JP6996630B2 - Emission analyzer and its maintenance method - Google Patents
Emission analyzer and its maintenance method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6996630B2 JP6996630B2 JP2020529999A JP2020529999A JP6996630B2 JP 6996630 B2 JP6996630 B2 JP 6996630B2 JP 2020529999 A JP2020529999 A JP 2020529999A JP 2020529999 A JP2020529999 A JP 2020529999A JP 6996630 B2 JP6996630 B2 JP 6996630B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- maintenance
- detection intensity
- intensity
- detector
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/66—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence
- G01N21/67—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using electric arcs or discharges
Description
本発明は、試料を放電により発光させ、その光を集光レンズで集光させて検出器で検出することにより、検出強度と化学値との関係が対応付けられた検量線に基づいて試料の化学値を測定する発光分析装置、及び、そのメンテナンス方法に関するものである。 In the present invention, a sample is made to emit light by discharge, and the light is focused by a condenser lens and detected by a detector, so that the sample can be measured based on a calibration curve in which the relationship between the detection intensity and the chemical value is associated. It relates to a luminescence analyzer for measuring chemical values and a maintenance method thereof.
発光分析装置には、例えば電極が設けられており、当該電極に対向するように試料が配置される。試料の分析を行う際には、試料と電極との間で放電が行われ、放電により発生した光が検出器により受光される。そして、検出器により受光された光の強度に基づいて、試料に含まれる元素の含有率などの化学値が分析される(例えば、下記特許文献1参照)。
The emission spectrometer is provided with, for example, an electrode, and the sample is arranged so as to face the electrode. When analyzing a sample, a discharge is performed between the sample and the electrode, and the light generated by the discharge is received by the detector. Then, based on the intensity of the light received by the detector, the chemical value such as the content of the element contained in the sample is analyzed (see, for example,
放電により試料から発生した光は、集光レンズにより集光されて、検出器で受光される。集光レンズは、例えば発光分析装置に用いられる真空ポンプの油や、紫外線などの影響により、その表面に汚れが付着したり、劣化したりするため、定期的にメンテナンスを行う必要がある。集光レンズのメンテナンス時期については、例えば放電回数や装置の使用日数などに基づいて判断することができるが、従来は、その判断が各ユーザに委ねられていた。 The light generated from the sample due to the discharge is collected by the condenser lens and received by the detector. The surface of the condenser lens is contaminated or deteriorated due to the influence of the oil of the vacuum pump used in the luminescence analyzer, ultraviolet rays, or the like, so that it is necessary to perform regular maintenance. The maintenance time of the condenser lens can be determined based on, for example, the number of discharges and the number of days the device has been used, but in the past, the determination was left to each user.
集光レンズのメンテナンスを行った場合、その後しばらくの間は集光レンズの透過率が低下し、検出器により検出される光の強度のベースラインにドリフトが発生する。そのため、集光レンズのメンテナンスの頻度が高いと、ドリフトが発生した状態で分析を行う期間が長くなり、装置の性能を十分に発揮できていない状態で分析が行われる機会が多くなってしまう。 When the condenser lens is maintained, the transmittance of the condenser lens decreases for a while after that, and a drift occurs at the baseline of the light intensity detected by the detector. Therefore, if the frequency of maintenance of the condenser lens is high, the period for performing analysis in a state where drift occurs becomes long, and there are many opportunities for analysis to be performed in a state where the performance of the device is not fully exhibited.
一方、集光レンズのメンテナンスの頻度が低いと、集光レンズが汚れた状態や劣化した状態で分析を行う期間が長くなり、S/N比が悪くなる。そのため、分析結果にばらつきが生じやすく、精度よく分析を行うことができないという問題がある。 On the other hand, if the frequency of maintenance of the condenser lens is low, the period for performing analysis in a dirty or deteriorated state of the condenser lens becomes long, and the S / N ratio becomes poor. Therefore, there is a problem that the analysis result tends to vary and the analysis cannot be performed accurately.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、集光レンズのメンテナンスの要否を定期的に確認し、適切なタイミングでメンテナンスを行うことができる発光分析装置、及び、そのメンテナンス方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a luminescence analyzer capable of periodically confirming the necessity of maintenance of a condenser lens and performing maintenance at an appropriate timing, and a maintenance method thereof. The purpose is to provide.
(1)本発明に係る発光分析装置は、試料を放電により発光させ、その光を集光レンズで集光させて検出器で検出することにより、検出強度と化学値との関係が対応付けられた検量線に基づいて試料の化学値を分析する発光分析装置であって、検出強度取得部と、メンテナンス要否判定部とを備える。前記検出強度取得部は、前記発光分析装置の校正を行うタイミングで前記検出器の検出強度を取得する。前記メンテナンス要否判定部は、前記検出強度取得部により取得した検出強度を基準強度と比較することにより、前記集光レンズのメンテナンスの要否を判定する。 (1) In the emission analyzer according to the present invention, a sample is emitted by a discharge, the light is condensed by a condenser lens, and the light is detected by a detector, whereby the relationship between the detection intensity and the chemical value is associated. It is a luminescence analyzer that analyzes the chemical value of a sample based on the calibration line, and includes a detection intensity acquisition unit and a maintenance necessity determination unit. The detection intensity acquisition unit acquires the detection intensity of the detector at the timing of calibrating the emission spectrometer. The maintenance necessity determination unit determines the maintenance necessity of the condenser lens by comparing the detection intensity acquired by the detection intensity acquisition unit with the reference intensity.
このような構成によれば、定期的に行われる発光分析装置の校正のタイミングで、検出器の検出強度を取得し、その検出強度を基準強度と比較することにより、集光レンズのメンテナンスの要否が判定される。したがって、集光レンズのメンテナンスの要否を定期的に確認し、検出強度と基準強度との比較結果に基づいて、適切なタイミングでメンテナンスを行うことができる。 According to such a configuration, maintenance of the condenser lens is required by acquiring the detection intensity of the detector at the timing of periodic calibration of the emission analyzer and comparing the detection intensity with the reference intensity. No is determined. Therefore, it is possible to periodically check the necessity of maintenance of the condenser lens and perform maintenance at an appropriate timing based on the comparison result between the detected intensity and the reference intensity.
(2)前記基準強度は、前記検量線を作成したときの前記検出器の検出強度に基づいて設定されてもよい。 (2) The reference intensity may be set based on the detection intensity of the detector when the calibration curve is created.
このような構成によれば、検量線を作成したときの検出器の検出強度に基づいて設定された基準強度を用いて、集光レンズのメンテナンスの要否を適切に判定することができる。 According to such a configuration, it is possible to appropriately determine the necessity of maintenance of the condenser lens by using the reference intensity set based on the detection intensity of the detector when the calibration curve is created.
(3)前記基準強度は、前記発光分析装置の校正に用いられる校正用試料を変更したときの前記検出器の検出強度に基づいて設定されてもよい。 (3) The reference intensity may be set based on the detection intensity of the detector when the calibration sample used for calibration of the emission spectrometer is changed.
このような構成によれば、発光分析装置の校正に用いられる校正用試料を変更したときの検出器の検出強度に基づいて設定された基準強度を用いて、集光レンズのメンテナンスの要否を適切に判定することができる。 According to such a configuration, the necessity of maintenance of the condenser lens is determined by using the reference intensity set based on the detection intensity of the detector when the calibration sample used for calibration of the emission analyzer is changed. It can be judged appropriately.
(4)本発明に係る発光分析装置のメンテナンス方法は、試料を放電により発光させ、その光を集光レンズで集光させて検出器で検出することにより、検出強度と化学値との関係が対応付けられた検量線に基づいて試料の化学値を分析する発光分析装置のメンテナンス方法であって、検出強度取得ステップと、メンテナンス要否判定ステップと、メンテナンス実行ステップとを含む。前記検出強度取得ステップでは、前記発光分析装置の校正を行うタイミングで前記検出器の検出強度を取得する。前記メンテナンス要否判定ステップでは、前記検出強度取得ステップにより取得した検出強度を基準強度と比較することにより、前記集光レンズのメンテナンスの要否を判定する。前記メンテナンス実行ステップでは、前記メンテナンス要否判定ステップによりメンテナンスが必要と判定された場合に、前記集光レンズのメンテナンスを行う。 (4) In the maintenance method of the emission analyzer according to the present invention, the sample is emitted by discharge, the light is condensed by a condenser lens, and the light is detected by a detector, whereby the relationship between the detection intensity and the chemical value is established. It is a maintenance method of a light emission analyzer that analyzes a chemical value of a sample based on an associated calibration line, and includes a detection intensity acquisition step, a maintenance necessity determination step, and a maintenance execution step. In the detection intensity acquisition step, the detection intensity of the detector is acquired at the timing of calibrating the emission spectrometer. In the maintenance necessity determination step, the maintenance necessity of the condenser lens is determined by comparing the detection intensity acquired in the detection intensity acquisition step with the reference intensity. In the maintenance execution step, when maintenance is determined by the maintenance necessity determination step, maintenance of the condenser lens is performed.
本発明によれば、定期的に行われる発光分析装置の校正のタイミングで、集光レンズのメンテナンスの要否を定期的に確認し、そのとき取得される検出器の検出強度と基準強度との比較結果に基づいて、適切なタイミングでメンテナンスを行うことができる。 According to the present invention, the necessity of maintenance of the condenser lens is periodically confirmed at the timing of the calibration of the light emission analyzer which is performed periodically, and the detection intensity and the reference intensity of the detector acquired at that time are determined. Maintenance can be performed at an appropriate timing based on the comparison result.
1.発光分析装置の全体構成
図1は、本発明の一実施形態に係る発光分析装置の構成例を示した概略図である。この発光分析装置には、試料載置台1と電極2とが備えられている。試料載置台1の内部には放電室11が形成されており、当該放電室11内に電極2の先端部が臨んでいる。放電室11の壁面には、電極2の先端部に対向する位置に開口12が形成されている。分析対象となる固体の試料3は、開口12を塞ぐように試料載置台1上に載置され、その表面が電極2の先端部と間隔を隔てて対向した状態となる。1. 1. Overall Configuration of the Emission Analyzer FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of the emission spectrometer according to the embodiment of the present invention. This emission spectrometer is provided with a sample mounting table 1 and an
分析時には、電極2に電圧が印加されることにより、試料3の表面と電極2の先端部との間で放電が行われる。放電時に放電室11内で発生した光は、集光レンズ13で集光されて測定部4へと導かれる。測定部4は、その内部に測定室41が形成されることにより中空状に構成されており、測定室41内には分光器42及び検出器43が設けられている。
At the time of analysis, a voltage is applied to the
試料3を放電させることにより発生した光は、測定室41内に入射し、分光器42により分光される。検出器43は複数の受光素子431を備えており、分光器42により分光された各波長の光が各受光素子431で受光されることにより、各波長の検出強度に基づいて試料3の分析が行われる。
The light generated by discharging the
試料3の分析は、検量線に基づいて行われる。検量線は、検出器43(各受光素子431)で受光される光の検出強度と試料3の化学値との関係が対応付けられたデータである。化学値とは、試料3の化学的特性を表す値であり、例えば試料3に含有される特定の元素の割合を表す値である。
The analysis of the
検量線を作成する際には、化学値が既知である複数の試料3(標準試料3A)を用いて測定が行われる。各標準試料3Aは、同一の元素を異なる割合で含有している。したがって、各標準試料3Aを用いて測定を行った場合には、それぞれ異なる化学値に対応する検出強度のデータが得られる。このとき得られる各データの化学値は、標準試料3Aの情報として予め与えられた標準的な値(標準値)である。
When preparing a calibration curve, measurement is performed using a plurality of samples 3 (
検量線は、上記のようにして得られた複数の検出強度に対応する化学値をそれぞれ標準値として、各標準値に基づいて作成された近似直線である。すなわち、検量線は、各化学値に対応する検出強度のデータに基づいて、各標準試料3Aの化学値(標準値)を横軸、各標準試料3Aについて検出器43(各受光素子431)で検出される光の検出強度を縦軸としてプロットすることにより、プロットされた各点の近似直線(回帰直線)として算出される。ただし、化学値を縦軸、光の検出強度を縦軸とするデータではなく、光の検出強度を縦軸、化学値を横軸とするデータとして検量線が算出されてもよい。なお、検量線は、近似直線であるため、プロットされた各点(標準値)が検量線上にある場合もあれば、検量線上にない場合もある。
The calibration curve is an approximate straight line created based on each standard value with the chemical values corresponding to the plurality of detection intensities obtained as described above as standard values. That is, the calibration curve has the chemical value (standard value) of each
検量線は、各受光素子431に対応する波長ごと作成され、各波長に対応する元素の化学値と検出強度との関係を表している。化学値が未知である試料3(未知試料3B)の分析を行う際には、各波長に対応する検量線を用いて、各受光素子431で検出される未知試料3Bからの光の検出強度に対応する化学値(分析値)が算出される。これにより、未知試料3Bに含有される各波長に対応する元素の化学値を測定することができる。
The calibration curve is created for each wavelength corresponding to each
2.発光分析装置の電気的構成
図2は、図1の発光分析装置の電気的構成の一例を示したブロック図である。この発光分析装置には、上述の構成以外に、例えば制御部5及び記憶部6などが備えられている。制御部5は、例えばCPU(Central Processing Unit)を含む構成であり、当該CPUがプログラムを実行することにより、装置校正処理部51、検出強度取得部52及びメンテナンス要否判定部53などとして機能する。記憶部6は、例えばハードディスク又はRAM(Random Access Memory)などにより構成され、検量線などの各種データを記憶している。2. 2. Electrical Configuration of the Emission Analyzer FIG. 2 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the emission spectrometer of FIG. In addition to the above configuration, the emission spectrometer is provided with, for example, a
本実施形態に係る発光分析装置では、ユーザの判断により定期的に装置校正が行われる。装置校正は、使用に伴って各受光素子431で検出される光の強度が徐々に低下したり、使用に伴って各受光素子431に入射する光の波長が徐々にずれたりした場合に、そのずれを校正するために行われる。装置校正の際には、校正用試料3Cを用いて測定が行われ、得られた検出強度のデータに基づいて装置校正が行われる。
In the emission spectrometer according to the present embodiment, the device is calibrated periodically at the discretion of the user. The device calibration is performed when the intensity of the light detected by each light receiving
装置校正には、例えば各受光素子431で検出される光の強度を検量線作成時の強度に引き上げるための校正(強度校正)や、各受光素子431で検出される光の強度に対応する波長をずらすための校正(波長校正)などが含まれる。なお、検出器43として、複数の受光素子431ではなく、光電子増倍管を使用した場合には、強度校正のみが行われてもよい。
Equipment calibration includes, for example, calibration (intensity calibration) for raising the intensity of light detected by each light receiving
検出強度取得部52は、検出器43の検出強度を取得する。そして、メンテナンス要否判定部53は、検出強度取得部52により取得した検出強度に基づいて、集光レンズ13のメンテナンスの要否を判定する。本実施形態では、装置校正処理部51により発光分析装置の校正が行われるタイミングで、検出器43の検出強度を取得する。すなわち、装置校正が行われるときには、検出強度取得部52により自動的に検出器43の検出強度が取得され、その検出強度に基づいて、メンテナンス要否判定部53により集光レンズ13のメンテナンスの要否が判定される。
The detection
メンテナンス要否判定部53は、記憶部6に予め記憶されている基準強度と、検出強度取得部52により取得した検出強度とを比較することにより、集光レンズ13のメンテナンスの要否を判定する。具体的には、検出強度取得部52により取得した検出強度が、基準強度に対して所定値以上小さい場合に、集光レンズ13のメンテナンスが必要と判断される。
The maintenance
このように、本実施形態では、定期的に行われる発光分析装置の校正のタイミングで、検出器43の検出強度を取得し、その検出強度を基準強度と比較することにより、集光レンズ13のメンテナンスの要否が判定される。したがって、集光レンズ13のメンテナンスの要否を定期的に確認し、検出強度と基準強度との比較結果に基づいて、適切なタイミングでメンテナンスを行うことができる。
As described above, in the present embodiment, the detection intensity of the
基準強度は、任意に設定することができるが、例えば検量線を作成したときの検出器43の検出強度に基づいて設定されてもよい。例えば、分析対象の主成分(ベース)の品種が変わるときなどには検量線が作成されるため、そのときの検出器43の検出強度を基準強度として記憶部6に記憶してもよい。この場合、検量線を作成したときの検出器43の検出強度に基づいて設定された基準強度を用いて、集光レンズ13のメンテナンスの要否を適切に判定することができる。
The reference intensity can be set arbitrarily, but may be set based on, for example, the detection intensity of the
あるいは、装置校正に用いられる校正用試料3Cを変更したときの検出器43の検出強度に基づいて、基準強度が設定されてもよい。校正用試料3Cは消耗品であるため、ある程度消耗したときには新しい校正用試料3Cに変更される。したがって、変更した新しい校正用試料3Cを用いて校正を行う際に、検出器43の検出強度を基準強度として記憶部6に記憶してもよい。この場合、発光分析装置の校正に用いられる校正用試料3Cを変更したときの検出器43の検出強度に基づいて設定された基準強度を用いて、集光レンズ13のメンテナンスの要否を適切に判定することができる。
Alternatively, the reference intensity may be set based on the detection intensity of the
3.集光レンズのメンテナンス方法
図3は、集光レンズ13のメンテナンスを行う際の流れを示したフローチャートである。発光分析装置の校正が実行される際には(ステップS101でYes)、その装置校正を行うタイミングで検出器43の検出強度が取得される(ステップS102:検出強度取得ステップ)。3. 3. Maintenance method of the condenser lens FIG. 3 is a flowchart showing a flow when performing maintenance of the
そして、取得された検出強度が、記憶部6に記憶されている基準強度と比較されることにより、集光レンズ13のメンテナンスの要否が判定される(ステップS103:メンテナンス要否判定ステップ)。その結果、メンテナンスが必要と判定された場合には(ステップS104でYes)、集光レンズ13の表面に付着した汚れを除去するなどのメンテナンスが行われる(ステップS105:メンテナンス実行ステップ)。
Then, by comparing the acquired detection intensity with the reference intensity stored in the
集光レンズ13のメンテナンスは、発光分析装置において自動的に行われてもよいし、メンテナンスが必要と判定された旨が表示部(図示せず)に表示され、その表示を確認したユーザにより手動で行われてもよい。
Maintenance of the
4.変形例
以上の実施形態では、基準強度が、検量線を作成したときの検出器43の検出強度、又は、装置校正に用いられる校正用試料3Cを変更したときの検出器43の検出強度に設定されるような構成について説明した。しかし、このような構成に限らず、これらの検出強度に基づいて算出される別の値に基準強度が設定されてもよいし、これらの検出強度に基づかずに基準強度が設定されてもよい。4. Modification example In the above embodiment, the reference intensity is set to the detection intensity of the
また、発光分析装置の構成は、上記実施形態のような構成に限られるものではなく、例えばICP(高周波誘導結合プラズマ)発光分析装置などの他の発光分析装置にも本発明を適用することができる。 Further, the configuration of the emission spectrometer is not limited to the configuration as in the above embodiment, and the present invention may be applied to other emission spectrometers such as an ICP (high frequency inductively coupled plasma) emission spectrometer. can.
1 試料載置台
2 電極
3 試料
3A 標準試料
3B 未知試料
3C 校正用試料
4 測定部
5 制御部
6 記憶部
13 集光レンズ
43 検出器
51 装置校正処理部
52 検出強度取得部
53 メンテナンス要否判定部1 Sample mounting table 2
Claims (6)
前記発光分析装置の校正を行うタイミングで前記検出器の検出強度を取得する検出強度取得部と、
前記検出強度取得部により取得した検出強度を基準強度と比較することにより、前記集光レンズのメンテナンスの要否を判定するメンテナンス要否判定部とを備えることを特徴とする発光分析装置。The chemical value of the sample is measured based on the calibration curve associated with the relationship between the detection intensity and the chemical value by causing the sample to emit light by discharge, condensing the light with a condenser lens, and detecting it with a detector. It is a luminescence analyzer that
A detection intensity acquisition unit that acquires the detection intensity of the detector at the timing of calibrating the emission spectrometer, and a detection intensity acquisition unit.
A emission spectrometer comprising a maintenance necessity determination unit for determining maintenance necessity of the condenser lens by comparing the detection intensity acquired by the detection intensity acquisition unit with a reference intensity.
前記発光分析装置の校正を行うタイミングで前記検出器の検出強度を取得する検出強度取得ステップと、
前記検出強度取得ステップにより取得した検出強度を基準強度と比較することにより、前記集光レンズのメンテナンスの要否を判定するメンテナンス要否判定ステップと、
前記メンテナンス要否判定ステップによりメンテナンスが必要と判定された場合に、前記集光レンズのメンテナンスを行うメンテナンス実行ステップとを含むことを特徴とする発光分析装置のメンテナンス方法。The chemical value of the sample is measured based on the calibration curve associated with the relationship between the detection intensity and the chemical value by causing the sample to emit light by discharge, condensing the light with a condenser lens, and detecting it with a detector. It is a maintenance method of the luminescence analyzer.
The detection intensity acquisition step of acquiring the detection intensity of the detector at the timing of calibrating the emission spectrometer, and the detection intensity acquisition step.
A maintenance necessity determination step for determining the necessity of maintenance of the condenser lens by comparing the detection intensity acquired by the detection intensity acquisition step with a reference intensity, and a maintenance necessity determination step.
A maintenance method for an emission spectrometer, comprising a maintenance execution step of performing maintenance of the condenser lens when maintenance is determined by the maintenance necessity determination step.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018131247 | 2018-07-11 | ||
JP2018131247 | 2018-07-11 | ||
PCT/JP2019/015970 WO2020012744A1 (en) | 2018-07-11 | 2019-04-12 | Light emission analysis device and maintenance method for same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020012744A1 JPWO2020012744A1 (en) | 2021-04-30 |
JP6996630B2 true JP6996630B2 (en) | 2022-01-17 |
Family
ID=69142552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020529999A Active JP6996630B2 (en) | 2018-07-11 | 2019-04-12 | Emission analyzer and its maintenance method |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6996630B2 (en) |
CN (1) | CN112400107A (en) |
WO (1) | WO2020012744A1 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005167017A (en) | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser oscillator diagnosis device and laser beam machine equipped therewith |
JP2005205604A (en) | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Fuji Xerox Co Ltd | Image forming apparatus, recording medium, image forming method, apparatus adjusting method and program therefor |
JP2010249518A (en) | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Nikon Corp | Deterioration determining device and inspection device equipped with the same |
US20140065720A1 (en) | 2012-02-17 | 2014-03-06 | Flir Systems, Inc. | Optical emission collection and detection device and method |
JP2016161301A (en) | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Specimen inspection automatization system |
JP2017156643A (en) | 2016-03-03 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | Monitoring system |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07142319A (en) * | 1993-06-15 | 1995-06-02 | Hitachi Ltd | Light source device |
JPH08304285A (en) * | 1995-05-12 | 1996-11-22 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Emission spectroscopic analyzer and using method thereof |
JPH10335213A (en) * | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | Apparatus and method for controlling wavelength of aligner |
JPH1130586A (en) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Horiba Ltd | Emission spectrometric analyzer |
JP2006300731A (en) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Horiba Ltd | Glow discharge emission spectrophotometer and glow discharge emission spectrochemical analytical method |
JP4762852B2 (en) * | 2006-02-23 | 2011-08-31 | 新日本製鐵株式会社 | Method for evaluating the concentration of components in the thickness direction of metal samples by spark discharge emission spectrometry |
WO2008107166A1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-12 | Carl Zeiss Smt Ag | Method for cleaning an euv lithography device method for measuring the residual gas atmosphere and the contamination and euv lithography device |
JP2011198990A (en) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Seiko Epson Corp | Method for measuring stray light of projection aligner, method for exposing projection aligner, and method for maintaining projection aligner |
JP2012052822A (en) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Jfe Steel Corp | Emission spectral analysis method and apparatus |
JP5906500B2 (en) * | 2010-09-15 | 2016-04-20 | イマジニアリング株式会社 | Analysis equipment |
JP5387536B2 (en) * | 2010-09-24 | 2014-01-15 | 株式会社島津製作所 | How to create a calibration curve |
WO2014113824A2 (en) * | 2013-01-21 | 2014-07-24 | Sciaps, Inc. | Handheld libs spectrometer |
US9267842B2 (en) * | 2013-01-21 | 2016-02-23 | Sciaps, Inc. | Automated focusing, cleaning, and multiple location sampling spectrometer system |
JP3187346U (en) * | 2013-09-10 | 2013-11-21 | 株式会社島津製作所 | Luminescence analyzer |
JP6613402B2 (en) * | 2015-03-13 | 2019-12-04 | Vista株式会社 | Vacuum exhaust monitoring device |
US9983060B1 (en) * | 2016-11-28 | 2018-05-29 | Cymer, Llc | Calibration of a spectral analysis module |
-
2019
- 2019-04-12 JP JP2020529999A patent/JP6996630B2/en active Active
- 2019-04-12 WO PCT/JP2019/015970 patent/WO2020012744A1/en active Application Filing
- 2019-04-12 CN CN201980043699.0A patent/CN112400107A/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005167017A (en) | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser oscillator diagnosis device and laser beam machine equipped therewith |
JP2005205604A (en) | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Fuji Xerox Co Ltd | Image forming apparatus, recording medium, image forming method, apparatus adjusting method and program therefor |
JP2010249518A (en) | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Nikon Corp | Deterioration determining device and inspection device equipped with the same |
US20140065720A1 (en) | 2012-02-17 | 2014-03-06 | Flir Systems, Inc. | Optical emission collection and detection device and method |
JP2016161301A (en) | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Specimen inspection automatization system |
JP2017156643A (en) | 2016-03-03 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | Monitoring system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112400107A (en) | 2021-02-23 |
JPWO2020012744A1 (en) | 2021-04-30 |
WO2020012744A1 (en) | 2020-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9816934B2 (en) | Laser induced breakdown spectroscopy (LIBS) apparatus with automatic wavelength calibration | |
JPWO2008053530A1 (en) | Quantitative measurement method | |
JPWO2018207228A1 (en) | Chromatograph mass spectrometry data processing apparatus and chromatograph mass spectrometry data processing program | |
JP2006275892A (en) | Emission spectrophotometer | |
JP6507757B2 (en) | Foreign substance analyzer | |
RU2657333C1 (en) | Integrated scintillation method of investigation of a substance with its introduction into plasma | |
JP6996630B2 (en) | Emission analyzer and its maintenance method | |
JP5204655B2 (en) | Methods for qualitative and quantitative analysis by emission spectroscopy | |
JP4754888B2 (en) | Emission spectroscopy analysis method and emission spectroscopy analyzer | |
Chan et al. | Use of vertically resolved plasma emission as an indicator for flagging matrix effects and system drift in inductively coupled plasma-atomic emission spectrometry | |
JP5387536B2 (en) | How to create a calibration curve | |
JP2005134181A (en) | Data processing method and analyzing apparatus | |
CN102103079B (en) | Spectrum analysis method | |
JP2006153460A (en) | Fluorescence detection method, detection device and fluorescence detection program | |
WO2014175363A1 (en) | Component-concentration measurement device and method | |
JP5902883B2 (en) | Spectrofluorometer | |
JP2020008478A (en) | Emission spectrometer and calibration method thereof | |
US20120045031A1 (en) | Method for spectrometry for investigating samples containing at least two elements | |
US6856403B1 (en) | Optically stimulated electron emission contamination monitor and method | |
JP6191408B2 (en) | X-ray fluorescence analyzer | |
CN110455760A (en) | A kind of color dispersion-type AFS light source scattering interference subtraction method based on DMD | |
JP2009535619A (en) | Method in spectroscopy for the investigation of samples containing at least two elements | |
JP2007078640A (en) | Icp optical emission spectroscopic method and icp optical emission spectroscopic analyzer | |
WO2019229869A1 (en) | Spectral data processing device and analysis device | |
CN103472007A (en) | Method for detecting elements in alloy |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201008 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211129 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6996630 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |