を測定するものではないが原理的に正しい評価方法であって、ＴＩＭの実用上の特性を評価するには十分な評価方法であると考えている。なお、図８において、８ａは熱抵抗測定用ロッド、８ｂはシリコングリース、８ｃは鏡面銅箔を示している。

（７）実施例、比較例に用いた試料の作製
以下に、実施例、比較例に用いた厚さの、シワの状況が異なるグラファイト膜の標準的な作製方法について記載する。尚、ここでは厚さ、焼成条件が同じものは同じアルファベット（Ａ，Ｂ・・・など）で表示し、シワの状況の異なる試料を、Ａ－１，Ａ－２・・・などの数字を加えて記載している。

ピロメリット酸二無水物、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、及び、ｐ－フェニレンジアミン（モル比で４／３／１）から調製したポリアミド酸の１８重量％のＤＭＦ溶液１００ｇに、無水酢酸２０ｇとイソキノリン１０ｇからなる硬化剤を混合、攪拌し、遠心分離による脱泡の後、アルミ箔上に流延塗布した。攪拌から脱泡までは０℃に冷却しながら行った。このアルミ箔とポリアミド酸溶液の積層体を１２０℃で１５０秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをアルミ箔から剥がし、フレームに固定した。このゲルフィルムを３００℃、４００℃、５００℃で各３０秒間加熱して１００～２００℃の平均線膨張係数１．６×１０^-5ｃｍ／ｃｍ／℃、複屈折率０．１４で、厚さの異なるポリイミドフィルムを製造した。

得られたポリイミドフィルムを、電気炉を用いて窒素ガス中、１０℃／分の速度で１０００℃まで昇温し、１０００℃で１時間保って予備処理した。次に、得られた炭素化フィルムをＲａが異なるグラファイト繊維フェルトからなるスペーサーに挟み（実験ごとに、スペーサー表面のＲａを変化させた）、さらに、これを表面研磨したグラファイトブロックの間に配置し、グラファイトヒーター炉にセットした。２０℃／分の昇温速度で２９００℃まで昇温、最高温度で１０分間保持し、その後４０℃／分の速度で降温した。黒鉛化処理はアルゴン雰囲気でおこなった。この時、サンプルには５０ｇｆ／ｃｍ²となる様に荷重を加えた。

作製した１４種類のグラファイト膜の厚さ、熱伝導度、密度、Ｒａ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）はそれぞれ以下の通りであった。
（Ａ－１）厚さ６５μｍ、フィルム面方向熱伝導度：８００Ｗ／ｍＫ、密度：１．４ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．５μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．５～２．０、
（Ｂ－１）厚さ：４８μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１０００Ｗ／ｍＫ、密度：１．８ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：８μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．８～１．２
（Ｂ－２）厚さ：４８μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１０００Ｗ／ｍＫ、密度：１．８ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：１．６μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．６～１．４
（Ｂ－３）厚さ：４８μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１０００Ｗ／ｍＫ、密度：１．８ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．３μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．９～１．１
（Ｃ－１）厚さ：２０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１３００Ｗ／ｍＫ、密度：２．０ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．２、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．８～１．２
（Ｄ－１）厚さ：８．１μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１５８０Ｗ／ｍＫ、密度：２．１ｇ／ｃｍ³、Ｒａ＝０．６μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．９～１．１
（Ｅ－１）厚さ、５．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１７８０Ｗ／ｍＫ、密度：２．１ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．３μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．８～１．２
（Ｆ－１）厚さ、２．２μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１８００Ｗ／ｍＫ、密度：２．２ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．４μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．７～１．３
（Ｇ－１）厚さ、１．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１７８０Ｗ／ｍＫ、密度：２．１ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．３μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．５～１．６
（Ｇ－２）厚さ、１．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１７８０Ｗ／ｍＫ、密度：２．１ｇ／ｃｍ³、Ｒａ＝２．４μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．６～１．５
（Ｇ－３）厚さ、１．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１７８０Ｗ／ｍＫ、密度：２．１ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：６．３μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．９～１．１
（Ｇ－４）厚さ、１．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１６００Ｗ／ｍＫ、密度：１．９ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：１１μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．１４～４．０
（Ｇ－５）厚さ、１．０μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１６００Ｗ／ｍＫ、密度：１．９ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．０３μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．９～１．１
（Ｈ－１）厚さ、０．８μｍ、フィルム面方向熱伝導度：１６００Ｗ／ｍＫ、密度：１．９ｇ／ｃｍ³、Ｒａ：０．２μｍ、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）：０．９～１．１

［実施例１～１０］
上記各種試料を、異なる表面粗度を持つ３種類の銅箔に狭持し、その熱抵抗値を測定し、その結果を表１に示した。試料（Ｂ）～（Ｇ）の厚さは本発明の範囲（５０μｍ～１μｍ）であり、グラファイトフィルム面方向の熱伝導度、密度の値はいずれも本発明のＴＩＭが具備すべき条件の範囲にある。また、Ｒａの値、（Ｒａ／Ｒａｖｅ）の値も、好ましい態様における本発明のＴＩＭが具備すべき条件の範囲にある。これらの試料の熱抵抗値は０．４～０．９℃・ｃｍ²／Ｗ（荷重０．２ＭＰａの場合）であり、従来のＴＩＭの特性を凌駕する低い熱抵抗値を示す事が分かった。さらに、０．１ＭＰａで加圧時の熱抵抗値（Ｒ_0.1p）と０．５ＭＰａで加圧時の熱抵抗値（Ｒ_0.5p）の比、Ｒ_0.1p／Ｒ_0.5pもきわめて小さく３．０倍以内であった。この事から、本発明の条件を満たすグラファイトＴＩＭは凹凸を有する部材間のＴＩＭとして極めて有効である事が分かった。

［比較例１～１０］
（Ａ－１）、（Ｇ－４）、（Ｇ－５）、（Ｈ－１）の４種類の試料をそれぞれ表面粗度の異なる部材間に狭持してその熱抵抗値を測定し結果を表２に示した。これらの試料の内（Ａ－１）（Ｈ－１）はその厚さが本発明の範囲を外れている。Ａ－１では３種類の表面粗度の異なる部材にたいして何れの場合でも、１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗特性は実現出来なかった。これは本発明のグラファイト膜の好ましい厚さが５０μｍ以下である事を示しており、厚さが厚い事と密度から推定されるように空気層の存在によるバルク熱抵抗の増加が原因であると考えられる。Ｈ－１は厚さが０．８μｍであり本発明の範囲を外れている例である。表面粗度の異なる３種類の部材に対して１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗特性は実現出来なかった。また、（Ｇ－４）はシワが大きくシワの均一性も本発明の好ましい範囲を外れるものである。さらに（Ｇ－５）はシワがほとんどない鏡面試料でありシワの大きさが本発明の範囲を外れるものである。これらの場合にも１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗特性は実現出来なかった。

[実施例１１～１３、比較例１１～１３]
表３は部材の凹凸が非常に大きい場合の熱抵抗特性を示したもので、本発明の試料としてＤ－１，Ｂ－１を用いて実験を行なった結果である。この結果から本発明によって、０．２ＭＰａの圧力下で１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗を実現できる部材の表面粗度の範囲は、Ｒａ値で５．０μｍ以下、Ｒｚ値で２５μｍ以下の範囲であると推測できることが分かった。

［実施例１４］
先にのべた試料（Ｃ－１）の作製方法と同じで、黒鉛化の最高処理温度を変えて３種類のグラファイト膜を作製した。黒鉛化処理の最高温度はそれぞれ、２７００℃、２４００℃、２１００℃である。この時、２７００℃で処理したグラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は１０８０Ｗ／ｍＫ、２４００℃処理の試料は７８０Ｗ／ｍＫ、２１００℃処理の試料は５００Ｗ／ｍＫであった。これらのグラファイト膜を用いて熱抵抗特性を測定したが、０．２ＭＰａの圧力下で１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗を実現できたのは２７００℃、および２４００℃処理の試料であり、２１００℃処理試料では１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下の熱抵抗は実現できなかった。この事から膜面方向の熱伝導度は５００Ｗ／ｍＫ以上（特に５００Ｗ／ｍＫ超）である事が必要である事が分かった。

［実施例１５］
作製した前記（Ａ－１）～（Ｈ－１）の１４種類のグラファイト膜を空気中、１５０℃の環境下で２４０時間加熱した。加熱前グラファイト膜と加熱後のグラファイト膜の膜厚、面方向の熱伝導度、表面粗度Ｒａを比較した。その結果膜厚、面方向の熱伝導度、表面粗度Ｒａは全く変化していなかった。また熱処理前後のグラファイト膜を用いてその熱抵抗特性を測定したが、熱抵抗特性のバラツキ（耐久試験の前の熱抵抗値に対する、熱処理前後の熱抵抗値の変化量の比を意味する）は２０％以内であった。この事から、本発明のグラファイト膜ＴＩＭは１５０℃の環境下で、２４０時間経過する耐久試験においてその熱抵抗値の変化を２０％以内にする事が出来ると結論した。

１ａ 線分
１α 各辺の中点
１β 線分の中点
１γ 重心
５ａ グラファイト膜
５ｂ スペーサー
５ｃ プレス冶具
６ａ 第一の部材
６ｂ 層間熱接合部材
６ｃ 第二の部材
７ａ 熱抵抗測定用ロッド
７ｂ シリコングリース
７ｃ 片方の面にある大きさの凹凸を有する銅箔
７ｄ グラファイト膜
８ａ 熱抵抗測定用ロッド
８ｂ シリコングリース
８ｃ 鏡面銅箔

Claims (13)

1. ２つの部材の間に狭持されて熱を伝達する層間熱接合部材であって、該層間熱接合部材はグラファイト膜を有し、該グラファイト膜の厚さは１μｍ～５０μｍであり、密度は１．４０ｇ／ｃｍ³～２．２６ｇ／ｃｍ³であり、膜面方向の熱伝導度は５００Ｗ／ｍＫ～２０００Ｗ／ｍＫであり、該グラファイト膜の表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍ～１０μｍである層間熱接合部材。
2. 前記グラファイト膜は複数箇所の表面の算術平均粗さＲａと該算術平均粗さＲａの平均値（Ｒａｖｅ）との比（Ｒａ／Ｒａｖｅ）が０．２～５．０である請求項１に記載の層間熱接合部材。
3. 請求項１または２に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、前記２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ～５．０μｍであり、前記２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍであり、０．２ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値が１．０℃ｃｍ²／Ｗ以下である層間熱接合方法。
4. 請求項１または２に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、前記２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２～５．０μｍであり、前記２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍの範囲であり、０．１ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.1）と０．５ＭＰａの荷重をかけたときの熱抵抗値（Ｒ_0.5）の比（Ｒ_0.1／Ｒ_0.5）が１．０～３．０である層間熱接合方法。
5. 請求項１または２に記載の層間熱接合部材を用いた層間熱接合方法であって、前記２つの部材の表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ～５．０μｍであり、前記２つの部材の表面の１０点平均粗さＲｚが１．０μｍ～２５μｍであり、空気中１５０℃の環境下で２４０時間経過する耐久試験の前後において、熱抵抗値の増加率が耐久試験の前における熱抵抗値の２０％以下である層間熱接合方法。
6. 高分子膜を炭素化して炭素化膜を得る炭素化工程および炭素化膜を黒鉛化してグラファイト膜を得る黒鉛化工程を含む請求項１または２に記載の層間熱接合部材の製造方法。
7. 前記高分子膜が縮合系芳香族高分子を含む請求項６に記載の層間熱接合部材の製造方法。
8. 前記高分子膜は芳香族ポリイミドを含み、厚さが１．６７μｍ～１２５μｍであり、前記高分子膜を２４００℃以上の温度で熱処理する請求項６または７に記載の層間熱接合部材の製造方法。
9. 前記炭素化工程および前記黒鉛化工程の少なくとも１つの工程において、前記高分子膜、前記炭素化膜または前記グラファイト膜のいずれかが複数の点で保持され、加圧されながら熱処理される請求項６～８のいずれか１項に記載の層間熱接合部材の製造方法。
10. 前記高分子膜、前記炭素化膜または前記グラファイト膜の少なくともいずれかの膜の片側の面にはスペーサーが積層されて熱処理される請求項６～９のいずれか１項に記載の層間熱接合部材の製造方法。
11. 前記スペーサーの表面粗さＲａは０．１μｍ～１０μｍである請求項１０に記載の層間熱接合部材の製造方法。
12. 前記スペーサーが炭素繊維またはグラファイト繊維からなるフェルトを含む請求項１０または１１に記載の層間熱接合部材の製造方法。
13. 前記グラファイト膜の厚さは２μｍ～２０μｍである請求項１又は２に記載の層間熱接合部材。

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