JP6999487B2 - 石英ガラス繊維含有基板 - Google Patents

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Description

本発明は、石英ガラス繊維含有プリプレグ及びそれを用いた石英ガラス繊維含有基板に関する。
デジタル技術の発展に伴い、パソコン、携帯電話に代表される電子機器の軽薄短小化、高機能化が進められ、例えば、代表部品であるプリント基板に対して高密度実装、軽薄短小化が必要とされている。これに対応するために、ガラス繊維含有基板及びフィルムに対する特性向上の強い要求がある。特に、誤動作をおこさないことが重要視されている。
また、コンピュータ、モバイル、通信インフラ等の高速・高周波化が進み、それに伴って、プリント配線基板に要求される特性として、伝送損失に優れた低誘電基板やフィルムが求められている(特許文献1)。
従来、基板やフィルムに用いられるガラスクロスとして、Eガラス繊維、Dガラス繊維から織布されたクロスが用いられてきた(特許文献2~4)。ガラス繊維の中でも特に誘電率、誘電損失が小さな石英ガラス繊維が注目されたが、石英ガラス繊維、特に合成石英ガラス繊維は高い精製を行っているため価格も非常に高額になっている(特許文献5)。
特開2016-131243号公報 特開平9-74255号公報 特開平2-61131号公報 特開昭62-169495号公報 特開2004-99377号公報
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、プリント配線基板(以降、PCBと略する)として用いた際に、PCBによる半導体素子の誤作動の発生を抑制し、伝送損失が少なくなるような石英ガラス繊維含有基板を与える石英ガラス繊維含有プリプレグを提供することを目的とする。
上記課題を達成するために、本発明では、
石英ガラス繊維と樹脂組成物とを含有する石英ガラス繊維含有プリプレグであって、
前記石英ガラス繊維が、
(A)石英クロス、石英チョップドストランド、石英不織布、石英ウールの中から少なくとも1つ選ばれるものであり、
前記樹脂組成物が、
(B)25℃で固体であり、分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つのマレイミド基を含有するマレイミド化合物と、
(C)硬化促進剤とを含むものであり、
ウラン及びトリウムの含有量が合計で0~0.1ppmのプリプレグである石英ガラス繊維含有プリプレグを提供する。
このようなものであれば、PCBとして用いた際に、PCBによる半導体素子の誤作動の発生を抑制し、伝送損失が少なくなるような石英ガラス繊維含有基板を与えるものとなる。
また、前記樹脂組成物が、さらに(D)成分として、無機充填材を含むことが好ましい。
樹脂組成物が無機充填材を含むことで、十分な強度を有した石英ガラス繊維含有プリプレグとなる。
また、前記(A)石英ガラス繊維の繊維径が3μm~9μmであり、かつ仮想温度が1,200℃~1,600℃のものであることが好ましい。
このような石英ガラス繊維であれば、加工性がより良好な基板を与える石英ガラス繊維含有プリプレグとなる。
また、前記樹脂組成物が、さらに(E)成分として、シリコーン樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、(メタ)アクリル樹脂から選択される少なくとも1種類の硬化性樹脂を含むものであることが好ましい。
このような樹脂を含むことで、良好な加工性や耐熱性等の種々の特性を有した基板を与える石英ガラス繊維含有プリプレグとなる。
また、前記(B)成分のマレイミド化合物が、下記一般式(1)及び/又は(2)で表されるものであることが好ましい。
Figure 0006999487000001
(式中、Aは芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Qは炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。Rは独立して炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。nは1~10の整数を表す。)
Figure 0006999487000002
(式中、A’は芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Bは少なくとも単数または複数の2価のヘテロ原子を含んでも良い脂肪族環を有する炭素数6から18のアルキレン鎖である。Q’は炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。R’は炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。n’は1~10の整数を表す。mは1~10の整数を表す。)
(B)成分のマレイミド化合物がこのようなものであれば、優れた誘電特性、耐トラッキング性、低弾性化した基板を与える石英ガラス繊維含有プリプレグとなる。
また、前記一般式(1)中のA及び前記一般式(2)中のA’が下記構造のいずれかで表されるものであることが好ましい。
Figure 0006999487000003
(なお、上記構造式中の置換基が結合していない結合手は、前記一般式(1)及び一般式(2)において環状イミド構造を形成するカルボニル炭素と結合するものである。)
本発明では、このような構造を有するマレイミド化合物を(B)成分として好適に用いることができる。
また本発明では、前記石英ガラス繊維含有プリプレグ1枚の硬化物又は2枚以上の積層硬化物からなる石英ガラス繊維含有基板であって、10~100GHzの範囲において、比誘電率が3.0以下、誘電正接が0.0005~0.008のものである石英ガラス繊維含有基板を提供する。
このような石英ガラス繊維含有基板をPCBとして用いれば、半導体素子の誤作動の発生を抑制することができる。
また、1GHzにおける誘電正接と10GHzにおける誘電正接との差の絶対値が0~0.01のものであることが好ましい。
このようなものであれば、PCB等の各種電子部品への応用により好適な材料となる。
以上のように、本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグは、半導体素子の誤作動を誘引するウラン、トリウムの含有量が極端に少ないので、半導体用基板として有用な石英ガラス繊維含有基板を与えるものとなる。また、石英ガラス繊維及び特定構造のマレイミド樹脂を用いることで低誘電率及び低誘電正接を有するため、高周波対応プリプレグ及びPCBを提供するものとなる。
上述のように、PCBとして用いた際に、PCBによる半導体素子の誤作動の発生を抑制し、伝送損失が少なくなるような石英ガラス繊維含有基板を与える石英ガラス繊維含有プリプレグの開発が求められていた。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、放射性元素であるウランやトリウムに由来する、基板からの放射線が半導体素子の誤動作の要因となることを知見し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、
石英ガラス繊維と樹脂組成物とを含有する石英ガラス繊維含有プリプレグであって、
前記石英ガラス繊維が、
(A)石英クロス、石英チョップドストランド、石英不織布、石英ウールの中から少なくとも1つ選ばれるものであり、
前記樹脂組成物が、
(B)25℃で固体であり、分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つのマレイミド基を含有するマレイミド化合物と、
(C)硬化促進剤とを含むものであり、
ウラン及びトリウムの含有量が合計で0~0.1ppmのプリプレグである石英ガラス繊維含有プリプレグである。
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<石英ガラス繊維含有プリプレグ>
本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグは、後述する(A)成分である石英ガラス繊維と、後述する(B)、(C)成分を含む樹脂組成物を含むものである。
また、本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグは、ウラン及びトリウムの含有量が合計で0~0.1ppmのものであり、0~0.01ppmが好ましく、0~0.005ppmであることがより好ましい。0.1ppmを超えると、基板等電子部品用途で用いた場合、半導体素子への影響を及ぼしやすく、メモリ等が誤動作する原因となる。なお、本発明におけるウラン(U)及びトリウム(Th)の含有量は、ICP-MSによって測定した値を指す。
本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグの製造方法としては、特に限定されない。一般的なガラス繊維含有基板やフィルム、プリプレグ等の製造方法を適用することができ、石英ガラス繊維に樹脂組成物を含浸や塗布などを行うことで製造できる。例えば、一般的なガラス繊維への硬化性樹脂組成物の塗布方法(コーティング方式)や樹脂組成物に石英ガラス繊維を浸漬して含浸する方法等に準じて製造することができる。
代表的なコーティング方式としては、ダイレクトグラビアコーター、チャンバードクターコーター、オフセットグラビアコーター、一本ロールキスコーター、リバースキスコーター、バーコーター、リバースロールコーター、スロッタダイ、エアードクターコーター、正回転ロールコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、MBコーター、MBリバースコーター等がある。
また、塗布性を向上、確保するために硬化性樹脂組成物を溶媒で希釈してもよい。硬化性樹脂の溶解特性から有機溶剤を単独あるいは2種以上混合して用いることができる。有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。
(A)石英ガラス繊維に対する、後述する(B)成分及び(C)成分を必須成分とした硬化性樹脂組成物の付着量としては、30質量%以上80質量%以下が好ましい。この範囲内であれば、樹脂組成物と石英ガラスクロスとの割合が適切であるため好ましい。30質量%以上であれば、貼り付けられる銅箔と密着している樹脂量が少なすぎることもなく、貼り付けられる銅箔とのピール強度も十分な強度が得られる。また、80質量%以下であれば、樹脂量が多すぎることもなく、プレス時の樹脂流れが起こりにくいため好ましい。なお、ここで言う付着量とはプリプレグ全体の質量に対する硬化性樹脂組成物の質量%のことを指す。
また、使用する硬化性樹脂組成物により条件は異なるが、例えば、塗布後に乾燥させ、硬化目的で室温(25℃)~300℃で1分間~24時間加熱する方法を挙げることができる。
(A)石英ガラス繊維
本発明における石英ガラス繊維は、石英クロス、石英チョップドストランド、石英不織布、石英ウールの中から少なくとも1つ選ばれるものである。繊維状でもガラスクロスと呼ばれる布帛状でも石英チョップドストランドでも不織布でも石英ウールでもよいが、取扱いが容易であるなどの理由で、石英ガラスクロスを用いるのが好ましい。石英ガラスクロスは、例えば、石英ガラスストランド及び/又は石英ガラスヤーンを用いて作製されたものである。石英ガラスストランド及び/又は石英ガラスヤーンは、上記石英ガラス繊維を50本以上500本以下束ねたものである。なお、本明細書においては、繊維を撚らずに束ねたものをストランドと称し、繊維に撚りをかけて束ねたものをヤーンと称する。
上述のように、本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグは、ウラン及びトリウムの含有量が合計で0~0.1ppmのものである。したがって、本発明における石英ガラス繊維は、ウラン及びトリウムの含有量が0~0.1ppmのものが好ましく、より好ましくは0.01ppb~50ppbのものである。
ガラス分子が固定された温度を仮想温度と称し、仮想温度が高いほどガラス繊維の加工性が良くなる。例えば、仮想温度が1,200℃以上であれば、それ未満の仮想温度に比べて加工性は向上する。一方、仮想温度が1,600℃以下であれば、構造的不安定さが増大するおそれがない。加工性と量産性、ガラス繊維の構造安定性から、本発明においては、石英ガラス繊維の仮想温度は1,300℃~1,500℃の範囲であるものがより好ましい。また、繊維径が3μm~9μmのものであることが好ましい。
樹脂組成物
本発明における樹脂組成物は、後述する(B)及び(C)成分を必須成分とした熱硬化性の樹脂組成物である。本発明における樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、後述する成分を従来公知の方法で混合することで調製すればよい。
<(B)マレイミド化合物>
本発明の(B)成分はマレイミド化合物であるが、25℃で固体であるマレイミド化合物であって、分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格及び、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つのマレイミド基を有するマレイミド化合物である。また、直鎖アルキル基を有していてもよい。炭素数6以上の直鎖アルキレン基を有することで優れた誘電特性を有するだけでなく、相対的にフェニル基の含有比率が低下して耐トラッキング性が向上する。また、直鎖アルキレン基を有することで低弾性化することができ、硬化物による半導体装置へのストレス低減にも効果的である。
また、中でも(B)成分としては、下記一般式(1)及び/又は下記一般式(2)で表される長鎖アルキル基含有マレイミド化合物が好ましい。(1):(2)の配合比率は好ましくは99:1~10:90、より好ましくは99:1~50:50である。
Figure 0006999487000004
(式中、Aは芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Qは炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。Rは独立して炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。nは1~10の整数を表す。)
Figure 0006999487000005
(式中、A’は芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Bは少なくとも単数または複数の2価のヘテロ原子を含んでも良い脂肪族環を有する炭素数6から18のアルキレン鎖である。Q’は炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。R’は炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。n’は1~10の整数を表す。mは1~10の整数を表す。)
上記一般式(1)中のQの炭素数及び上記一般式(2)中のQ’の炭素数としては6以上であるが、好ましくは6以上20以下であり、より好ましくは7以上15以下であり、直鎖のアルキレン基である。また、上記一般式(1)中のRの炭素数及び上記一般式(2)中のR’の炭素数としては6以上であるが、好ましくは6以上12以下であり、こちらは直鎖でも分岐のアルキル基でも構わない。
また、上記一般式(1)中のA及び上記一般式(2)中のA’は芳香族環又は脂肪族環を含む4価の有機基を示すが、好ましくは、下記構造式で示される4価の有機基のいずれかで表されるものである。
Figure 0006999487000006
(なお、上記構造式中の置換基が結合していない結合手は、前記一般式(1)及び一般式(2)において環状イミド構造を形成するカルボニル炭素と結合するものである。)
また、上記一般式(2)中のBは少なくとも単数又は複数の2価のヘテロ原子を含んでも良い脂肪族環を有する炭素数6から18のアルキレン鎖であるが、好ましくは8以上15以下である。
また、上記一般式(1)中のnは1~10の整数であり、好ましくは3~10の整数である。上記一般式(2)中のn’は1~10の整数であり、好ましくは3~10の整数である。上記一般式(2)中のmは1~10の整数であり、好ましくは3~10の整数である。
本発明における(B)成分であるマレイミド化合物の重量平均分子量(Mw)は、室温(25℃)で固体である範囲であれば特に限定されないが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)測定によるポリスチレン標準で換算した重量平均分子量が2,000~500,000であることが好ましく、特に好ましくは3000~400,000、更に好ましくは5,000~300,000である。分子量が2,000以上であれば、得られるマレイミド化合物は固形化しやすく、分子量が500,000以下であれば、得られる組成物はプリプレグを作製する際のワニス粘度が高くなりすぎて流動性が低下するおそれがなく、クロスへの塗膜性が良好となる。
なお、本明細書中で言及するMwとは、下記条件で測定したGPCによるポリスチレンを標準物質とした重量平均分子量を指す。
[測定条件]
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流量:0.35mL/min
検出器:RI
カラム:TSK-GEL Hタイプ(東ソー株式会社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:5μL
(B)成分のマレイミド化合物としては、
BMI-2500、BMI-2560、BMI-3000,BMI-5000、BMI-6100(以上、Designer Molecules Inc.製)等の市販品を用いることができる。
また、マレイミド化合物は単独で使用しても複数のものを併用しても構わない。併用する際は、(B)成分のマレイミド化合物に相溶するものであれば性状を問わず使用することができる。(B)マレイミド化合物のウラン及びトリウムの含有量は、0~0.1ppmが好ましく、更に好ましくは0~0.001ppmが好ましい。
<(C)硬化促進剤>
本発明における樹脂組成物には(C)成分として硬化促進剤を添加する。硬化促進剤は(B)成分のマレイミドの反応を促進するためのものだけでなく、後述する(E)成分の硬化性樹脂の反応を促進させるために使用し、その種類に関しては特に限定されない。
(B)成分の反応のみを進行させる硬化促進剤(重合開始剤)としては、特に限定されないが加熱による成形を行うことを考慮すると熱ラジカル重合開始剤が好ましく、その種類に関しては限定されない。熱ラジカル重合開始剤の具体例としてはジクミルバーオキサイド、t-ヘキシルハイドロパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド等が挙げられる。熱ラジカル重合開始剤は、ハンドリング性、保存性の観点から光ラジカル重合開始剤よりも好ましい。
これらの硬化促進剤は、種類に関わらず1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。添加量としては(B)成分の総和100質量部に対して、好ましくは0.0001質量部から10質量部、より好ましくは0.0001質量部から5質量部である。
本発明における樹脂組成物には、上記成分に加え、下記の任意の成分を配合することができる。
<(D)無機充填材>
本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグの硬化物の強度を高めるために、(D)成分として無機充填材を配合することができる。(D)成分の無機充填材としては、特に限定されないが、通常エポキシ樹脂組成物やシリコーン樹脂組成物に配合されるものを使用することができる。例えば、球状シリカ、溶融シリカ及び結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、ガラス繊維及びガラス粒子等が挙げられる。さらに誘電特性改善のためにフッ素樹脂含有、コーティングフィラーも挙げられる。
(D)成分の無機充填材の平均粒径及び形状は特に限定されないが、平均粒径は通常3~40μmである。(D)成分としては、平均粒径が0.5~40μmの球状シリカが好適に用いられる。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めた値である。
また、得られる組成物の高流動化の観点から、複数の粒径範囲の無機充填材を組み合わせてもよく、このような場合では、0.1~3μmの微細領域、3~7μmの中粒径領域、及び10~40μmの粗領域の球状シリカを組み合わせて使用することが好ましい。さらなる高流動化のためには、平均粒径がさらに大きい球状シリカを用いることが好ましい。
(D)成分の無機充填材の充填量は、(B)成分等のレジン分の総和100質量部に対し、300~1,000質量部が好ましく、特に400~800質量部が好ましい。300質量部以上であれば、十分な強度を得ることができ、1,000質量部以下であれば、増粘による未充填不良がおきたり柔軟性が失われたりするおそれがないため、素子内の剥離等の不良が発生するおそれがない。なお、この無機充填材は、組成物全体の10~90質量%、特に20~85質量%の範囲で含有することが好ましい。
また、含有する無機充填材のウラン及びトリウムの含有量は、0~0.1ppm、好ましくは0.0001~0.001ppmである。無機充填材は天然の鉱物から製造された無機充填材よりも、合成原料で製造された無機充填材がウラン及びトリウムの含有量が少ないために好ましい。
<(E)硬化性樹脂>
(E)の硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂及び/又は光硬化性樹脂であることが好ましく、常温(25℃)では液状、半固体状、固体状のどの状態であっても構わない。具体的には、(E1)エポキシ樹脂、(E2)シリコーン樹脂、(E3)硬化性ポリイミド樹脂、(E4)シアネート樹脂、(E5)(メタ)アクリル樹脂などが挙げられる。中でもエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、硬化性ポリイミド樹脂が好適に用いられる。なお、硬化性樹脂は単独でも良いし、複数樹脂の併用でも構わない。
(E)成分の反応を促進させるもの(触媒)としては、一般的なシリコーン樹脂及びエポキシ樹脂組成物の硬化反応を促進させるものであれば特に限定されない。触媒としては、シリコーン樹脂に用いられる白金系触媒としては、例えば、HPtCl・yHO、KPtCl、KHPtCl・yHO、KPtCl、KPtCl・yHO、PtO・yHO(yは、正の整数)等が挙げられる。また、前記白金系触媒とオレフィン等の炭化水素、アルコール又はビニル基含有オルガノポリシロキサンとの錯体等を用いることができる。上記触媒は1種単独でも2種以上の組み合わせであってもよい。
エポキシ樹脂の硬化触媒としては、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン等のアミン系化合物、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラボレート塩等の有機リン系化合物、2-メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられる。
硬化触媒の量は(E)成分100質量部に対して0.0001~10質量部、好ましくは0.0001~5質量部が好ましい。
(E1)エポキシ樹脂
(E1)成分のエポキシ樹脂は、本発明における熱硬化性の樹脂組成物を流動性や機械特性を向上、改善するのに用いることができる後述するエポキシ樹脂の硬化剤や(B)成分のマレイミド化合物と反応することで三次元的な結合を作る。エポキシ樹脂としては1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであれば、特に制限なく使用することができるが、ハンドリング性の観点から室温(25℃)で固体のものが好ましく、より好ましくは融点が40℃以上150℃以下又は軟化点が50以上160℃以下のものである。
エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂、及び4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂等のビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、及びフェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂の芳香環を水素化したエポキシ樹脂、トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂等が挙げられ、中でもビスフェノールA型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等が好ましく用いられる。
(F)エポキシ樹脂の硬化剤
エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ベンゾオキサジン誘導体が挙げられるが、半導体封止材用途としてはフェノール硬化剤やベンゾオキサジン誘導体が好ましい。低誘電用途としては酸無水物硬化剤が好ましい。
フェノール硬化剤としては1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有する化合物であれば、特に制限なく使用することができるが、ハンドリング性の観点から室温(25℃)で固体のものが好ましく、より好ましくは融点が40℃以上150℃以下又は軟化点が50以上160℃以下の固体である。フェノール硬化剤の具体例としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
フェノール硬化剤は、エポキシ基に対するフェノール性水酸基の当量比が、0.5~2.0の範囲、好ましくは0.7~1.5の範囲となるように配合される。当量比がこの範囲内であれば、硬化性、機械特性等が低下するおそれがない。
ベンゾオキサジン誘導体も特に制限なく使用することができるが、下記一般式(3)及び(4)で表されるものを好適に用いることができる。
Figure 0006999487000007
Figure 0006999487000008
(一般式(3)、(4)中、X、Xはそれぞれ独立に、炭素数1から10のアルキル基、-O-、-NH-、-S-、-SO-、及び単結合からなる群から選択される。R、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1から6の炭化水素基である。a、bはそれぞれ独立に0から4の整数である。)
前記フェノール硬化剤とベンゾオキサジン誘導体とを併用して用いる場合は、その好ましい配合比率は質量比として(フェノール硬化剤):(ベンゾオキサジン誘導体)=99:1~1:99である。
また、酸無水物を硬化剤として用いることで樹脂の低誘電特性を得ることができる。
(E2)シリコーン樹脂
シリコーン樹脂は付加硬化型シリコーン樹脂と、縮合硬化型シリコーン樹脂が挙げられる。
付加硬化型シリコーン樹脂としては、例えば、下記平均組成式(5)で示されるものや、下記平均組成式(6)で示されるものが挙げられる。
下記平均組成式(5)で示され、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個以上有するオルガノポリシロキサン
(Z SiO1/2(Z SiO2/2(ZSiO3/2(SiO4/2 (5)
(式中、Zは独立に水酸基、炭素数1~10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6~10のアリール基、及び炭素数2~10のアルケニル基から選ばれる基であり、a、b、c、dは、a≧0、b≧0、c≧0、d≧0、a+b+c+d=1を満足する数である。)
下記平均組成式(6)で示され、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(Z SiO1/2(Z SiO2/2(ZSiO3/2(SiO4/2 (6)
(式中、Zは独立に水素原子、または水酸基、炭素数1~10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6~10のアリール基から選ばれる基であり、e、f、g、hは、e≧0、f≧0、g≧0、h≧0、e+f+g+h=1を満足する数である。)
上記シリコーン樹脂は、ケイ素原子に結合した全有機基に対して10モル%~99モル%、好ましくは15モル%~80モル%、より好ましくは17モル%~75モル%のケイ素原子に結合したアリール基を含有するものが好ましい。
また、縮合硬化型シリコーン樹脂としては、以下の組成物が挙げられる。
下記平均組成式(7)で示され、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(Z SiO1/2(Z SiO2/2(ZSiO3/2(SiO4/2 (7)
(式中、Zは水素原子、アルケニル基をのぞいた、水酸基、アルコキシ基、炭素数1~10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6~10のアリール基から選ばれる基であり、i、j、k、lは、i≧0、j≧0、k≧0、l≧0、i+j+k+l=1を満足する数である。)
平均組成式(7)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは加熱することにより縮合し硬化するが、(C)硬化促進剤によって硬化が促進される。
(E3)硬化性ポリイミド樹脂
硬化性ポリイミド樹脂はその反応末端基の化学的性質によって分類される。特に限定されることはないが、室温で固体状になるようなポリイミド樹脂が好ましい。
(E4)シアネート樹脂
シアネート樹脂はシアネート基を1分子中に2個以上有すものであれば、特に限定されないが、例えば、ハロゲン化シアン化合物とフェノール類やナフトール類とを反応させ、必要に応じて加熱等の方法でプレポリマー化することによって得ることができる。
シアネート樹脂としては、例えば、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノール型シアネート樹脂、ナフトールアラルキル型シアネート樹脂、ジシクロペンタジエン型シアネート樹脂、ビフェニルアルキル型シアネート樹脂等が挙げられる。このうち、シアネート基当量が小さいものは硬化収縮が小さく、低熱膨張係数、高ガラス転移温度の硬化物を得ることができる。これらの中の1種類を単独で用いても、2種類以上を併用しても構わない。
さらに硬化剤や硬化触媒を含んでも構わない。硬化剤や硬化触媒の種類は特に限定は無く、上述した硬化剤や硬化触媒と同様のものが例示できる。例えば硬化剤としてはフェノール系硬化剤やジヒドロキシナフタレン化合物等が挙げられ、硬化触媒としては1級アミンや金属錯体などが挙げられる。
(E5)(メタ)アクリル樹脂
(メタ)アクリル樹脂としては、例えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリルアミド等の重合体並びに共重合体などが挙げられ、(メタ)アクリル骨格を有する樹脂を示す。アクリロイル基やメタクリロイル基等の反応性基で硬化する樹脂には限定しない。
また、硬化性の調整のために、過酸化物のようなラジカル重合開始剤や光重合開始剤、(メタ)アクリル樹脂が有する反応性基の反応を促進する硬化促進剤を別途加えても構わない。
これらの樹脂(E1)~(E5)は各樹脂群の中の1種類を単独で用いても、2種類以上を併用しても構わない。さらに各樹脂群から選ばれた樹脂を2種類以上併用しても構わない。特に(B)のマレイミド樹脂(化合物)と(E4)のシアネート樹脂(化合物)の混合組成物はBTレジンとして知られており、加工性や耐熱性、電気特性等に優れる。
<添加剤>
更に、本発明における樹脂組成物には、以下のような添加材を用いてもよい。
(G)難燃剤
本発明における樹脂組成物には、難燃性を高めるために難燃剤を配合することができる。難燃剤の種類は、特に制限されず、公知のものを使用することができる。難燃剤としては、例えばホスファゼン化合物、シリコーン化合物、モリブデン酸亜鉛担持タルク、モリブデン酸亜鉛担持酸化亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化モリブデン、三酸化アンチモン等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。難燃剤の配合量は、(B)成分、(E)成分の総和100質量部に対して2~20質量部が好ましく、より好ましくは3~10質量部である。
(H)カップリング剤
本発明における樹脂組成物には、(B)成分、(E)成分と(D)無機充填材との結合強度を強くしたり、樹脂成分と金属箔との接着性を高くしたりするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等のカップリング剤を配合することができる。
カップリング剤としては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン;N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン;γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどのシランカップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタネートカップリング剤が挙げられる。
カップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではなく、常法に従って行えばよい。
また、(D)無機充填材を予めカップリング剤で処理してもよいし、(B)成分、(E)成分の樹脂成分と無機充填材とを混練する際に、カップリング剤を添加して表面処理しながら組成物を調製してもよい。
(H)成分の含有量は、(B)成分、(E)成分の総和に対して、0.1~8.0質量%とすることが好ましく、特に0.5~6.0質量%とすることが好ましい。含有量が0.1質量%以上であれば、基材への十分な接着効果が得られ、また8.0質量%以下であれば粘度が極端に低下せず、ボイドの原因となるおそれがない。
(I)熱可塑性樹脂
熱可塑性樹脂としては、高周波対応基板用に低誘電特性を有するためにフッ素含有熱可塑性樹脂を添加してもよい。好ましくはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリスチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリウレタン、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、環状ポリオレフィン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、ポリアミドイミド等が挙げられる。低誘電特性及び耐熱性を考慮するとPTFE、PPEなどが好ましい。また、熱可塑性樹脂の表面にシリカなどの無機質を用いて表面修飾していてもよい。
その他の添加剤としては、樹脂特性を改善するためにオルガノポリシロキサン、シリコーンオイル、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、光安定剤、顔料、染料等を配合してもよいし、電気特性を改善するためにイオントラップ剤等を配合してもよい。
[石英ガラス繊維含有基板]
また、本発明では、石英ガラス繊維含有プリプレグ1枚の硬化物又は2枚以上の積層硬化物からなる石英ガラス繊維含有基板を提供する。
本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグ(基板)において、10~100GHzの範囲で、比誘電率が3.0以下、好ましくは2.0~3.0であり、誘電正接が0.0005~0.008、好ましくは0.0005~0.006であるようなプリプレグ(基板)であれば、高周波帯でも、伝送損失と呼ばれる基板を通信する電子信号の損失が少なくなるため好ましい。なお、誘電率と誘電正接は、例えば遮断円筒導波管法等の方法を適宜選択して測定すればよい。
また、1GHzにおける誘電正接と10GHzにおける誘電正接との差の絶対値が0~0.01のものであることが好ましい。この範囲内であれば、その低誘電特性を利用した各種電子部品への応用に好適な材料となる。
本発明の石英ガラス繊維含有基板は、上述の石英ガラス繊維含有プリプレグを1枚以上、好ましくは1~20枚積層したものを、加熱硬化することによって製造することができる。加熱硬化条件としては従来公知の条件でよく、例えば、100~220℃で1分~10時間加熱し、必要に応じて、加熱と同時に0.1MPa~20MPaの圧力で加圧してもよい。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例及び比較例で使用した各成分を以下に示す。
<(A)石英ガラス繊維>
下記表1に示すガラスを用いて厚さ0.1mmのガラスクロスを調製した(A―1~A―6)。石英ガラスロッド50本を冶具にセットし、最高温度2,000℃の縦型環状電気炉を下降させ、溶融した端部を、高速で連続に引き出すことで繊維径5μmの合成石英長繊維を経た後、撚糸することにより石英ガラスヤーンを作製した。得られた石英ガラスヤーンを紡織することにより石英ガラスクロスを作製した。A-1は溶融石英ガラスロッド、A-2は合成石英ガラスロッドを用いてクロスを紡織した。ウラン及びトリウムの含有量(U,Th量)をICP-MS(Agilent4500 Agilent社製)で測定し、その合計量を表1に記載した。なお、平均繊維径はJIS R 3420:2013記載のB法によって測定した値である。
Figure 0006999487000009
<(B)マレイミド化合物>
(B-1)直鎖アルキル基含有マレイミド化合物-1(BMI-2500:Designer Molecules Inc.製)U,Th量:0.0001ppm
(B-2)直鎖アルキル基含有マレイミド化合物-2(BMI-5000:Designer Molecules Inc.製)U,Th量:0.0001ppm
<(C)硬化促進剤>
(C-1)過酸化物(パークミルD、日油(株)製)U,Th量:0.0001ppm
(C-2)イミダゾール系触媒(1B2PZ、四国化成(株)製)U,Th量:0.0002ppm
<(D)無機充填材>
(D)球状シリカ(SO-25H、(株)アドマテックス製、平均粒径0.5μm)U,Th量:0.001ppm
<(E1)エポキシ樹脂>
(E1-1)多官能系エポキシ樹脂(EPPN-501H、日本化薬(株)製、エポキシ当量:165)U,Th量:0.001ppm
(E1-2)ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP-7200、DIC(株)、エポキシ当量:259)U,Th量:0.001ppm
<(E2)シリコーン樹脂>
(E2-1)
(PhSiO3/2)単位73.5モル%、(MeViSiO2/2)単位1.0モル%、(MeViSiO1/2)単位25.5モル%のオルガノシロキサン1 U,Th量: 検出できず
(E2-2)
(PhSiO3/2)単位4.7モル%、(PhMeSiO2/2)単位88.4モル%、(MeViSiO1/2)単位2.2モル%及び(MePhiO1/2)単位4.7モル%のオルガノポリシロキサン2 U,Th量:検出できず
(E2-3)
(PhSiO2/2)単位33.3モル%、(MeHSiO1/2)単位66.7モル%のオルガノハイドロジェンポリシロキサン1 U,Th量:検出できず
<(F)硬化剤>
フェノール硬化剤
フェノールノボラック型フェノール硬化剤(TD-2131:DIC(株)製、フェノール性水酸基当量:104)U,Th量:0.001ppm
酸無水物硬化剤
リカシッドMH700(新日本理化(株)製、酸無水物当量163)U,Th量:0.001ppm
(H)熱可塑性樹脂
PTFEの表面にシリカが表面修飾されている熱可塑性樹脂(平均粒径0.5μm、アドマテックス社製)U,Th量:0.001ppm
希釈溶剤 トルエン 揮発分が50%になる量
[実施例1~18、比較例1~5]
表2~表4に示す配合(質量部)で、(A)成分以外の各成分を溶融混合し樹脂組成物を調製した。表1に示す各ガラスクロスを調製した樹脂組成物に含浸させた後、100℃で3分間乾燥させることでプリプレグを作製した。また、プリプレグへの樹脂組成物の付着量は全て60質量%であった。更に180℃×4時間で本硬化させることで硬化物を作製した。以下の諸特性を測定した。その結果を表2~表4に示す。
<ピール強度>
一般銅箔1(CF-T9LK-UN18 厚さ18μm、福田金属箔工業社製)又は高周波対応銅箔(CF-V9S-SV18 厚さ18um、福田金属箔工業社製)と、各実施例及び比較例で作製したプリプレグを5枚積層し、180℃×4時間で本硬化させた。JIS C 6481:1996に準拠して、銅箔とのピール強度(N/25mm)を測定した。また、200℃オーブンで1,000hr耐熱試験した後のピール強度(N/25mm)を測定した。
<誘電特性>
1GHz用に厚み0.5mm、1片3cm×15.5cmの成形片を作製した。10GHz用に厚み0.15mm、1片3cm×4cmの成型片を作製した。77GHz用には厚み0.2mm、1片1cm×1cmの成形片を作製した。1GHzと10GHzはネットワークアナライザ(キーサイト社製 E5063-2D5)とストリップライン(キーコム株式会社製)を接続し、上記フィルムの周波数1GHz及び10GHzにおける誘電率と誘電正接を測定した。1GHzにおける誘電正接はtanδ2、10GHzにおける誘電正接をtanδ1とし、絶対値を測定した。77GHzにおいてはネットワークアナライザ(キーサイト社製、N5227A)を用いて遮断円筒導波管法により誘電率と誘電正接を測定した。
<ドリル加工性>
厚さ18μmの一般銅箔(CF-T9LK-UN18 福田金属箔工業製)2枚と、実施例及び比較例のプリプレグ2枚を180℃×4時間、4MPaの条件で硬化し、積層基板を作製した。直径200μmのドリルで100個のドリル加工を行い、無電解銅メッキを行い、ドリル加工面やメッキ部分に不具合が多数みられたものを×、ほとんど不具合が見られなかったものを○、どこも不具合がなかったものを◎とした。
<誤動作試験>
厚さ18μmの銅箔2枚で当該プリプレグ2枚の両側を挟んで180℃×4時間で硬化させた。L/S(Line&Space)10μmのパターンがある基板を作製して20個のDRAMを搭載し、温度150℃、周波数10GHzで1,000hr駆動させ、1個でも誤動作したものについては×、全く誤動作しなかったものは◎とした。
Figure 0006999487000010
Figure 0006999487000011
Figure 0006999487000012
表2~表4に示すように、本発明の石英ガラス繊維含有プリプレグ及び石英ガラス繊維含有基板は、低誘電率であり、半導体素子の誤作動の発生が抑制された基板であり、車載用や高周波対応基板として有用であることが示された。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

Claims (6)

  1. 石英ガラス繊維含有プリプレグ1枚の硬化物又は2枚以上の積層硬化物からなる石英ガラス繊維含有基板であって、10~100GHzの範囲において、比誘電率が3.0以下、誘電正接が0.0005~0.008のものであり、かつ、1GHzにおける誘電正接と10GHzにおける誘電正接との差の絶対値が0~0.01のものである石英ガラス繊維含有基板であって、
    前記石英ガラス繊維含有プリプレグが、石英ガラス繊維と樹脂組成物とを含有する石英ガラス繊維含有プリプレグであって、
    前記石英ガラス繊維が、
    (A)石英クロス、石英チョップドストランド、石英不織布、石英ウールの中から少なくとも1つ選ばれるものであり、
    前記樹脂組成物が、
    (B)25℃で固体であり、分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つのマレイミド基を含有するマレイミド化合物と、
    (C)硬化促進剤とを含むものであり、
    ウラン及びトリウムの含有量が合計で0~0.1ppmのプリプレグであることを特徴とする石英ガラス繊維含有基板
  2. 前記樹脂組成物が、さらに(D)成分として、無機充填材を含むことを特徴とする請求項1に記載の石英ガラス繊維含有基板
  3. 前記(A)石英ガラス繊維の繊維径が3μm~9μmであり、かつ仮想温度が1,200℃~1,600℃のものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の石英ガラス繊維含有基板
  4. 前記樹脂組成物が、さらに(E)成分として、シリコーン樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、(メタ)アクリル樹脂から選択される少なくとも1種類の硬化性樹脂を含むものであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の石英ガラス繊維含有基板
  5. 前記(B)成分のマレイミド化合物が、下記一般式(1)及び/又は(2)で表されるものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の石英ガラス繊維含有基板
    Figure 0006999487000013
    (式中、Aは芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Qは炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。Rは独立して炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。nは1~10の整数を表す。)
    Figure 0006999487000014
    (式中、A’は芳香族環または脂肪族環を含む4価の有機基を示す。Bは少なくとも単数または複数の2価のヘテロ原子を含んでも良い脂肪族環を有する炭素数6から18のアルキレン鎖である。Q’は炭素数6以上の直鎖アルキレン基を示す。R’は炭素数6以上のアルキル基を示し、直鎖でも分岐していても構わない。n’は1~10の整数を表す。mは1~10の整数を表す。)
  6. 前記一般式(1)中のA及び前記一般式(2)中のA’が下記構造のいずれかで表されるものであることを特徴とする請求項5に記載の石英ガラス繊維含有基板
    Figure 0006999487000015
    (なお、上記構造式中の置換基が結合していない結合手は、前記一般式(1)及び一般式(2)において環状イミド構造を形成するカルボニル炭素と結合するものである。)
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230051724A1 (en) * 2020-01-03 2023-02-16 Corning Incorporated Strengthened glass articles and consumer electronic products including the same
JP7321952B2 (ja) * 2020-02-14 2023-08-07 信越化学工業株式会社 透明低誘電ガラスプリプレグ、透明低誘電ガラスフィルムおよび透明低誘電ガラス基板並びにこれらの製造方法
WO2021182365A1 (ja) * 2020-03-09 2021-09-16 リンテック株式会社 樹脂組成物及び樹脂シート
JP7409223B2 (ja) * 2020-05-14 2024-01-09 味の素株式会社 樹脂組成物
JP7478044B2 (ja) * 2020-06-30 2024-05-02 信越化学工業株式会社 低誘電樹脂基板
JP2022117128A (ja) * 2021-01-29 2022-08-10 信越化学工業株式会社 ミリ波用高速通信低誘電基板
JP2022131074A (ja) 2021-02-26 2022-09-07 信越化学工業株式会社 周波数依存性の少ない誘電特性を有する樹脂基板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004099377A (ja) 2002-09-10 2004-04-02 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 合成石英ガラス繊維、ストランド、ヤーン及びクロス
JP2009263569A (ja) 2008-04-28 2009-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 薄層石英ガラスクロスを含むプリプレグ、およびそれを用いた配線板
JP2016196549A (ja) 2015-04-03 2016-11-24 住友ベークライト株式会社 プリント配線基板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂基板、金属張積層板、プリント配線基板、および半導体装置
JP2016216639A (ja) 2015-05-22 2016-12-22 住友ベークライト株式会社 プリプレグ、樹脂基板、金属張積層板、プリント配線基板、および半導体装置
JP2018012772A (ja) 2016-07-20 2018-01-25 日立化成株式会社 樹脂組成物、樹脂層付き支持体、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用プリント配線板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62169495A (ja) 1986-01-22 1987-07-25 三菱瓦斯化学株式会社 多層プリント板の製法
JPH075289B2 (ja) * 1988-03-24 1995-01-25 日本化学工業株式会社 低トリウム高純度シリカの製造方法
JPH0261131A (ja) 1988-08-22 1990-03-01 Kanebo Ltd プリント配線基板用織物
JPH0974255A (ja) 1995-07-03 1997-03-18 Nitto Boseki Co Ltd プリント配線基板用ガラス繊維織物
CN103755989B (zh) * 2014-01-14 2017-01-11 广东生益科技股份有限公司 电路基板及其制备方法
JP6532210B2 (ja) * 2014-06-03 2019-06-19 信越石英株式会社 石英ガラスクロス、それを用いたプリプレグ及び半導体パッケージ基板
JP6756107B2 (ja) * 2015-01-13 2020-09-16 日立化成株式会社 樹脂フィルム、支持体付き樹脂フィルム、プリプレグ、高多層用金属張積層板及び高多層印刷配線板
WO2016114286A1 (ja) * 2015-01-13 2016-07-21 日立化成株式会社 樹脂組成物、樹脂層付き支持体、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用プリント配線板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004099377A (ja) 2002-09-10 2004-04-02 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 合成石英ガラス繊維、ストランド、ヤーン及びクロス
JP2009263569A (ja) 2008-04-28 2009-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 薄層石英ガラスクロスを含むプリプレグ、およびそれを用いた配線板
JP2016196549A (ja) 2015-04-03 2016-11-24 住友ベークライト株式会社 プリント配線基板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂基板、金属張積層板、プリント配線基板、および半導体装置
JP2016216639A (ja) 2015-05-22 2016-12-22 住友ベークライト株式会社 プリプレグ、樹脂基板、金属張積層板、プリント配線基板、および半導体装置
JP2018012772A (ja) 2016-07-20 2018-01-25 日立化成株式会社 樹脂組成物、樹脂層付き支持体、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板及びミリ波レーダー用プリント配線板

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