JP7001381B2 - アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 - Google Patents
アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7001381B2 JP7001381B2 JP2017138326A JP2017138326A JP7001381B2 JP 7001381 B2 JP7001381 B2 JP 7001381B2 JP 2017138326 A JP2017138326 A JP 2017138326A JP 2017138326 A JP2017138326 A JP 2017138326A JP 7001381 B2 JP7001381 B2 JP 7001381B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- alignment
- film
- clamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 312
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 80
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 24
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 claims 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 31
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017138326A JP7001381B2 (ja) | 2017-07-14 | 2017-07-14 | アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017138326A JP7001381B2 (ja) | 2017-07-14 | 2017-07-14 | アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019019370A JP2019019370A (ja) | 2019-02-07 |
| JP2019019370A5 JP2019019370A5 (enExample) | 2020-09-10 |
| JP7001381B2 true JP7001381B2 (ja) | 2022-01-19 |
Family
ID=65354289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017138326A Active JP7001381B2 (ja) | 2017-07-14 | 2017-07-14 | アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7001381B2 (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7613849B2 (ja) * | 2020-06-26 | 2025-01-15 | キヤノントッキ株式会社 | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 |
| JP7185674B2 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-12-07 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、調整方法及び電子デバイスの製造方法 |
| JP7177128B2 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-11-22 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、検知装置、検知方法、及び電子デバイスの製造方法 |
| JP7584286B2 (ja) * | 2020-11-25 | 2024-11-15 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜方法および成膜装置 |
| JP2022112194A (ja) | 2021-01-21 | 2022-08-02 | 株式会社荏原製作所 | 研磨パッドの表面性状測定装置、研磨パッドの表面性状測定方法、および研磨パッドの表面性状判定方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007857A (ja) | 2006-06-02 | 2008-01-17 | Sony Corp | アライメント装置、アライメント方法および表示装置の製造方法 |
| JP2018197363A (ja) | 2017-05-22 | 2018-12-13 | キヤノントッキ株式会社 | 基板載置方法、基板載置機構、成膜方法、成膜装置及び電子デバイスの製造方法 |
-
2017
- 2017-07-14 JP JP2017138326A patent/JP7001381B2/ja active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007857A (ja) | 2006-06-02 | 2008-01-17 | Sony Corp | アライメント装置、アライメント方法および表示装置の製造方法 |
| JP2018197363A (ja) | 2017-05-22 | 2018-12-13 | キヤノントッキ株式会社 | 基板載置方法、基板載置機構、成膜方法、成膜装置及び電子デバイスの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019019370A (ja) | 2019-02-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6999769B2 (ja) | 成膜装置、制御方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
| JP6393802B1 (ja) | 基板載置装置、基板載置方法、成膜装置、成膜方法、アライメント装置、アライメント方法、および、電子デバイスの製造方法 | |
| JP6448067B2 (ja) | 基板載置方法、基板載置機構、成膜方法、成膜装置及び電子デバイスの製造方法 | |
| JP6351918B2 (ja) | 基板載置方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法 | |
| JP7001381B2 (ja) | アライメント方法、成膜方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、アライメント装置、及び、それを備えた電子デバイスの製造装置 | |
| JP7170524B2 (ja) | 基板載置方法、成膜方法、成膜装置、有機elパネルの製造システム | |
| JP2018197361A (ja) | 基板載置装置、成膜装置、基板載置方法、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
| JP6468540B2 (ja) | 基板搬送機構、基板載置機構、成膜装置及びそれらの方法 | |
| KR102128888B1 (ko) | 성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스 제조방법 | |
| JP7440356B2 (ja) | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 | |
| JP7202329B2 (ja) | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 | |
| CN113388806A (zh) | 掩膜安装装置及方法、成膜装置及方法、以及基板载置器 | |
| JP2019189922A (ja) | 成膜装置の調整方法、成膜方法、成膜装置、製造システム、有機elパネルの製造システム及び有機elパネルの製造方法 | |
| JP7269000B2 (ja) | 基板載置方法、成膜方法、成膜装置、および有機elパネルの製造システム | |
| KR102752331B1 (ko) | 얼라인먼트 시스템, 성막장치, 얼라인먼트 방법, 성막방법, 전자 디바이스의 제조방법 및 컴퓨터 프로그램 기록매체 | |
| JP6960789B2 (ja) | アライメント装置、および、成膜装置 | |
| JP7225275B2 (ja) | 成膜装置 | |
| JP2019060027A (ja) | 基板載置装置、成膜装置、基板載置方法、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
| JP2022083681A (ja) | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
| KR102783358B1 (ko) | 동작 설정 장치, 동작 설정 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
| JP7438865B2 (ja) | アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、電子デバイスの製造方法、プログラム及び記憶媒体 | |
| JP2021073373A (ja) | 基板載置方法、電子デバイスの製造方法、基板保持装置、及び電子デバイスの製造方法 | |
| JP2019044249A (ja) | アライメント装置、および、成膜装置 | |
| JP2025025449A (ja) | 基板支持装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 | |
| WO2025033023A1 (ja) | 基板支持ユニット、移載装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20200702 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200714 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200714 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20210308 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210520 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210524 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210715 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211224 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7001381 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |