JP6932349B2 - 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物 - Google Patents

溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP6932349B2
JP6932349B2 JP2017161177A JP2017161177A JP6932349B2 JP 6932349 B2 JP6932349 B2 JP 6932349B2 JP 2017161177 A JP2017161177 A JP 2017161177A JP 2017161177 A JP2017161177 A JP 2017161177A JP 6932349 B2 JP6932349 B2 JP 6932349B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
formula
solvent
group
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017161177A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019038920A (ja
Inventor
板谷 博
博 板谷
一章 西尾
一章 西尾
石川 誠治
誠治 石川
井上 俊宏
俊宏 井上
佳祐 森本
佳祐 森本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SOLPIT INDUSTRIES, LTD.
Ube Corp
Original Assignee
SOLPIT INDUSTRIES, LTD.
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SOLPIT INDUSTRIES, LTD., Ube Industries Ltd filed Critical SOLPIT INDUSTRIES, LTD.
Priority to JP2017161177A priority Critical patent/JP6932349B2/ja
Publication of JP2019038920A publication Critical patent/JP2019038920A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6932349B2 publication Critical patent/JP6932349B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

本発明は、耐熱性および機械的特性に優れた低沸点溶媒に溶解可能なポリイミド、低沸点溶媒を用いたポリイミド溶液組成物、およびポリイミド溶液組成物より作成されるポリイミド塗膜およびポリイミドフィルムに関する。
近年、画像表示装置をはじめ、電子機器の高性能化、小型化に伴い、用いる電子部品に対する軽量化、高い信頼性が求められている。そこで電子部品の実装材料としても、これまでのエポキシ系やフェノール系の基板、絶縁材料から、より耐熱性の高いポリイミド系の基板や絶縁材料が用いられるようになってきている。しかしながら、ポリイミド材料は、使用される溶媒がN−メチル−2−ピロリドンやN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系の溶媒が一般に使用されるが、これらは極性が高く沸点も高いため他の素子を溶解することや、溶媒の除去に200℃〜300℃の高温が必要であるため素子を破壊することがあり、使用が限られていた。さらにディスプレイ材料として開発が進んでいる有機EL素子は、耐熱温度が100℃と低く、これまでのポリイミドでは適応が困難であった。
これらの課題を解決し、低温処理でポリイミド膜を得る方法として、ケトンやエーテル溶媒に可溶なポリイミドが特許文献1に開示されている。原料であるジアミンの一部をシリコーンジアミンや脂環式ジアミンとし、ポリイミドの分子構造内にシロキサン骨格や脂環式骨格を導入することでアニソールやシクロヘキサノンに溶解するポリイミドが得られ、溶媒による空気中での吸湿白化現象を抑えている。シロキサン骨格などの脂環式骨格を導入することによって、ポリイミドの欠点の一つである有機溶媒への溶解性が改善され、環状エーテル系溶媒のような低沸点溶媒へも溶解させることが可能となるが、安定したポリイミド溶液とするためにはシリコーンジアミンや脂環式ジアミンの割合を多くする必要があり、ポリイミドのガラス転移点が低下し、耐熱性が損なわれるという問題があった。
これに対し、脂環式骨格を主鎖に含まない低沸点溶媒に可溶なポリイミドとして、特許文献2には、含フッ素系のベンジジン型ジアミンを用いて得られるポリイミドが開示されている。テトラカルボン酸二無水物にも主鎖にヘキサフルオロプロパン骨格を持つものを用い、ケトン溶媒に可溶としているが、ポリイミド樹脂の耐熱性の開示はなかった。
さらに、特許文献3には、骨格にエステル結合を導入した化合物を組み込んだテトラカルボン酸二無水物と、含フッ素系のベンジジン型ジアミンとから形成されるポリイミドが開示されている。このポリイミドはシクロヘキサノン等の低沸点溶媒に可溶ではあったが、エステル結合を持つため通常のポリイミドに比べると耐熱性が劣っていた。
特開2003−119285号公報 特開2004−285355号公報 特開2009−96967号公報
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、低沸点溶媒に可溶で、耐熱性をはじめとした各種特性が良好であり、工業的に入手しやすい安価な原料から製造可能なポリイミドを提供することを目的とする。また本発明の目的は、低沸点溶媒を用いたポリイミド溶液組成物から得られた耐熱性および信頼性に優れた、ポリイミド塗膜およびポリイミドフィルムを提供することにある。
本発明者らは、前記課題を解決すべく検討した結果、特定の芳香族テトラカルボン酸二無水物と、特定の芳香族ジアミンとから得られるポリイミドが低沸点溶媒への溶解性に優れ、その塗膜が高い耐熱性を有することを見出した。
本発明は、以下の各項に関する。
1. 式(1)で表される繰り返し単位を含み、全ての前記式(1)で表される繰り返し単位中、50%以上のXが式(2−1)で表される基であり、30%以上のYが式(3−1)で表される基である溶媒可溶性ポリイミド。
Figure 0006932349
(式中、Xは芳香環を有する4価の基であり、Yは芳香環を有する2価の基である。)
Figure 0006932349
2. 式(2−1)以外のXが式(2−2)および/または式(2−3)で表される基を含み、式(3−1)以外のYが式(3−2)および/または式(3−3)で表される基を含む、上記項1に記載の溶媒可溶性ポリイミド。
Figure 0006932349
(式中、Xは、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択される基である。)
Figure 0006932349
(式中、芳香環上の水素原子は、置換基で置換されていてもよく、Yは、それぞれ互いに独立に、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択され、mは0〜4の整数である。)
3. 重量平均分子量が40,000以上であり、ガラス転移温度が300℃以上であり、3%重量減少温度が500℃以上である上記項1または2に記載の溶媒可溶性ポリイミド。
4. 上記項1〜3のいずれか1項に記載の溶媒可溶性ポリイミド、および沸点150℃以下の溶媒を含むポリイミド溶液組成物。
5. 前記溶媒が、ジオキソラン、シクロペンタノン、またはこれらの混合物である上記項4に記載のポリイミド溶液組成物。
6. 上記項1〜3のいずれか1項に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含むポリイミド塗膜またはポリイミドフィルム。
7. 上記項1〜3のいずれか1項に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含む、ディスプレイ用、太陽電池用、または電子部品用の基板。
8. 上記項1〜3のいずれか1項に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含む接着剤。
本発明によって、低沸点溶媒に溶解可能であり、耐熱性に優れたポリイミドを提供することができる。本発明のポリイミドを低沸点溶媒に溶解したポリイミド溶液組成物は、低温加熱で溶媒の除去が可能であり、高温処理が困難な用途に適用できる。
本発明のポリイミドは、式(1)で表される繰り返し単位を含む。
Figure 0006932349
(式中、Xは芳香環を有する4価の基であり、Yは芳香環を有する2価の基である。)
本発明のポリイミドは、全ての式(1)で表される繰り返し単位中、少なくとも一部のXは、式(2−1)で表される基である。
Figure 0006932349
全ての式(1)で表される繰り返し単位中、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは100%のXが、式(2−1)で表される基である。Xが式(2−1)で表される基であることにより、芳香族ポリイミドであっても高い溶解性を有し得るとともにポリイミドの耐熱性を向上できる。その他のXの構造は、特に限定されないが、構造中における芳香環の比率が高いことが好ましい。例えば、その他のXの構造が、以下の式(2−2)および/または式(2−3)で表される基を含むことが好ましく、その他のXの構造の全てが、式(2−2)および/または式(2−3)で表される基であることも好ましい。なお、式(2−3)は式(2−1)を包含するが、当然ながら、ここで言及しているその他のXは、式(2−1)で表される基以外のものを指す。
Figure 0006932349
(式中、Xは、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択される基である。)
式(2−3)においてXがアルキレン基である場合、アルキレン基の水素原子は、フッ素や塩素などのハロゲンで置換されてもよい。アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。具体的なアルキレン基としては、CH、CHCH、CHCHCH、C(CH、およびこれらのハロゲン化物、例えばC(CFなどが挙げられる。
式(2−2)または式(2−3)で表される基の具体例としては、後述する本発明のポリイミドの製造方法において使用される芳香族テトラカルボン酸二無水物により形成される基が挙げられる。
全ての式(1)で表される繰り返し単位中、少なくとも一部のYは、式(3−1)で表される基である。
Figure 0006932349
本発明のポリイミドは、全ての式(1)で表される繰り返し単位中、好ましくは30%以上、より好ましくは40%以上、さらに好ましくは50%以上のYが、式(3−1)で表される基であり、100%のYが、式(3−1)で表される基であってもよい。Yが式(3−1)で表される基であることにより、芳香族ポリイミドであっても高い溶解性を有し得る。その他のYの構造は、特に限定されないが、構造中における芳香環の比率が高いことが好ましい。例えば、その他のYの構造が、以下の式(3−2)および/または式(3−3)で表される基を含むことが好ましく、その他のYの構造の全てが、式(3−2)および/または式(3−3)で表される基であることも好ましい。なお、式(3−3)は式(3−1)を包含するが、当然ながら、ここで言及しているその他のYは、式(3−1)で表される基以外のものを指す。
Figure 0006932349
(式中、芳香環上の水素原子は、置換基で置換されていてもよく、Yは、それぞれ互いに独立に、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択され、mは0〜4の整数である。)
存在する場合、芳香環上の置換基は、特に制限されないが、例えば、シアノ基、ハロゲン化アルキル基(例えば、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等)、ニトロ基、ハロゲン原子、カルボニル基、カルボキシル基、スルホニル基、スルホ基等が挙げられる。また、芳香環上の置換基は、メチル基やエチル基などのアルキル基であってもよい。
式(3−3)においてYがアルキレン基である場合、アルキレン基の水素原子は、フッ素や塩素などのハロゲンで置換されてもよい。アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。具体的なアルキレン基としては、CH、CHCH、CHCHCH、C(CH、およびこれらのハロゲン化物、例えばC(CFなどが挙げられる。
mは、好ましくは0〜3の整数であり、より好ましくは0〜2の整数であり、さらに好ましくは0または1である。
式(3−2)または(3−3)で表される基の具体例としては、後述する本発明のポリイミドの製造方法において使用される芳香族ジアミンにより形成される基が挙げられる。
本発明のポリイミドは、全繰り返し単位中、式(1)で表される繰り返し単位を、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95モル%以上、特に好ましくは100モル%含む。芳香環を多く含む式(1)で表される繰り返し単位の含有比率を上げることで、ポリイミドの耐熱性を向上できる。
また、一実施形態においては、本発明のポリイミドは、耐熱性の向上のためにエステル基を含まないことが好ましい。
本発明のポリイミドは、好ましくは40,000以上、より好ましくは50,000以上の重量平均分子量を有する。これらの範囲の重量平均分子量を有することにより、ポリイミドに優れた耐熱性および機械的特性を付与できる。本発明のポリイミドは、好ましくは300,000以下、より好ましくは200,000以下の重量平均分子量を有する。これらの範囲の重量平均分子量を有することにより、溶解性を高められる。
本発明のポリイミドは、高い耐熱性を有する。ポリイミドのガラス転移温度(Tg)は、好ましくは300℃以上であり、より好ましくは310℃以上であり、さらに好ましくは320℃以上である。ポリイミドの3%重量減少温度は、好ましくは500℃以上であり、より好ましくは520℃以上であり、さらに好ましくは540℃以上である。
本発明のポリイミドは、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含む芳香族テトラカルボン酸二無水物と、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンを含む芳香族ジアミンとを、溶媒中にて重縮合させることで得られる。
本発明で用いることができる2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物以外の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物は、ポリイミドの溶解性を維持できるので特に好ましい。
芳香族テトラカルボン酸二無水物に加えて、例えば、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物を一部用いることもできる。
本発明で用いることができる2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン以外の芳香族ジアミンとしては、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、3,5−ジアミノ安息香酸、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジアミンが挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンが、ポリイミドの溶解性、耐熱性を維持できるので特に好ましい。
芳香族ジアミンに加えて、ジアミノポリシロキサン、ノルボルナンジアミン等の脂環式や脂肪族ジアミンを一部用いることもできる。
本発明の溶媒可溶性ポリイミドは、従来の有機溶媒可溶性ポリイミドの製造方法と同様に、あらかじめテトラカルボン酸二無水物とジアミンとからポリイミド前駆体を合成し、それをイミド化触媒の共存下にイミド化する方法、同様にポリイミド前駆体を合成し、それを直接加熱することでイミド化する方法、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、溶媒中で高温重縮合させる方法などの公知の製造方法により調製できる。反応時間が短いことから一段での高温重縮合が好ましい。重縮合の溶媒には、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチルイミダゾリドン等が例示され、これらを単独で又は混合して用いることができる。
さらに、3級アミン化合物および/または酸化合物をイミド化触媒として重合系に加えてもよい。3級アミン化合物は、特に限定されないが、好ましくは、ピリジン、ピコリン、キノリンである。好適な3級アミン化合物の使用量は、得られるポリイミドのイミド基1モル当量に対して0.01〜0.5モル当量であり、より好ましくは0.04〜0.3モル当量である。酸化合物は、特に限定されないが、好ましくは、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、トルイル酸、サリチル酸、ジアミノ安息香酸である。好適な酸化合物の使用量は、得られるポリイミドのイミド基1モル当量に対して0.01〜0.4モル当量であり、より好ましくは0.02〜0.3モル当量である。
重合反応におけるテトラカルボン酸二無水物とジアミンの当量比は、得られるポリイミドの分子量を決定する因子である。本発明では、テトラカルボン酸二無水物:ジアミンは100:102〜100:96、より好ましくは、100:101〜100:98の範囲にあることが好ましい。テトラカルボン酸二無水物、ジアミンの一方が多すぎると分子量が低くて得られる膜の強度が低いものとなる。特にジアミンが多過ぎる場合は、ポリイミド末端にジアミンが増加し着色の原因となる。さらに過剰のジアミンはポリイミドの解重合を引き起こし、ポリイミドの溶解性を低下させることがあり好ましくない。
溶媒と全モノマーとの仕込み重量割合は、特に限定されるものではないが、得られるポリイミド溶液中のポリイミドの濃度が10重量%〜40重量%、好ましくは15重量%〜35重量%となることが好ましい。濃度が低いと反応性が低下し、また高すぎると得られるポリイミド重合液の粘度が高くなり均一な反応に支障が生じるため好ましくない。
例えば、重合反応は、窒素等の不活性ガス気流下、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを溶媒に溶解し、120℃〜220℃、好ましくは150〜200℃の反応温度で行うことができる。また、反応の際、イミド化反応により生成する水を系外へ効率良く取り出す目的で、溶媒と相溶性がある非極性溶媒を混合してよい。非極性溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。その使用量は、通常、全有機溶媒の1〜20重量%、好ましくは2〜15重量%の範囲である。反応時間は、通常0.5〜24時間が例示されるが反応の進行状況によって適宜決定される。
得られたポリイミド重合液を貧溶媒中に添加することによって固体状にポリイミドを析出させた後に、これを低沸点溶媒に溶解させて、ポリイミド溶液組成物とすることができる。
ポリイミド溶液組成物の製造方法の具体例を説明する。貧溶媒を攪拌した中にポリイミド重合液を少量ずつ流下することで微粉状のポリイミドを析出させることができる。ポリイミド重合液の粘度が高すぎると析出物が糸状から塊状になることがあるため、ポリイミド重合液の粘度は500cp以下が適している。適宜、ポリイミド重合液を希釈して粘度を調整することが好ましい。その後、ポリイミドを濾過回収し、回収したポリイミド粉末を貧溶媒により洗浄し、100℃以上に加熱して洗浄溶媒を除去して、最終的に乾燥ポリイミド粉末を得ることができる。この乾燥ポリイミド粉末を低沸点溶媒に溶解することで、ポリイミド溶液組成物を調製できる。
貧溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類や水が挙げられ、これらを単独で、または混合して用いることができる。低沸点溶媒の沸点は、好ましくは150℃以下、より好ましくは100℃以下である。このような低沸点溶媒の例としては、ジオキソラン、シクロペンタノン、およびこれらの混合物などが挙げられる。沸点が低いことにより、低温加熱で溶媒を除去でき、例えば塗膜やフィルムに成形する場合、基材の高温処理を回避できる。
ポリイミド溶液組成物には、必要に応じて、例えば、ビスフェノール型エポキシやノボラック型エポキシなどのエポキシ樹脂とイミダゾール化合物などのエポキシ硬化剤との組合せによる熱硬化性樹脂や、有機シラン、顔料、導電性のカーボンブラック及び金属粒子のような充填剤、摩滅剤、誘電体、潤滑剤等の公知の添加物を本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。また、他の重合体を本発明の効果を損なわない範囲で添加してもよい。特に低沸点溶媒を用いたポリイミド溶液組成物の場合には、低温加熱により溶媒を容易に除去できるため、エポキシ樹脂などと組み合わせることにより溶媒不含の熱硬化性ポリイミド樹脂を得、耐熱接着剤などに用いることができる。
ポリイミド溶液組成物を基材上に塗工し、乾燥して溶媒を除去してポリイミド塗膜を得ることができる。例えば、ガラス基材やシリコンウェハー上にポリイミド溶液組成物を従来公知のスピンコート法、スプレイコート法、浸漬法等の方法により塗工し、溶媒を乾燥除去することにより基材上に透明なポリイミド塗膜を形成することができる。得られたポリイミド塗膜は、透明性および耐熱性が高いため、ディスプレイ材料や太陽電池の保護膜など、透明性と電気信頼性の両立が求められる用途に適している。
ポリイミド溶液組成物をスリット状ノズルから押し出し、またはアプリケーター等により基材上に塗工し、乾燥して溶媒を除去した後、基材上から剥離することによりポリイミドフィルムを製造できる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
実施例および比較例で得られたポリイミド溶液、ポリイミドフィルムの評価は以下のように行った。
(1)重量平均分子量(ポリスチレン換算 Mw)
・装置;高速液体クロマトグラフ(TOSOH HLC−8320GPC、東ソー(株)製)
・カラム;充填品TSK−GEL α−M、2本
・展開液;臭化カリウム、リン酸を少量添加したNMP。検出器はRI。
・測定条件;流量0.8ml/min、カラム温度40℃(圧力約3.8MPa)
・検量線;14種類の標準ポリスチレン分子量による。
・試料;ポリイミドのNMP溶液から0.3g採り、NMP展開液10gと均一混合し、測定試料とした。
(2)熱分析
<試験フィルムの作成>
ポリイミド溶液を、厚さ300μmスペーサーを用いてガラス板上に塗布し、80℃のホットプレート上で20分間静置乾燥し、粘着性の無くなったポリイミドフィルムをガラス板より剥ぎ取り、金属枠に固定して250℃で30分間、あるいは310℃で20分間乾燥した。
<3%重量減少温度>
得られたポリイミドフィルムをMcScience社製TG−DTA装置で窒素気流下、昇温速度10℃/minの条件でDTG測定を行い、3%重量減少温度を求めた。
<ガラス転移温度>
得られたポリイミドフィルムを島津製作所社製TMA−60装置で窒素気流下、昇温速度10℃/min、荷重5gの条件で膨張変化を測定し、変曲点を求めた。
[実施例1]
ステンレススチール製の碇型撹拌器を取り付けたガラス製の500mlセパラブル3ッ口フラスコに、水分分離トラップを備えた玉付き冷却管を取り付けた。2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以後a−BPDAという)22.36g(76ミリモル)と、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン(以後m−DADSという)9.44g(38ミリモル)と、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以後TFMBという)12.17g(38ミリモル)とをフラスコに投入し、N−メチル−2−ピロリドン187.8gとピリジン1.19g(15ミリモル)を加え、窒素ガスを通しながら、160℃のシリコーンオイル浴に浸し加熱撹拌した。モノマーの溶解後、トルエン10gを加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら6時間加熱、撹拌した。黄色透明な粘稠液体が得られ、重量平均分子量を測定したところMw56,000であった。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、310℃20分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ無色透明な膜が得られた。このポリイミド膜をTMA測定したところガラス転移温度は、314℃であった。またTG−DTA測定から熱分解温度(3%減量)は、537℃であった。
また、得られたポリイミド溶液をN−メチル−2−ピロリドンで希釈し、ポリマー濃度10%のポリイミド溶液を作った。この溶液をディスパーサーで激しく撹拌した15%メタノール水溶液中に少量ずつ投入し、ポリイミド粉末を析出させた。析出した粉末を減圧濾過により回収し、さらにメタノールで2回洗浄・濾過し、その後110℃オーブン中で1時間乾燥させ、嵩高いポリイミド粉末を得た。得られたポリイミド粉末1.0gをシクロペンタノン4.0gに溶かしたところ、均一透明なポリイミド溶液が得られた。得られた溶液を洗浄ガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布し、100℃で乾燥させた。透明なポリイミド塗布ガラス基板が得られた。このポリイミド塗布ガラス基板を原子層堆積装置に装着し、基板温度100℃でポリイミド膜上にプラズマ条件で窒化シリコン(Si)を成膜した。透明な無機膜・ポリイミド・ガラスの複合膜が得られた。
また、ポリイミド粉末1.0gにジオキソラン4.0gを加え均一に溶解したところ、同様に透明なポリイミド溶液が得られた。
[比較例1]
実施例1で得られたN−メチル−2−ピロリドンのポリイミド溶液を用い、洗浄ガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布し、100℃で乾燥させた。透明なポリイミド塗布ガラス基板が得られたが、100℃の乾燥ではN−メチル−2−ピロリドンを除去できなかった。このため、原子層堆積装置によりポリイミド膜上に窒化シリコン(Si)を成膜できなかった。
[実施例2]
フラスコにa−BPDA27.07g(92ミリモル)と、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(以後p−DADSという)11.42g(46ミリモル)と、TFMB14.73g(46ミリモル)をとり、γ−ブチロラクトン150gと、ピリジン1.42g(18ミリモル)と、酢酸1.61g(27ミリモル)を加え、160℃のシリコーンオイル浴に浸し加熱撹拌した。モノマーの溶解後、トルエン10gを加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら6時間加熱、撹拌した。淡黄色透明な重量平均分子量64,000の粘稠液体が得られた。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、250℃30分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ無色透明な膜が得られた。このポリイミド膜のガラス転移温度は360℃、熱分解温度(3%減量)は、553℃であった。実施例1と同様にポリイミド粉末を得、シクロペンタノン、ジオキソランの20重量%溶液をそれぞれ調製した。いずれも均一透明な溶液が得られ、100℃乾燥でポリイミド塗布ガラス基板が得られた。
[実施例3]
フラスコにa−BPDA18.24g(62ミリモル)と、TFMB9.93g(31ミリモル)をとり、γ−ブチロラクトン75gと、ピリジン1.50g(19ミリモル)と、ヒドロキシ安息香酸2.62g(19ミリモル)を加え、160℃のシリコーンオイル浴に浸し、さらにトルエン10gを加え窒素を通じながら加熱撹拌した。30分後、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物9.62g(31ミリモル)と、p−DADS15.39g(62ミリモル)とを、γ−ブチロラクトン75gとともに加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら6時間加熱、撹拌した。淡黄色透明な重量平均分子量59,000の粘稠液体が得られた。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、250℃30分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ無色透明な膜が得られた。このポリイミド膜のガラス転移温度は348℃、熱分解温度(3%減量)は540℃であった。実施例1と同様にポリイミド粉末を得、シクロペンタノンの均一透明な20重量%溶液を得、それを用いて100℃乾燥でポリイミド塗布ガラス基板が得られた。ジオキソランの均一透明な15重量%溶液も得られた。
[実施例4]
フラスコにa−BPDA30.89g(105ミリモル)と、m−DADS11.67g(47ミリモル)と、3,5−ジアミノ安息香酸1.67g(11ミリモル)と、TFMB15.05g(47ミリモル)とを投入し、γ−ブチロラクトン222.0gと、ピリジン1.58g(20ミリモル)を加え、160℃のシリコーンオイル浴に浸し加熱撹拌した。モノマーの溶解後、トルエン12gを加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら4時間加熱、撹拌した。淡黄色透明な粘稠液体が得られ、重量平均分子量を測定したところMw82,000であった。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、250℃30分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ無色透明な膜が得られた。このポリイミド膜のガラス転移温度は362℃、熱分解温度(3%減量)は516℃であった。ポリマー濃度8%としてポリイミド粉末化を行った他は実施例1と同様にポリイミド粉末を得、シクロペンタノンの均一透明な10重量%溶液を得、それを用いて100℃乾燥でポリイミド塗布ガラス基板が得られた。
[実施例5]
フラスコにa−BPDA22.95g(78ミリモル)と、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン16.86g(39ミリモル)と、TFMB12.49g(39ミリモル)とを投入し、N−メチル−2−ピロリドン198.0gと、ピリジン1.19g(15ミリモル)を加え160℃のシリコーンオイル浴に浸し加熱撹拌した。モノマーの溶解後、トルエン10gを加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら6時間加熱、撹拌した。黄色透明な粘稠液体が得られ、重量平均分子量を測定したところMw65,000であった。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、310℃20分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ淡黄色透明な膜が得られた。このポリイミド膜をTMA測定したところガラス転移温度は305℃であった。またTG−DTA測定から熱分解温度(3%減量)は510℃であった。実施例1と同様にポリイミド粉末を得、シクロペンタノンの均一透明な20重量%溶液を得、それを用いて100℃乾燥でポリイミド塗布ガラス基板が得られた。同様に、ジオキソランの均一透明な20重量%溶液も得られた。
[比較例2]
フラスコに3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物22.33g(72ミリモル)と、m−DADS8.94g(36ミリモル)と、TFMB11.53g(36ミリモル)とを投入し、γ−ブチロラクトン103.3gと、ピリジン1.19g(15ミリモル)と、酢酸0.90g(15ミリモル)を加え、160℃のシリコーンオイル浴に浸し加熱撹拌した。モノマーの溶解後、トルエン10gを加え、窒素を通じるとともにシリコーンオイル浴温度180℃で留出するトルエン・水をのぞきながら6時間加熱、撹拌した。黄色透明な粘稠液体が得られ、重量平均分子量を測定したところMw131,000であった。このポリイミド溶液をガラス板上に塗布乾燥し、250℃30分オーブン(空気雰囲気)中で加熱処理したところ無色透明なポリイミド膜が得られた。このポリイミド膜をTMA測定したところガラス転移温度は265℃であった。またTG−DTA測定から熱分解温度(3%減量)は498℃であった。実施例1〜5と比較して、ガラス転移温度と熱分解温度が低い結果となった。実施例1と同様にポリイミド粉末を得、シクロペンタノン、ジオキソランの均一透明な20重量%溶液をそれぞれ得、これらを用いて100℃乾燥でポリイミド塗布ガラス基板が得られた。
本発明によれば、耐熱性および機械的特性に優れた低沸点溶媒に溶解可能なポリイミド、低沸点溶媒を用いたポリイミド溶液組成物を提供できる。低沸点溶媒を用いたポリイミド溶液組成物は、低温加熱により溶媒の除去が可能であり、有機ELディスプレイ等のディスプレイ用、太陽電池用、および電子部品用等の基板や接着剤に好適に用いることができる。

Claims (8)

  1. 式(1)で表される繰り返し単位を含み、全ての前記式(1)で表される繰り返し単位中、50%以上のXが式(2−1)で表される基であり、30%以上のYが式(3−1)で表される基であり、さらに式(3−1)以外のY として、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホンおよびビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホンからなる群より選ばれる少なくとも1つのジアミンから2つの−NH 基を除いた構造を含む溶媒可溶性ポリイミド。
    Figure 0006932349
    (式中、Xは芳香環を有する4価の基であり、Yは芳香環を有する2価の基である。)
    Figure 0006932349
  2. 重量平均分子量が40,000以上であり、ガラス転移温度が300℃以上であり、3%重量減少温度が500℃以上である請求項1に記載の溶媒可溶性ポリイミド。
  3. (a)式(1)で表される繰り返し単位を含み、全ての前記式(1)で表される繰り返し単位中、50%以上のX が式(2−1)で表される基であり、30%以上のY が式(3−1)で表される基である溶媒可溶性ポリイミド、および
    (b)沸点150℃以下の溶媒
    を含むポリイミド溶液組成物。
    Figure 0006932349
    (式中、X は芳香環を有する4価の基であり、Y は芳香環を有する2価の基である。)
    Figure 0006932349
  4. 前記溶媒可溶性ポリイミドが、
    式(2−1)以外のX が式(2−2)および/または式(2−3)で表される基を含む、および/または
    式(3−1)以外のY が式(3−2)および/または式(3−3)で表される基を含む、
    請求項3に記載のポリイミド溶液組成物。
    Figure 0006932349
    (式中、Xは、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択される基である。)
    Figure 0006932349
    (式中、芳香環上の水素原子は、置換基で置換されていてもよく、Yは、それぞれ互いに独立に、直接結合、炭素数1〜4の置換または無置換のアルキレン基、O、CO、SO、Sから成る群より選択され、mは0〜4の整数である。)
  5. 前記溶媒が、ジオキソラン、シクロペンタノン、またはこれらの混合物である請求項3または4に記載のポリイミド溶液組成物。
  6. 請求項1または2に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含むポリイミド塗膜またはポリイミドフィルム。
  7. 請求項1または2に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含む、ディスプレイ用、太陽電池用、または電子部品用の基板。
  8. 請求項1または2に記載の溶媒可溶性ポリイミドを含む接着剤。
JP2017161177A 2017-08-24 2017-08-24 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物 Active JP6932349B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017161177A JP6932349B2 (ja) 2017-08-24 2017-08-24 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017161177A JP6932349B2 (ja) 2017-08-24 2017-08-24 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019038920A JP2019038920A (ja) 2019-03-14
JP6932349B2 true JP6932349B2 (ja) 2021-09-08

Family

ID=65727440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017161177A Active JP6932349B2 (ja) 2017-08-24 2017-08-24 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6932349B2 (ja)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1281727A4 (en) * 1999-11-10 2004-08-04 Kaneka Corp SOLUBLE POLYIMIDES AND COMPOSITION CONTAINING THEM, ADHESIVE FILM, FILM LAMINATED WITH ADHESIVE TO COVER AN ACCELERATOR TUBE AND LAMINATED FILM WITH ADHESIVE TO COVER AN ACCELERATING QUENDER
US6958192B2 (en) * 2002-04-05 2005-10-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Polyimides from 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamines
JP5712811B2 (ja) * 2011-06-22 2015-05-07 Jsr株式会社 可溶性ポリイミドおよびその製造方法、ワニス並びにポリイミドフィルム
CN102702523A (zh) * 2012-05-29 2012-10-03 中国科学院化学研究所 缠绕成型用纤维增强聚酰亚胺树脂预浸带及其制备方法与应用
EP2876129B1 (en) * 2013-11-25 2021-05-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition for preparing polyimide, polyimide, and article including same
CN105637016B (zh) * 2014-05-30 2017-11-07 株式会社Lg化学 聚酰亚胺基液体和使用其制备的聚酰亚胺基膜
JP6801648B2 (ja) * 2015-05-25 2020-12-16 コニカミノルタ株式会社 ポリイミドフィルム、ポリイミドフィルムの製造方法、フレキシブルプリント基板、フレキシブルディスプレイ用基板、フレキシブルディスプレイ用前面板、led照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019038920A (ja) 2019-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4868183B2 (ja) 新規なフッ素化テトラカルボン酸二無水物、これより得られるポリイミド前駆体、ポリイミドとその利用
JP5845911B2 (ja) ポリイミド前駆体水溶液組成物、及びポリイミド前駆体水溶液組成物の製造方法
JP2020090681A (ja) ポリアミド−イミド前駆体、ポリアミド−イミドフィルム、およびこれを含む表示素子
KR20200006626A (ko) 수지 전구체 및 그것을 함유하는 수지 조성물, 수지 필름 및 그 제조 방법, 그리고, 적층체 및 그 제조 방법
TW201920371A (zh) 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺清漆及聚醯亞胺薄膜
JP4815690B2 (ja) ポリイミド、ポリイミド前駆体及びこれらの製造方法
JP7367699B2 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム
JP7387742B2 (ja) ポリアミック酸組成物及びこれを用いた透明ポリイミドフィルム
TW201945437A (zh) 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺清漆以及聚醯亞胺薄膜
EP3882299A1 (en) Polyimide resin, varnish, and polyimide film
TW201922848A (zh) 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺清漆及聚醯亞胺薄膜
JP2012251080A (ja) 新規ポリイミドおよびその用途
TW202014448A (zh) 聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺清漆以及聚醯亞胺薄膜
JP7375749B2 (ja) ポリアミド-イミド樹脂、ポリアミド-イミドワニス及びポリアミド-イミドフィルム
WO2005113647A1 (ja) 低線熱膨張係数を有するポリエステルイミドとその前駆体
JP2024028411A (ja) ポリアミック酸組成物、及びこれを用いた透明ポリイミドフィルム
JP4788108B2 (ja) 低誘電率、低線熱膨張係数、高透明性、高ガラス転移温度を併せ持つポリイミドとその前駆体
JP6496993B2 (ja) ポリイミド前駆体組成物、ポリイミド前駆体の製造方法、ポリイミド成形体、及びポリイミド成形体の製造方法
TWI473836B (zh) 用於電子裝置之絕緣材料
JP6932349B2 (ja) 溶媒可溶性ポリイミドおよびポリイミド溶液組成物
JP6994712B2 (ja) γ-ブチロラクトン溶媒中で重合した可溶性透明ポリイミド
WO2021210641A1 (ja) イミド-アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム
TW202219122A (zh) 聚合物組成物、清漆、以及聚醯亞胺薄膜
WO2021210640A1 (ja) イミド-アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム
JPH0436321A (ja) ポリイミドシロキサン組成物および固化膜

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20180516

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200720

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210416

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210427

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210628

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210720

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210805

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6932349

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350