JP7012155B2 - 真空処理装置、ダミー基板装置 - Google Patents
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Description
搬送室に接続される真空処理室には、薄膜を形成する真空処理室や薄膜をエッチングするための真空処理室等色々な種類の装置があるが、特に、真空処理室が薄膜を形成するためのスパッタリング装置、蒸着装置、又はCVD装置等の成膜装置ではダストが発生しやすいことが知られている。
また、大型基板を使用する装置では、シャッタが大型化し移動機構が大型化する。さらに、シャッタが退避する位置が必要となり、真空チャンバも大型化するため大型装置ではシャッタを使用することは難しい。
また、本発明は、前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置された真空処理装置である。
また、本発明は、前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記第一、第二の吸引部材は前記金属シートを間に挟んで互いに吸引される真空処理装置である。
また、本発明は、前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定された真空処理装置である。
また、本発明は、前記捕集体は、互いに絶縁された二枚の電極と、前記二枚の電極の一方に正電圧を印加し、他方に負電圧を印加する直流電圧源と、を有する真空処理装置である。
また、本発明は、一台乃至複数台の前記ダミー基板装置が配置されるストッカー室を有し、前記基板搬送ロボットによって前記ダミー基板装置が前記ストッカー室に搬出入される真空処理装置である。
また、本発明は、前記基板搬送ロボットは搬送室に配置され、前記真空処理室と前記ストッカー室とは前記搬送室に接続された真空処理装置である。
また、本発明は、搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、前記搬送対象物が搬入される真空処理室と、前記真空処理室に配置されたカソード電極と、前記カソード電極に配置されたターゲットと、を有し、前記ターゲットがスパッタリングされて生成されたスパッタリング粒子が放出される真空処理装置であって、前記搬送対象物には、前記ターゲットと対面して薄膜が形成されるガラス基板とトレイに捕集体が配置されたダミー基板装置とが含まれ、前記ダミー基板装置は、前記ターゲットと対面して前記スパッタリング粒子が前記捕集体に到達する真空処理装置である。
また、本発明は、前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置された真空処理装置である。
また、本発明は、前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記第一、第二の吸引部材は前記金属シートを間に挟んで互いに吸引される真空処理装置である。
また、本発明は、前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定された真空処理装置である。
また、本発明は、搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、前記搬送対象物が搬入される真空処理室とを有する真空処理装置の前記搬送対象物に含まれるダミー基板装置であって、前記ダミー基板装置は、トレイと、前記トレイに配置された捕集体とを有し、前記真空処理室内で発生したダストを前記捕集体で捕集するダミー基板装置である。
また、本発明は、前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置されたダミー基板装置である。
また、本発明は、前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記金属シートは互いに吸引される前記第一、第二の吸引部材の間に挟まれるダミー基板装置である。
また、本発明は、前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定されたダミー基板装置である。
また、本発明は、前記捕集体は互いに絶縁された二枚の電極を有し、前記トレイには、一方の前記電極に正電圧を印加し、他方の前記電極に負電圧を印加する直流電圧源が設けられたダミー基板装置である。
また、本発明は、前記捕集体は、前記真空処理装置に設けられた帯電装置によって帯電されるダミー基板装置である。
ダミーのガラス基板やシャッタを使用せずにプリスパッタリングを行うことができる。
ガラス基板を搬送する基板搬送ロボットによってダミー基板装置を搬送し、真空処理室の内部に搬出入することができる。
搬出入室15の内部の圧力が所定値まで低下したところで、ゲートバルブ43を開け、搬出入室15の内部と搬送室10の内部とを接続する。
図3(a)、(b)を参照し、トレイ21には、長手方向の両端又は長手方向と垂直な方向の両端の場所に、第一の吸引部材25a、25bが設けられており、図4(a)、(b)に示すように、トレイ21上には両端の第一吸引部材25a、25bの間隔よりも長いシート状の捕集体28が配置され、第一の吸引部材25a、25bの上には捕集体28が位置している。ここでは捕集体28には金属シートが用いられており、例えば銅から成る金属シートやニッケルから成る金属シートを捕集体28に用いることができる。
先ず、捕集体28が清浄な表面と清浄な裏面とを有するダミー基板装置20を搬送対象物11として大気圧の雰囲気の搬出入室15に配置し、搬出入室15を真空排気して真空雰囲気にし、搬出入室15の内部と搬送室10の内部とを接続し、ハンド39を搬出入室15の内部に挿入し、搬送対象物11をハンド39上に乗せて搬送対象物11と共にハンド39を搬出入室15から抜去する。
ストッカー室12はストッカー槽16を有しており、ストッカー槽16の内部には棚板66が複数枚配置されている。
13a~13d……真空処理室
17……基板搬送ロボット
18……帯電装置
20、30、40……ダミー基板装置
21、31、41……トレイ
25a,25b……第一の吸引部材
26a,26b……第二の吸引部材
28、38、481~484……捕集体
45……直流電圧源(電池)
50……ガラス基板
Claims (11)
- 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、
前記搬送対象物が搬入される真空処理室とを有する真空処理装置であって、
トレイと、前記トレイに配置された捕集体とを有するダミー基板装置と、
前記捕集体を帯電させる帯電装置と、を有し、
ガラス基板と前記ダミー基板装置とが前記搬送対象物に含まれ、前記ダミー基板装置によって前記真空処理室内のダストを捕集し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、
前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記第一、第二の吸引部材は前記金属シートを間に挟んで互いに吸引される真空処理装置。 - 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、
前記搬送対象物が搬入される真空処理室とを有する真空処理装置であって、
トレイと、前記トレイに配置された捕集体とを有するダミー基板装置と、
前記捕集体を帯電させる帯電装置と、を有し、
ガラス基板と前記ダミー基板装置とが前記搬送対象物に含まれ、前記ダミー基板装置によって前記真空処理室内のダストを捕集し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定された真空処理装置。 - 前記捕集体は、互いに絶縁された二枚の電極を有し、前記トレイには、前記二枚の電極の一方に正電圧を印加し、他方に負電圧を印加する直流電圧源が設けられた請求項1又は2記載の真空処理装置。
- 一台乃至複数台の前記ダミー基板装置が配置されるストッカー室を有し、
前記基板搬送ロボットによって前記ダミー基板装置が前記ストッカー室に搬出入される請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の真空処理装置。 - 前記基板搬送ロボットは搬送室に配置され、前記真空処理室と前記ストッカー室とは前記搬送室に接続された請求項4記載の真空処理装置。
- 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、
前記搬送対象物が搬入される真空処理室と、
前記真空処理室に配置されたカソード電極と、
前記カソード電極に配置されたターゲットと、を有し、
前記ターゲットがスパッタリングされて生成されたスパッタリング粒子が放出される真空処理装置であって、
前記搬送対象物には、前記ターゲットと対面して薄膜が形成されるガラス基板とトレイに捕集体が配置されたダミー基板装置とが含まれ、
前記ダミー基板装置は、前記ターゲットと対面して前記スパッタリング粒子が前記捕集体に到達し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、
前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記第一、第二の吸引部材は前記金属シートを間に挟んで互いに吸引される真空処理装置。 - 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、
前記搬送対象物が搬入される真空処理室と、
前記真空処理室に配置されたカソード電極と、
前記カソード電極に配置されたターゲットと、を有し、
前記ターゲットがスパッタリングされて生成されたスパッタリング粒子が放出される真空処理装置であって、
前記搬送対象物には、前記ターゲットと対面して薄膜が形成されるガラス基板とトレイに捕集体が配置されたダミー基板装置とが含まれ、
前記ダミー基板装置は、前記ターゲットと対面して前記スパッタリング粒子が前記捕集体に到達し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定された真空処理装置。 - 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、前記搬送対象物が搬入される真空処理室とを有する真空処理装置の前記搬送対象物に含まれるダミー基板装置であって、
前記ダミー基板装置は、トレイと、前記トレイに配置された捕集体とを有し、前記真空処理室内で発生したダストを前記捕集体で捕集し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記固定部は、少なくとも一方は永久磁石であって磁力で互いに吸引される第一、第二の吸引部材を有し、
前記第一、第二の吸引部材のうち、一方は前記トレイに設けられ、他方は前記金属シート上に配置され、前記金属シートは互いに吸引される前記第一、第二の吸引部材の間に挟まれるダミー基板装置。 - 搬送対象物を真空雰囲気中で移動させる基板搬送ロボットと、前記搬送対象物が搬入される真空処理室とを有する真空処理装置の前記搬送対象物に含まれるダミー基板装置であって、
前記ダミー基板装置は、トレイと、前記トレイに配置された捕集体とを有し、前記真空処理室内で発生したダストを前記捕集体で捕集し、
前記捕集体は金属シートであり、前記トレイには、前記金属シートを前記トレイに着脱可能に固定する固定部が配置され、
前記金属シートは前記トレイにネジ止め固定されたダミー基板装置。 - 前記捕集体は互いに絶縁された二枚の電極を有し、前記トレイには、一方の前記電極に正電圧を印加し、他方の前記電極に負電圧を印加する直流電圧源が設けられた請求項8又は9記載のダミー基板装置。
- 前記捕集体は、前記真空処理装置に設けられた帯電装置によって帯電される請求項8又は9記載のダミー基板装置。
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