JP6996180B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 - Google Patents
電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6996180B2 JP6996180B2 JP2017175069A JP2017175069A JP6996180B2 JP 6996180 B2 JP6996180 B2 JP 6996180B2 JP 2017175069 A JP2017175069 A JP 2017175069A JP 2017175069 A JP2017175069 A JP 2017175069A JP 6996180 B2 JP6996180 B2 JP 6996180B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- layer
- photosensitive member
- electrophotographic photosensitive
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた有機感光層と、
前記有機感光層上に設けられた無機保護層であって、第13族元素、及び酸素を含有し、無機保護層を構成する全元素に対する、前記第13族元素、及び前記酸素の元素構成比率の和が0.70以上であり、かつ、前記酸素及び前記第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.10以上1.30以下である第1の領域、並びに、前記酸素及び前記第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.40以上1.50以下である第2の領域を、前記有機感光層上にこの順で有し、前記第2の領域が最上層である無機保護層と、
を備えた電子写真感光体。
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた有機感光層と、
前記有機感光層上に設けられた無機保護層であって、第13族元素、及び酸素を含有し、無機保護層を構成する全元素に対する、前記第13族元素、及び前記酸素の元素構成比率の和が0.70以上であり、かつ、体積抵抗率が2.0×107Ωcm以上1.0×1010Ωcm以下である第1の領域および体積抵抗率が2.0×1010Ωcm以上である第2の領域を、前記有機感光層上にこの順で有し、前記第2の領域が最上層である無機保護層と、
を備えた電子写真感光体。
前記第13族元素が、ガリウムである<1>又は<2>に記載の電子写真感光体。
<4>
前記第1の領域の厚みが、前記第2の領域の厚みよりも薄い<1>~<3>のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
<5>
前記第1の領域の厚みに対する前記第2の領域の厚みの比(第2の領域の厚み/第1の領域の厚み)が3以上100以下である<4>に記載の電子写真感光体。
<6>
前記第1の領域の厚みが、0.01μm以上0.1μm以下であり、前記第2の領域の厚みが、0.3μm以上1.0μm以下である<4>又は<5>に記載の電子写真感光体。
<7>
前記無機保護層の全体の厚みが3μm以上10μm以下である<1>~<6>のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
<8>
前記無機保護層の全体の厚みが3μm以上6μm以下である<7>に記載の電子写真感光体。
<9>
前記第1の領域および前記第2の領域が、前記第1の領域および前記第2の領域の順で繰り返し積層されている<1>~<8>のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
<10>
前記第1の領域および前記第2の領域の順で繰り返し積層された繰り返し回数が3回以上10回以下である<9>に記載の電子写真感光体。
<11>
前記有機感光層が、電荷輸送材料、結着樹脂、及びシリカ粒子を含む層を有する<1>~<10>のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
<12>
前記シリカ粒子の含有量が、前記電荷輸送材料および前記結着樹脂を含む層の全体に対して40質量%以上80質量%以下である<11>に記載の電子写真感光体。
<13>
前記導電性基体の厚みが1.5mm以上である<1>~<12>のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
<1>~<13>のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着するプロセスカートリッジ。
<15>
<1>~<13>のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
<7>、<8>に係る発明によれば、無機保護層全体の厚みが3μm未満である場合に比べ、無機保護層の傷の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
<9>に係る発明によれば、第1の領域および第2の領域が、前記第2の領域および前記第1の領域の順で繰り返し積層されている場合に比べ、無機保護層全体の厚みが厚くなった場合であっても、感度を確保しつつ、残留電位の上昇を抑制する電子写真感光体が提供される。
<10>に係る発明によれば、無機保護層において、第1の領域および第2の領域を繰り返し積層する繰り返し回数が3回未満の場合に比べ、無機保護層全体の厚みが厚くなった場合であっても、感度を確保しつつ、残留電位の上昇を抑制する電子写真感光体が提供される。
<11>、<12>に係る発明によれば、有機感光層が、電荷発生層と電荷輸送層との機能分離型の感光層であるとき、電荷輸送層が、電荷輸送材料と結着樹脂のみ含む場合に比べ、無機保護層の傷の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
<13>に係る発明によれば、導電性基体の厚みが1.5μm未満である場合に比べ、無機保護層の傷の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
第1の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた有機感光層と、有機感光層上に設けられた無機保護層であって、第13族元素、及び酸素を含有し、無機保護層を構成する全元素に対する、第13族元素、及び酸素の元素構成比率の和が0.70以上であり、かつ、酸素及び第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.10以上1.30以下である第1の領域、並びに、酸素及び前記第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.40以上1.50以下である第2の領域を、有機感光層上にこの順で有し、第2の領域が最上層である無機保護層と、を備える。
一方、有機感光層が機能分離型の有機感光層の場合、有機感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を導電性基体上にこの順で有する有機感光層であることが好ましく、この電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料、結着樹脂を含む。電荷輸送層は、2層以上で構成されていてもよい。
有機感光層は柔軟性を有し、変形し易い傾向がある一方で、無機保護層は硬質ではあるが靭性に劣る傾向がある。そのため、無機保護層に傷が発生することがある。
一方で、残留電位の上昇を抑制するために、無機保護層を形成する材料の化学量論比を小さくすることが考えられる。化学量論比が小さい無機保護層は、電荷の蓄積が抑制されやすい。しかしながら、無機保護層を形成する材料の化学量論比を小さくすると、無機保護層が着色しやすくなるため、電位を低下させるための露光量が大きくなる。そのため、感度が低下する場合がある。
そして、第1の実施形態の電子写真感光体では、無機保護層は、酸素及び第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.10以上1.30以下ある第1の領域と、酸素/第13族元素が1.40以上1.50以下である第2の領域とを、感光層上にこの順で有する。なお、第2の領域は無機保護層の最上層である。
また、第2の実施形態の電子写真感光体では、無機保護層は、体積抵抗率が2.0×107Ωcm以上1.0×1010Ωcm以下である第1の領域および体積抵抗率が2.0×1010Ωcm以上である第2の領域を、感光層上にこの順で有する。なお、第2の領域は無機保護層の最上層である。
例えば、有機感光層が、単層型の有機感光層の場合、有機感光層には、さらに、シリカ粒子を含んでいてもよい。また、有機感光層が機能分離型の有機感光層の場合、電荷輸送層は、さらに、シリカ粒子を含んでいてもよい。ただし、電荷輸送層が2層以上で構成される場合であって、シリカ粒子が用いられる場合、表面を構成する層(電荷輸送層の最上層)の電荷輸送層が、電荷輸送材料、結着樹脂、及びシリカ粒子を含んで構成されることがよい。
図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す模式断面図である。図2、図3、及び図4は、それぞれ本実施形態に係る電子写真感光体の他の一例を示す模式断面図である。
そして、図1に示す電子写真感光体7Aと同様に、無機保護層5は、電荷輸送層3上に、第1の領域5Aと第2の領域5Bが形成されている。なお、電荷輸送層3Aおよび電荷輸送層3Bは、電荷輸送材料、及び結着樹脂を含んで構成されている。また、電荷輸送層3Aは、必要に応じて、シリカ粒子が含有される。シリカ粒子を用いる場合は、電荷輸送層3Aに含有させ、電荷輸送層3Bは、シリカ粒子を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。
なお、単層型有機感光層6は、電荷輸送材料、及び結着樹脂を含み、必要に応じて、シリカ粒子を含んで構成されている。
なお、電荷輸送層3は、電荷輸送材料、及び結着樹脂を含んで構成され、必要に応じて、シリカ粒子が含有される。また、第1の領域5Aと第2の領域5Bとが積層される繰り返し回数は3回に限らず、4回以上でもよい。
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/(4n)(nは上層の屈折率)から1/2までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro-Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
なお、n-型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn-型とする。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。また、電荷輸送層は、必要に応じて、シリカ粒子を含んでいてもよい。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
乾式シリカ粒子としては、シラン化合物を燃焼させて得られる燃焼法シリカ(ヒュームドシリカ)、金属珪素粉を爆発的に燃焼させて得られる爆燃法シリカが挙げられる。
湿式シリカ粒子としては、珪酸ナトリウムと鉱酸との中和反応によって得られる湿式シリカ粒子(アルカリ条件で合成・凝集した沈降法シリカ、酸性条件で合成・凝集したゲル法シリカ粒子)、酸性珪酸をアルカリ性にして重合することで得られるコロイダルシリカ粒子(シリカゾル粒子)、有機シラン化合物(例えばアルコキシシラン)の加水分解によって得られるゾルゲル法シリカ粒子が挙げられる。
これらの中でも、シリカ粒子としては、残留電位の発生、その他電気特性の低下による画像欠陥の抑制(細線再現性の低下の抑制)の観点から、表面のシラノール基が少なく、低い空隙構造を持つ燃焼法シリカ粒子を用いることがよい。
疎水化処理剤としては、クロロシラン、アルコキシシラン、シラザン等の周知のシラン化合物が挙げられる。
これらの中でも、疎水化処理剤としては、残留電位の発生を抑制し易くする観点から、トリメチルシリル基、デシルシリル基、又はフェニルシリル基を持つシラン化合物が望ましい。つまり、シリカ粒子の表面には、トリメチルシリル基、デシルシリル基、又はフェニルシリル基を有することがよい。
トリメチルシリル基を持つシラン化合物としては、例えば、トリメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
デシルシリル基を持つシラン化合物としては、例えば、デシルトリクロロシラン、デシルジメチルクロロシラン、デシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
フェニル基を持つシラン化合物としては、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルクロロシラン等が挙げられる。
疎水化処理剤の縮合率を上記範囲にすると、シリカ粒子のシラノール基がより低減し、残留電位の発生が抑制され易くなる。
まず、層中からシリカ粒子を分離する。分離したシリカ粒子に対して、Bruker製AVANCEIII 400でSi CP/MAS NMR分析を行い、SiOの置換数に応じたピーク面積を求め、それぞれ、2置換(Si(OH)2(0-Si)2-)、3置換(Si(OH)(0-Si)3-)、4置換(Si(0-Si)4-)の値をQ2,Q3,Q4とし、疎水化処理剤の縮合率は式:(Q2×2+Q3×3+Q4×4)/4×(Q2+Q3+Q4)により算出する。
シリカ粒子の体積抵抗率を上記範囲にすると、電気特性の低下が抑制される。
まず、層中からシリカ粒子を分離する。そして、20cm2の電極板を配した円形の治具の表面に、測定対象となる分離したシリカ粒子を1mm以上3mm以下程度の厚さになるように載せ、シリカ粒子層を形成する。この上に前記同様の20cm2の電極板を載せシリカ粒子層を挟み込む。シリカ粒子間の空隙をなくすため、シリカ粒子層上に載せた電極板の上に4kgの荷重をかけてからシリカ粒子層の厚み(cm)を測定する。シリカ粒子層上下の両電極には、エレクトロメーター及び高圧電源発生装置に接続されている。両電極に電界が予め定められた値となるように高電圧を印加し、このとき流れた電流値(A)を読み取ることにより、シリカ粒子の体積抵抗率(Ωcm)を計算する。シリカ粒子の体積抵抗率(Ωcm)の計算式は、下式に示す通りである。
なお、式中、ρはシリカ粒子の体積抵抗率(Ωcm)、Eは印加電圧(V)、Iは電流値(A)、I0は印加電圧0Vにおける電流値(A)、Lはシリカ粒子層の厚み(cm)をそれぞれ表す。本評価では印加電圧が1000Vの時の体積抵抗率を用いた。
・式:ρ=E×20/(I-I0)/L
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で10:1から1:5までが好ましい。
まず、測定対象となる感光体から、無機保護層を剥離した後、測定対象となる感光層を露出させる。そして、その感光層の一部を削り出し測定用試料を準備する。
次に、測定試料から結着樹脂を抽出する。抽出した結着樹脂1g分をメチレンクロライド100cm3に溶解し、25℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηspを測定する。そして、ηsp/c=〔η〕+0.45〔η〕2cの関係式(ただしcは濃度(g/cm3)より極限粘度〔η〕(cm3/g)を求め、H.Schnellによって与えられている式、〔η〕=1.23×10-4Mv0.83の関係式より粘度平均分子量Mvを求める。
この表面粗さRaを上記範囲とすると、無機保護層の平滑性が上がり、クリーニング性が向上する。
なお、表面粗さRaを上記範囲とするには、例えば、層の厚みを厚くする等の方法が挙げられる
まず、無機保護層を剥離した後、測定対象となる層を露出させる。そして、その層の一部をカッター等で切り出し、測定試料を取得する。
この測定試料に対して、触針式表面粗さ測定機(サーフコム1400A:東京精密社製等)を使用して測定する。その測定条件としては、JIS B0601-1994に準拠し、評価長さLn=4mm、基準長さL=0.8mm、カットオフ値=0.8mmとする。
なお、電荷輸送層の弾性率を上記範囲とするには、例えば、シリカ粒子の粒径及び含有量を調整する方法、電荷輸送材料の種類及び含有量を調整する方法が挙げられる。
まず、無機保護層を剥離した後、測定対象となる層を露出させる。そして、その層の一部をカッター等で切り出し、測定試料を取得する。
この測定試料に対して、MTSシステムズ社製 Nano Indenter SA2を用いて、連続剛性法(CSM)(米国特許4848141)により深さプロファイルを得て、その押込み深さ30nmから100nmの測定値から得た平均値を用いて測定する。
電荷輸送層の膜厚を上記範囲にすると、無機保護層の割れ、及び残留電位の発生が抑制され易くなる。
-無機保護層の組成-
本実施形態の電子写真感光体における無機保護層は、次に示す材料で構成されている。
すなわち、第13族元素、及び酸素を含有し、無機保護層を構成する全元素に対する、第13族元素、及び酸素の元素構成比率の和が0.70以上である。
特に、第1の実施形態の電子写真感光体における無機保護層を構成する材料は、酸素及び第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.10以上1.30以下である第1の領域、並びに、酸素/第13族元素が1.40以上1.50以下である第2の領域を有する。そして、第1の領域および第2の領域が、感光層上にこの順で有し、第2の領域が最上層となる。感度を確保しつつ、残留電位の上昇を抑制する点で、第13族元素はガリウムであることが好ましい。また、第13族元素がガリウムであることで、無機保護層の傷の発生も抑制されやすくなる。
ガリウムの元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、0.20以上0.50以下であることがよく、望ましくは0.25以上0.40以下、より望ましくは0.30以上0.40以下である。
酸素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、0.30以上0.70以下であることがよく、望ましくは0.30以上0.60以下、より望ましくは0.35以上0.55以下である。
水素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、0.10以上0.40以下であることがよく、望ましくは0.10以上0.30以下、より望ましくは0.15以上0.25以下である。
なお、RBSでは、加速器としてNEC社 3SDH Pelletron、エンドステーションとしてCE&A社 RBS-400、システムとして3S-R10を用いる。解析にはCE&A社のHYPRAプログラム等を用いる。
なお、RBSの測定条件は、He++イオンビームエネルギーは2.275eV、検出角度160°、入射ビームに対してGrazing Angleは約109°とする。
まず、He++イオンビームを試料に対して垂直に入射し、検出器をイオンビームに対して、160°にセットし、後方散乱されたHeのシグナルを測定する。検出したHeのエネルギーと強度から組成比と膜厚を決定する。組成比及び膜厚を求める精度を向上させるために二つの検出角度でスペクトルを測定してもよい。深さ方向分解能や後方散乱力学の異なる二つの検出角度で測定しクロスチェックすることにより精度が向上する。
ターゲット原子によって後方散乱されるHe原子の数は、1)ターゲット原子の原子番号、2)散乱前のHe原子のエネルギー、3)散乱角度の3つの要素のみにより決まる。 測定された組成から密度を計算によって仮定して、これを用いて厚みを算出する。密度の誤差は20%以内である。
HFS測定では、加速器としてNEC社 3SDH Pelletron、エンドステーションとしてCE&A社 RBS-400を用い、システムとして3S-R10を用いる。解析にはCE&A社のHYPRAプログラムを用いる。そして、HFSの測定条件は、以下の通りである。
・He++イオンビームエネルギー:2.275eV
・検出角度:160°入射ビームに対してGrazing Angle30°
白雲母は水素濃度が6.5原子%であることが知られている。
最表面に吸着しているHは、例えば、清浄なSi表面に吸着しているH量を差し引くことによって補正を行う。
前述のように、第2の実施形態の電子写真感光体における無機保護層は、体積抵抗率が2.0×107Ωcm以上1.0×1010Ωcm以下である第1の領域および体積抵抗率が2.0×1010Ωcm以上である第2の領域を有する。
感度を確保しつつ、残留電位の上昇を抑制する点で、第1の領域の体積抵抗率は、1.0×108Ωcm以上1.0×1010Ωcm以下であることがよく、5.0×108Ωcm以上5.0×109Ωcm以下であることが好ましい。同様の点で、第2の領域の体積抵抗率は、3.0×1010Ωcm以上であることがよく、4.0×1010Ωcm以上であることが好ましい。なお、第2の領域の体積抵抗率の上限は特に限定されないが、例えば、1.0×1011Ωcm以下が挙げられる。
また、第1の実施形態に係る電子写真感光体の無機保護層の各領域における体積抵抗率は、第2の実施形態に係る電子写真感光体の無機保護層の各領域における体積抵抗率の範囲を満たすことがよい。
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件でアルミ基体上に成膜し、その成膜物上に真空蒸着により金電極を形成し得られた試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングして、これを一対の電極で挟み込んだ試料であってもよい。
無機保護層の成長断面は、柱状構造をとっていてもよいが、滑り性の観点からは平坦性の高い構造が望ましく、非晶質が望ましい。
なお、結晶性、非晶質性は、RHEED(反射高速電子線回折)測定により得られた回折像の点や線の有無により判別される。
この弾性率を上記範囲とすると、無機保護層の凹部(打痕状の傷)の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
この弾性率は、MTSシステムズ社製 Nano Indenter SA2を用いて、連続剛性法(CSM)(米国特許4848141)により深さプロファイルを得て、その押込み深さ30nmから100nmの測定値から得た平均値を用いる。下記は測定条件である。
・測定環境:23℃、55%RH
・使用圧子:ダイヤモンド製正三角錐圧子(Berkovic圧子)三角錐圧子
・試験モード:CSMモード
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件で基体上に成膜した試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングした試料であってもよい。
無機保護層の全体の膜厚を上記範囲とすると、無機保護層の傷の発生が抑制され易くなる。
無機保護層の形成には、例えば、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法、有機金属気相成長法、分子線エキタピシー法、蒸着、スパッタリング等の公知の気相成膜法が利用される。
このプラズマ発生装置は、高周波放電管部221と、高周波放電管部221内に配置され、放電面が排気口211側に設けられた平板電極219と、高周波放電管部221外に配置され、平板電極219の放電面と反対側の面に接続された高周波電力供給部218とから構成されたものである。なお、高周波放電管部221には、高周波放電管部221内にガスを供給するためのガス導入管220が接続されており、このガス導入管220のもう一方の端は、不図示の第1のガス供給源に接続されている。
また、成膜室210内には、基体回転部212が設けられており、円筒状の基体214が、シャワーノズル216の長手方向と基体214の軸方向とが沿って対面するように基体支持部材213を介して基体回転部212に取りつけられるようになっている。成膜に際しては、基体回転部212が回転することによって、基体214が周方向に回転する。なお、基体214としては、例えば、予め有機感光層まで積層された感光体等が用いられる。
まず、酸素ガス(又は、ヘリウム(He)希釈酸素ガス)、ヘリウム(He)ガス、及び必要に応じ水素(H2)ガスを、ガス導入管220から高周波放電管部221内に導入すると共に、高周波電力供給部218から平板電極219に、13.56MHzのラジオ波を供給する。この際、平板電極219の放電面側から排気口211側へと放射状に広がるようにプラズマ拡散部217が形成される。ここで、ガス導入管220から導入されたガスは成膜室210を平板電極219側から排気口211側へと流れる。平板電極219は電極の周りをアースシールドで囲んだものでもよい。
基体214としては、例えば、有機感光層が形成された基体を用いる。
基体214表面の温度が成膜開始当初は150℃以下であっても、プラズマの影響で150℃より高くなる場合には有機感光層が熱で損傷を受ける場合があるため、この影響を考慮して基体214の表面温度を制御することが望ましい。
基体214表面の温度は加熱手段、冷却手段(図中、不図示)等によって制御してもよいし、放電時の自然な温度の上昇に任せてもよい。基体214を加熱する場合にはヒータを基体214の外側や内側に設置してもよい。基体214を冷却する場合には基体214の内側に冷却用の気体又は液体を循環させてもよい。
放電による基体214表面の温度の上昇を避けたい場合には、基体214表面に当たる高エネルギーの気体流を調節することが効果的である。この場合、ガス流量や放電出力、圧力などの条件を所要温度となるように調整する。
例えば、無機保護層の形成の初期において、トリメチルインジウムをガス導入管215、シャワーノズル216を介して成膜室210内に導入することにより、基体214上に窒素とインジウムとを含む膜を成膜すれば、この膜が、継続して成膜する場合に発生し、有機感光層を劣化させる紫外線を吸収する。このため、成膜時の紫外線の発生による有機感光層へのダメージが抑制される。
具体的には、例えば、少なくとも一つ以上のドーパント元素を含むガスをガス導入管215、シャワーノズル216を介して成膜室210内に導入することによって、n型、p型等の導電型の無機保護層を得る。
このようにすることで、基体214表面上には、活性化された、炭素原子、ガリウム原子、窒素原子、水素原子、等が制御された状態で存在する。そして、活性化された水素原子が、有機金属化合物を構成するメチル基やエチル基等の炭化水素基の水素を分子として脱離させる効果を有する。
このため、三次元的な結合を構成する硬質膜(無機保護層)が形成される。
さらに、これらの装置を2種類以上組み合わせて用いてもよく、あるいは、同種の装置を2つ以上用いてもよい。プラズマの照射によって基体214表面の温度上昇を抑制するためには高周波発振装置が望ましいが、熱の照射を抑制する装置を設けてもよい。
また、異なる2種類のプラズマ発生装置を同一の圧力下で利用する場合、例えば、マイクロ波発振装置と高周波発振装置とを用いる場合、励起種の励起エネルギーを大きく変えることができ、膜質の制御に有効である。また、放電は大気圧近傍(70000Pa以上110000Pa以下)で行ってもよい。大気圧近傍で放電を行う場合にはキャリアガスとしてHeを使用することが望ましい。
但し、電荷輸送層3Aの膜厚は、1μm以上15μm以下とすることがよい。また、電荷輸送層3Bの膜厚は、15μm以上29μm以下とすることがよい。
但し、単層型有機感光層6中の電荷発生材料の含有量は、単層型有機感光層全体に対して、0.1質量%以上10質量%以下(好ましくは0.8質量%以上5質量%以下)とすることがよい。電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
また、単層型有機感光層6の膜厚は、15μm以上30μm以下とすることがよい。
例えば、図4に示される電子写真感光体では、無機保護層が、第1の領域と第2の領域との組み合わせを、この順で繰り返し積層された繰り返し回数が3回で構成されている例を示している。なお、繰り返し回数とは、感光層側から、第1の領域と第2の領域とを、この順で積層した組み合わせを1単位とし、この単位を繰り返した回数を表す。第1の領域および第2の領域の組み合わせの繰り返し積層された繰り返し回数は、例えば、2回であってもよい。感度を確保しつつ、残留電位の上昇をより抑制する点で、第1の領域および第2の領域の繰り返し回数は、3回以上10回以下であることがよい。繰り返し回数は、4回以上でもよく、5回以上であってもよい。また、9回以下でもよく、8回以下であってもよい。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図7に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。なお、画像形成装置100において、制御装置60(制御手段の一例)は、画像形成装置100内の各装置及び各部材の動作を制御する装置であり、各装置及び各部材と接続されて配置されている。
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
制御装置60は、装置全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、制御装置60は、例えば、CPU(中央処理装置; Central Processing Unit)、各種プログラムを記憶したROM(Read Only Memory)、プログラムの実行時にワークエリアとして使用されるRAM(Random Access Memory)、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース(I/O)を備えている。CPU、ROM、RAM、不揮発性メモリ、及びI/Oの各々は、バスを介して接続されている。そして、I/Oには、電子写真感光体7(駆動モータ30を含む)、帯電装置8、露光装置9、現像装置11、転写装置40等の画像形成装置100の各部が接続されている。
図8に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
-シリカ粒子-
未処理(親水性)シリカ粒子「商品名:OX50(アエロジル社製)」100質量部に、疎水化処理剤として1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(東京化成工業社製)30質量部を添加し、24時間反応させ、その後、濾取し疎水化処理されたシリカ粒子を得た。このシリカ粒子の縮合率は、93%であった。このシリカ粒子は、表面にトリメチルシリル基を有している。このシリカ粒子の体積平均粒径は40nmである。
-下引層の作製-
酸化亜鉛(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100質量部をテトラヒドロフラン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛60質量部と、硬化剤(ブロック化イソシアネート スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5質量部と、ブチラール樹脂(エスレック BM-1、積水化学工業社製)15質量部とを、メチルエチルケトン85質量部と混合し、混合液を得た。この混合液38質量部とメチルエチルケトン25質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて外径30mm、長さ365mm、厚み(肉厚)1.0mmのアルミニウム基体上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ19μmの下引層を得た。
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3°、16.0°、24.9°、28.0°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、n-酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn-酢酸ブチル175質量部、メチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
シリカ粒子(1)65質量部に、テトラヒドロフラン250質量部を入れ、20℃の液温に保ちながら4-(2,2-ジフェニルエチル)-4’,4’’-ジメチル-トリフェニルアミン25質量部、結着樹脂として、ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量:30000)25質量部を加え、12時間攪拌混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
まず、無機保護層を形成するための条件を表1に示す。
無機保護層の形成には、下記の成膜装置を使用した。
・方式:プラズマCVD、容量結合型、高周波電源の周波数13.56MHz、基材回転用に磁性流体式、回転導入機を設置
・真空チャンバ形状:円筒型、直径165mm×長さ1050mm
・放電電極:寸法850mm×85mm、放電電極と基材の距離40mm
・マスフローコントローラによりガス流量設定
・ロータリーポンプおよびメカニカルブースターポンプで真空排気
・成膜前の真空到達:1.0×10-2Pa
なお、表1中、O2ガスはHe希釈40%濃度酸素ガス H2ガスは100%濃度水素ガス TMGガスは100%濃度トリメチルガリウムガス、Heガスは100%ヘリウムガスを表す。
原子数比:厚さ0.5mmのシリコン基板に、厚みが1.0μmとなるように成膜したサンプル膜をEDS(エネルギー分散型X線分析装置)および既述の方法で評価した。
分光透過率:厚さ1.0mm石英基板に、厚みが1.0μmとなるように成膜したサンプル膜を紫外-可視分光光度計で波長780nmでの光線透過率を評価した。
体積抵抗率:厚さ1.0mmアルミ基板に、厚みが1.0μmとなるように成膜したサンプル膜上にDCスパッタ法で直径2mmの金電極を形成し評価した。
上記で作製した有機感光体(1)を、成膜装置の成膜室内の基体支持部材に載せ、排気口を介して成膜室内を、圧力が0.01Paになるまで真空排気した。なお、この真空排気は、上記高濃度酸素含有気体の置換終了後、5分以内に行った。
次に、表2に示すように、条件4の成膜条件で成膜した。すなわち、He希釈40%酸素ガス(6sccm)、及びH2ガス(500sccm)を、ガス導入管から直径85mmの平板電極が設けられた高周波放電管部内に導入し、高周波電力供給部及びマッチング回路により、13.56MHzのラジオ波を出力500Wにセットしチューナでマッチングを取り平板電極から放電を行った。この時の反射波は0Wであった。
次に、トリメチルガリウムガス(7.5sccm)を、ガス導入管を介してシャワーノズルから成膜室内のプラズマ拡散部に導入した。この時、バラトロン真空計で測定した成膜室内の反応圧力は25Paであった。
この状態で、有機感光体(1)を500rpmの速度で回転させながら4分間成膜し、有機感光体(1)の電荷輸送層表面に、無機保護層の第1の領域を、膜厚0.05μmで形成した。
次に、高周波放電を停止し、He希釈40%酸素ガス(13sccm)、H2ガス(500sccm)トリメチルガリウムガス(10sccm)に変更した後、再び高周波放電を開始した。
この状態で、第1の領域を形成した有機感光体(1)を500rpmの速度で回転させながら27分間成膜し、第1の領域上に、厚み0.5μmの第2の領域を形成した。
表2および表3にしたがって、無機保護層の第1の領域および第2の領域における元素構成比率、体積抵抗率、第1の領域および第2の領域の繰り返し回数、無機保護層の全体の厚み(膜厚)、第1の領域および第2の領域の各領域の厚み、電荷輸送層のシリカ粒子の量、導電性基体の厚み(肉厚)を変更した以外は、実施例1と同様にして、各例の電子写真感光体を得た。なお、シリカ粒子の質量%は、電荷輸送層全体に対する量として表1の値となるように電荷輸送層の組成を調整した。
-感光体の感度および残留電位の評価-
予め定められた帯電電位および露光量を設定可能なユニバーサルスキャナーを用い、各例の感度と残留電位について評価を行った。
・感度の評価:-700Vに帯電させたときの半減露光量として評価した。-700Vに帯電させた後、帯電直後における感光体表面電位が、光照射(光源:半導体レーザ、波長780nm、出力5mW)により2分の1(-350V)となる半減露光量(mJ/m2)を測定した。
・残留電位の評価:光減衰後の感光体表面の電位(V)を測定した。
富士ゼロックス製複合機 DocuCentre V 7775に、各例で得られた感光体を取り付けて、連続で10枚の画像を形成し、これを繰り返して累計で10000枚の画像を形成した。その後、感光体表面を光学顕微鏡(視野寸法500μm×500μm)で観察し、凹み、および傷の個数をカウントし、以下の評価基準で評価した。なお、凹み(打痕)、傷は次のようにして判断した。
・凹みの形状規定:最大径50μm以内で縦横比が0.8から1.2となる楕円形状
・傷の形状規定:幅が50μm以内で感光体円周方向に長さ0.1mmから3mmの筋状の形状
-凹み評価基準-
A(◎):10視野の観察で凹みは観察されず(0個)
B(○):10視野の観察で凹みは1個
C(△):10視野の観察で凹みは2個以上、かつ、1視野の観察で凹みは4個以下
D(×):10視野の観察で凹みは2個以上、かつ、1視野の観察で凹みは5個以上
-傷評価基準-
A(◎):20視野の観察で傷は観察されず(0個)
B(○):10視野の観察で傷は観察されず(0個)、かつ、20視野の観察で傷は1個
C(△):10視野の観察で傷は1個
D(×):10視野の観察で傷は2個以上
Claims (13)
- 導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた有機感光層と、
前記有機感光層上に設けられた無機保護層であって、第13族元素、及び酸素を含有し、無機保護層を構成する全元素に対する、前記第13族元素、及び前記酸素の元素構成比率の和が0.70以上であり、かつ、前記酸素及び前記第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.10以上1.30以下である第1の領域、並びに、前記酸素及び前記第13族元素の元素構成比率(酸素/第13族元素)が1.40以上1.50以下である第2の領域を、前記有機感光層上にこの順で有し、前記第2の領域が最上層である無機保護層と、を備え、
前記第13族元素が、ガリウムであり、
前記第1の領域および前記第2の領域が、前記第1の領域および前記第2の領域の順で繰り返し積層されている電子写真感光体。 - 前記第1の領域の体積抵抗率が2.0×107Ωcm以上1.0×1 010Ωcm以下であり、
前記第2の領域の体積抵抗率が2.0×1010Ωcm以上である請求項1に記載の電子写真感光体。 - 前記第1の領域の厚みが、前記第2の領域の厚みよりも薄い請求項1又は請求項2に記載の電子写真感光体。
- 前記第1の領域の厚みに対する前記第2の領域の厚みの比(第2の領域の厚み/第1の 領域の厚み)が3以上100以下である請求項3に記載の電子写真感光体。
- 前記第1の領域の厚みが、0.01μm以上0.1μm以下であり、前記第2の領域の厚みが、0.3μm以上1.0μm以下である請求項3又は請求項4に記載の電子写真感光体。
- 前記無機保護層の全体の厚みが3μm以上10μm以下である請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記無機保護層の全体の厚みが3μm以上6μm以下である請求項6に記載の電子写真感光体。
- 前記第1の領域および前記第2の領域の順で繰り返し積層された繰り返し回数が3回以上10回以下である請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記有機感光層が、電荷輸送材料、結着樹脂、及びシリカ粒子を含む層を有する請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記シリカ粒子の含有量が、前記電荷輸送材料および前記結着樹脂を含む層の全体に対して40質量%以上80質量%以下である請求項9に記載の電子写真感光体。
- 前記導電性基体の厚みが1.5mm以上である請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着するプロセスカートリッジ。 - 請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017175069A JP6996180B2 (ja) | 2017-09-12 | 2017-09-12 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017175069A JP6996180B2 (ja) | 2017-09-12 | 2017-09-12 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019053098A JP2019053098A (ja) | 2019-04-04 |
JP6996180B2 true JP6996180B2 (ja) | 2022-01-17 |
Family
ID=66014730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017175069A Active JP6996180B2 (ja) | 2017-09-12 | 2017-09-12 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6996180B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7047552B2 (ja) * | 2018-04-03 | 2022-04-05 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 正帯電型電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302774A (ja) | 2002-02-08 | 2003-10-24 | Konica Minolta Holdings Inc | 電子写真感光体の製造方法及びそれにより製造された電子写真感光体、それを用いた画像形成装置、画像形成方法並びにプロセスカートリッジ |
JP2008076520A (ja) | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP2014006351A (ja) | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2014191179A (ja) | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2017062400A (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
-
2017
- 2017-09-12 JP JP2017175069A patent/JP6996180B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302774A (ja) | 2002-02-08 | 2003-10-24 | Konica Minolta Holdings Inc | 電子写真感光体の製造方法及びそれにより製造された電子写真感光体、それを用いた画像形成装置、画像形成方法並びにプロセスカートリッジ |
JP2008076520A (ja) | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
JP2014006351A (ja) | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2014191179A (ja) | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP2017062400A (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019053098A (ja) | 2019-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9341963B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP6593063B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 | |
US10001714B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP6759949B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2017167362A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 | |
JP6996180B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 | |
US20190346781A1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
CN106556978B (zh) | 电子照相感光元件、处理盒以及图像形成装置 | |
JP6332215B2 (ja) | 画像形成装置用ユニット、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び電子写真感光体 | |
JP7047552B2 (ja) | 正帯電型電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
US20190302632A1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor for positive charging, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP7206654B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP6794631B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP6409833B2 (ja) | 疎水化処理シリカ粒子 | |
US11880162B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus | |
JP7183552B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP7043953B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2023048986A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP2023144994A (ja) | 画像形成装置、及び画像形成装置用ユニット | |
JP2024044123A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
JP2019061155A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
JP2024046538A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2018081205A (ja) | 画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200717 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210329 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210604 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6996180 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |