JP6920423B2 - 光学積層体ならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル - Google Patents
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Description
(1)
厚みが120μm以下の薄ガラスと、この薄ガラスの一方の側に配置される、厚み5μm以上40μm以下の衝撃吸収層とを有し、この衝撃吸収層が、25℃において101〜1015Hzの範囲にtanδの極大値を有する光学積層体。
(2)
上記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が0.1MPa以上1000MPa未満である、(1)に記載の光学積層体。
(3)
上記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとアクリル酸n−ブチルとのブロック共重合体、並びに、イソプレン及び/又はブテンとスチレンとのブロック共重合体から選択される少なくとも一種を含む、(1)又は(2)に記載の光学積層体。
(4)
(1)〜(3)のいずれか1項に記載の光学積層体を有する、画像表示装置の前面板。
(5)
(4)に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
(6)
上記画像表示素子が、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、インセルタッチパネル表示素子、又はオンセルタッチパネル表示素子である、(5)に記載の画像表示装置。
(7)
(4)に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
(8)
(4)に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方または両方の意味で用いられる。また、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方の意味で用いられる。「(メタ)アクリル」は、アクリルとメタクリルの一方または両方の意味で用いられる。
本明細書に記載の各成分は、この成分を、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。また、各成分の含有量は、構造の異なる二種以上を併用する場合には、それらの合計含有量を意味する。
本明細書において、各層の厚みは、公知の膜厚測定法、例えば触針式膜厚計による膜厚測定法により求めることができる。複数箇所で測定する場合の各層の膜厚は、複数箇所での測定値の算術平均とする。
[光学積層体]
本発明の光学積層体は、厚みが120μm以下の薄ガラスと、薄ガラスの一方の側に配置される、厚み5μm以上(好ましくは厚み10μm超え)の衝撃吸収層とを備える。より詳細には、本発明の光学積層体を画像表示装置の前面板として用いた際に、薄ガラス表面のうち非視認側(画像表示素子が配置される側)の面上に、上記衝撃吸収層を備える。上記衝撃吸収層は、25℃において101〜1015Hzの範囲にtanδの極大値を有する。
本発明の光学積層体は、薄ガラスを備えるため、硬度が高い。また、薄ガラスの一方の面上に、所定の厚みを有し、所定の特性を有する衝撃吸収層を備えるため、薄ガラスが破損し難く、より高い耐衝撃性を実現できる。
本発明の光学積層体は、その他の層をさらに備えてもよい。その他の層としては、反射防止層、防眩層、帯電防止層、保護層等が挙げられる。また、薄ガラスと衝撃吸収層とが、接着層を介して積層されてもよい。
本発明の光学積層体の光透過率は、好ましくは90%以上である。光透過率は、島津製作所(株)製の紫外可視近赤外分光光度計UV3150を用いて、測定できる。
図1は、本発明の光学積層体の一実施形態の断面を模式的に示す図である。光学積層体4Aは、薄ガラス1Aと、この薄ガラス1Aの片面に配された衝撃吸収層2Aとを有する2層構成の光学積層体である。本発明の光学積層体は、薄ガラス1Aと衝撃吸収層2Aとの間に接着層を有する構成とすることもできる。また、薄ガラス1Aの、衝撃吸収層2Aの側とは反対側(図1の上側)に反射防止層、保護層等を有してもよい。また、衝撃吸収層2Aの、薄ガラス1Aの側とは反対側(図1の下側)にも、保護層等を設けることができる。
本発明の光学積層体が備える薄ガラスとしては、形状が板状のものであれば、その材料は特に限定されない。組成による分類によれば、たとえば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。ガラスのアルカリ金属成分(例えば、Na2O、K2O、Li2O)の含有量は、好ましくは15質量%以下であり、さらに好ましくは10質量%以下である。
本発明の光学積層体が備える衝撃吸収層は、光学積層体を画像表示装置の前面板として用いた際に、表示内容の視認性を確保できる透明性を有し、かつ、前面板への押さえ付けや衝突等に由来する薄ガラスの破損を効果的に防ぐ。本発明に用いる衝撃吸収層は厚みが5μm以上であり、薄ガラスに負荷される衝撃を十分に緩和する観点からは10μm以上が好ましく、10μm超えがより好ましく、20μm以上がさらに好ましい。また、衝撃吸収層の厚みは薄ガラスに負荷が加わった際の変形を防ぐ観点からは100μm以下が好ましく、60μm以下がより好ましい。
衝撃吸収層の構成材料を溶剤に溶解、または溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離PETシートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが40μmになるよう塗布し、この塗布膜を乾燥させて衝撃吸収層を形成する。この衝撃吸収層を剥離PETシートから剥離することにより、衝撃吸収層の試験片を作製する。
動的粘弾性測定装置(アイティー・エス・ジャパン(株)製DVA−225)を用いて、あらかじめ温度25℃、相対湿度60%雰囲気下で2時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件下で測定を行う。「マスターカーブ」編集にて、25℃における、周波数に対するtanδ、貯蔵弾性率および損失弾性率のマスターカーブを得る。得られたマスターカーブからtanδの極大値及びこの極大値を示す周波数を求める。
試料:5mm×20mm
つかみ間距離:20mm
設定歪み:0.10%
測定温度:−40℃〜40℃
昇温条件:2℃/min
エラストマーとしては、アクリル系ブロック(共)重合体、スチレン系ブロック(共)重合体が好ましい。アクリル系ブロック共重合体としては、メタクリル酸メチルとアクリル酸n−ブチルとのブロック共重合体(「PMMA−PnBA共重合体」とも呼ぶ)等が挙げられる。スチレン系ブロック(共)重合体としては、イソプレンおよび/またはブテンとスチレンとのブロック共重合体等が挙げられる。共重合成分の種類や共重合比を調整することにより、tanδの極大値を所望の範囲に有する衝撃吸収層を形成することができる。
また、衝撃吸収層は、ウレタン変性ポリエステル樹脂およびウレタン樹脂から選択される少なくとも一種を含む樹脂を用いて構成されてもよい。
衝撃吸収層が含み得る樹脂又はエラストマーは通常の方法で合成でき、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえば、クラリティLA1114、クラリティLA2140E、クラリティLA2250、クラリティLA2330、クラリティLA4285、HYBRAR5127、HYBRAR7311F((株)クラレ製、商品名)などが挙げられる。
衝撃吸収層の形成方法には特に限定はなく、たとえば、コーティング法、キャスト法(無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法)、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。詳細には、衝撃吸収層の上記構成材料(衝撃吸収材料)を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は上記衝撃吸収材料を構成する成分の溶融液を調製し、次いで、この液状物又は溶融液を薄ガラスに塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、衝撃吸収層が積層された光学積層体を作製することができる。
本発明において衝撃吸収層は、より好ましくは架橋構造を有しない。
−接着層−
衝撃吸収層は、接着層を介して薄ガラスの一方の側に配置されてもよい。接着層は、乾燥や反応により接着性を発現する成分(接着剤)を含む組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、硬化反応により接着性を発現する成分を含む組成物(以下、「硬化性組成物」と称する場合がある。)を用いて形成される接着層は、かかる硬化性組成物を硬化させてなる硬化層である。
接着層の厚みは、薄ガラスと衝撃吸収層を接着する点から10nm以上が好ましく、50nm〜50μmがさらに好ましい。
本発明の光学積層体は、衝撃吸収層の薄ガラスとは反対側の面に、剥離可能な保護フィルム層を設けることが好ましい。かかる保護フィルム層を有することにより、使用前の光学積層体の衝撃吸収層の破損および埃や汚れの付着を防ぐことができ、使用時には上記保護フィルム層を剥がすことができる。
本発明の光学積層体は、薄ガラスの衝撃吸収層とは反対側に、樹脂フィルムをさらに備えていてもよい。1つの実施形態においては、樹脂フィルムは、剥離可能に(例えば、任意の適切な粘着剤層を介して)積層され、本発明の光学積層体が使用に供されるまで薄ガラスを保護する保護フィルムである。
本発明の光学積層体は、反射防止層をさらに備えていてもよい。反射防止層は、薄ガラスの衝撃吸収層とは反対側に配置され得る。
本発明の光学積層体を含む物品としては、家電業界、電気電子業界をはじめとする様々な産業界において耐衝撃性を向上することが求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置等を挙げることができる。これら物品に、好ましくは表面保護フィルムとして本発明の光学積層体を設けることにより、硬度と耐衝撃性に優れた物品を提供することが可能となる。本発明の光学積層体は、画像表示装置用の前面板に用いられる光学フィルムとして好ましく用いられ、タッチパネルの画像表示素子の前面板に用いられる光学フィルムであることがより好ましい。
本発明の光学積層体を用いることができるタッチパネルは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量式タッチパネル、投影型静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。詳細については、後述する。
なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサを含むものとする。タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、2枚の透明電極を貼合する貼合方式、1枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれでもよい。
本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、本発明の光学積層体を有する前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
画像表示装置としては、液晶表示装置(Liquid Crystal Display;LCD)、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネル等が挙げられる。
液晶表示装置は液晶セルと該液晶セルの視認側(フロント側)とバックライト側(リア側)に設けられた偏光板により構成されている。液晶表示装置としては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super−Twisted Nematic)型、TSTN(Triple Super Twisted Nematic)型、マルチドメイン型、VA(Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optically Compensated Bend)型等が挙げられる。
画像表示装置は、脆性が改良され、ハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアPなどを挙げることができる。
有機エレクトロルミネッセンス表示素子は、公知技術を、何ら制限なく適用することができる。有機エレクトロルミネッセンス表示素子を有する画像表示装置としては、SAMSUNG社製、GALAXY SIIなどを挙げることができる。
インセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開2011−76602号公報、特開2011−222009号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアPなどを挙げることができる。
オンセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開2012−88683号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、SAMSUNG社製、GALAXY SIIなどを挙げることができる。
本発明の光学積層体を有するタッチパネルは、本発明の光学積層体が有する衝撃吸収層の、薄ガラスと反対側の表面にタッチセンサフィルムを貼り合わせたタッチセンサを含むタッチパネルである。
タッチセンサフィルムとしては特に制限はなく、導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。導電性フィルムは、任意の支持体の上に導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
本発明の光学積層体を有する抵抗膜式タッチパネルは、本発明の光学積層体を有する前面板を有する抵抗膜式タッチパネルである。
抵抗膜式タッチパネルは、導電性膜を有する上下1対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。なお抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
本発明の光学積層体を有する静電容量式タッチパネルは、本発明の光学積層体を有する前面板を有する静電容量式タッチパネルである。
静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、X軸電極と、X軸電極と直交するY軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、X軸電極およびY軸電極が、1枚の基板上の別々の面に形成される態様、1枚の基板上にX軸電極、絶縁体層、Y軸電極を上記順で形成する態様、1枚の基板上にX軸電極を形成し、別の基板上にY軸電極を形成する態様(この態様では、2枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる)等が挙げられる。なお静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
衝撃吸収層と薄ガラスとが積層されてなる、実施例1〜14、比較例1〜8の光学積層体を作製した。詳細を以下に説明する。
下記表1に示す組成で各成分を混合し、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、CU層形成用組成物CU−1〜CU−13を調製した。
・クラリティLA2250:クラレ社製、PMMA−PnBA共重合体エラストマー
・クラリティLA2140E:クラレ社製、PMMA−PnBA共重合体エラストマー
・ハイブラー7311F:クラレ社製、ポリスチレン−水素添加されたイソプレン共重合体エラストマー
・クラプレンUC−203M:クラレ社製、重合性基含有ポリイソプレン
・バイロンUR−6100:東洋紡社製、ポリエステルウレタン樹脂の45%希釈液(希釈溶媒の組成は、質量比でシクロヘキサノン:ソルベッソ150:イソホロン=40:40:20)
・セロキサイド2021P:ダイセル社製、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
・アロンオキセタンOXT−221:東亞合成社製、3−エチル−3{[(3−エチルオキセタン−3 −イル)メトキシ]メチル}オキセタン
・合成例1:特開2014−210421号公報の段落<0086>に記載の方法により、合成した
・ダイヤナールBR88:三菱レイヨン社製、PMMA樹脂
・NKオリゴUA−122P:新中村化学工業社製、紫外線硬化モノマー
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬社製、商品名:KAYARAD DPHA)
・MIBK−ST:日産化学工業社製、平均粒径10〜20nmの球形シリカ微粒子
・スーパーエステルA115:荒川化学工業社製、ロジンエステル
・クリアロンP150:ヤスハラケミカル社製、水添テルペン
・アデカオプトマーSP−170:ADEKA社製、スルホニウム塩系光カチオン重合開始剤
・MS51:多摩化学工業社製、メチルシリケートオリゴマー
・オルガノシリカゾル:日産化学工業社製 30%IPA希釈液
・D―20:信越化学社製、チタネート化合物
・IRGACURE184:BASF社製光重合剤
・MIBK:メチルイソブチルケトン
・IPA:イソプロピルアルコール
薄ガラス(縦8cm、横8cm、厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−1を塗布し、乾燥させてCU層を形成した。
塗布および乾燥の方法は、具体的には、次の通りとした。特開2006−122889号公報の実施例1記載のスロットダイを用いたダイコート法により、搬送速度30m/分の条件で、CU層形成用組成物を乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布した。次いで、雰囲気温度60℃で150秒間乾燥させ、実施例1の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物CU−1に代えてCU層形成用組成物CU−2、CU−3、CU−4、及びCU−5を使用した以外は、実施例1と同様にして、実施例2、4、5及び8の光学積層体を作製した。
薄ガラスの厚みを50μmとした以外は、実施例2と同様にして、実施例3の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物の膜厚を5μmとした以外は、実施例5と同様にして、実施例6の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物の膜厚を40μmとした以外は、実施例5と同様にして、実施例7の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物CU−1に代えてCU層形成用組成物CU−6を使用し、CU層形成用組成物の膜厚を40μmとした以外は、実施例1と同様にして、実施例9の光学積層体を作製した。
−CU層シートの作製−
上記で調製したCU層形成用組成物CU−2を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離シート(リンテック社製、商品名:SP−PET3811)の剥離処理面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布した。雰囲気温度60℃で150秒間加熱し、CU層CU−2を形成した。このCU層CU−2と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した別の剥離シート(リンテック社製、商品名:SP−PET3801)の剥離処理面とを貼り合わせて、剥離シート/CU層CU−2/剥離シートの順に積層された、Cu層シートCU−2を作製した。
薄ガラス(厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−9をスポイトを用いて線状に塗布した。次いで、上記薄ガラスとCu層シートCU−2とを、上記接着剤組成物を介して、貼り合わせた。この貼り合わせは、ラミネータを用いてロール間で行った。
その後、得られた積層体のCu層シートCU−2側から紫外光を照射して(照射強度50mw/cm2、照射時間30秒)、CU層形成用組成物CU−9を半硬化させた。紫外光照射は高圧水銀ランプを使用した。次いで、80℃の温度下で60分間、オーブン内で積層体を加熱し、CU層形成用組成物CU−9を完全硬化させて、実施例10の光学積層体を作製した。CU−9の層は接着層として存在し、その厚みは5μmであった。
薄ガラス(厚み100μm)の表面上に、上記で作製したCU層シートCU−2を、厚み20μmの粘着剤(綜研化学社製、商品名:SK−2057)を介して、ゴムローラーで2kgの荷重を掛けながら貼り合わせることで、実施例11の光学積層体を作製した。
薄ガラス(縦8cm、横8cm、厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−11を塗布し、乾燥させてCU層を形成した。
塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開2006−122889号公報の実施例1に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度30m/分の条件でCU層形成用組成物を乾燥後の膜厚が20μmになるように塗布した。次いで、雰囲気温度60℃で150秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約0.1体積%で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量600mJ/cm2の紫外線を照射して、塗布したCU層形成用硬化性組成物を硬化させて実施例12の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物CU−11に代えてCU層形成用組成物CU−12、CU−13を使用した以外は、実施例12と同様にして、実施例13、14の光学積層体を作製した。
薄ガラス(厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−7を乾燥後の膜厚が15μmになるように塗布し、雰囲気温度50℃で30分間、次いで70℃で2時間、さらに100℃で1時間乾燥させることにより、比較例1の光学積層体を作製した。
薄ガラス(厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−8を塗布し、CU層形成用組成物の乾燥後の膜厚が75μmとなるように、雰囲気温度70℃で6分間、次いで140℃で40分間乾燥させ、比較例2の光学積層体を作製した。
CU層シートCU−2を貼り合わせなかった以外は、実施例10と同様にして、比較例3の光学積層体を作製した。
CU層シートCU−2に代えて、アクリル系樹脂シート(三菱ケミカル社製、商品名「アクリプレンHBS010P」、厚み75μm)を使用した以外は、実施例10と同様にして、比較例4の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物シートCU−2に代えて、シクロオレフィン系樹脂シート(日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアフィルムZF16」、厚み100μm)を使用した以外は、実施例10と同様にして、比較例5の光学積層体を作製した。
薄ガラス(厚み100μm)の表面上に、CU層形成用組成物CU−10を硬化後の膜厚が8μmになるようにワイヤバーコータを用いて塗布した後、雰囲気温度60℃で150秒間乾燥させることにより溶剤を除去した。さらに、高圧水銀ランプ(160W/cm)を照射することによって比較例6の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物の膜厚を1μmとした以外は、実施例5と同様にして、比較例7の光学積層体を作製した。
CU層形成用組成物からなる層を設けなかった以外は、実施例1と同様にして、比較例8の光学フィルムを作製した。
ガラス板(Corning社製、商品名:イーグル XG、厚み0.4mm、縦10cm、横10cm)と、上記で作製した各光学積層体(実施例1〜11、比較例1〜7)ないし薄ガラス(比較例8)とを、CU層の、薄ガラス側とは反対側の面がガラス板と向かい合うようにして、厚み20μmの粘着剤(綜研化学社製、商品名:SK−2057)を介して、ゴムローラーで2kgの荷重を掛けながら貼り合わせた。ステンレスからなる基台の上に、上記の光学積層体を貼り合わせたガラス板を、厚さ20mm、幅5mmのテフロン(登録商標)製スペーサー(10cm四方のスペーサーから、中央部9cm四方を打ち抜いた形状のスペーサー)がガラス板とステンレス基台の間に挟まるように設置した。次いで、鉄球(直径3.2cm、質量130g)を、所定高さから落下させ、上記の光学積層体ないし薄ガラスの、薄ガラスに鉄球が接触するように衝突させた。その後、薄ガラスを観察し、ひびや割れなどが観察されなかった高さの中で一番高い値を耐衝撃高さ(cm)とした。
結果を下記表2に示す。
また、衝撃吸収層がtanδの極大値を101〜1015Hzの範囲に有していても、衝撃吸収層の厚さが十分でないと、やはり衝撃吸収性に劣る結果となった(比較例7)。
これに対し、衝撃吸収層がtanδの極大値を101〜1015Hzの範囲に有し、かつ衝撃吸収層の厚さも5μm以上を確保した光学積層体は、いずれも衝撃吸収性に優れる結果となった(実施例1〜14)。
2A 衝撃吸収層
4A 光学積層体
Claims (8)
- 厚みが120μm以下の薄ガラスと、前記薄ガラスの一方の側に配置される、厚み5μm以上40μm以下の衝撃吸収層とを有し、該衝撃吸収層が、25℃において101〜1015Hzの範囲にtanδの極大値を有する光学積層体。
- 前記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が0.1MPa以上1000MPa未満である、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとアクリル酸n−ブチルとのブロック共重合体、並びに、イソプレン及び/又はブテンとスチレンとのブロック共重合体から選択される少なくとも一種を含む、請求項1又は2に記載の光学積層体。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学積層体を有する、画像表示装置の前面板。
- 請求項4に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
- 前記画像表示素子が、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、インセルタッチパネル表示素子、又はオンセルタッチパネル表示素子である、請求項5に記載の画像表示装置。
- 請求項4に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
- 請求項4に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
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