JP6899402B2

JP6899402B2 - 計測装置

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Publication number: JP6899402B2
Application number: JP2018565510A
Authority: JP
Inventors: 祥夫棚橋
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Priority date: 2017-01-31
Filing date: 2018-01-26
Publication date: 2021-07-07
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Description

本発明は、電磁波を用いた計測装置に関する。

従来から、電磁波であるレーザ光を用いたライダ（ＬＩＤＡＲ：ＬａｓｅｒＩｌｌｕｍｉｎａｔｅｄＤｅｔｅｃｔｉｏｎａｎｄＲａｎｇｉｎｇ、ＬａｓｅｒＩｍａｇｉｎｇＤｅｔｅｃｔｉｏｎａｎｄＲａｎｇｉｎｇまたはＬｉＤＡＲ：ＬｉｇｈｔＤｅｔｅｃｔｉｏｎａｎｄＲａｎｇｉｎｇ）などの計測装置が知られている。例えば、特許文献１には、パルス状の測定光を測定対象空間に向けて走査することで、水平方向における周囲３６０度の距離測定を行うことが可能な走査式計測装置が開示されている。

特開２００８−１１１８５５号公報

特許文献１に記載の走査式計測装置によれば、全方位３６０度を対象として対象物の測距が可能となる。一方、車両での障害物検知などの応用では、設置場所等によっては、全方位３６０度の走査範囲を必要とせずに、特定の方位のみを計測対象とする場合がある。この場合、計測対象となる特定の方位において計測精度を向上させることが重要となる。

本発明の解決しようとする課題としては、上記のものが一例として挙げられる。本発明は、特定の範囲における計測精度を好適に向上させることが可能な計測装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、計測装置であって、照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、を備え、前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、前記第２反射部は、前記第１反射部が前記第１電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に前記第２電磁波を反射し、前記第１反射部は、凸面ミラーを前記電磁波の反射面として有し、前記第２反射部は、凹面ミラーを前記電磁波の反射面として有することを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、計測装置であって、照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、を備え、前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、前記第２反射部は、前記第１反射部が前記第１電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に前記第２電磁波を反射し、前記第２反射部は、第１反射面と第２反射面とを有し、前記第１反射面は、前記第２期間において前記照射部により照射された電磁波を前記第２反射面に反射し、前記第２反射面は、前記第１反射面から反射された前記電磁波を、前記第１反射部が前記電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に反射することを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、計測装置であって、照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、を備え、前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、前記１周期内における第１期間及び第２期間を変更するように、前記第１反射部及び前記第２反射部を動かす調整機構をさらに備えることを特徴とする。

実施例に係る計測装置の概略構成を示すブロック図である。光学部材の断面を模式的に示した図である。光学部材を構成する凹面ミラー及び凸面ミラーの立体的構造の一例を示す。光学部材を上方から観察した平面図である。所定角度だけＭＥＭＳミラーの仰俯角を変えた場合の投射光の光路を示した図である。変形例における凹面ミラー及び凸面ミラーの立体的構造の一例を表す図である。変形例に係る光学部材の構成例を示す。変形例に係る光学部材の構成例を示す。変形例に係る光学部材を上方から観察した平面図である。第２実施例に係る計測装置の概略構成を示す。車両の前方を投射光の走査範囲とするように向きが調整された光学部材の断面構造を模式的に示した図である。車両の後方を投射光の走査範囲とするように向きが調整された光学部材の断面構造を模式的に示した図である。第３制御に基づき光学部材を回転させた場合の光学部材の断面構造を模式的に示した図である。

本発明の好適な実施形態では、計測装置は、照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、を備え、前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射される。

上記計測装置は、照射部と、第１反射部と、第２反射部とを備える。照射部は、照射方向を変えながら電磁波を照射する。第１反射部は、１周期内における第１期間に照射された電磁波を反射する。第２反射部は、１周期内における第２期間に照射された電磁波を反射する。ここで、第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射される。この態様によれば、計測装置は、計測範囲を高さ方向に好適に拡大させることができる。

上記計測装置の他の一態様では、前記第２反射部は、前記第１反射部が前記第１電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に前記第２電磁波を反射する。この態様により、計測装置は、特定の範囲において異なる高さに電磁波を照射させ、特定範囲での計測精度を好適に向上させることができる。

上記計測装置の他の一態様では、前記第１反射部は、凸面ミラーを前記電磁波の反射面として有し、前記第２反射部は、凹面ミラーを前記電磁波の反射面として有する。この態様により、計測装置は、第２電磁波が反射される範囲を、第１電磁波が反射される範囲と好適に重ねることができる。

上記計測装置の他の一態様では、前記第２反射部は、第１反射面と第２反射面とを有し、前記第１反射面は、前記第２期間において前記照射部により照射された電磁波を前記第２反射面に反射し、前記第２反射面は、前記第１反射面から反射された前記電磁波を、前記第１反射部が前記電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲に反射する。このように、第２反射部を複数の反射面により構成した場合であっても、特定の範囲において異なる高さに電磁波を照射させ、特定範囲での計測精度を好適に向上させることができる。

上記計測装置の他の一態様では、計測装置は、前記第１反射部と第１屈折面とを有する第１光学部材と、前記第２反射部と第２屈折面とを有する第２光学部材と、をさらに備え、前記第１期間では、前記電磁波は、前記第１反射部に反射される前後において前記第１屈折面を通過し、前記第２期間では、前記電磁波は、前記第２反射部に反射される前後において前記第２屈折面を通過する。この態様によっても、計測装置は、第１及び第２電磁波を異なる仰俯角により射出し、計測範囲を高さ方向に好適に拡大させることができる。

上記計測装置の他の一態様では、前記照射部は、反射面の角度を変えながら光源から射出された電磁波を反射するＭＥＭＳミラーを備える。一般に、大きな有効径とチルト角度を有するＭＥＭＳミラーを実現するのは難しく、ＭＥＭＳミラーの性能のみに頼って高さ方向における走査範囲を拡大するのは困難を伴う。この場合であっても、計測装置は、上述した第１反射部及び第２反射部等を備えることで、第１及び第２電磁波を異なる高さに射出させ、計測範囲を高さ方向に好適に拡大させることができる。

上記計測装置の他の一態様では、計測装置は、前記１周期内における第１期間及び第２期間を変更するように、前記第１反射部及び前記第２反射部を動かす調整機構をさらに備える。これにより、計測装置は、第１電磁波及び第２電磁波が外部において照射される照射範囲を調整機構により好適に調整することが可能となる。

上記計測装置の他の一態様では、計測装置は、前記第１電磁波及び前記第２電磁波が外部に照射される照射範囲を決定する決定部をさらに備え、前記調整機構は、前記決定部が決定した前記照射範囲に前記第１電磁波及び前記第２電磁波が照射されるように、前記第１反射部及び前記第２反射部を動かす。これにより、計測装置は、第１及び第２電磁波が外部に照射される照射範囲を好適に調整することが可能となる。

上記計測装置の他の一態様では、前記決定部は、外部入力に基づき前記照射範囲を決定する、又は、前記計測装置が搭載された移動体の挙動情報若しくは前記移動体周辺の地物に関する地物情報に基づき前記照射範囲を決定する。この態様により、計測装置は、第１及び第２電磁波の外部への照射範囲を状況に応じて好適に定めることができる。

上記計測装置の他の一態様では、前記第１反射部及び前記第２反射部は、前記照射部から前記所定方向に延びる軸を回転軸として回転自在であり、前記調整機構は、前記照射方向の変化に応じて、前記第１反射部及び前記第２反射部を回転させる。この態様により、計測装置は、水平方向における第１及び第２電磁波の外部への照射範囲を好適に拡大することができる。

以下、図面を参照して本発明の好適な第１及び第２実施例について説明する。

＜第１実施例＞
［装置構成］
図１は、第１実施例に係る計測装置１００の概略構成を示す。計測装置１００は、計測対象物１０に対して電磁波である赤外線（例えば、波長９０５ｎｍ）の投射光「Ｌ１」を投射し、その戻り光「Ｌ２」を受光して計測対象物１０までの距離を計測する。計測装置１００は、例えば車両に搭載され、車両の前方、側方又は後方などの特定の方位を計測範囲とするライダである。本実施例では、計測装置１００は、水平方向での投射光Ｌ１の走査範囲（即ち水平視野）を約１８０度に制限することで、垂直方向での投射光Ｌ１の走査範囲（即ち垂直視野）を好適に拡大させる。図示のように、計測装置１００は、光源部１と、制御部２と、受光部３と、ＭＥＭＳミラー４と、光学部材５とを備える。

光源部１は、赤外線の投射光Ｌ１をＭＥＭＳミラー４へ向けて出射する。ＭＥＭＳミラー４は、投射光Ｌ１を反射し、計測装置１００の外部へ射出する。受光部３は、例えばアバランシェフォトダイオード（ＡｖａｌａｎｃｈｅＰｈｏｔｏＤｉｏｄｅ）であり、受光した戻り光Ｌ２の光量に対応する検出信号を生成して制御部２へ送る。なお、「照射」及び「射出」は、共に、光が出力されることを指し、以後では、主に、反射部や対象物などの光が当たる対象の存在を前提とした説明では「照射」、光が当たる対象の存在を特に前提としない（意識しない）説明では「射出」を便宜上用いるものとする。

ＭＥＭＳミラー４は、光源部１から入射する投射光Ｌ１を光学部材５に向けて反射する。また、ＭＥＭＳミラー４は、光学部材５から入射する戻り光Ｌ２を、受光部３へ向けて反射する。ＭＥＭＳミラー４は、例えば静電駆動方式のミラーであり、制御部２の制御により傾き（即ち光走査の角度）が所定の範囲内で変化する。本実施例では、ＭＥＭＳミラー４は、少なくとも水平方向において３６０度の範囲で投射光Ｌ１を反射させる。光源部１及びＭＥＭＳミラー４は、本発明における「照射部」の一例である。

光学部材５は、ＭＥＭＳミラー４から入射する投射光Ｌ１を計測装置１００の外へ向けて反射すると共に、計測対象物１０において反射された戻り光Ｌ２を、ＭＥＭＳミラー４へ向けて反射する。後述するように、光学部材５は、ＭＥＭＳミラー４から全方位３６０度の範囲で射出された投射光Ｌ１を、計測対象の方位において２つの層に分けて反射する構造を有する。光学部材５の構成例については、後述する。

制御部２は、光源部１からの投射光Ｌ１の出射を制御するとともに、受光部３から供給された検出信号を処理して計測対象物１０までの距離を算出する。また、制御部２は、ＭＥＭＳミラー４の傾きに関する制御信号をＭＥＭＳミラー４に送信することで、投射光Ｌ１の照射方向をＭＥＭＳミラー４により除変させる。

［光学部材の構成］
図２（Ａ）、（Ｂ）は、投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２を反射する光学部材５の断面構造を模式的に示した図である。以後において、水平方向を規定する２次元座標軸をＸ軸及びＹ軸、水平方向と垂直な鉛直方向の座標軸をＺ軸とし、計測装置１００の位置を原点として各軸の正方向を図２に示すように定めるものとする。ここでは、ＸＹ平面においてＸ軸正方向を中心とした１８０度の方位が計測装置１００の計測範囲であるものとし、Ｘ軸正方向側を「表側」、Ｘ軸負方向側を「裏側」とも呼ぶ。また、Ｚ軸回りの角度（即ちヨー角）を「方位角」、Ｙ軸回りの角度（即ちピッチ角）を「仰俯角」とも呼ぶ。

図２（Ａ）、（Ｂ）に示すように、光学部材５は、凸面ミラー６Ａと、凹面ミラー６Ｂとを有する。ここで、凸面ミラー６Ａは、ＭＥＭＳミラー４及び凹面ミラー６ＢよりもＸ軸正方向側に存在し、凹面ミラー６Ｂは、ＭＥＭＳミラー４及び凸面ミラー６ＡよりもＸ軸負方向側に存在する。また、凹面ミラー６Ｂは、ＭＥＭＳミラー４に対して凸面ミラー６ＡよりもＺ軸正方向側に離れており、投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２に対する凹面ミラー６Ｂの反射面は、凸面ミラー６Ａの反射面よりも大きい。

図２（Ａ）、（Ｂ）では、図示しない光源部１から射出された投射光Ｌ１がＺ軸正方向からＺ軸負方向に向けてＭＥＭＳミラー４へ入射している。そして、ＭＥＭＳミラー４は、制御部２の制御に基づきＺ軸回りに回転することで、３６０度の方位内でＭＥＭＳミラー４から投射光Ｌ１を射出する方位を徐変させる。

そして、図２（Ａ）に示すように、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いている場合、ＭＥＭＳミラー４から反射された投射光Ｌ１は凸面ミラー６Ａに入射する。この場合、凸面ミラー６Ａは、入射した投射光Ｌ１をＸ軸正方向に向けて反射する。この場合、投射光Ｌ１のＸＹ平面上における方向（即ち方位角）は、凸面ミラー６Ａの反射前後において変化せず、凸面ミラー６Ａの反射により投射光Ｌ１の仰俯角が所定の角度となるように調整される。

また、凸面ミラー６Ａにより反射されて計測装置１００から射出された投射光Ｌ１が計測対象物１０により反射された戻り光Ｌ２は、凸面ミラー６Ａに入射する。この場合、戻り光Ｌ２は、凸面ミラー６ＡによりＭＥＭＳミラー４へ向けて反射され、さらにＭＥＭＳミラー４によってＺ軸正方向に反射される。これにより、戻り光Ｌ２は、図示しない受光部３へ導かれる。

一方、図２（Ｂ）に示すように、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側に向いている場合、ＭＥＭＳミラー４から反射された投射光Ｌ１は凹面ミラー６Ｂに入射する。この場合、凹面ミラー６Ｂは、入射した投射光Ｌ１を、ＸＹ平面において入射方向と約１８０度異なる方位であるＸ軸正方向に向けて反射する。また、凹面ミラー６Ｂにより反射された投射光Ｌ１は、図２（Ａ）に示す凸面ミラー６Ａで反射される投射光Ｌ１と異なる仰俯角により凹面ミラー６Ｂから射出される。具体的には、凹面ミラー６Ｂにより反射された投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ａにより反射された投射光Ｌ１よりも、上方に向けて（即ちＺ軸正方向に対する角度が小さくなるように）射出されている。

また、凹面ミラー６Ｂにより反射されて計測装置１００から射出された投射光Ｌ１が計測対象物１０により反射された戻り光Ｌ２は、凹面ミラー６Ｂに入射する。この場合、戻り光Ｌ２は、凹面ミラー６ＢによりＭＥＭＳミラー４へ反射され、さらにＭＥＭＳミラー４によってＺ軸正方向に反射される。これにより、戻り光Ｌ２は、図示しない受光部３へ導かれる。

このように、投射光Ｌ１が射出される方向は、Ｘ軸正方向を中心とした１８０度分の方位角の範囲となっている。そして、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているとき（図２（Ａ）参照）と、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているとき（図２（Ｂ）参照）とでは、投射光Ｌ１は、異なる高さから、異なる仰俯角により射出される。具体的には、投射光Ｌ１は、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているとき（図２（Ａ）参照）には、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているとき（図２（Ｂ）参照）よりも、低い位置から下方に向けて光学部材５により反射される。

なお、凸面ミラー６Ａは、本発明における「第１反射部」の一例であり、ＭＥＭＳミラー４の回転周期のうち反射面が表側を向く期間は、本発明における「第１期間」の一例である。また、凹面ミラー６Ｂは、本発明における「第２反射部」の一例であり、ＭＥＭＳミラー４の回転周期のうち反射面が裏側を向く期間は、本発明における「第２期間」の一例である。

図３（Ａ）、（Ｂ）は、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂの立体的構造の一例を表す図である。

図３（Ａ）、（Ｂ）の例では、大きさの異なる四半球面状の凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂが配置されている。そして、図３（Ａ）に示すように、凸面ミラー６Ａは、外側表面を反射面とし、ＭＥＭＳミラー４から入射する投射光Ｌ１を計測装置１００の外へ射出させる。この場合、凸面ミラー６Ａは、例えば、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているときにＭＥＭＳミラー４から反射される全ての投射光Ｌ１が入射し、かつ、反射後の投射光Ｌ１の方位角を変えることなく一定の仰俯角となるように、配置及び反射面の大きさ等が予め設計される。さらに、凸面ミラー６Ａは、計測装置１００外から入射する戻り光Ｌ２を、ＭＥＭＳミラー４へ反射する。

また、図３（Ｂ）に示すように、凹面ミラー６Ｂは、球面形状の内側表面を反射面とし、ＭＥＭＳミラー４から入射する投射光Ｌ１を計測装置１００の外へ射出させる。この場合、凹面ミラー６Ｂは、例えば、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているときにＭＥＭＳミラー４から反射される全ての投射光Ｌ１が入射し、かつ、反射後の投射光Ｌ１の方位が１８０度変化して一定の仰俯角により射出されるように、配置及び反射面の大きさ等が予め設計される。さらに、凹面ミラー６Ｂは、計測装置１００外から入射する戻り光Ｌ２を、ＭＥＭＳミラー４へ反射する。

図４は、図３の光学部材５をＺ軸正方向から観察した平面図である。

図４に示すように、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂは、ＸＹ平面視において、それぞれ異なる半径の半円となり、直径をなす辺が互いに向かい合った状態で近接している。そして、ＸＹ平面視において、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂの各半円の中心点付近には、光源部１からＭＥＭＳミラー４へ向かう投射光Ｌ１及びＭＥＭＳミラー４から受光部３へ向かう戻り光Ｌ２が通過するための孔１１が形成されている。

また、図４において、破線矢印８Ａは、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているとき（図２（Ａ）参照）に光学部材５が投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２を反射する領域を示し、破線矢印８Ｂは、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているとき（図２（Ｂ）参照）に光学部材５が投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２を反射する領域を示す。また、実線矢印８Ｃは、光線（即ち投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２）が計測装置１００により送受信される範囲を示す。

図４に示すように、凹面ミラー６Ｂで投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が反射された場合に当該光の進行する方位が１８０度変更されることから、投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が送受信される範囲は、凸面ミラー６Ａが形成される約１８０度分の方位角の範囲となる。即ち、この場合、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているときの投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２の送受信の範囲と、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているときの投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２の送受信の範囲とが重なっている。そして、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側を向いているときと、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側を向いているときとでは、投射光Ｌ１は、異なる高さから、異なる仰俯角により計測装置１００から射出される。これにより、計測装置１００は、計測対象とする方位における垂直視野を好適に拡大することができる。

以上説明したように、本実施例に係る計測装置１００は、照射方向を変えながら投射光Ｌ１を照射するＭＥＭＳミラー４と、１周期内における第１期間に照射された投射光Ｌ１を反射する凸面ミラー６Ａと、１周期内における第２期間に照射された投射光Ｌ１を反射する凹面ミラー６Ｂとを備える。このとき、凸面ミラー６Ａにより反射された投射光Ｌ１と、凹面ミラー６Ｂにより反射された戻り光Ｌ２とは、所定方向（Ｚ軸方向）において異なる高さに夫々照射される。この態様により、計測装置１００は、計測対象とする方位における垂直視野を好適に拡大することができる。

［変形例］
以下、第１実施例に好適な変形例について説明する。以下の変形例は、任意に組み合わせて第１実施例に適用してもよい。

（変形例１）
ＭＥＭＳミラー４は、Ｚ軸回りを回転することで全方位角における投射光Ｌ１の走査を行うのに加えて、所定角度分の高さ方向において投射光Ｌ１の走査を行うように傾きを変えながら回転してもよい。

図５（Ａ）、（Ｂ）は、ＭＥＭＳミラー４を異なる仰俯角となるように傾けたときのそれぞれの場合での投射光Ｌ１の光路を示した図である。ここで、図５（Ａ）、（Ｂ）では、実線位置及び破線位置のＭＥＭＳミラー４は、それぞれ、水平面に対する傾きが最小及び最大となるときのＭＥＭＳミラー４を示す。なお、戻り光Ｌ２については、投射光Ｌ１と同様の光路となるため、図５（Ａ）、（Ｂ）での表示を省略している。

投射光Ｌ１が凸面ミラー６Ａに入射する場合、図５（Ａ）に示すように、水平面に対するＭＥＭＳミラー４の傾きが異なると、ＭＥＭＳミラー４で反射された投射光Ｌ１が入射する凸面ミラー６Ａの位置が異なると共に、凸面ミラー６Ａに反射された後の投射光Ｌ１の仰俯角が「θＡｖ」だけ異なる。同様に、投射光Ｌ１が凹面ミラー６Ｂに入射する場合、図５（Ｂ）に示すように、水平面に対するＭＥＭＳミラー４の傾きが異なると、ＭＥＭＳミラー４で反射された投射光Ｌ１が入射する凹面ミラー６Ｂの位置が異なると共に、凹面ミラー６Ｂに反射された後の投射光Ｌ１の仰俯角が「θＢｖ」だけ異なる。

このように、計測装置１００は、同一の方位角においてＭＥＭＳミラー４の仰俯角を変えて走査することで、凸面ミラー６Ａ、凹面ミラー６Ｂでそれぞれ反射させた投射光Ｌ１の高さ方向における走査範囲を好適に拡大することができる。従って、計測装置１００は、ＭＥＭＳミラー４の仰俯角を変えながら全方位角での投射光Ｌ１の走査を行うことで、計測対象となる方位角における垂直視野を好適に広げることができる。なお、ＭＥＭＳミラー４は、３６０度分の方位角の走査を行う度にＭＥＭＳミラー４の仰俯角を変えることで複数層の走査を行ってもよく、ＭＥＭＳミラー４の方位角及び仰俯角を連続的に変化させることにより、計測装置１００から射出される光の遷移軌跡が螺旋状となるように螺旋走査を行ってもよい。

（変形例２）
凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂの配置は、図３等に示すように、凹面ミラー６Ｂが凸面ミラー６Ａに対してＺ軸正方向側に存在する配置に限定されない。これに代えて、凸面ミラー６Ａは、凹面ミラー６Ｂに対してＺ軸正方向側に配置されていてもよい。

図６（Ａ）、（Ｂ）は、本変形例における凸面ミラー６Ａｘ及び凹面ミラー６Ｂｘの立体的構造の一例を表す図である。図６（Ａ）、（Ｂ）では、凸面ミラー６Ａｘは、凹面ミラー６Ｂｘに対してＺ軸正方向側に配置され、かつ、凹面ミラー６Ｂｘよりも反射面の面積が大きくなっている。

そして、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側に向けられている場合、図６（Ａ）に示すように、ＭＥＭＳミラー４で反射した投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ａｘに入射し、Ｘ軸正方向に向けて凸面ミラー６Ａｘにより反射される。この場合、好適には、投射光Ｌ１が凸面ミラー６Ａｘから射出される方位角は、凸面ミラー６Ａｘの反射前後において変化しない。一方、図示しないＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側に向けられている場合、図６（Ｂ）に示すように、ＭＥＭＳミラー４で反射した投射光Ｌ１は凹面ミラー６Ｂｘに入射し、Ｘ軸正方向に向けて凹面ミラー６Ｂｘにより反射される。この場合、投射光Ｌ１が凹面ミラー６Ｂｘから射出される方位角は、凹面ミラー６Ｂｘでの反射前と約１８０度異なる。これにより、図４での説明と同様、凸面ミラー６Ａｘで反射される投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が送受信される範囲は、凹面ミラー６Ｂｘで反射される投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が送受信される範囲と好適に重なる。また、凸面ミラー６Ａｘで反射される投射光Ｌ１は、凹面ミラー６Ｂｘで反射される投射光Ｌ１と異なる高さであって異なる仰俯角により射出される。

このように、本変形例の構成によっても、計測装置１００は、計測対象とする方位における垂直視野を好適に拡大することができる。

（変形例３）
光学部材５は、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂに加えて、投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が通過する屈折面を有してもよい。

図７は、本変形例に係る光学部材５の構成例を示す。図７の例では、光学部材５は、第１光学部材５１と、第２光学部材５２とを有する。第１光学部材５１は、第１光学部材５１の内部部材に反射面が接する凸面ミラー６Ａと、凸面ミラー６Ａの反射面側に設けられた屈折面６Ｅ、６Ｆを有する。第２光学部材５２は、第２光学部材５２の内部部材に反射面が接する凹面ミラー６Ｂと、凹面ミラー６Ｂの反射面側に設けられた屈折面６Ｃ、６Ｄを有する。なお、図７では、反射面が表側に向けられている状態のＭＥＭＳミラー４を実線、反射面が裏側に向けられている状態のＭＥＭＳミラー４を破線によりそれぞれ示している。また、屈折面６Ｃ〜６Ｆの通過前後において投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２は所定の屈折率により屈折しているものとする。

ＭＥＭＳミラー４が実線に示す状態、即ちＭＥＭＳミラー４の反射面が表側に向けられている状態では、投射光Ｌ１は、ＭＥＭＳミラー４での反射後、第１光学部材５１の屈折面６Ｅを通過し、凸面ミラー６Ａに入射する。そして、凸面ミラー６Ａで反射した投射光Ｌ１は、屈折面６Ｆを通過して計測装置１００の外に射出される。凸面ミラー６Ａで反射された投射光Ｌ１の戻り光である戻り光Ｌ２についても同様に、屈折面Ｆを通過して凸面ミラー６Ａに入射し、再び屈折面６Ｅを通過してＭＥＭＳミラー４へ到達する。

一方、ＭＥＭＳミラー４が破線に示す状態、即ちＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側に向けられている状態では、投射光Ｌ１は、ＭＥＭＳミラー４での反射後、第２光学部材５２の屈折面６Ｃを通過し、凹面ミラー６Ｂに入射する。そして、凹面ミラー６Ｂで反射した投射光Ｌ１は、屈折面６Ｄを通過して計測装置１００の外へ射出される。凹面ミラー６Ｂで反射された投射光Ｌ１の戻り光である戻り光Ｌ２についても同様に、屈折面６Ｄを通過して凹面ミラー６Ｂに入射し、再び屈折面６Ｃを通過してＭＥＭＳミラー４へ到達する。

このように、本変形例の構成によっても、計測装置１００は、凹面ミラー６Ｂで反射された投射光Ｌ１を、凸面ミラー６Ａで反射された投射光Ｌ１と同様にＸ軸正方向に射出させると共に、これらが射出される仰俯角を好適に異ならせることができる。なお、本変形例において、屈折面６Ｅ、６Ｆは、本発明における「第１屈折面」の一例であり、屈折面６Ｃ、６Ｄは、本発明における「第２屈折面」の一例である。

（変形例４）
光学部材５は、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂ以外の反射面をさらに有してもよい。

図８は、本変形例に係る光学部材５の構成例を示す。図８の例では、光学部材５は、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂに加えて、凸面ミラー６Ｇを有する。凸面ミラー６Ｇは、凹面ミラー６ＢよりもＸ軸正方向側に存在し、凹面ミラー６Ｂが反射する投射光Ｌ１の仰俯角を変化させる。なお、図８では、図７と同様に、反射面が表側に向けられている状態のＭＥＭＳミラー４を実線、反射面が裏側に向けられている状態のＭＥＭＳミラー４を破線によりそれぞれ示している。

図８の例では、ＭＥＭＳミラー４の反射面が裏側に向けられている状態では、投射光Ｌ１は、凹面ミラー６Ｂに向けてＭＥＭＳミラー４によって反射された後、凹面ミラー６Ｂによって凸面ミラー６Ｇへ向けて反射される。そして、投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ｇでの反射により、仰俯角が変更される。一方、ＭＥＭＳミラー４の反射面が表側に向けられている状態では、投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ａに向けてＭＥＭＳミラー４によって反射され、凸面ミラー６Ａでの反射により、方位角が不変のまま仰俯角が変更される。

このように、図８の構成によれば、計測装置１００は、凹面ミラー６Ｂによって反射された投射光Ｌ１の仰俯角を凸面ミラー６Ｇにより好適に調整することができる。なお、本変形例では、凹面ミラー６Ｂは、本発明における「第１反射面」の一例であり、凸面ミラー６Ｇは、本発明における「第２反射面」の一例である。

（変形例５）
図２等の構成では、ＭＥＭＳミラー４の水平方向の走査範囲を２分割するように、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂが配置されていた。これに代えて、ＭＥＭＳミラー４の水平方向の走査範囲を３以上の分割数により分割するように、光学部材５が構成されていてもよい。

図９は、変形例における光学部材５をＺ軸正方向から観察した平面図である。図９の構成例では、光学部材５は、凸面ミラー６Ａａと、凸面ミラー６Ａｂと、凹面ミラー６Ｂａと、凹面ミラー６Ｂｂとを備える。凸面ミラー６Ａａと、凸面ミラー６Ａｂと、凹面ミラー６Ｂａと、凹面ミラー６Ｂｂとは、ＸＹ平面視において、異なる大きさの９０度分の扇形となっており、これらの扇形の中心点が投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２が通過する孔１１と重なるように互いに隣接している。また、凸面ミラー６Ａａ、凹面ミラー６Ｂｂ、凸面ミラー６Ａｂ、凹面ミラー６Ｂａの順にＺ軸座標が大きくなる位置（即ちＭＥＭＳミラー４から離れた位置）に配置され、かつ、反射面のサイズが大きくなる。

そして、凸面ミラー６Ａａには、破線矢印８Ａａが示す方位角の範囲に向けてＭＥＭＳミラー４により反射された投射光Ｌ１及びその戻り光である戻り光Ｌ２が照射され、凸面ミラー６Ａｂには、破線矢印８Ａｂが示す方位角の範囲に向けてＭＥＭＳミラー４により反射された投射光Ｌ１及びその戻り光である戻り光Ｌ２が照射される。凹面ミラー６Ｂａには、破線矢印８Ｂａが示す方位角の範囲に向けてＭＥＭＳミラー４により反射された投射光Ｌ１及びその戻り光である戻り光Ｌ２が照射され、凹面ミラー６Ｂｂには、破線矢印８Ｂｂが示す方位角の範囲に向けてＭＥＭＳミラー４により反射された投射光Ｌ１及びその戻り光である戻り光Ｌ２が照射される。

また、実線矢印８Ｃａ、８Ｃｂは、光線（即ち投射光Ｌ１及び戻り光Ｌ２）が計測装置１００により送受信される範囲を示す。ここで、凹面ミラー６Ｂａに照射された投射光Ｌ１は、凹面ミラー６Ｂａにより反射されることにより、方位角が１８０度変化する。その結果、凹面ミラー６Ｂａに照射される投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ａａに照射される投射光Ｌ１と同一方位である実線矢印８Ｃａが示す方位角の範囲に射出される。また、凹面ミラー６Ｂｂに照射される投射光Ｌ１は、凹面ミラー６Ｂｂにより反射されることにより、方位角が１８０度変化する。その結果、凹面ミラー６Ｂｂに照射される投射光Ｌ１は、凸面ミラー６Ａｂに照射した投射光Ｌ１と同一方位である実線矢印８Ｃｂが示す方位角の範囲に射出される。また、凸面ミラー６Ａａと、凸面ミラー６Ａｂと、凹面ミラー６Ｂａと、凹面ミラー６Ｂｂとでそれぞれ反射された投射光Ｌ１は、それぞれ異なる仰俯角により計測装置１００から射出される。

このように、本変形例の構成によっても、計測装置１００は、凹面ミラー６Ｂａ、凹面ミラー６Ｂｂでそれぞれ反射された投射光Ｌ１を、凸面ミラー６Ａａ、凸面ミラー６Ａｂで反射された投射光Ｌ１と同様に表側に射出させると共に、これらが射出される仰俯角を好適に異ならせて垂直視野を広げることができる。

＜第２実施例＞
第２実施例では、光学部材５は所定方向に延びる軸（例えばＺ軸）回りに回転自在に構成され、制御部２は、車両の走行状況等に応じて光学部材５を所定方向に延びる軸（例えばＺ軸）回りに回転させることで、投射光Ｌ１による走査範囲（即ち投射光Ｌ１を外部に照射させる照射範囲）を変化させる。

図１０は、第２実施例に係る計測装置１００Ａの概略構成を示す。計測装置１００Ａは、第１実施例で説明した光源部１、制御部２、受光部３、ＭＥＭＳミラー４、及び光学部材５に加えて、モータ１１、モータ制御部１２、ユーザインタフェース１３、現在位置取得部１４、地図情報取得部１５、及び車両挙動取得部１６を備える。以後では、第１実施例の計測装置１００と同様の構成要素については適宜同一符号を付し、その説明を省略する。

モータ１１は、モータ制御部１２から供給される印加電圧に基づき、Ｚ軸を回転軸として光学部材５を回転させる。モータ１１は、本発明における「調整機構」の一例である。モータ制御部１２は、制御部２から供給される制御信号に基づき、モータ１１の駆動制御を行う。ユーザインタフェース１３は、ユーザが操作するためのボタン、タッチパネル、リモートコントローラ、音声入力装置等であり、種々の入力（外部入力）を受け付け、入力情報を制御部２に供給する。

現在位置取得部１４は、車両の現在位置を示す位置情報を取得する。現在位置取得部１４は、図示しないジャイロセンサなどの自立測位装置又は／及びＧＰＳ受信機等の出力に基づき位置情報を生成してもよく、他の装置が推定した車両の位置情報を受信してもよい。また、現在位置取得部１４が取得する位置情報は、制御部２が算出した計測対象物１０までの距離等の情報に基づき高精度に推定された位置情報であってもよい。

地図情報取得部１５は、図示しない記憶部に記憶された地図情報から車両の現在位置周辺の地図情報を取得する。地図情報取得部１５が取得する地図情報には、例えば、車両の現在位置周辺の地物情報や道路情報などが含まれている。

車両挙動取得部１６は、車両の挙動に関する情報である挙動情報を取得する。例えば、車両挙動取得部１６は、挙動情報として、車速情報、ウィンカ情報、トランスミッション（ギア）の情報などをＣＡＮ（ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｒＡｒｅａＮｅｔｗｏｒｋ）などの通信プロトコルにより車両等から取得する。

なお、制御部２、モータ制御部１２、現在位置取得部１４、地図情報取得部１５、及び車両挙動取得部１６は、ＣＰＵ等により構成されてもよい。また、現在位置取得部１４、地図情報取得部１５、及び車両挙動取得部１６は、外部装置から情報を受信する通信モジュール等により構成されてもよい。

次に、制御部２による光学部材５の回転制御の具体例（第１〜第３制御例）について順に説明する。

第１制御例では、制御部２は、ユーザインタフェース１３から供給される入力情報に基づき、モータ１１を駆動させることで光学部材５を回転させる。この場合、制御部２は、ユーザのマニュアル操作に基づき、投射光Ｌ１による走査範囲を調整する。

図１１（Ａ）、（Ｂ）は、車両の前方を投射光Ｌ１の走査範囲とするように向きが調整された光学部材５の断面構造を模式的に示した図である。図１１（Ａ）、（Ｂ）では、ＭＥＭＳミラー４がいずれの方向に向けられた場合であっても凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂにより投射光Ｌ１を車両の前方（ここではＸ軸正方向）へ射出するように光学部材５の向きが調整されている。図１２（Ａ）、（Ｂ）は、車両の後方を投射光Ｌ１の走査範囲とするように向きが調整された光学部材５の断面構造を模式的に示した図である。図１２（Ａ）、（Ｂ）では、ＭＥＭＳミラー４がいずれの方向に向けられた場合であっても凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂにより投射光Ｌ１を車両の後方（ここではＸ軸負方向）へ射出するように光学部材５の向きが調整されている。

そして、ユーザは、例えば、車両前方の情報が他の方向よりも重要な状況下では、光学部材５を図１１（Ａ）、（Ｂ）に示される向きとする入力操作を行い、車両後方の情報が他の方向よりも重要な状況下では、光学部材５を図１２（Ａ）、（Ｂ）に示される向きとする入力操作を行う。この場合、ユーザインタフェース１３は、光学部材５を図１１（Ａ）、（Ｂ）に示される向き又は図１２（Ａ）、（Ｂ）に示される向きのいずれかを選択するためのスイッチ、ボタン等であってもよい。そして、制御部２は、ユーザインタフェース１３から供給される入力情報に基づき、現在と異なる向きに光学部材５を向ける必要があると判断した場合、光学部材５を１８０度回転させるようにモータ１１を駆動させる。

このように、第１制御によれば、制御部２は、垂直視野を広げて走査を行う範囲をユーザ操作に基づき定め、検出すべき物体に対する検出精度を好適に向上させることができる。

第２制御では、制御部２は、地図情報取得部１５から取得する地図情報又は／及び車両挙動取得部１６から供給される挙動情報等に基づき、投射光Ｌ１による走査が相対的に必要な方向を認識し、当該方向に投射光Ｌ１が射出されるように光学部材５の向きを自動制御する。

例えば、制御部２は、現在位置取得部１４から現在位置情報を取得し、現在位置周辺の地物の位置等に関する地物情報を地図情報取得部１５から取得する。そして、制御部２は、現在位置に対して地物が明らかに存在しない方向を検知した場合には、当該方向が投射光Ｌ１による走査範囲に含まれないように光学部材５の向きを調整する。他の例では、制御部２は、挙動情報に基づき、車両が進行中の方向（即ち前方か後方か）を認識し、認識した車両の進行中の方向が投射光Ｌ１による走査範囲に含まれるように光学部材５の向きを調整する。さらに別の例では、制御部２は、挙動情報としてウィンカ情報を取得した場合、車両が車線変更すると予測し、車両の後方が投射光Ｌ１による走査範囲に含まれるように光学部材５の向きを調整する。

このように、第２制御によれば、制御部２は、垂直視野を広げて走査を行う範囲を状況に応じて適切に定めることで、検出すべき物体に対する検出精度等を向上させることができる。なお、第１及び第２制御において、制御部２は、本発明における「決定部」の一例である。

第３制御では、制御部２は、ＭＥＭＳミラー４の角度に応じて光学部材５を回転（即ち連続的に向きを変化）させることで、投射光Ｌ１を全方位に射出させる。

図１３（Ａ）、（Ｂ）は、第３制御に基づき光学部材５を回転させた場合の光学部材５の断面構造を模式的に示した図である。図１３（Ａ）、（Ｂ）の例では、ＭＥＭＳミラー４の向きの変化に応じて光学部材５を回転させることで、ＭＥＭＳミラー４がＸ軸正方向を向いている（即ち法線ベクトルのＸ座標が正値である）場合（図１３（Ａ）参照）及びＭＥＭＳミラー４がＸ軸負方向を向いている場合（図１３（Ｂ）参照）のいずれの場合であっても、凸面ミラー６Ａにより投射光Ｌ１が反射されている。この場合、投射光Ｌ１による走査範囲はＸ軸正方向に限らずＸ軸負方向も含むことになる。

なお、光学部材５の回転周期は、ＭＥＭＳミラー４による走査周期の２倍以内であることが好ましい。言い換えると、ＭＥＭＳミラー４による走査速度は、光学部材５の回転速度の２倍以内であることが好ましい。ここで、凸面ミラー６Ａ及び凹面ミラー６Ｂは、図４に示すように、ＸＹ平面視においてそれぞれ半円（即ち中心角１８０度の扇形）となっている。よって、この場合、ＭＥＭＳミラー４が３６０度の全方位に投射光Ｌ１を走査する間に凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂのいずれかに常に投射光Ｌ１が照射される。言い換えると、この場合、投射光Ｌ１が凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂの一方に照射されてから凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂの他方に投射光Ｌ１が照射されるまでの期間がＭＥＭＳミラー４による１回の走査周期よりも長くなるため、この期間に３６０度の全方位に投射光Ｌ１が好適に射出されることになる。一方、光学部材５の回転周期がＭＥＭＳミラー４による走査周期の２倍より長い場合には、投射光Ｌ１が凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂの一方に照射されてから、ＭＥＭＳミラー４が３６０度の全方位に投射光Ｌ１を走査し終える前に、凸面ミラー６Ａ又は凹面ミラー６Ｂの他方に投射光Ｌ１が照射され（即ち投射光Ｌ１が照射される光学部材５の光学面が変わり）、投射光Ｌ１の射出方向が１８０度変化する。よって、この場合、３６０度の全方位に投射光Ｌ１を走査することができない。

好適には、制御部２は、車両又は車両周辺の状況に応じて、投射光Ｌ１を全方位に射出させる第３制御の実行の有無を切り替えるとよい。言い換えると、制御部２は、全方位の情報が必要な状況では第３制御を実行し、全方位の情報が必要でない（所定の方向だけ走査すれば十分である）状況では第３制御を実行しない。

ここで、全方位の情報が必要な状況とは、例えば、周辺に他車両が存在する場合、複数の地物等が１８０度の走査範囲では走査できない位置に点在する場合、又は交差点付近を車両が走行中の場合などが該当する。また、全方位の情報が必要ない状況とは、例えば、周辺に他車両が存在しない場合、所定の方向にしか地物等が存在しない（即ち１８０度の走査範囲で走査できる位置に地物等が存在する）場合、又は進行方向だけ走査すればよい通常走行時である場合などが該当する。

そして、制御部２は、例えば、現在位置取得部１４が出力する車両の現在位置情報と、地図情報取得部１５が出力する地図情報（ここでは車両周辺の地物の位置等に関する地物情報）とに基づいて、全方位の情報が必要な状況であるか否かを判定する。なお、制御部２は、車両周辺の他車両の存在の有無を、例えば、車車間通信やカメラなどのセンサなどから検出する。そして、制御部２は、全方位の情報が必要な状況であると判断した場合に、投射光Ｌ１を全方位に射出させる第３制御を実行し、全方位の情報が必要な状況でないと判断した場合には、第３制御を実行しない。これにより、制御部２は、全方位の情報が必要な状況では全方位の情報を好適に取得し、全方位の情報が必要でない状況では、計測対象とする特定方位において垂直視野を好適に拡大することができる。

なお、第１実施例の変形例１〜変形例５は、第２実施例に対しても好適に適用される。

１光源部
２制御部
３受光部
４ＭＥＭＳミラー
５光学部材
１０計測対象物
１１モータ
１２モータ制御部
１３ユーザインタフェース
１４現在位置取得部
１５地図情報取得部
１６車両挙動取得部
１００、１００Ａ計測装置

Claims

照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、
１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、
前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、
を備え、
前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、
前記第２反射部は、前記第１反射部が前記第１電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に前記第２電磁波を反射し、
前記第１反射部は、凸面ミラーを前記電磁波の反射面として有し、前記第２反射部は、凹面ミラーを前記電磁波の反射面として有する、計測装置。
照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、
１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、
前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、
を備え、
前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、
前記第２反射部は、前記第１反射部が前記第１電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に前記第２電磁波を反射し、
前記第２反射部は、第１反射面と第２反射面とを有し、
前記第１反射面は、前記第２期間において前記照射部により照射された電磁波を前記第２反射面に反射し、
前記第２反射面は、前記第１反射面から反射された前記電磁波を、前記第１反射部が前記電磁波を反射可能な方向からなる第１範囲と少なくとも一部が重なる第２範囲内に反射する、計測装置。
照射方向を変えながら電磁波を照射する照射部と、
１周期内における第１期間に照射された前記電磁波を反射する第１反射部と、
前記１周期内における第２期間に照射された前記電磁波を反射する第２反射部と、
を備え、
前記第１反射部によって反射された第１電磁波と、前記第２反射部によって反射された第２電磁波とは、所定方向において異なる高さに夫々照射され、
前記１周期内における第１期間及び第２期間を変更するように、前記第１反射部及び前記第２反射部を動かす調整機構をさらに備える、計測装置。
前記第１反射部と第１屈折面とを有する第１光学部材と、
前記第２反射部と第２屈折面とを有する第２光学部材と、をさらに備え、
前記第１期間では、前記電磁波は、前記第１反射部に反射される前後において前記第１屈折面を通過し、前記第２期間では、前記電磁波は、前記第２反射部に反射される前後において前記第２屈折面を通過する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の計測装置。
前記照射部は、反射面の角度を変えながら光源から射出された電磁波を反射するＭＥＭＳミラーを備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の計測装置。
前記第１電磁波及び前記第２電磁波が外部に照射される照射範囲を決定する決定部をさらに備え、
前記調整機構は、前記決定部が決定した前記照射範囲に前記第１電磁波及び前記第２電磁波が照射されるように、前記第１反射部及び前記第２反射部を動かす、請求項３に記載の計測装置。
前記決定部は、外部入力に基づき前記照射範囲を決定する、又は、前記計測装置が搭載された移動体の挙動情報若しくは前記移動体周辺の地物に関する地物情報に基づき前記照射範囲を決定する、請求項６に記載の計測装置。
前記第１反射部及び前記第２反射部は、前記照射部から前記所定方向に延びる軸を回転軸として回転自在であり、
前記調整機構は、前記照射方向の変化に応じて、前記第１反射部及び前記第２反射部を回転させる、請求項３に記載の計測装置。