JP6880499B2 - 表示装置形成用基板の製造方法および表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1の実施の形態について、図1乃至図8を参照して説明する。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、以下の各図に示されている構成には、図示と理解のしやすさの便宜上、サイズ及び縮尺等が実物のそれらから変更されている部分が含まれうる。なお、本明細書中、「表面」とは、以下の各図において上方を向く面のことをいう。
まず、図1により、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法によって製造される表示装置形成用基板の概略について説明する。図1は、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法によって製造された表示装置形成用基板を示す断面図である。
次に、図2により、本実施の形態による表示装置の製造方法によって製造される表示装置の概略について説明する。図2は、本実施の形態による表示装置の製造方法によって製造された表示装置を示す断面図である。この表示装置は、上述した表示装置形成用基板10上に、後述する有機EL素子24等を複数配置し、個々の有機EL素子24毎に切断して個片化することにより形成されたものである。
次に、図3(a)−(e)により、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法について説明する。図3(a)−(e)は、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法を示す断面図である。
次に、図4(a)−(d)及び図5(a)−(c)により、本実施の形態による表示装置の製造方法について説明する。図4(a)−(d)及び図5(a)−(c)は、本実施の形態による表示装置の製造方法を示す断面図である。
次に、本実施の形態の変形例について説明する。図6(a)−(b)は、表示装置形成用基板の製造方法の変形例を示す断面図である。図6(a)−(b)に示す表示装置形成用基板10の製造方法において、微細凹凸層12上の凹凸構造形成膜13を除去する工程が設けられているものであり、他の構成は、上述した図3(a)−(e)に示す構成と同様である。また、図7(a)−(d)及び図8(a)−(c)は、表示装置の製造方法の変形例を示す断面図である。図7(a)−(d)及び図8(a)−(c)に示す表示装置20の製造方法において、凹凸構造形成膜13を介することなく、微細凹凸層12上に第1電極26を配置するものであり、他の構成は、上述した図4(a)−(d)及び図5(a)−(c)に示す構成と略同様である。図6(a)−(b)、図7(a)−(d)及び図8(a)−(c)において、図1乃至図5に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図6(a)−(b)に示す表示装置形成用基板10の製造方法において、まず、図3(a)−(e)と同様に、表示装置形成用基板10を作製する(図6(a))。次に、微細凹凸層12を形成した後(図3(e)参照)、微細凹凸層12から凹凸構造形成膜13を除去する(図6(b))。この場合、例えば、酸化性液体によるウェットエッチング法により、微細凹凸層12から凹凸構造形成膜13を除去する。除去法としては塩化鉄、シュウ酸、臭化水素酸などの酸でウェットエッチングする方法と、四フッ化炭素(CF4)やトリフルオロメタン(CHF3)などの反応性ガスで気相エッチングする方法がある。
図7(a)−(d)及び図8(a)−(c)に示す表示装置20の製造方法において、 まず、例えば図3(a)−(e)及び図6(a)−(b)に示す方法により、表示装置形成用基板10を作製する(図7(a))。
次に、図9(a)−(b)を参照して本発明の第2の実施の形態について説明する。図9(a)−(b)は本発明の第2の実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法を示す図である。図9(a)−(b)において、第1の実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。また、図9(a)−(b)に示されている構成には、図示と理解のしやすさの便宜上、サイズ及び縮尺等が実物のそれらから変更されている部分が含まれうる。
次に、図9(a)−(b)により、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法について説明する。図9(a)−(b)は、本実施の形態による表示装置形成用基板の製造方法を示す断面図である。
11 耐熱基材
12 微細凹凸層
12a 表面
12b 凹凸構造
13 凹凸構造形成膜
14 有機層
14a 有機材料
20 表示装置
23 薄膜トランジスタ
24 有機EL素子
25 封止材料
26 第1電極
26a 表面
26b 凹凸構造
27 有機発光層
28 第2電極
Claims (7)
- 表示装置を形成するための表示装置形成用基板の製造方法であって、
耐熱基材を準備する工程と、
前記耐熱基材上に有機材料を塗布し、有機層を形成する工程と、
前記有機層をパターニングする工程と、
パターニングされた前記有機層上に凹凸構造形成膜を成膜し、当該成膜時に前記凹凸構造形成膜に発生する収縮力により、前記有機層を収縮させ、表面に凹凸構造が設けられた微細凹凸層を形成する工程と、
前記微細凹凸層の表面に設けられた前記凹凸構造形成膜を除去する工程とを備えたことを特徴とする表示装置形成用基板の製造方法。 - 前記有機層を形成する工程において、前記有機材料を減圧乾燥することを特徴とする請求項1に記載の表示装置形成用基板の製造方法。
- 前記有機層を形成する工程において、前記有機材料を減圧乾燥した後に、前記有機材料を焼成することを特徴とする請求項2に記載の表示装置形成用基板の製造方法。
- 前記凹凸構造形成膜は、スパッタリング法により成膜されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板の製造方法。
- 前記凹凸構造形成膜は、インジウム錫酸化物または二酸化ケイ素からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板の製造方法。
- 表示装置の製造方法であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の表示装置形成用基板の製造方法によって製造された表示装置形成用基板を準備する工程と、
前記耐熱基材上に薄膜トランジスタを配置する工程と、
前記微細凹凸層上に、前記薄膜トランジスタに電気的に接続される有機EL素子を配置する工程と、
前記有機EL素子を封止材料によって封止する工程とを備え、
前記有機EL素子は、前記微細凹凸層上に配置された第1電極と、前記第1電極上に配置された有機発光層と、前記有機発光層上に配置された第2電極とを有し、
前記有機EL素子を配置する工程において、前記第1電極の表面は、前記微細凹凸層の凹凸構造の凹凸形状に対応する凹凸形状に形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第1電極は、スパッタリング法により形成されることを特徴とする請求項6に記載の表示装置の製造方法。
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