JP7013152B2 - バタフライバルブおよび真空圧力制御装置 - Google Patents

バタフライバルブおよび真空圧力制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7013152B2
JP7013152B2 JP2017137211A JP2017137211A JP7013152B2 JP 7013152 B2 JP7013152 B2 JP 7013152B2 JP 2017137211 A JP2017137211 A JP 2017137211A JP 2017137211 A JP2017137211 A JP 2017137211A JP 7013152 B2 JP7013152 B2 JP 7013152B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
butterfly valve
valve body
rotation
butterfly
rotary shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017137211A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019019851A (ja
Inventor
康典 西村
稔 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CKD Corp
Original Assignee
CKD Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CKD Corp filed Critical CKD Corp
Priority to JP2017137211A priority Critical patent/JP7013152B2/ja
Publication of JP2019019851A publication Critical patent/JP2019019851A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7013152B2 publication Critical patent/JP7013152B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Lift Valve (AREA)
  • Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)

Description

本発明は、例えば、真空容器と真空ポンプとの間に配置されるバタフライバルブ及び真空圧力制御装置に関するものである。
従来より、半導体製造工程では、真空容器と真空ポンプとの間に真空圧力制御装置を配置し、真空容器の真空圧力を制御する。真空圧力制御装置には、例えば、大きなコンダクタンスが必要な場合、バタフライ弁を使用することが多い。特許文献1には、バルブボディに形成された弁孔にバタフライ弁体を回転可能に軸支し、バタフライ弁体の周縁部に接離する環状の弁座をバルブボディに設けたバタフライ弁が、開示されている。
バタフライ弁は、弁閉時にバタフライ弁体が弁座上を摺動するため、弁座が摩耗・損傷しやすい。そこで、特許文献1記載のバタフライ弁は、弁座を前進後退させる機構を設け、バタフライ弁体を弁孔の内面と接触することなく回転するようにしている。
なお、弁座が定位置に配置されるバタフライ弁では、弁座の摩耗・損傷を低減するために、バタフライ弁体に潤滑油を塗布している。
実用新案登録第2516307号公報
しかしながら、特許文献1記載のバタフライ弁は、回転軸を回転させる構造と別に、弁座を前進後退させる機構をバルブボディに設けなければならず、構造が複雑だった。また、バタフライ弁体に潤滑油を塗布したバタフライ弁は、例えば高温・高真空の条件下で使用されると、潤滑油が気化し、十分な潤滑効果を得られなかった。
本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、シンプルな構造で、潤滑油を使用せずに弁座の摩耗・損傷を低減できるバタフライバルブを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係るバタフライバルブは、弁孔を備えるバルブボディと、前記弁孔の軸心に対して直交する方向に配置された回転軸と、前記弁孔に回転自在に配置されるバタフライ弁体と、弾性を有し、前記バタフライ弁体の周縁部が当接又は離間する環状の弁座と、を備えるバタフライバルブにおいて、前記弁座が定位置に配置されていること、前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部と、を有すること、を特徴とする。
このような構成を有するバタフライバルブでは、動作制御部が、バタフライ弁体を回転軸と一体的に回転させることに加え、バタフライ弁体を回転軸の中心軸に対して垂直方向に移動させることにより、弁座に押し付ける。そのため、バタフライ弁体を弁座に当接させ始めるシール開始位置から、バタフライ弁体を弁座に押し付けてシールさせる全閉位置まで、バタフライ弁体を回転させる回転量が、回転動作のみでバタフライ弁体を弁座にシールさせる従来のバタフライバルブより、小さくなる。よって、上記バタフライバルブによれば、バタフライ弁体が弁座上を摺動することを極力抑え、潤滑油を使用しなくても弁座の摩耗・損傷を低減できる。また、バタフライバルブは、回転軸に連結される動作制御部が回転軸の回転のみでバタフライ弁体に直進動作を行わせるので、弁座を直進させる構造を備える従来のバタフライバルブと比べ、構造がシンプルになる。
また、上記構成のバタフライバルブにおいて、前記動作制御部が、前記回転軸に固定され、前記バタフライ弁体を前記垂直方向に変動可能に支持する支持機構と、前記バタフライ弁体の少なくとも一部が前記弁座に当接する場合に、前記回転軸の回転に応じて前記バタフライ弁体を押圧するカム機構と、を有することが、好ましい。
このような構成を有するバタフライバルブでは、バタフライ弁体が支持機構を介して回転軸と一体的に回転すると、カム機構が、回転軸の回転に応じて、バタフライ弁体を押圧し、バタフライ弁体を回転軸に対して垂直方向に変動させる。このバタフライバルブによれば、回転軸の回転を直線方向の推力に変換してバタフライ弁体に直進動作させる構造が簡単である。
上記構成のバタフライバルブにおいて、前記カム機構が、前記弁孔の内部に突出するように前記バルブボディに設けられた突出部材と、前記バタフライ弁体に固定されるものであり、前記バタフライ弁体が前記弁座から離間する場合には、前記突出部材に接触せず、前記バタフライ弁体の少なくとも一部が前記弁座に当接する場合には、前記突出部材に接触するカム部材と、を有することが、好ましい。
このような構成を有するバタフライバルブによれば、バタフライ弁体にカム部材を固定し、バルブボディに突出部材を設けるだけでカム機構を構成でき、カム機構をコンパクトにできる。
上記構成のバタフライバルブにおいて、前記カム部材が、前記突出部材と接触する位置に転がり軸受けが配置されていることが、好ましい。
このような構成を有するバタフライバルブによれば、突出部材とカム部材との間の摩擦抵抗を転がり軸受によりほぼゼロにできるので、回転動作と同程度の回転トルクで直進動作も行うことができる。
上記構成のバタフライバルブは、前記バタフライ弁体を支持機構側に付勢する付勢部材を有することが、好ましい。
このような構成を有するバタフライバルブでは、全閉位置にあるバタフライ弁体を弁開方向に回転させると直ぐに、付勢部材の付勢力により、バタフライ弁体が後退する。よって、上記バタフライバルブによれば、弁開時にもバタフライ弁体の摺動を抑制し、弁座の摩耗、損傷を低減できる。
本発明の一態様に係る真空圧力制御装置は、真空容器と真空ポンプとの間に配設され、前記真空容器の真空圧力を制御する真空圧力制御装置において、回転軸と、バタフライ弁体と、前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部と、定位置に配置されて、前記バタフライ弁体が当接又は離間するものであり、弾性を有する環状の弁座と、前記回転軸を回転させる回転駆動部と、前記回転駆動部に前記回転軸を正方向に回転させることにより、前記弁座から離間する方向に前記バタフライ弁体を回転させる一方、前記回転駆動部に前記回転軸を逆方向に回転させることにより、前記弁座に当接する方向に前記バタフライ弁体を回転させる制御手段と、を有すること、を特徴とする。
このような構成を有する真空圧力制御装置は、上記バタフライバルブと同様、動作制御部により、回転軸の回転のみでバタフライ弁体に回転動作と直進動作を行わせるので、バタフライ弁体が弁座上を摺動するのを極力抑え、潤滑油を使用せずに弁座の摩耗・損傷を低減できる。潤滑油を使用しないので、高温・高真空下で使用されても、気化した潤滑油が真空容器側に逆流する恐れがない。また、上記真空圧力制御装置は、バタフライ弁体を直進させる構造がシンプルである。
上記構成の真空圧力制御装置は、前記動作制御部は、真空ポンプ側に配置されていることが、好ましい。
このような構成を有する真空圧力制御装置は、動作制御部から発生したパーティクル等が真空容器側に逆流することを防ぎ、真空容器の汚染を回避できる。
上記構成の真空圧力制御装置は、前記制御手段が、前記バタフライ弁体が全閉位置にあるときに漏れを検出する漏れ検出手段と、前記漏れ検出手段が漏れを検出した場合に、前記回転駆動部に前記回転軸をさらに逆方向に回転させる補正手段とを有することが、好ましい。
このような構成を有する真空圧力制御装置は、例えば、弁座が変形したり、摩耗したりするなどして劣化し、バタフライ弁体を全閉位置に配置しても漏れが生じる場合には、漏れ検出手段が、その漏れを検出する。この場合、制御手段が、回転軸をさらに逆方向に回転させるように駆動部を制御する。すると、動作制御部が、その回転軸の回転によりバタフライ弁体をさらに前進させ、弁座に押し付ける。よって、上記真空圧力制御装置によれば、部品を交換しなくても、回転軸を逆方向に回転させるだけで、漏れを解消できる。
よって、本発明によれば、シンプルな構造で、潤滑油を使用せずに弁座の摩耗・損傷を低減できるバタフライバルブ及び真空圧力制御装置を実現することができる。
本発明の実施形態に係るバタフライバルブの断面図である。 図1のA-A矢視図である。 図2のB-B断面図である。 図2のC-D-E-F-G-H断面図であって、全閉状態を示す。 図2のC-D-E-F-G-H断面図であって、直進動作中の状態を示す。 図2のC-D-E-F-G-H断面図であって、直進動作開始時の状態を示す。 図2のC-D-E-F-G-H断面図であって、第1弁開状態を示す。 図2のC-D-E-F-G-H断面図であって、補正状態を示す。 真空圧力制御システムの構成を示すブロック図である。 第1弁体部の摺動軌跡を説明する図である。 バタフライ弁体の回転角度と弁開度の関係を示すグラフである。
本発明のバタフライバルブ及び真空圧力制御装置について、図面を参照しながら以下に詳細に説明する。
(バタフライバルブの概略構成)
図1は、本発明の実施形態に係るバタフライバルブ1の断面図である。バタフライバルブ1は、駆動部2と弁本体3を有する。
駆動部2は、モータ11と、減速機12と、エンコーダ26と、制御基板13を有する。モータ11は、回転駆動部の一例である。制御基板13は、制御手段、漏れ検出手段、補正手段の一例である。
弁本体3は、バルブボディ8と、回転軸10と、バタフライ弁体9と、動作制御部31を有する。
バルブボディ8は、円筒形状のボディ4の両側に、継手5、6を取り付けることにより、構成されている。ボディ4と継手5、6は、耐腐食性や耐熱性を有するステンレス鋼で作製されている。ボディ4は、円筒形状に形成され、断面円弧状の内壁からなる弁孔4dに回転軸10が架設されている。回転軸10とボディ4の間には、シールのためのOリング18、19、20、21が配置されている。バタフライ弁体9は、流体を出力する流路6a側(真空ポンプ28側)に配置された動作制御部31を介して回転軸10に取り付けられ、弁孔4dに回転動作及び直進動作可能に配置されている。
継手5は、流路5aが形成され、フランジ部5bがボディ4にねじ止めされている。継手6は、流路6aが形成され、フランジ部6bがボディ4にねじ止めされている。流路5aと弁孔4dと流路6aは、同軸上に設けられている。例えば、継手5は、真空容器27に接続され、継手6は、真空ポンプ28に接続される。
ボディ4は、弁孔4dの軸方向の一方の端部(継手5と接する側)において、弁孔4dの径方向外側に弁座側凹部4aが環状に形成されている。弁座側凹部4aには、ゴム製で環状の弾性シール部材7が係合されている。弾性シール部材7は、ボディ4と継手5により挟持されている。弾性シール部材7には、弁座7aが形成されている。弁座7aは、流路5a側から弁孔4d側へ向かって拡径するテーパ面により形成されている。
バタフライ弁体9は、円板形をなす。バタフライ弁体9は、回転軸10と一体的に正方向Kにすることにより、弁座7aから離間する。一方、バタフライ弁体9は、回転軸10と一体的に逆方向-Kに回転することにより、弁座7aに当接する。回転軸10は、エンコーダ26により回転角度を把握され、減速機12付のモータ11により回転される。これにより、バタフライバルブ1は、モータ11を小型化できるとともに、モータ11の電源が断たれても弁の開度を把握することができる。
バタフライ弁体9は、後述するように、回転軸10の中心軸Pに対して2重偏心している。2重偏心の弁は、保持する力がないと、バタフライ弁体9が流路5a側の圧力と弁孔4d側の圧力との差圧により回転する恐れがある。そのため、バタフライバルブ1は、電源が断たれた状態でも、この差圧で発生する回転トルクでは回転軸10が回転しない減速機12を選定している。また、モータ11にはディテントトルクなど、モータ11自身の保持トルクもあるため、併用し、電源が断たれたときに弁が動かないようにしている。
(動作制御部の構成)
動作制御部31の構成を、具体的に説明する。図2は、図1のA-A矢視図である。図3は、図2のB-B断面図である。図4~図8は、図2のC-D-E-F-G-H断面図である。図4は、全閉状態を示す。図5は、直進動作中の状態を示す。図6は、直進動作開始時の状態を示す。図7は、第1弁開状態を示す。図8は、補正状態を示す。
図2及び図3に示すように、動作制御部31は、回転軸10の中心軸Pと垂直方向に移動できるようにバタフライ弁体9を支持する支持機構70と、回転軸10の回転に応じてバタフライ弁体9を押圧するカム機構60を有する。支持機構70とカム機構60は、耐腐食性、耐熱性があるステンレス鋼で作製されている。支持機構70は、支持部材32と、第1ガイド部材33と、第2ガイド部材34と、第1圧縮ばね35と、第2圧縮ばね36を有する。図2に示すように、カム機構60は、第1カム部材37と、第2カム部材38と、第1当て板61と、第2当て板62を有する。尚、第1当て板61と第2当て板62は、突出部材の一例である。第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36は、付勢部材の一例である。
図2及び図3に示すように、支持部材32は、円柱形状に形成されている。支持部材32は、バタフライ弁体9側に位置する第1端面32aに、回転軸10を収容するための収容溝32dが、直径方向に形成されている。支持部材32は、収容溝32dの底面32eを回転軸10の第2面取部10bに面接触させた状態で、複数の固定ねじ41を用いて回転軸10に固定され、回転軸10と一体的に回転する。尚、回転軸10は、収容溝32dから突出しないように第1面取部10aが形成され、支持部材32の厚みを抑えている。
図3に示すように、支持部材32は、第1ガイド部材33と第2ガイド部材34を介してバタフライ弁体9を往復直線運動可能に支持する。支持部材32は、バタフライ弁体9を回転軸10と一体的に回転させる。
バタフライ弁体9は、バタフライ弁体9の中心点Qが回転軸10の中心軸Pに対して流路5a、6aの軸心方向(図3において左右方向)において距離Xだけ偏心し、かつ、流路5a、6aの軸心と直交する方向(図3において上下方向)において距離Yだけ偏心することにより、2重に偏心している。距離Xは、バタフライ弁体9が支持部材32に対して前進又は後退することにより、変更される(図4の距離X1、図5の距離X2、図6の距離X3参照)。バタフライ弁体9は、図2及び図3に示すように、外周が長い第1弁体部91と、第1弁体部91より外周が短い第2弁体部92を備える。
図3に示すように、バタフライ弁体9は、弁座7aと当接する周縁部9cを含む第1面9aと、支持部材32側に位置する第2面9bと、を備え、周縁部9cは所定曲率を有する曲面として形成されている。所定曲率を大きくとることにより、弾性シール部材7とバタフライ弁体9との接触面を広くとることができるため、ヘリウム等の透過性ガスを使用する際、ガスが透過しにくい。
第1ガイド部材33と第2ガイド部材34は、円筒形状に形成され、第1取付ねじ42と第2取付ねじ43を用いてバタフライ弁体9の第2面9bに固定されている。支持部材32は、第1ガイド部材33と第2ガイド部材34を摺動可能に保持する第1保持孔32fと第2保持孔32gを有する。第1保持孔32fと第2保持孔32gは、回転軸10の中心軸P(図3において、手前奥方向)に対して垂直方向(図3において、左右方向)に沿って貫通するように、支持部材32に形成されている。第1ガイド部材33と第2ガイド部材34は、回転軸10の両側に対称配置され、バタフライ弁体9を支持部材32に対して平行移動させる。
第1ガイド部材33は、バタフライ弁体9の第2面9bに当接する先端部と反対側に位置する後端部に第1鍔部33aが設けられている。支持部材32は、バタフライ弁体9と反対側に位置する第2端面32bに、第1ばね収容部32hが開設されている。第1ばね収容部32hは、第1保持孔32fの外側に環状に形成されている。第1圧縮ばね35は、第1鍔部33aと第1ばね収容部32hの内壁との間に、圧縮保持されている。また、第2圧縮ばね36は、第1圧縮ばね35と同様、第2ガイド部材34の鍔部34aと、第2ばね収容部32iの内壁との間に、圧縮保持されている。これにより、バタフライ弁体9は、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36により支持部材32側に向かって常時付勢され、カム機構60から伝達される押圧力Fの変動に追従して、応答性良く前進又は後退できる。
図2に示すように、第1カム部材37は、バタフライ弁体9の第2面9bに固定ねじ45、46を用いて固定されている。第2カム部材38がバタフライ弁体9の第2面9bに固定ねじ47、48を用いて固定されている。第1カム部材37と第2カム部材38は、第1ガイド部材33の中心点と第2ガイド部材34の中心点を結ぶ線(図2のB-B線)に関して、線対称に配置されている。第1カム部材37と第2カム部材38は、ボディ4に固定された第1当て板61と第2当て板62に接離する。
図1および図2に示すように、ボディ4は、弁孔4dの軸方向の他方の端部(継手6に接する側)に第1取付凹部4bと第2取付凹部4cが形成されている。第1当て板61は、第1取付凹部4bに収容され、固定ねじ63、64を用いてボディ4に固定されている。第2当て板62は、第1当て板61と同様にして、第2取付凹部4cに収容され、固定ねじ65、66を用いてボディ4に固定されている。第1当て板61と第2当て板62は、弁孔4dの内壁から突出し、かつ、流路5a、6aの軸心(図1において左右方向、図2において手前奥方向)に対して垂直な面を形成するように、配設されている。
図4に示すように、第1カム部材37は、バタフライ弁体9と反対側に位置する部分に、カム面37aがテーパ状に形成されている。第1カム部材37は、カム面37aの頂点部分が第2弁体部92側に位置するように、バタフライ弁体9に固定されている。第2カム部材38は、第1カム部材37と同様にカム面38aを設けられている。
そのため、バタフライ弁体9が逆方向-Kに回転した場合、図6、図5、図4に示すように、第1カム部材37(第2カム部材38)は、回転軸10の中心軸Pから第1カム部材37(第2カム部材38)と第1当て板61(第2当て板62)との接触位置Rまでの距離Z(図6の距離Z3、図5の距離Z2、図4の距離Z1)を徐々に大きくする。これに伴い、接触位置Rに作用する直線方向の押圧力F(図5の押圧力F2、図4の押圧力F1)が増加する。バタフライ弁体9は、押圧力Fの増加に応じて、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36の付勢力に抗して支持部材32と反対側に前進する。
図1に示すように、第1カム部材37は、第1当て板61に摺接する位置、すなわち、カム面37aの頂点部分に、第1転がり軸受け39が配設され、摩擦抵抗を低減している。第2カム部材38も同様に第2転がり軸受け40を有する。
(真空圧力制御システムの構成)
次に、上記バタフライバルブ1を用いた真空圧力制御システムの構成を説明する。図9は、真空圧力制御システムの構成を示すブロック図である。バタフライバルブ1は、真空容器27と真空ポンプ28を接続する配管30上に配設され、真空容器27の圧力を制御する真空圧力制御装置として使用される。
バタフライバルブ1の制御基板13には、エンコーダ26と、モータ11と、真空容器27の圧力を検出する圧力センサ25が接続されている。制御基板13は、記憶手段131を有する。記憶手段131には、例えば、全閉位置と、第1弁開位置と、第2弁開位置に対応する回転軸10の回転角度が記憶されている。
ここで、全閉位置は、例えば図4に示すように、バタフライ弁体9が周縁部9cの全周を弁座7aに密着させてシールを行う位置である。また、第1弁開位置は、例えば図7に示すように、バタフライ弁体9の第1弁体部91を弁座7aから僅かに離間させる位置、つまり、第1弁体部91の頂点が流路5a、6aの内壁(図7における線V)より径方向外側にある位置、である。第2弁開位置は、第1弁開位置より第1弁体部91を弁座7aから離間させる距離が大きい位置、つまり、第1弁体部91の頂点が流路5a、6aの内壁(図7における線V)より径方向内側にある位置、である。
本形態では、全閉位置に対応する回転角度を、0°とする。そして、回転角度0°に対して、回転軸10を正方向Kに回転させたときの回転角度を正の値とし、回転角度0°に対して、回転軸10を逆方向-Kに回転させたときの回転角度を負の値とする。本形態では、回転角度が±5°以上の範囲で、バタフライ弁体9(第1弁体部91と第2弁体部92)が弁座7aから完全に離間する。そこで、第1弁開位置は、第1弁体部91が弁座7aから離間し、第2弁体部92が弁座7aに当接する範囲(0°より大きく±5°未満の範囲)で回転角度が設定される。第2弁開位置に対応する回転角度は、±5°以上の範囲で任意に設定される。
(真空圧力制御動作)
続いて、上記バタフライバルブ1を用いた真空圧力制御の概要を説明する。バタフライバルブ1は、排気を停止する場合、バタフライ弁体9が図4に示す全閉位置にある。
この排気停止状態から排気を行う場合、バタフライバルブ1の制御基板13は、記憶手段131から第1弁開位置に対応する回転角度を読み出し、エンコーダ26を用いてモータ11を駆動する。回転軸10は、モータ11により、第1弁開位置に対応する回転角度まで正方向Kに回転する。バタフライ弁体9は、支持部材32を介して回転軸10と一体的に正方向Kに回転し、図7に示す第1弁開位置になる。これにより、バタフライバルブ1は、真空容器27内でパーティクルを巻き上げないように、排気ガスを微小流量に制御し、真空容器27の圧力をゆっくり低下させる。
制御基板13は、圧力センサ25により、真空容器27の圧力が所定の真空圧力まで低下したことを確認すると、記憶手段131から第2弁開位置に対応する回転角度を読み出し、エンコーダ26を用いてモータ11を駆動する。回転軸10は、モータ11により、第2弁開位置に対応する回転角度まで正方向Kに回転する。これにより、バタフライバルブ1は、第2弁開位置になり、排気ガスを大流量に制御する。そのため、真空容器27は、急速に圧力が低下し、排気時間を短縮される。
制御基板13は、圧力センサ25により、真空容器27の圧力が目標圧力まで低下したことを確認すると、エンコーダ26を用いてモータ11を駆動し、回転軸10の回転角度が0°になるまで回転軸10を逆方向-Kに回転させる。バタフライ弁体9は、支持部材32を介して回転軸10と一体的に逆方向-Kに回転し、図4に示す全閉位置になる。これにより、排気が停止される。
(バタフライ弁体の弁閉動作について)
バタフライ弁体9が、図7に示すように弁座7aから完全に離間する第1弁開位置から、図4に示す全閉位置まで、弁閉する動作について説明する。バタフライ弁体9が弁座7aから完全に離間する間、第1カム部材37と第2カム部材38が第1当て板61と第2当て板62から離間している。そのため、バタフライ弁体9は、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36に付勢されて第2面9bを支持部材32の第1端面32aに当接させる後退位置まで後退した状態で、逆方向-Kに回転する。
図6に示すように、バタフライ弁体9は、第2弁体部92を弁座7aに当接させる寸前まで逆方向-Kに回転すると、第1カム部材37の第1転がり軸受け39と第2カム部材38の第2転がり軸受け40を第1当て板61と第2当て板62に当接させる。
図5に示すように、バタフライ弁体9が逆方向-Kに更に回転すると、第1カム部材37と第2カム部材38は、第1転がり軸受け39と第2転がり軸受け40を介して第1当て板61と第2当て板62に摺接する。第1カム部材37と第2カム部材38は、第1当て板61と第2当て板62と接触する接触位置Rに、直線方向の押圧力Fが作用し、その押圧力Fをバタフライ弁体9に伝達する。該押圧力Fが第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36の付勢力より大きくなると、バタフライ弁体9が、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36に抗して移動し始める。バタフライ弁体9は、第1ガイド部材33と第2ガイド部材34を介して支持部材32に支持され、回転軸10の中心軸Pに対して垂直方向に前進する。
図5に示すように、バタフライ弁体9は、第1弁体部91を弁座7aに当接させるときには、回転軸10と一体的に逆方向-Kに回転する回転動作を行うと共に、回転軸10の中心軸Pに対して垂直方向に前進する直進動作を行っている。図5、図4に示すように、バタフライ弁体9は、全閉位置に近づくほど、中心軸Pと接触位置Rとの間の距離Z(図5の距離Z2、図4の距離Z1)が大きくなり、押圧力F(図5の押圧力F2、図4の押圧力F1)が大きくなる。よって、バタフライ弁体9は、回転角度が0°に近づくにつれて、前進する距離が大きくなり、弁座7aに押し付けられる力が上昇する。
第1弁体部91の動作について図10を参照して説明する。図10は、第1弁体部の摺動軌跡を説明する図である。バタフライバルブは、第1弁体部を弁座にシールさせることで全閉動作を完了する。そこで、第1弁体部に着目して摺動特性を検討する。図10では、本形態のバタフライバルブ1の第1弁体部91と従来のバタフライバルブの第1弁体部910の移動軌跡を重ねて記載している。従来のバタフライバルブは、動作制御部31を備えず、バタフライ弁体を回転軸に直結させており、バタフライ弁体に回転動作のみを行わせる点だけが、本形態のバタフライバルブと相違している。
図中実線U1は、回転角度が0°である場合における第1弁体部91の位置と、回転角度が0°である場合における第1弁体部910の位置を示す。つまり、本形態のバタフライバルブ1と従来のバタフライバルブは、第1弁体部91、910の全閉位置が同じである。図中二点鎖線U2で示す第1弁体部91と、図中点線U3で示す第1弁体部910は、バタフライ弁体の回転角度が同じである。図中二点鎖線U2に示すように、本形態のバタフライバルブ1の第1弁体部91は、弁座7aに当接し始める位置にある。図中点線U3に示すように、従来のバタフライ弁体の第1弁体部910は、弁座7aに摺接している。
従来のバタフライバルブの第1弁体部910は、バタフライ弁体と回転軸との位置関係(バタフライ弁体の中心点Qと回転軸の中心軸Pとの間の流路軸心方向の距離X)が一定である。そのため、第1弁体部910が弁座7aに摺接し始める時点から、図中U1に示す全閉位置にて発生する弾性シール部材7の締め付け力が発生する。これに対して、本形態のバタフライバルブ1の第1弁体部91は、図中Jに示すように、弁座7aに当接した後に後退位置から前進して、弁座7aに押し付けられる。そのため、第1弁体部91が、図中二点鎖線U2に示すように弁座7aに摺接し始めてから図中実線U1に示すように全閉位置まで移動する間に、弾性シール部材7の締め付け力が増加し、全閉位置にて従来の第1弁体部91と同程度の弾性シール部材7の締め付け力が得られる。よって、本形態のバタフライバルブ1は、従来のバタフライバルブより、弾性シール部材の回転摩擦を抑制し、弁座7aの摩耗・損傷を低減できる。
発明者らは、上記本形態のバタフライバルブと、上記従来のバタフライバルブについて、バタフライ弁体の回転角度ごとに、弁開度を調べた。図11は、バタフライ弁体の回転角度と弁開度の関係を示すグラフである。縦軸は、弁開度(mm)を示し、横軸は、バタフライ弁体の回転角度(°)を示す。弁開度は、例えば図6及び図7に示すように、第1弁体部91(910)と弁座7aとの水平方向(流路5a、6aの軸心方向)の距離Lとする。弁開度は、第1弁体部が弁座に当接し始める位置を0mmとしている。回転角度は、第1弁体部を弁座にシールさせる全閉位置に配置したときを0°としている。そして、全閉位置に配置したバタフライ弁体を正方向に回転させたときの回転角度を正の値とし、全閉位置に配置したバタフライ弁体を逆方向に回転させたときの回転角度を負の値としている。
図中実線M上のM1点に示すように、本形態のバタフライバルブ1は、回転角度が約3°である場合に、第1弁体部91が弁座7aに当接し始める。そして、本形態のバタフライバルブ1は、図中M1点、M2点に示すように、回転角度が約3°から0°までの範囲で、第1弁体部91を弁座7aに約0.3mm押し付け、シールを行う。
これに対して、図中点線N上のN1点に示すように、従来のバタフライバルブは、回転角度が約4.5°である場合に、第1弁体部910が弁座7aに当接し始める。そして、本形態のバタフライバルブ1は、図中N1点、N2点に示すように、回転角度が約4.5°から0°までの範囲で、第1弁体部91を弁座7aに約0.3mm押し付け、シールを行う。
よって、本形態のバタフライバルブ1は、図中Wに示す分だけ、第1弁体部91を弁座7aに摺接させる回転角度が、従来のバタフライバルブより少なくなる。つまり、本形態のバタフライバルブ1は従来のバタフライバルブより第1弁体部91の摺動が抑制される。また、本形態のバタフライバルブ1は、従来のバタフライバルブよりバタフライ弁体9を弁座7aに摺動させる回転領域が小さくても、従来のバタフライバルブと同程度のシール荷重でバタフライ弁体9を弁座7aに密着させることができる。
(バタフライ弁体の弁開動作について)
次に、バタフライ弁体9を、図4に示す全閉位置から弁開させる場合の動作について、説明する。バタフライ弁体9は、回転軸10と一体的に逆方向-Kに回転する。バタフライ弁体9は、図4に示す全閉位置から逆方向-Kに回転すると、カム面37a,38aにより、押圧力F1が緩和される。すると直ぐに、バタフライ弁体9は、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36に付勢されて支持部材32側へ後退し始める。よって、バタフライ弁体9は、全閉位置から回転軸10と一体的に逆方向-Kへ回転すると同時に、弾性シール部材7の締め付け力が緩和され、弁座7aの摩耗・損傷を抑制できる。
ここで、上述したように、バタフライバルブ1は、カム機構60が回転軸10の回転に応じてバタフライ弁体9を押圧することにより、バタフライ弁体9が支持機構70に支持されながら回転軸10の中心軸Pに対して垂直方向に前進し、弁座7aに押し付けられる。よって、バタフライバルブ1は、簡単な構造でバタフライ弁体9に回転動作と直進動作を行わせることができる。よって、バタフライバルブ1は、回転軸の回転を直線方向の推力に変換してバタフライ弁体に直進動作させる構造が簡単である。
また、バタフライバルブ1は、バタフライ弁体9に第1カム部材37と第2カム部材38を固定し、バルブボディ8のボディ4に第1当て板61と第2当て板62を取り付けるだけで、カム機構60を構成でき、カム機構60をコンパクトにできる。しかも、バタフライ弁体9は、周縁部9cの少なくとも一部が弁座7aに当接する場合に、直進動作を行う。この直進動作において、バタフライ弁体9が前進又は後退する量、つまり、図6に示す前進開始位置における距離X3と図4に示す全閉位置における距離X1との差分は、数mm程度と小さい。そのため、支持部材32は、第1ガイド部材33と第2ガイド部材34を介してバタフライ弁体9を摺動可能に支持できる程度に薄くできる。よって、バタフライバルブ1は、動作制御部31の流路軸心方向の厚みが抑えられ、バルブサイズの外観やバルブボディの面間幅が大きくなることを抑制しつつ、耐久性を向上させることができる。また、バタフライバルブ1は、動作制御部31を備えることによるコンダクタンスの低下が抑制されるので、従来のバタフライバルブと同様に、大きなコンダクタンスが必要とされる場合に使用できる。
また、第1カム部材37と第2カム部材38は、第1当て板61と第2当て板62に摺接する位置、すなわち、カム面37a,38aの頂点部分に第1転がり軸受け39と第2転がり軸受け40を配置し、摩擦抵抗をほぼゼロにしている。そのため、バタフライバルブ1は、回転動作と同程度の回転トルクで、バタフライ弁体9に回転動作と直進動作を行わせることができる。つまり、モータ11は、回転動作に必要な大きさで選定すれば良い。よって、本形態のバタフライバルブ1は、動作制御部31を設けても、駆動部2が大きくならない。
ところで、上記バタフライバルブ1は、第1圧縮ばね35と第2圧縮ばね36やカム機構60などからパーティクルが発生する恐れがある。しかし、バタフライバルブ1は、排気ガスを出力する流路6a側(真空ポンプ28側)に動作制御部31を設けている。そのため、バタフライバルブ1は、動作制御部31から発生したパーティクルが、排気ガスを入力する流路5a側に逆流することを防ぎ、真空容器27の汚染を回避できる。
(補正動作について)
バタフライバルブ1は、弾性シール部材7を弾性変形させてシールを行うため、弾性シール部材7が経年劣化する恐れがある。そこで、バタフライバルブ1の制御基板13は、回転軸10の回転角度を0°に制御した後、圧力センサ25を用いて、真空容器27の圧力が低下しているか否かを判断する。圧力が低下していると判断した場合には、制御基板13は、モータ11を用いて回転軸10を逆方向-Kに回転させる。
バタフライ弁体9が図8の二点鎖線に示す全閉位置から逆方向-Kに回転すると、第1カム部材37と第2カム部材38を第1当て板61と第2当て板62に摺接させる位置が、カム面37a、38aの頂点側へ変化する。つまり、距離Z5が全閉位置における距離Z1(図4参照)より大きくなる。そのため、バタフライ弁体9は、図8の二点鎖線に示す全閉位置よりもカム機構60から付与される押圧力F(F5)が大きくなり、前進する。弁座7aは、流路5a側に向かって小径となるテーパ面により形成されている。よって、バタフライ弁体9は、全閉位置から逆方向-Kに回転されて前進することにより、第1弁体部91と第2弁体部92を弁座7aに対して押し付け、漏れを解消できる。
特に、図11の実線Mに示すように、本形態のバタフライバルブ1は、図11の点線Nに示す従来のバタフライバルブと比べ、回転角度が負の領域における回転角度に対する弁開度の変化量が大きい(図中M3,N3参照)。
よって、バタフライバルブ1は、弾性シール部材7が経年劣化し、漏れが生じる場合に、弾性シール部材7やカム機構60などの部品を交換しなくても、回転軸10を逆方向-Kに回転させるだけで、漏れを解消できる。
この場合、制御基板13は、補正後の回転軸10(バタフライ弁体9)の回転角度を、記憶手段131に記憶すると良い。これにより、次の全閉動作時に、上記補正動作を省略して排気を停止することが可能になり、真空圧力制御時間を短縮できる。
以上説明したように、本形態のバタフライバルブ1は、弁孔4dを備えるバルブボディ8と、弁孔4dの軸心に対して直交する方向に配置された回転軸10と、弁孔4dに回転自在に配置されるバタフライ弁体9と、弾性を有し、バタフライ弁体9の周縁部9cが当接又は離間する環状の弁座7aと、を備えるバタフライバルブ1において、弁座7aが定位置に配置されていること、回転軸10に連結され、回転軸10の回転のみで、バタフライ弁体9を回転軸10と一体的に回転させる回転動作と、回転軸10の中心軸Pに対して垂直方向にバタフライ弁体9を移動させる直進動作を行う動作制御部31と、を有するので、シンプルな構造で、潤滑油を使用せずに弁座7aの摩耗・損傷を低減できる。
また、本形態の真空圧力制御装置は、真空容器27と真空ポンプ28との間に配設され、真空容器27の真空圧力を制御する真空圧力制御装置において、回転軸10と、バタフライ弁体9と、回転軸10に連結され、回転軸10の回転のみで、バタフライ弁体9を回転軸10と一体的に回転させる回転動作と、回転軸10の中心軸Pに対して垂直方向にバタフライ弁体9を移動させる直進動作を行う動作制御部31と、定位置に配置されて、バタフライ弁体9が当接又は離間するものであり、弾性を有する環状の弁座7aと、回転軸10を回転させるモータ11と、モータ11に回転軸10を正方向Kに回転させることにより、弁座7aから離間する方向にバタフライ弁体9を回転させる一方、モータ11に回転軸10を逆方向-Kに回転させることにより、弁座7aに当接する方向にバタフライ弁体9を回転させる制御基板13と、を有するので、シンプルな構造で、潤滑油を使用せずに弁座7aの摩耗・損傷を低減できる。また、高温・高真空下で使用されても、気化した潤滑油が真空容器27側に逆流する恐れがない。
なお、上記各実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。
例えば、動作制御部は、弁を全閉する直線で、バタフライ弁体に直進動作のみを行わせてもよい。尚、上記実施形態のように、回転動作と直進動作を同時に行うことで、回転軸10の回転角度で弁の開度を容易に把握することが可能になる。
例えば、上記実施形態のカム機構は、バタフライ弁体9側にカムを設けたが、バルブボディ8側にカムを設け、そのカムをバタフライ弁体9に摺接させても良い。また、例えば、第1カム部材37と第2カム部材38は、バタフライ弁体9に溶接しても良い。第1当て板61と第2当て板62を弁孔4dの内壁に溶接してもよい。
例えば、上記実施形態では、板状の第1当て板61と第2当て板62により突出部材を構成した。これに対して、突出部材は、ピン形状であっても良い。
例えば、上記実施形態では、流体を出力する流路6a側に動作制御部31を配置したが、流体を入力する流路5a側に動作制御部31を配置しても良い。
例えば、回転軸10は、手動で回転させてもよい。また、例えば、第1及び第2転がり軸受け39、40を省略しても良い。また、例えば、上記実施形態では、弾性シール部材7の弁座7aを直線形状としているが、曲面形状にしても良い。また、例えば、上記実施形態のエンコーダ26に変えて、ポテンションメータを用いても良い。
例えば、排気ガスに接する排ガス部の材料は、使用環境に合わせ、ステンレス鋼以外に、アルミニウム合金等を使用しても良い。
例えば、上記形態では、バタフライバルブ1を排気ガスの流量制御に用いたが、バタフライバルブ1を流路の開閉に用いてもよい。
1 バタフライバルブ(真空圧力制御装置)
2 駆動部
4d 弁孔
7a 弁座
9 バタフライ弁体
9c 周縁部
10 回転軸
13 制御基板
27 真空容器
28 真空ポンプ
31 動作制御部
32 支持部材
35 第1圧縮ばね
36 第2圧縮ばね
37 第1カム部材
38 第2カム部材
70 支持機構
60 カム機構
61 第1当て板
62 第2当て板
P 中心軸
F 押圧力

Claims (8)

  1. 半導体製造工程で用いられるバタフライバルブであって、
    弁孔を備えるバルブボディと、
    前記弁孔の軸心に対して直交する方向に配置された回転軸と、
    前記弁孔に回転自在に配置されるバタフライ弁体と、
    弾性を有し、前記バタフライ弁体の周縁部が当接又は離間する環状の弁座と、を備えるバタフライバルブにおいて、
    前記弁座が定位置に配置されていること、
    前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部であって、前記回転動作と前記直進動作とを同時に並行して行う前記動作制御部と、を有すること、
    を特徴とするバタフライバルブ。
  2. 請求項1に記載するバタフライバルブにおいて、
    前記動作制御部が、
    前記回転軸に固定され、前記バタフライ弁体を前記垂直方向に変動可能に支持する支持機構と、
    前記バタフライ弁体の少なくとも一部が前記弁座に当接する場合に、前記回転軸の回転に応じて、前記支持機構に支持される前記バタフライ弁体を弁座方向に押圧するカム機構と、を有すること
    を特徴とするバタフライバルブ。
  3. 弁孔を備えるバルブボディと、
    前記弁孔の軸心に対して直交する方向に配置された回転軸と、
    前記弁孔に回転自在に配置されるバタフライ弁体と、
    弾性を有し、前記バタフライ弁体の周縁部が当接又は離間する環状の弁座と、を備えるバタフライバルブにおいて、
    前記弁座が定位置に配置されていること、
    前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部と、を有すること、
    前記動作制御部が、
    前記回転軸に固定され、前記バタフライ弁体を前記垂直方向に変動可能に支持する支持機構と、
    前記バタフライ弁体の少なくとも一部が前記弁座に当接する場合に、前記回転軸の回転に応じて前記バタフライ弁体を押圧するカム機構と、を有すること、
    前記カム機構が、
    前記弁孔の内部に突出するように前記バルブボディに設けられた突出部材と、
    前記バタフライ弁体に固定されるものであり、前記バタフライ弁体が前記弁座から離間する場合には、前記突出部材に接触せず、前記バタフライ弁体の少なくとも一部が前記弁座に当接する場合には、前記突出部材に接触するカム部材と、を有すること、
    を特徴とするバタフライバルブ。
  4. 請求項3に記載するバタフライバルブにおいて、
    前記カム部材が、前記突出部材と接触する位置に転がり軸受けが配置されていること、
    を特徴とするバタフライバルブ。
  5. 請求項2乃至請求項4の何れか一つに記載するバタフライバルブにおいて、
    前記バタフライ弁体を支持機構側に付勢する付勢部材を有すること
    を特徴とするバタフライバルブ。
  6. 半導体製造工程で用いられる真空容器と真空ポンプとの間に配設され、前記真空容器の真空圧力を制御する真空圧力制御装置において、
    回転軸と、
    バタフライ弁体と、
    前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部であって、前記回転動作と前記直進動作とを同時に並行して行う前記動作制御部と、
    定位置に配置されて、前記バタフライ弁体が当接又は離間するものであり、弾性を有する環状の弁座と、
    前記回転軸を回転させる回転駆動部と、
    前記回転駆動部に前記回転軸を正方向に回転させることにより、前記弁座から離間する方向に前記バタフライ弁体を回転させる一方、前記回転駆動部に前記回転軸を逆方向に回転させることにより、前記弁座に当接する方向に前記バタフライ弁体を回転させる制御手段と、を有すること、
    を特徴とする真空圧力制御装置。
  7. 真空容器と真空ポンプとの間に配設され、前記真空容器の真空圧力を制御する真空圧力制御装置において、
    回転軸と、
    バタフライ弁体と、
    前記回転軸に連結され、前記回転軸の回転のみで、前記バタフライ弁体を前記回転軸と一体的に回転させる回転動作と、前記回転軸の中心軸に対して垂直方向に前記バタフライ弁体を移動させる直進動作を行う動作制御部と、
    定位置に配置されて、前記バタフライ弁体が当接又は離間するものであり、弾性を有する環状の弁座と、
    前記回転軸を回転させる回転駆動部と、
    前記回転駆動部に前記回転軸を正方向に回転させることにより、前記弁座から離間する方向に前記バタフライ弁体を回転させる一方、前記回転駆動部に前記回転軸を逆方向に回転させることにより、前記弁座に当接する方向に前記バタフライ弁体を回転させる制御手段と、を有し、
    前記制御手段が、
    前記バタフライ弁体が全閉位置にあるときに漏れを検出する漏れ検出手段と、
    前記漏れ検出手段が漏れを検出した場合に、前記回転駆動部に前記回転軸をさらに逆方向に回転させる補正手段とを有すること、
    を特徴とする真空圧力制御装置。
  8. 請求項6又は請求項7に記載する真空圧力制御装置において、
    前記動作制御部は、真空ポンプ側に配置されていること、
    を特徴とする真空圧力制御装置。
JP2017137211A 2017-07-13 2017-07-13 バタフライバルブおよび真空圧力制御装置 Active JP7013152B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137211A JP7013152B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 バタフライバルブおよび真空圧力制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017137211A JP7013152B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 バタフライバルブおよび真空圧力制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019019851A JP2019019851A (ja) 2019-02-07
JP7013152B2 true JP7013152B2 (ja) 2022-01-31

Family

ID=65355463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017137211A Active JP7013152B2 (ja) 2017-07-13 2017-07-13 バタフライバルブおよび真空圧力制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7013152B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6959953B2 (ja) 2019-03-26 2021-11-05 Ckd株式会社 バタフライバルブ
JP7242582B2 (ja) * 2020-01-24 2023-03-20 Ckd株式会社 バタフライバルブ
JP7141418B2 (ja) 2020-02-03 2022-09-22 Ckd株式会社 非密閉式バタフライバルブおよびその製造方法
JP7320473B2 (ja) * 2020-03-27 2023-08-03 Ckd株式会社 バタフライバルブ
JP7174799B2 (ja) 2021-04-06 2022-11-17 Ckd株式会社 バタフライバルブ

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010060133A (ja) 2008-08-06 2010-03-18 Kitz Sct:Kk バタフライ式圧力制御バルブ
JP3201573U (ja) 2015-10-05 2015-12-17 イハラサイエンス株式会社 バルブ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010060133A (ja) 2008-08-06 2010-03-18 Kitz Sct:Kk バタフライ式圧力制御バルブ
JP3201573U (ja) 2015-10-05 2015-12-17 イハラサイエンス株式会社 バルブ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019019851A (ja) 2019-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7013152B2 (ja) バタフライバルブおよび真空圧力制御装置
JP5767777B2 (ja) バルブ構造
JP4683159B1 (ja) ロータリー弁
JP4271905B2 (ja) バタフライ・バルブ
US9695912B2 (en) Cycloid transmission with an adjustable ring
JP2012502231A5 (ja)
JP2004502105A (ja) 二重ペンドラム弁アセンブリ
TWI673588B (zh) 真空壓力控制裝置
JP2021116846A (ja) バタフライバルブ
US10167958B2 (en) Vacuum pressure control apparatus
JP6797177B2 (ja) バルブ
JP2010281349A5 (ja)
JP5589632B2 (ja) 圧縮機シール装置
JP2001343075A (ja) バタフライ弁
TW201629375A (zh) 真空閥
US11619310B2 (en) Double eccentric valve
JP2012041886A (ja) 排気弁用軸封構造
CN113614427B (zh) 蝶形阀
WO2016160760A1 (en) Twin disc butterfly valve flexible connection
JP2003049968A (ja) 真空用バルブ
JP2016089985A (ja) バルブ装置
JP5776497B2 (ja) ポペットバルブ
JP2015194246A (ja) 軸密封構造
RU94303U1 (ru) Дроссельная заслонка
JP2518832Y2 (ja) 回転運動用シール機構

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200610

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210713

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210820

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220119

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7013152

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150