JP6914977B2 - 走査透過電子顕微鏡および収差補正方法 - Google Patents
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Description
収差補正器を含む電子光学系と、
前記収差補正器を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、
互いに異なるデフォーカス量で撮影された第1走査透過電子顕微鏡像および第2走査透過電子顕微鏡像を取得する処理と、
前記第1走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第1自己相関関数を算出する処理と、
前記第1自己相関関数の中心を通る直線に沿った第1強度プロファイルを取得する処理と、
前記第1強度プロファイルにおいて、前記第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第1基準強度とする処理と、
前記第2走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第2自己相関関数を算出する処理と、
前記第2自己相関関数の中心を通る直線に沿った第2強度プロファイルを取得する処理
と、
前記第2強度プロファイルにおいて、前記第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第2基準強度とする処理と、
前記第1自己相関関数において前記第1基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第1収差関数をフィッティングし、前記第2自己相関関数において前記第2基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第2収差関数をフィッティングすることによって、収差係数を求める処理と、
前記収差係数に基づいて、前記電子光学系を制御する処理と、
を行う。
収差補正器を含む電子光学系を備えた走査透過電子顕微鏡の収差補正方法であって、
互いに異なるデフォーカス量で撮影された第1走査透過電子顕微鏡像および第2走査透過電子顕微鏡像を取得する工程と、
前記第1走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第1自己相関関数を算出する工程と、
前記第1自己相関関数の中心を通る直線に沿った第1強度プロファイルを取得する工程と、
前記第1強度プロファイルにおいて、前記第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第1基準強度とする工程と、
前記第1自己相関関数において、前記第1基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第1収差関数をフィッティングする工程と、
前記第2走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第2自己相関関数を算出する工程と、
前記第2自己相関関数の中心を通る直線に沿った第2強度プロファイルを取得する工程と、
前記第2強度プロファイルにおいて、前記第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第2基準強度とする工程と、
前記第2自己相関関数において、前記第2基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第2収差関数をフィッティングする工程と、
前記第1収差関数のフィッティングおよび前記第2収差関数のフィッティングにより得られた収差係数に基づいて、前記電子光学系を制御する工程と、
を含む。
まず、本実施形態に係る走査透過電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る走査透過電子顕微鏡100の構成を示す図である。
走査透過電子顕微鏡100の照射系の収差を補正する。収差補正器30は、照射系に生じる2回非点を補正する。収差補正器30は、例えば、電場、磁場、またはこれらの重畳場を発生させる多極子である。収差補正電源コントローラー31は、収差補正器30を動作させる。
でプログラムを実行することにより実現できる。
次に、収差補正の原理について説明する。以下では、暗視野STEM像を用いた収差補正について説明するが、明視野STEM像を用いてもよい。
さらに、別のフォーカスにおいて得られる自己相関関数Racにおける等強度線(等高線)は、当該自己相関関数を表す平面座標において、次式(6)を座標値とする収差関数で表される。
まず、互いに異なるデフォーカス量で撮影された第1STEM像および第2STEM像を取得する。デフォーカス量の変更は、対物レンズ14などのレンズを調整することで行う。対物レンズ14の励磁を変えて、2つのSTEM像を撮影することで、第1STEM像および第2STEM像を撮影できる。なお、デフォーカス量の変更を、加速電圧を変えることで行ってもよい。第1STEM像および第2STEM像は、暗視野STEM像であってもよいし、明視野STEM像であってもよい。
第1STEM像の自己相関関数(以下、「第1自己相関関数」ともいう)を算出する。第1自己相関関数は、上記式(2)を用いて算出できる。
図5は、自己相関関数の強度プロファイルを取得する手法を説明するための図である。なお、図5では、自己相関関数の中心を通る直線を破線で示している。図6は、第1STEM像の自己相関関数の強度プロファイルを説明するための図である。図6に示す強度プ
ロファイルにおいて、横軸は自己相関関数上の位置を表し、縦軸は強度を表している。
次に、第1強度プロファイルfにおいて、第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第1基準強度とする。例えば、図6に示すように、第1強度プロファイルfの2階微分f´´を用いて変曲点を特定する。第1強度プロファイルfの2階微分f´´がゼロの位置が、変曲点の位置となる。次に、変曲点のうち、第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を特定する。図6に示す第1強度プロファイルfでは、第1自己相関関数の中心の位置は、横軸がゼロの位置である。次に、第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置における第1自己相関関数の強度を第1基準強度とする。このようにして、第1基準強度を求めることができる。
第2STEM像の自己相関関数を算出する。第2STEM像の自己相関関数は、第1STEM像の自己相関関数を算出する場合と同様に、上記式(2)を用いて算出できる。
第2STEM像の自己相関関数の強度プロファイル(以下、「第2強度プロファイル」ともいう)を取得する。第2強度プロファイルは、第2STEM像の自己相関関数の中心を通る直線に沿って取得する。
次に、第2強度プロファイルにおいて、第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第2基準強度とする。第2基準強度の算出方法は、上述した第1基準強度の算出方法と同様である。
次に、第1自己相関関数において第1基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第1収差関数をフィッティングし、第2自己相関関数において第2基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第2収差関数をフィッティングする。
関数をフィッティングする。これにより、収差係数o2、収差係数a2、比例係数kを求めることができる。収差係数o2、収差係数a2、比例係数kに基づいて、デフォーカスおよび2回非点を求めることができる。
上記のように、基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に対して収差関数をフィッティングして、デフォーカスおよび2回非点を求めた。しかしながら、収差関数をフィッティングする等強度線の強度を、第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置の強度としたため、フィッティングした楕円の大きさ(収差係数o2)が、必ずしもデフォーカスに依存するわけではなくなる。
}b
求められた収差係数に基づいて、電子光学系を制御する。具体的には、ステップS114で求められた2回非点に基づいて、電子光学系の2回非点を補正する。2回非点の補正は、収差補正器30を用いて行われる。2回非点の補正は、求められた2回非点が打ち消されるように収差補正器30を動作させることで行われる。
次に、制御部40の処理について説明する。図8は、制御部40の処理の一例を示すフローチャートである。
たと判断する。
た収差係数に基づいて、電子光学系を制御する(S222)。例えば、制御部40は、求めた2回非点が打ち消されるように、収差補正器30を制御する。また、制御部40は、求めたデフォーカス量に基づいて最適なフォーカスとするための対物レンズ14の励磁量を求め、対物レンズ14を制御する。
走査透過電子顕微鏡100は、例えば、以下の特徴を有する。
ることができる。
Claims (6)
- 収差補正器を含む電子光学系と、
前記収差補正器を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、
互いに異なるデフォーカス量で撮影された第1走査透過電子顕微鏡像および第2走査透過電子顕微鏡像を取得する処理と、
前記第1走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第1自己相関関数を算出する処理と、
前記第1自己相関関数の中心を通る直線に沿った第1強度プロファイルを取得する処理と、
前記第1強度プロファイルにおいて、前記第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第1基準強度とする処理と、
前記第2走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第2自己相関関数を算出する処理と、
前記第2自己相関関数の中心を通る直線に沿った第2強度プロファイルを取得する処理と、
前記第2強度プロファイルにおいて、前記第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第2基準強度とする処理と、
前記第1自己相関関数において前記第1基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第1収差関数をフィッティングし、前記第2自己相関関数において前記第2基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第2収差関数をフィッティングすることによって、収差係数を求める処理と、
前記収差係数に基づいて、前記電子光学系を制御する処理と、
を行う、走査透過電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記収差係数は、2回非点である、走査透過電子顕微鏡。 - 請求項1または2において、
前記第1基準強度とする処理では、前記第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を、前記第1強度プロファイルの2階微分を用いて求め、
前記第2基準強度とする処理では、前記第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を、前記第2強度プロファイルの2階微分を用いて求める、走査透過電子顕微鏡。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記制御部は、
前記第1自己相関関数のコントラストおよび前記第2自己相関関数のコントラストに基づいて、デフォーカス量を求める処理と、
求めた前記デフォーカス量に基づいて、前記電子光学系を制御する処理と、
を行う、走査透過電子顕微鏡。 - 請求項4において、
前記デフォーカス量を求める処理では、
前記第1自己相関関数のコントラストを、前記第1自己相関関数の最小値と、前記第1自己相関関数の中心のピークを除いた領域の前記第1自己相関関数の最大値と、の差に基づいて求め、
前記第2自己相関関数のコントラストを、前記第2自己相関関数の最小値と、前記第2自己相関関数の中心のピークを除いた領域の前記第2自己相関関数の最大値と、の差に基づいて求める、走査透過電子顕微鏡。 - 収差補正器を含む電子光学系を備えた走査透過電子顕微鏡の収差補正方法であって、
互いに異なるデフォーカス量で撮影された第1走査透過電子顕微鏡像および第2走査透過電子顕微鏡像を取得する工程と、
前記第1走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第1自己相関関数を算出する工程と、
前記第1自己相関関数の中心を通る直線に沿った第1強度プロファイルを取得する工程と、
前記第1強度プロファイルにおいて、前記第1自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第1基準強度とする工程と、
前記第1自己相関関数において、前記第1基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第1収差関数をフィッティングする工程と、
前記第2走査透過電子顕微鏡像の自己相関関数である第2自己相関関数を算出する工程と、
前記第2自己相関関数の中心を通る直線に沿った第2強度プロファイルを取得する工程と、
前記第2強度プロファイルにおいて、前記第2自己相関関数の中心に最も近い変曲点の位置を求め、当該位置の強度を第2基準強度とする工程と、
前記第2自己相関関数において、前記第2基準強度と等しい強度の位置を結んだ等強度線に第2収差関数をフィッティングする工程と、
前記第1収差関数のフィッティングおよび前記第2収差関数のフィッティングにより得られた収差係数に基づいて、前記電子光学系を制御する工程と、
を含む、収差補正方法。
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