JP7016240B2 - 基板積層体、イメージセンサおよび基板積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
上記多数のセルパターンは、従来の中空セル構造を1つずつ作成する方法と同様に、ディスペンス法やスクリーン印刷法により形成する方法が用いられるが、液状接着剤の染み出しのため、パターンの十分な位置精度や高さや幅の寸法精度が得られない。
このような課題を解決するために、フォトリソグラフィによるパターン化が可能な感光性接着剤が知られている。(特許文献1)
特許文献1はラジカル重合によりパターンを形成しているため、接着性が乏しい。また1つの基板積層体で数1000個の中空セル構造を形成する点までは検討されていない。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、アルカリ現像可能なカチオン硬化性樹脂を接着層として用い、未接着箇所が無い数100~数1000個の中空構造体をもった基板積層体および基板積層体の製造方法を提供することを目的とするものである。
1).2つの基板をパターン化された樹脂で貼り合わせた積層体であって、
パターン化された樹脂がアルカリ可溶性およびカチオン重合性を有する硬化性樹脂を硬化したものであり、パターン形状が個々に独立した中空セル構造を有することを特徴とする基板積層体。
2).前記硬化性樹脂が光酸発生剤を含むことを特徴とする1)記載の積層体。
3).前記基板の少なくとも一方が透明基板であることを特徴とする1)または2)に記載の基板積層体。
4).前記透明基板がガラスであることを特徴とする3)に記載の基板積層体。
5).前記基板の少なくとも一方が半導体素子基板であることを特徴とする1)~4)のいずれか1項に記載の基板積層体。
6).前記硬化性樹脂がグリシジル基または脂環式エポキシ基を含むことを特徴とする1)~5)のいずれか1項に記載の基板積層体。
7).前記硬化性樹脂がポリシロキサン系化合物であることを特徴とする1)~6)のいずれか1項に記載の基板積層体。
8).前記硬化性樹脂がアルカリ可溶性基として下記式(X1)または(X2)
9).1)~8)のいずれか1項に記載の基板積層体を用いて得られるイメージセンサ。
10).アルカリ可溶性およびカチオン重合性を有する硬化性樹脂を基板(第一の基板)上に塗布乾燥し、露光後アルカリ性水溶液で現像して基板(第一の基板)上にパターン形状が個々に独立した中空セル構造に該当するパターンを形成する工程と、
前記パターンを介して、基板(第一の基板)とは別の面に別の基板(第二の基板)を貼り合わせる工程を有することを特徴とする基板積層体の製造方法。
本発明における基板積層体は、アルカリ可溶性およびカチオン重合性を有する硬化性樹脂を基板上に塗布乾燥し、露光後アルカリ性水溶液で現像して基板(第一の基板)上にパターン形成する工程と、前記パターンを介して、基板(第一の基板)とは別の面に別の基板(第二の基板)を貼り合わせる工程を経ることによって得られる。
本発明の基板積層体は、接着層の幅および高さを適切に選択することで、中空構造体を簡便に得ることができる。
基板の形状としては、丸型でも角型でも構わない。既存の半導体製造装置を用いることが出来る点から、4インチ~12インチの丸型基板を用いることが好ましく、一度に多数の中空構造体を形成できる点から12インチφやそれに近い大きさの基板が好ましい。また、第一の基板と第二の基板サイズは同じであっても異なっていても構わない。
〔2.個々が独立した中空構造体〕
個々が独立した中空構造体を形成するためのパターンを形成した基板は例えば図1のような形態を例示することができる。
図1の基板と別の基板を貼り合せることで図2の個々に独立した中空構造体が形成される。
CMOS・CCDセンサ用中空構造体基板積層体を用いる場合は1辺1~50mmの長方形がよく、それを1枚の基板に可能なだけ敷き詰めてもよい。(例えば、4mm×5mmのセルサイズをセル間隔100μmで12インチφに敷き詰めた場合2000個以上の中空構造体が得られる。)
またCMOS・CCDセンサ用中空構造体基板積層体を用いる場合は接着層が低すぎると組み立て時にセンサ基板を傷つける可能性がある。また接着層が高すぎると良好なパターンが得られない。これらの点から接着層の高さとして1μm~200μmであり、好ましくは50~150μmである。接着層の幅としては、細すぎると十分な接着強度が得られない。また、接着層が太すぎるとセンサ基板を配置するスペースが無くなってしまう。これらの点から接着層の幅として1μm~1000μmであり、好ましくは100~250μmである。
本発明における硬化性樹脂はアルカリ可溶性を持つため、フォトリソグラフィによるパターン形成工程において、有機溶剤ではなくアルカリ水溶液の現像液を用いることができる。アルカリ可溶性を発現するアルカリ可溶性基としては、例えば前記硬化性樹脂がアルカリ可溶性基として下記式(X1)または(X2)
カチオン重合性を示す樹脂として、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性官能基を有する樹脂が考えられる。具体的には、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シクロヘキシルエポキシ基含有ポリオルガノシロキサン(環状または鎖状)、グリシジル基含有ポリオルガノシロキサン(環状または鎖状)、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、2,2’-ビス(4-グリシジルオキシシクロヘキシル)プロパン、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)-5,5-スピロ-(3,4-エポキシシクロヘキサン)-1,3-ジオキサン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)アジペート、1,2-シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、1,4-ビス{(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシ}メチル}ベンゼン、ビス{1-エチル(3-オキセタニル)}メチルエーテル、3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタンおよび3-エチル-3-(2-エチルへキシロキシメチル)オキセタン等が挙げられる。安定性の観点から、エポキシ基の中でも、脂環式エポキシ基またはグリシジル基が好ましく、特に光および熱によるカチオン重合性に優れる点では、脂環式エポキシ基が好ましい。カチオン重合性を示す樹脂として、カチオン重合性官能基を1分子中に少なくとも1個有していればよいが、2個以上有することが好ましく、3個以上有することがより好ましい。カチオン重合性官能基が3個以上であれば、架橋密度の高い硬化物が得られ、当該硬化物は耐熱性に優れるという利点がある。各カチオン重合性官能基は同一であってもよく、2種以上の異なる官能基であってもよい。
本発明における硬化性樹脂は光または光および熱により硬化する樹脂を示す。ネガ型感光性樹脂はフォトマスクを通して光を照射されることで、露光部でのみカチオン重合反応が起こる。その後、アルカリ水溶液に浸漬することで未露光部が除去され露光部のみパターン樹脂が形成される。パターン樹脂は光反応によるBステージ状態であり、完全に硬化していないため、基板積層体を構成する接着層として働くことができる。
本発明における硬化性樹脂は、リフロー時の耐熱性およびアウトガス低減の観点から、ポリシロキサン系化合物を含有していることが望ましい。本発明において、ポリシロキサン系化合物とは、シロキサン単位Si-O-Siを有する化合物であれば、特に限定されない。ポリシロキサン系化合物中のシロキサン単位のうち、T単位(XSiO3/2)またはQ単位(SiO4/2)の含有率が高いほど、得られる硬化物は硬度が高く、より耐熱信頼性に優れる。また、ポリシロキサン系化合物中のシロキサン単位のうち、M単位(X3SiO1/2)またはD単位(X2SiO2/2)の含有率が高いほど、得られる硬化物はより柔軟で低応力である。
硬化性樹脂の中のポリシロキサン系化合物は、他成分との相溶性やパターニング性の観点からカチオン重合性基を分子内に有していることが好ましく、カチオン重合性基およびアルカリ可溶性基を分子内に有していることがさらに好ましい。
(架橋剤)
上記硬化性樹脂には、作業性、反応性、接着性および硬化物強度の調整のために、カチオン重合性官能基以外の光重合性官能基を1分子中に2個以上有する架橋剤を添加することができる。上記架橋剤としては、硬化反応形式によって選択すれば特に限定されず、アルコキシシラン化合物および(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。
上記硬化性樹脂は、光酸発生剤を含有することが好ましい。光酸発生剤は、活性エネルギー線を照射されることにより、硬化性樹脂が有する光重合性官能基を架橋させることができる酸性活性物質を放出することができる化合物であれば、特に限定されない。
上記硬化性樹脂は、残膜率および解像度の向上のため、塩基性化合物を含有してもよい。上記塩基性化合物はクエンチャーとして作用する。すなわち、上記塩基性化合物を適切な量にて上記硬化性樹脂に配合することにより、上記光酸発生剤による架橋が未露光の部分にまで及ぶことを防ぐことができる。これにより、残膜率が向上するとともに、露光部分と未露光部分とのコントラストが明確になって解像度が向上する。
で表される。
(増感剤)
上記硬化性樹脂は、増感剤を含有してもよい。上記増感剤によれば、上記硬化性樹脂において、可視光等への感度を向上させることができ、さらにg線(436nm)、h線(405nm)およびi線(365nm)等の高波長の光に感度を持たせることができる。これらの増感剤を、上述の光酸発生剤と併用して使用することにより、上記硬化性樹脂の硬化性の調整を行うことができる。
上記硬化性樹脂は、接着性改良剤を含有していてもよい。接着性改良剤としては一般に用いられている接着剤の他、例えば種々のカップリング剤、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール樹脂、クマロン-インデン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン-フェノール樹脂、α-メチルスチレン-ビニルトルエン共重合体、ポリエチルメチルスチレンおよび芳香族ポリイソシアネート等を挙げることができる。
また、これらのカップリング剤、シランカップリング剤およびエポキシ化合物等としては、1種が使用されてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記硬化性樹脂の特性を改質する等の目的で、上記硬化性樹脂に種々の熱可塑性樹脂を添加することも可能である。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、メチルメタクリレートの単独重合体またはメチルメタクリレートと他のモノマーとのランダム、ブロック、もしくはグラフト重合体等のポリメチルメタクリレート系樹脂(例えば日立化成社製オプトレッツ等)およびブチルアクリレートの単独重合体またはブチルアクリレートと他のモノマーとのランダム、ブロック、もしくはグラフト重合体等のポリブチルアクリレート系樹脂等に代表されるアクリル系樹脂、ビスフェノールA、3,3,5-トリメチルシクロヘキシリデンビスフェノール等をモノマー構造として含有するポリカーボネート樹脂等のポリカーボネート系樹脂(例えば帝人社製APEC等)、ノルボルネン誘導体、ビニルモノマー等を単独あるいは共重合した樹脂、ノルボルネン誘導体を開環メタセシス重合させた樹脂、あるいはその水素添加物等のシクロオレフィン系樹脂(例えば、三井化学社製APEL、日本ゼオン社製ZEONOR、ZEONEX、JSR社製ARTON等)、エチレンとマレイミドとの共重合体等のオレフィン-マレイミド系樹脂(例えば東ソー社製TI-PAS等)、ビスフェノール類(ビスフェノールAおよびビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン等)またはジオール類(ジエチレングリコール等)と、フタル酸類(テレフタル酸およびイソフタル酸等)または脂肪族ジカルボン酸類とを重縮合させたポリエステル等のポリエステル系樹脂(例えば鐘紡社製O-PET等)、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の他、天然ゴム、EPDMといったゴム状樹脂が挙げられるが、これらに限定されない。
上記硬化性樹脂には必要に応じて充填材を添加してもよい。
上記硬化性樹脂には老化防止剤を添加してもよい。老化防止剤としては、ヒンダートフェノール系老化防止剤等の一般に用いられている老化防止剤の他、クエン酸、リン酸および硫黄系老化防止剤等が挙げられる。
上記硬化性樹脂にはラジカル禁止剤を添加してもよい。ラジカル禁止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-3-メチルフェノール(BHT)、2,2’-メチレン-ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)およびテトラキス(メチレン-3(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メタン等のフェノール系ラジカル禁止剤、並びにフェニル-β-ナフチルアミン、α-ナフチルアミン、N,N’-第二ブチル-p-フェニレンジアミン、フェノチアジンおよびN,N’-ジフェニル-p-フェニレンジアミン等のアミン系ラジカル禁止剤等が挙げられる。
上記硬化性樹脂が高粘度である場合、溶剤に溶解して用いることも可能である。上記溶剤は特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、ヘキサンおよびヘプタン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキソランおよびジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノン等のケトン系溶媒;プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセテート(PGMEA)およびエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコール系溶剤;クロロホルム、塩化メチレンおよび1,2-ジクロロエタン等のハロゲン系溶剤等が挙げられる。
上記硬化性樹脂には、着色剤、離型剤、難燃剤、難燃助剤、界面活性剤、消泡剤、乳化剤、レベリング剤、はじき防止剤、イオントラップ剤(アンチモン-ビスマス等)、チクソ性付与剤、粘着性付与剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、反応性希釈剤、酸化防止剤、熱安定化剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、熱伝導性付与剤および物性調整剤等を、本発明の目的および効果を損なわない範囲において添加することができる。
(硬化性樹脂の調製方法)
上記硬化性樹脂の調製方法は特に限定されず、種々の方法によって調製可能である。各種成分を硬化直前に混合調製してもよく、全成分を予め混合調製した一液の状態で低温貯蔵しておいてもよい。
上記硬化性樹脂は液状でハンドリングすることができ、また、溶液塗布によって容易に膜を形成できる。そのため、上記硬化性樹脂を基材(基材1)上に層状塗布し、乾燥させることによって積層体(基材1/感光性樹脂組成物)を容易に形成することができる。
上記硬化性樹脂を基材(基材1)上に層状塗布し、乾燥させることによって得た積層体(基材1/感光性樹脂組成物)を、露光後、アルカリ性現像液によって現像することによって、パターンを形成することが出来る。
また光反応を促進させる目的で、光照射した後、現像する前に熱を加えて、ポストエクスポージャーベイク(PEB)させてもよい。
上記積層体は、種々の用途に用いることができる。
ジアリルイソシアヌル酸40gおよびジアリルモノメチルイソシアヌル酸29gをジオキサン264gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金を3重量%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt-VTSC-3X)143μLを加えた。このようにして得られた溶液を、酸素を3%含有する窒素雰囲気下、105℃に加熱した1,3,5,7-テトラハイドロジェン-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン88gをトルエン176gに溶解させた溶液に3時間かけて滴下した。
製造例1で得られた樹脂組成物を用いて下記の基板圧着性評価サンプルを作製した。まず、6、12インチφのガラス基板へ、製造例で得られた樹脂組成物を膜厚50μmになるようスピンコーティングした。得られた基板を、120℃に加熱したホットプレート上で10分間加熱した。さらに、露光装置(高圧水銀ランプ、手動露光機、大日本科研社製)を用い、図3~図6のフォトマスクを通して、積算光量1500mj/cm2で露光し(ソフトコンタクト露光)、露光後1分間放置した。その後、アルカリ性現像液(TMAH2.38%水溶液)に300秒間浸漬後、30秒間水洗して、圧縮空気または圧縮窒素で表面の水分を除去してパターンを形成した。
上記セル構造を形成した6インチ、12インチφのガラス基板の接着層の面に12インチφのシリコンウェハを重ね合わせた。精密プレス機の下盤に設置し、下盤を30℃、上盤を150℃に加熱した。接着層に2.5MPaの圧力がかかる様に荷重を設定しプレスを開始し、所定の荷重に達した状態で2分30秒保持した。
得られた基板積層体を、顕微鏡で観察し未接着箇所の個数を数えた(表-1)。
表1に示すように実施例1~6の個々が独立したセルパターンでは未接着箇所が発生せず、中空構造体を数100~数1000個もった基板積層体を得ることができる。
2.パターン化された硬化性樹脂
3.基板
Claims (10)
- 2つの基板をパターン化された樹脂で貼り合わせた基板積層体であって、
前記パターン化された樹脂が、カチオン重合性基およびアルカリ可溶性基を分子内に有するポリシロキサン系化合物を含む感光性樹脂組成物を硬化したものであり、
パターン形状が個々に独立した中空セル構造を有することを特徴とする基板積層体。 - 前記感光性樹脂組成物が光酸発生剤およびモルホリン誘導体を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の基板積層体。
- 前記基板の少なくとも一方が透明基板であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板積層体。
- 前記透明基板がガラスであることを特徴とする請求項3に記載の基板積層体。
- 前記基板の少なくとも一方が半導体素子基板であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の基板積層体。
- 前記ポリシロキサン系化合物がグリシジル基または脂環式エポキシ基を含むことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の基板積層体。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の基板積層体を用いて得られるイメージセンサ。
- カチオン重合性基およびアルカリ可溶性基を分子内に有するポリシロキサン系化合物を含む感光性樹脂組成物を基板(第一の基板)上に塗布乾燥し、露光後アルカリ性水溶液で現像して基板(第一の基板)上にパターン形状が個々に独立した中空セル構造に該当するパターンを形成する工程と、
前記パターンを介して、基板(第一の基板)とは別の面に別の基板(第二の基板)を貼り合わせる工程を有することを特徴とする基板積層体の製造方法。 - 前記感光性樹脂組成物が光酸発生剤およびモルホリン誘導体を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の基板積層体の製造方法。
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