JP7011835B2 - 高結晶銀微粒子の製造方法 - Google Patents
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Description
本願発明における上記銀イオンは、銀又は銀化合物を後述する溶媒に溶解又は分子分散させることによって得られる銀溶液に含まれるものである。上記銀又は銀化合物の一例としては、銀の単体、又は銀の塩、酸化物、水酸化物、水酸化酸化物、窒化物、炭化物、有機塩、有機錯体、有機化合物又はそれらの水和物、有機溶媒和物等が挙げられる。銀の塩としては特に限定されないが、銀の硝酸塩や亜硝酸塩、硫酸塩や亜硫酸塩、蟻酸塩や酢酸塩、リン酸塩や亜リン酸塩、次亜リン酸塩や塩化物、オキシ塩やアセチルアセトナート塩又はそれらの水和物、有機溶媒和物等が挙げられる。これらの銀化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、複数の混合物として用いてもよい。
銀溶液中の銀化合物の濃度としては、均一に還元剤と反応することができる濃度であれば、特に制限されない。例えば、0.01~10wt%が挙げられ、好ましくは0.1~5wt%が挙げられ、より好ましくは0.2~4wt%が挙げられ、さらに好ましくは0.3~3wt%が挙げられ、特に好ましくは0.4~2wt%が挙げられる。
本願発明における還元剤溶液は、銀に対して還元性を示す還元剤を含む溶液であり、液状の還元剤、又は後述する溶媒に還元剤を溶解若しくは分子分散させることによって得られる還元剤溶液である。上記銀に対して還元性を示す物質としては特に限定されない。一例を挙げると、ヒドラジン、ヒドラジン一水和物、硫酸ヒドラジン、フェニルヒドラジン等のヒドラジン類や、ジメチルアミノエタノール、トリエチルアミン、オクチルアミン、ジメチルアミノボラン等のアミン類、クエン酸、アスコルビン酸、酒石酸、リンゴ酸、マロン酸、タンニン酸、ギ酸又はそれらの塩等の有機酸類や、アルコール類として、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールやブタノール等の脂肪族モノアルコール類やターピネオール等の脂環族モノアルコール類等のモノアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、テトラエチレングリコール、ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の多価アルコール類が挙げられる。また、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化トリブチル錫、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素リチウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素カリウム、テトラブチルアンモニウムボロヒドリド、水素化ホウ素亜鉛、アセトキシ水素化ホウ素ナトリウム等のヒドリド類や、グルコース等の糖類や、その他ホルムアルデヒド、ホルムアルデヒドスルホキシル酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム(NaH2PO2)、硫酸鉄等の遷移金属(チタンや鉄)の塩や、それらの水和物や溶媒和物等を用いることができる。これらの還元剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、還元作用において一定のpH領域の確保を必要とする還元剤を用いる場合には、還元剤と共にpH調整物質を併用してもよい。pH調整物質の一例としては、塩酸や硫酸、硝酸や王水、トリクロロ酢酸やトリフルオロ酢酸、リン酸やクエン酸、アスコルビン酸等の無機又は有機の酸のような酸性物質や、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の水酸化アルカリや、トリエチルアミンやジメチルアミノエタノール等のアミン類等の塩基性物質、上記の酸性物質や塩基性物質の塩等が挙げられる。pH調整物質は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
銀化合物の還元率を向上させるために、還元剤は銀化合物に対して過剰に用いる。還元剤溶液中の還元剤の濃度としては、特に制限されるものではないが、例えば1~80wt%が挙げられ、好ましくは2~50wt%が挙げられ、より好ましくは5~40wt%が挙げられ、特に好ましくは10~30wt%が挙げられる。
上記銀溶液と還元剤溶液とを連続的に混合して還元反応を行う連続湿式還元を行うための好ましい形態の一例として、本発明においては少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する少なくとも2枚のリング状ディスク間において、上記ディスク間に形成される0.1mm以下、例えば0.1μmから50μm程度の薄膜状空間を反応場とし、当該反応場において、少なくとも銀イオンを含む銀溶液と、少なくとも還元剤を含む還元剤溶液とを薄膜流体中において混合させることで連続湿式反応させて銀微粒子を析出させることが好ましい。しかし、本発明は、上記銀溶液と上記還元剤溶液とを、上記薄膜流体中において混合させて銀微粒子を析出させる方法に限定されるものではない。平均一次粒子径が100nm以上1000nm以下であり、銀微粒子の平均一次粒子径に対する平均結晶子径が80%以上である銀微粒子を、湿式反応によって上記銀溶液から銀微粒子への還元率が99%以上として連続的に得られる方法であれば特に限定されない。
好ましい形態の一例として上記薄膜状空間において、連続湿式反応を行う場合を挙げて本発明の高結晶銀微粒子の製造方法を説明する。薄膜状空間の厚みは0.1mm以下、例えば0.1μmから50μmで強制され、ディスクの径方向は非常に広範囲な流れ場が構成されるため拡散方向を巨視的に制御できる(図1参照)。図1に見られるように、薄膜状空間の全域において、回転軸側(内側)からディスク外周側(外側)に流れる溶液が主流となって、薄膜状空間に薄膜流体を形成している。次にリング状ディスク面に敷設された開口部から、上記主流となる溶液とは別の溶液を導入する。開口部は上記薄膜状空間の内側から外側に流れる途中に位置するので、図1に見られるように、主流として薄膜状空間を流れている溶液に、主流とは別の溶液を拡散させる。主流とは別の溶液は、回転方向並びにリング状ディスクの径方向への拡散が助長されるため、上記薄膜状空間の薄膜流体中においては、リング状ディスクの回転軸方向の拡散の制御に加えて、回転方向並びにリング状ディスクの径方向への拡散の制御により微視的な拡散も制御可能となる。すなわち、上記主流として薄膜状空間を流れる溶液は被拡散溶液であり、当該被拡散溶液に上記主流とは異なる別の溶液を積極的に拡散させるものである。なお、通常、開口部の形状はリング状ディスクと同心円環状のものを用いて溶液を導入することが多いが、溶液の動きを明瞭にするため、図1では一つの穴からなる開口部より導入した場合を示している。
本実施形態においては、目的や必要に応じて各種分散剤や界面活性剤を用いる事ができる。特に限定されないが、界面活性剤及び分散剤としては一般的に用いられる様々な市販品や、製品又は新規に合成したもの等を使用できる。特に限定されないが、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤や、各種ポリマー等の分散剤等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等、ポリオール系溶媒を還元剤溶液の溶媒として用いた場合には、ポリオールが分散剤としても作用する。
本願発明の製造方法を用いることによって、結晶性を制御することが困難な平均一次粒子径が100nm以上1000nm以下の粒子の場合であっても、平均一次粒子径に対する平均結晶子径を大きくするように制御できる利点があり、平均一次粒子径に対する平均結晶子径が80%以上である銀微粒子を99%以上もの高い還元率で得ることができ、さらに好ましくは、平均一次粒子径に対する平均結晶子径が90%以上である銀微粒子を99%以上、実質100%もの高い還元率で得ることすら可能となる。
本発明における銀微粒子の平均一次粒子径の分析方法は特に限定されない。一例を挙げると、透過型電子顕微鏡(TEM)や走査型電子顕微鏡(SEM)等によって、銀微粒子の粒子径を計測し、複数個の粒子径の平均値とする方法や、粒度分布測定装置、X線小角散乱法(SAXS)等によって計測する方法を用いてもよい。
本発明における銀微粒子の平均結晶子径の分析方法は特に限定されない。一例を挙げると、X線回折を用いた分析(XRD)を用いて、得られた回折ピークの半値幅と標準試料のピークより得られる半値幅からScherrerの式を用いて平均結晶子径を算出する方法や、リートベルト解析等の方法によって平均結晶子径を算出する方法等を用いてもよい。
本願発明の銀微粒子の製造方法における還元率の分析方法としては特に限定されない。銀溶液と還元剤溶液とを混合し、銀微粒子を析出させた後の液を、遠心分離した上澄み液やフィルターにて濾過した濾液について、ICP分析や蛍光X線分析、イオンクロマトグラフィーにて液中に残る銀イオンの濃度を分析することによって還元・析出していない銀イオン濃度を算出する等の方法を用いても良い。なお、本発明においては、銀微粒子を析出させた後の液中に含まれる、未還元の銀イオンのモル濃度(%)を100%から引いた値を還元率としている。
表1に示す処方の銀溶液と還元剤溶液とを図3に示される、特許文献5、6に記載された流体処理装置を用いて、対向して配設された接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する処理用面1,2間に形成される薄膜状空間において薄膜流体として混合し、上記薄膜流体中で銀微粒子を析出させた。具体的には、中央から第1流体(主流)として銀溶液を供給圧力=0.50MPaGで送液した。第1流体は、図3の処理用部10の処理用面1と処理用部20の処理用面2との間の密封された薄膜状空間(処理用面間)に、送液した。処理用部10の回転数は運転条件として表2に示す。第1流体は処理用面1,2間において強制された薄膜流体を形成し、処理用部10,20の外周より吐出させた。第2流体として還元剤溶液を処理用面1,2間に形成された薄膜流体に直接導入する。微小間隔に調整された処理用面1,2間において銀溶液と還元剤溶液とを混合させ、銀微粒子を析出させることにより、銀微粒子を含むスラリー(銀微粒子分散液)が、処理用面1,2間より吐出液として吐出された。上記銀微粒子分散液並びに銀微粒子分散液より得られた銀微粒子の乾燥粉体を分析した。
第2流体の調製:N2ガスをバブリングすることにより溶存酸素を1.0mg/L以下にした純水にN2ガス雰囲気下で還元剤としてFeSO4・7H2Oを溶解して調製した。
なお、表1から後述する表8までの表中における略記号は、AgNO3は硝酸銀(関東化学製)、FeSO4・7H2Oは硫酸鉄(II)七水和物(和光純薬製)、EDAはエチレンジアミン(関東化学製)、Agは銀である。また本発明の実施例に示した純水には、pHが5.89、導電率が0.51μS/cmの純水を用いた。調製した第1流体と第2流体とを実施例においては表2に示した条件で送液した。
吐出された銀微粒子分散液を遠心分離処理(18000G 20分間)にて銀微粒子を沈降させ、上澄み液を除去した後に、純水にて洗浄する作業を3回行い、得られたウェットケーキを25℃の大気圧にて乾燥し、銀微粒子の乾燥粉体を作製した。
pH測定には、HORIBA製の型番D-51のpHメーターを用いた。銀溶液及び還元剤溶液を流体処理装置に導入する前に、その各溶液のpHを室温にて測定した。また吐出液である銀微粒子分散液のpHを室温にて測定した。
走査型電子顕微鏡(SEM)観察には、電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM):日本電子製のJSM-7500Fを使用した。観察条件としては、観察倍率を5千倍以上とし、粒子の最外周間の距離を計測して一次粒子径とした。平均一次粒子径(D)については、SEM観察にて確認された銀微粒子100個の一次粒子径を単純平均した値を採用した。
平均結晶子径を算出するためのX線回折(XRD)測定には、粉末X線回折測定装置 X‘Pert PRO MPD(XRD スペクトリス PANalytical事業部製)を使用した。測定条件は、Cu対陰極、管電圧45kV、管電流40mA、0.016step/10sec、測定範囲は10から100[°2Theta](Cu)である。得られた銀微粒子の平均結晶子径をXRD測定結果より算出した。標準試料であるシリコン多結晶盤のXRD測定結果より、47.3°に確認されるピークを使用し、得られた銀微粒子の回折パターンにおける38.1°付近のピークにScherrerの式を当てはめた。上記平均一次粒子径(D)と平均結晶子径(d)より、以下式(4)にて平均一次粒子径(D)に対する平均結晶子径(d)の比率(d/D)を算出した。
(d/D)=d ÷ D ×100 [%] (4)
誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP)による、吐出された銀微粒子分散液中に含まれる元素の定量には、島津製作所製のICPS-8100を用いた。また、超遠心分離処理には卓上型超遠心機 MAX-XP(ベックマンコールター製)を使用した。吐出された銀微粒子分散液から得られた上澄み液(上記Ag微粒子の洗浄において、遠心分離処理(18000G 20分間)にて得られた上澄み液)を超遠心分離処理(1000000G 20分間)にて固体成分を沈降させ得られた上澄みを測定することにより、上澄みにおいて未還元である銀イオンのモル濃度(Agモル濃度)、並びに吐出液中に含まれる全ての銀及び銀イオンのモル濃度(全Agモル濃度)を測定し、全Agモル濃度に対するAgモル濃度を未還元の銀[%]とし、100%より未還元の銀[%]を引いた値を還元率とした。銀の原子量は107.9、硝酸銀の式量は169.87の値を用いた。
比較例1は表5に示すとおり、吐出液中の銀イオン濃度並びに還元剤濃度が実施例1と等しくなるように、上記第1流体と第2流体を入れ替えた例である。表4に示す処方の還元剤溶液と銀溶液とを、実施例1と同様に図3に示す流体処理装置を用い表5に示す処理条件にて混合した以外は実施例1と同じ方法にて銀微粒子を得た。結果を表6に示す。なお、第1流体の供給圧力は、上述の通りである。また、ここで述べる入れ替えとは、単に主流となる銀溶液と主流とは別の還元剤溶液とを、そのまま入れ替えるといったものではなく、入れ替えの前後において吐出液中の銀イオン濃度並びに還元剤濃度が等しくなるよう、原料の濃度並びに処理流量を変更した上で、上記主流となる溶液を入れ替えることを言う。
表1に示す処方の還元剤溶液と銀溶液とを、表2に示す処理条件にて混合した以外は実施例1と同様に図3に示す流体処理装置を用い、実施例1と同じ方法にて銀微粒子を得た。結果を表3に示す。
比較例2は実施例2における第1流体中の銀イオン濃度及び第2流体中の還元剤濃度を変更せず第1流体に銀に対する錯化剤としてエチレンジアミンを添加した以外は、実施例1と同じ方法で銀微粒子を得た例である。
表1に示す処方の銀溶液と還元剤溶液とを、実施例1と同様に図3に示す流体処理装置を用い表2に示す処理条件にて混合した以外は実施例1と同じ方法にて銀微粒子を得た。
比較例3は、実施例3における第1流体と第2流体とを、実施例3と同比率にてバッチ操作にて混合した以外は、実施例1と同じ方法にて銀微粒子を得た。表4に示す実施例3と同処方の銀溶液と還元剤溶液とを、実施例3と同じ比率となるように調製したビーカー中の銀溶液60mLに対して、マグネティックスターラーで撹拌しながら還元剤溶液10mLを投入混合し、銀微粒子を析出させた。その後、この銀微粒子分散液並びに銀微粒子分散液より得られた銀微粒子の乾燥粉体を分析した。結果を表6に示す。
実施例4~6及び比較例4~6においては、実施例1及び比較例1における銀溶液、還元剤溶液の送液温度、並びに送液流量を変更して銀微粒子を作製した以外は、実施例1と同じ方法にて銀微粒子を得た。実施例4~6における処方条件を表7に、送液条件を表8に、得られた銀微粒子の分析結果を表9に示す。また比較例4~6における処方条件を表10に、送液条件を表11に、また得られた銀微粒子の分析結果を表12に示す。
比較例4は表10に示す通り、吐出液中の銀イオン濃度並びに還元剤濃度が実施例4と等しくなるように、上記第1流体と第2流体を入れ替えた例である。表10に示す処方の還元剤溶液と銀溶液とを、実施例4と同様に図3に示す流体処理装置を用い表11に示す処理条件にて混合した以外は、実施例と同じ方法にて銀微粒子を得た。結果を表12に示す。なお、実施例1並びに比較例1と同様に、リング状ディスク間の薄膜状空間における主流となる銀溶液と、主流とは別の還元剤溶液とを、そのまま入れ替えるといったものではなく、入れ替えの前後において吐出液中の銀イオン濃度並びに還元剤濃度が等しくなるよう、濃度並びに処理流量を変更した上で上記主流となる溶液を入れ替えた。
2 第2処理用面
10 第1処理用部
11 第1ホルダ
20 第2処理用部
21 第2ホルダ
d1 第1導入部
d2 第2導入部
d20 開口部
Claims (3)
- 還元反応による銀微粒子の製造方法において、
少なくとも銀イオンを含む銀溶液と、少なくとも還元剤を含む還元剤溶液と、を連続湿式還元法で反応させて、反応場において上記銀溶液を主流とし、上記還元剤溶液を上記銀溶液に積極的に拡散させることにより、銀微粒子を析出させ、
上記銀溶液には銀に対する錯化剤及び銀に対する還元剤が実質的に含まれず、
上記銀溶液から銀微粒子への還元率が99%以上であり、上記銀微粒子の平均一次粒子径が100nm以上1000nm以下であり、上記銀微粒子の平均一次粒子径に対する平均結晶子径が80%以上であることを特徴とする高結晶銀微粒子の製造方法。 - 上記銀微粒子の平均一次粒子径に対する平均結晶子径が90%以上であることを特徴とする、請求項1に記載の高結晶銀微粒子の製造方法。
- 上記銀溶液と還元剤溶液とを対向して配設された接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する二つの処理用面の間にできる薄膜流体中の反応場で混合して銀微粒子を析出させることを特徴とする請求項1又は2に記載の高結晶銀微粒子の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017016067 | 2017-01-31 | ||
JP2017016067 | 2017-01-31 | ||
PCT/JP2018/001287 WO2018142943A1 (ja) | 2017-01-31 | 2018-01-17 | 高結晶銀微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018142943A1 JPWO2018142943A1 (ja) | 2019-11-21 |
JP7011835B2 true JP7011835B2 (ja) | 2022-01-27 |
Family
ID=63039572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018566038A Active JP7011835B2 (ja) | 2017-01-31 | 2018-01-17 | 高結晶銀微粒子の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190344354A1 (ja) |
EP (1) | EP3578283A4 (ja) |
JP (1) | JP7011835B2 (ja) |
KR (1) | KR102424543B1 (ja) |
CN (1) | CN110234452A (ja) |
WO (1) | WO2018142943A1 (ja) |
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JP7302487B2 (ja) | 2020-01-14 | 2023-07-04 | トヨタ自動車株式会社 | 複合粒子、及び複合粒子の製造方法 |
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JP5679204B2 (ja) | 2011-09-02 | 2015-03-04 | 昭栄化学工業株式会社 | 金属粉末の製造方法、それにより製造された金属粉末、導体ペースト、セラミック積層電子部品 |
US8828275B2 (en) * | 2013-02-04 | 2014-09-09 | Eastman Kodak Company | Metal nanoparticle composition with water soluble polymer |
-
2018
- 2018-01-17 JP JP2018566038A patent/JP7011835B2/ja active Active
- 2018-01-17 KR KR1020197021206A patent/KR102424543B1/ko active IP Right Grant
- 2018-01-17 US US16/482,202 patent/US20190344354A1/en active Pending
- 2018-01-17 CN CN201880009446.7A patent/CN110234452A/zh active Pending
- 2018-01-17 EP EP18748227.8A patent/EP3578283A4/en active Pending
- 2018-01-17 WO PCT/JP2018/001287 patent/WO2018142943A1/ja active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014042227A1 (ja) | 2012-09-12 | 2014-03-20 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3578283A1 (en) | 2019-12-11 |
US20190344354A1 (en) | 2019-11-14 |
JPWO2018142943A1 (ja) | 2019-11-21 |
KR102424543B1 (ko) | 2022-07-25 |
EP3578283A4 (en) | 2020-08-19 |
KR20190111938A (ko) | 2019-10-02 |
WO2018142943A1 (ja) | 2018-08-09 |
CN110234452A (zh) | 2019-09-13 |
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