JP6879828B2 - リチウム塩錯化合物及びリチウム二次電池用添加剤 - Google Patents
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Description
本開示は、リチウム塩錯化合物及びリチウム二次電池用添加剤に関する。
リチウム塩化合物は従来、反応試剤、合成反応触媒、各種電気化学デバイス用電解質、ドーピング剤、潤滑油の添加剤などの用途で有用に使用されてきていた。このリチウム塩化合物は熱的な安定性や水に対する安定性に乏しいものが多いことから、リチウム塩化合物を錯化可能な化合物と処理することにより安定性を向上させた錯化合物が開発されてきている。
リチウム塩錯化合物の具体的な例としては、これまでに、ヘキサフルオロヒ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウムとアセトニトリルとの錯化合物（特許文献１参照）、ハロゲン化リチウムやテトラフルオロホウ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウム等のリチウム塩とＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミン等の化合物との錯化合物（特許文献２参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとクラウンエーテルとの錯化合物（特許文献３参照）、ヘキサフルオロヒ酸リチウムやヘキサフルオロリン酸リチウムと２−メチルテトラヒドロフランとの錯化合物（特許文献４参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとピリジンとの錯化合物（特許文献５参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムとジエチルカーボネートやエチレンカーボネートとの錯化合物（特許文献６参照）、ヘキサフルオロリン酸リチウムと１，４−ジオキサンとの錯化合物（特許文献７参照）等が開示されている。
本開示の課題は、新規なリチウム塩錯化合物を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、並びに、アリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
リン原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である第１リチウム塩と、
リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である第２リチウム塩と、
下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である化合物Ｘと、
からなるリチウム塩錯化合物（但し、前記第１リチウム塩と前記第２リチウム塩とが同一の化合物である場合を除く）。
＜１＞ ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、並びに、アリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
リン原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する前記置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である第１リチウム塩と、
リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である第２リチウム塩と、
下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である化合物Ｘと、
からなるリチウム塩錯化合物（但し、前記第１リチウム塩と前記第２リチウム塩とが同一の化合物である場合を除く）。
〔式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表し、
Ｒ２は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（II）中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表し、
Ｒ５は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（III）中、Ｒ６は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（IV）中、Ｒ７は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（Ｖ）中、Ｒ８は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。〕
Ｒ２は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（II）中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表し、
Ｒ５は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（III）中、Ｒ６は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（IV）中、Ｒ７は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（Ｖ）中、Ｒ８は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。〕
＜２＞ 前記第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、及びリチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミドからなる群から選択される１種であり、
前記第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
前記化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及び２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドからなる群から選択される１種である＜１＞に記載のリチウム塩錯化合物。
前記第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
前記化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及び２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドからなる群から選択される１種である＜１＞に記載のリチウム塩錯化合物。
＜３＞ 前記第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、及びメチル硫酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
前記第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
前記化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、及び１，３−ジオキソランからなる群から選択される１種である＜１＞又は＜２＞に記載のリチウム塩錯化合物。
前記第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
前記化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、及び１，３−ジオキソランからなる群から選択される１種である＜１＞又は＜２＞に記載のリチウム塩錯化合物。
＜４＞ ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物、
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、又は、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物である
＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物。
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、又は、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物である
＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物。
＜５＞ ＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のリチウム塩錯化合物を含むリチウム二次電池用添加剤。
本開示によれば、新規なリチウム塩錯化合物が提供される。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
〔リチウム塩錯化合物〕
本開示のリチウム塩錯化合物は、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
リン原子に直接結合する置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である第１リチウム塩と、
リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である第２リチウム塩と、
下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である化合物Ｘと、
からなる新規なリチウム塩錯化合物（但し、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物である場合を除く）である。
式（Ｉ）〜式（Ｖ）中の符号の意味については後述する。
本開示のリチウム塩錯化合物は、
ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を置換基Ｌとした場合に、
リン原子に直接結合する置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である第１リチウム塩と、
リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である第２リチウム塩と、
下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である化合物Ｘと、
からなる新規なリチウム塩錯化合物（但し、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物である場合を除く）である。
式（Ｉ）〜式（Ｖ）中の符号の意味については後述する。
本開示のリチウム塩錯化合物において、第２リチウム塩は、第１リチウム塩の範囲に含まれる。より詳細には、リン酸リチウム塩Ａ２はリン酸リチウム塩Ａ１の範囲に含まれ、ホウ酸リチウム塩Ｂ２はホウ酸リチウム塩Ｂ１の範囲に含まれ、スルホン酸リチウム塩Ｃ２はスルホン酸リチウム塩Ｃ１の範囲に含まれる。
但し、前述のとおり、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物であるリチウム塩錯化合物（例えば、第１リチウム塩としてのジフルオロリン酸リチウムと、第２リチウム塩としてのジフルオロリン酸リチウムと、化合物Ｘと、の組み合わせであるリチウム塩錯化合物、等）は、本開示のリチウム塩錯化合物の範囲から除かれる。
但し、前述のとおり、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物であるリチウム塩錯化合物（例えば、第１リチウム塩としてのジフルオロリン酸リチウムと、第２リチウム塩としてのジフルオロリン酸リチウムと、化合物Ｘと、の組み合わせであるリチウム塩錯化合物、等）は、本開示のリチウム塩錯化合物の範囲から除かれる。
本開示のリチウム塩錯化合物は、このリチウム塩錯化合物を形成するための原料化合物（即ち、第１リチウム塩、第２リチウム塩、及び化合物Ｘ）の各々の単独では認められない温度において、吸熱熱解離挙動が観測される。この点で、本開示のリチウム塩錯化合物は、第１リチウム塩、第２リチウム塩、及び化合物Ｘの単なる混合物と区別される。
また、上記の点で、本開示のリチウム塩錯化合物は、熱的安定性に優れた化合物である。
また、上記の点で、本開示のリチウム塩錯化合物は、熱的安定性に優れた化合物である。
次に、本開示のリチウム塩錯化合物における、第１リチウム塩、第２リチウム塩、及び化合物Ｘについて説明する。
＜第１リチウム塩＞
第１リチウム塩は、リン原子に直接結合する置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である。
第１リチウム塩は、リン原子に直接結合する置換基Ｌを有するリン酸リチウム塩Ａ１、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有するホウ酸リチウム塩Ｂ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホン酸リチウム塩Ｃ１、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する硫酸リチウム塩Ｄ１、及び硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有するスルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１からなる群から選択される１種である。
置換基Ｌは、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基、オキサラト基、及びアリール基からなる群から選択される少なくとも１種である。
置換基Ｌは１種であっても２種以上であってもよい。置換基Ｌが２種以上の場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
置換基Ｌは１種であっても２種以上であってもよい。置換基Ｌが２種以上の場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基とは、無置換のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を意味する。
ハロゲン化アルキル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキル基を意味する。
無置換のアルキル基及びハロゲン化アルキル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキル基としては、例えば無置換の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などが挙げられる。
無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又はイソプロピル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
ハロゲン化アルキル基としては、例えば炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が挙げられ、具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソブチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモプロピル基、ヨウ化メチル基、ヨウ化エチル基、ヨウ化プロピル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のフルオロアルキル基が好ましく、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、又はパーフルオロヘキシル基がより好ましい。
ハロゲン化アルキル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキル基を意味する。
無置換のアルキル基及びハロゲン化アルキル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキル基としては、例えば無置換の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などが挙げられる。
無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又はイソプロピル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
ハロゲン化アルキル基としては、例えば炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が挙げられ、具体的には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロイソブチル基、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモプロピル基、ヨウ化メチル基、ヨウ化エチル基、ヨウ化プロピル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のフルオロアルキル基が好ましく、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、又はパーフルオロヘキシル基がより好ましい。
ハロゲン原子で置換されていてもよいアルコキシ基とは、無置換のアルコキシ基又はハロゲン化アルコキシ基を意味する。
ハロゲン化アルコキシ基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルコキシ基を意味する。
無置換のアルコキシ基及びハロゲン化アルコキシ基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルコキシ基としては、例えば無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基などが挙げられる。
無置換のアルコキシ基としては、エトキシ基又はメトキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ハロゲン化アルコキシ基としては、前述の無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン化アルコキシ基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルコキシ基を意味する。
無置換のアルコキシ基及びハロゲン化アルコキシ基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルコキシ基としては、例えば無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１−エチルプロポキシ基、ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基などが挙げられる。
無置換のアルコキシ基としては、エトキシ基又はメトキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ハロゲン化アルコキシ基としては、前述の無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基とは、無置換のアルケニル基又はハロゲン化アルケニル基を意味する。
ハロゲン化アルケニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルケニル基を意味する。
無置換のアルケニル基及びハロゲン化アルケニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルケニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基（２−プロペニル基）、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、ヘキセニル基などが挙げられる。
無置換のアルケニル基としては、ビニル基又はアリル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
ハロゲン化アルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン化アルケニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルケニル基を意味する。
無置換のアルケニル基及びハロゲン化アルケニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルケニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基（２−プロペニル基）、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、ヘキセニル基などが挙げられる。
無置換のアルケニル基としては、ビニル基又はアリル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
ハロゲン化アルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基とは、無置換のアルキニル基又はハロゲン化アルキニル基を意味する。
ハロゲン化アルキニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキニル基を意味する。
無置換のアルキニル基及びハロゲン化アルキニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的には、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基と同義）、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１−ヘキシニル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキニル基としては、前述の無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン化アルキニル基とは、少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されたアルキニル基を意味する。
無置換のアルキニル基及びハロゲン化アルキニル基は、それぞれ直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
無置換のアルキニル基としては、例えば無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的には、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基と同義）、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル基、１−ヘキシニル基などが挙げられる。
ハロゲン化アルキニル基としては、前述の無置換の炭素数２〜６のアルキニル基が少なくとも１個のハロゲン原子によって置換されている構造の基が挙げられる。
ハロゲン原子及びアルキル基の少なくとも一方で置換されていてもよい環状エステル基とは、無置換の環状エステル基、又は、無置換の環状エステル基が、ハロゲン原子及びアルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されている構造の基を意味する。
無置換の環状エステル基としては、例えばラクトンから水素原子が１つ解離した基が挙げられる。ラクトンとしては、例えば、α−アセトラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトンが挙げられる。
環状エステル基に対する置換基としてのハロゲン原子は、前述の置換基Ｌとしてのハロゲン原子と同義である。
環状エステル基に対する置換基としてのアルキル基としては、前述の置換基Ｌとしての無置換の炭素数１〜６のアルキル基と同様のものが挙げられる。
無置換の環状エステル基としては、例えばラクトンから水素原子が１つ解離した基が挙げられる。ラクトンとしては、例えば、α−アセトラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトンが挙げられる。
環状エステル基に対する置換基としてのハロゲン原子は、前述の置換基Ｌとしてのハロゲン原子と同義である。
環状エステル基に対する置換基としてのアルキル基としては、前述の置換基Ｌとしての無置換の炭素数１〜６のアルキル基と同様のものが挙げられる。
オキサラト基は、下記式（ａ）で表される基である。＊は結合位置を表す。
置換基Ｌにおけるアリール基の概念には、無置換のアリール基と置換されたアリール基とのいずれもが包含される。
置換基Ｌにおけるアリール基としては、例えば、炭素数６〜２０の無置換のアリール基、炭素数７〜２０の置換されたアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基；アルキルベンゼンから水素原子が１個外れた基（例えば、ベンジル基、トリル基、キシリル基、メチシル基等）；ナフチル基；ナフタレンのアルキル基置換体から水素原子が１個外れた基；等が挙げられる。
置換されたアリール基における置換基としては特に限定されず、例えば、前述のハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、無置換のアルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、無置換のアルキニル基、ハロゲン化アルキニル基などが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基が好ましい。
置換基Ｌにおけるアリール基としては、例えば、炭素数６〜２０の無置換のアリール基、炭素数７〜２０の置換されたアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基；アルキルベンゼンから水素原子が１個外れた基（例えば、ベンジル基、トリル基、キシリル基、メチシル基等）；ナフチル基；ナフタレンのアルキル基置換体から水素原子が１個外れた基；等が挙げられる。
置換されたアリール基における置換基としては特に限定されず、例えば、前述のハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、無置換のアルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、無置換のアルキニル基、ハロゲン化アルキニル基などが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基が好ましい。
（リン酸リチウム塩Ａ１）
リン酸リチウム塩Ａ１は、リン原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
リン酸リチウム塩Ａ１において、リン原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、フェノキシ基、又はオキサラト基が好ましい。
リン酸リチウム塩Ａ１は、リン原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
リン酸リチウム塩Ａ１において、リン原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、フェノキシ基、又はオキサラト基が好ましい。
リン酸リチウム塩Ａ１としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ジフルオロリン酸リチウム、リン酸ジメチルリチウム、リン酸ジエチルリチウム、リン酸ジイソプロピルリチウム、リン酸ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）リチウム、リン酸ビス（ペンタフルオロエチル）リチウム、リン酸ジフェニルリチウム、テトラフルオロオキサラトリン酸リチウム、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウム、トリス（オキサラト）リン酸リチウムなどが挙げられる。
リン酸リチウム塩Ａ１としては、ジフルオロリン酸リチウム又はヘキサフルオロリン酸リチウムが好ましい。
リン酸リチウム塩Ａ１としては、ジフルオロリン酸リチウム又はヘキサフルオロリン酸リチウムが好ましい。
（ホウ酸リチウム塩Ｂ１）
ホウ酸リチウム塩Ｂ１は、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１において、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子又はオキサラト基が好ましい。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１は、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１において、ホウ素原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子又はオキサラト基が好ましい。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１としては、例えば、テトラフルオロホウ酸リチウム、ジフルオロオキサラトホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムなどが挙げられる。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１としては、テトラフルオロホウ酸リチウム又はビス（オキサラト）ホウ酸リチウムが好ましく、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムがより好ましい。
ホウ酸リチウム塩Ｂ１としては、テトラフルオロホウ酸リチウム又はビス（オキサラト）ホウ酸リチウムが好ましく、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムがより好ましい。
（スルホン酸リチウム塩Ｃ１）
スルホン酸リチウム塩Ｃ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ビニル基、アリル基、又はフェニル基が好ましい。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ビニル基、アリル基、又はフェニル基が好ましい。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１としては、例えば、フルオロスルホン酸リチウム、メタンスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビニルスルホン酸リチウム、アリルスルホン酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウムなどが挙げられる。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１としては、フルオロスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、又はベンゼンスルホン酸リチウムが好ましい。
スルホン酸リチウム塩Ｃ１としては、フルオロスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、又はベンゼンスルホン酸リチウムが好ましい。
（硫酸リチウム塩Ｄ１）
硫酸リチウム塩Ｄ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
硫酸リチウム塩Ｄ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基がより好ましく、メチル基又はドデシル基が更に好ましい。
硫酸リチウム塩Ｄ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
硫酸リチウム塩Ｄ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基がより好ましく、メチル基又はドデシル基が更に好ましい。
硫酸リチウム塩Ｄ１としては、例えば、メチル硫酸リチウム、ドデシル硫酸リチウムなどが挙げられる。
硫酸リチウム塩Ｄ１としては、メチル硫酸リチウムが好ましい。
硫酸リチウム塩Ｄ１としては、メチル硫酸リチウムが好ましい。
（スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１）
スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基が好ましい。
スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１は、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌを有する。
スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１において、硫黄原子に直接結合する置換基Ｌとしては、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基が好ましい。
スルホニルイミド酸リチウム塩Ｅ１としては、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、リチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミド等が挙げられる。
＜第２リチウム塩＞
第２リチウム塩は、リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である。
前述のとおり、リン酸リチウム塩Ａ２はリン酸リチウム塩Ａ１の範囲に含まれ、ホウ酸リチウム塩Ｂ２はホウ酸リチウム塩Ｂ１の範囲に含まれ、スルホン酸リチウム塩Ｃ２はスルホン酸リチウム塩Ｃ１の範囲に含まれる。
但し、前述のとおり、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物である組み合わせは、本開示のリチウム塩錯化合物の範囲から除かれる。
第２リチウム塩は、リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩Ａ２、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩Ｂ２、及び硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩Ｃ２からなる群から選択される１種である。
前述のとおり、リン酸リチウム塩Ａ２はリン酸リチウム塩Ａ１の範囲に含まれ、ホウ酸リチウム塩Ｂ２はホウ酸リチウム塩Ｂ１の範囲に含まれ、スルホン酸リチウム塩Ｃ２はスルホン酸リチウム塩Ｃ１の範囲に含まれる。
但し、前述のとおり、第１リチウム塩と第２リチウム塩とが同一の化合物である組み合わせは、本開示のリチウム塩錯化合物の範囲から除かれる。
（リン酸リチウム塩Ａ２）
第２リチウム塩におけるリン酸リチウム塩Ａ２は、第１リチウム塩におけるリン酸リチウム塩Ａ１のうち、リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩である。
リン酸リチウム塩Ａ２としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ジフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロオキサラトリン酸リチウム、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムなどが挙げられる。
リン酸リチウム塩Ａ２としては、ジフルオロリン酸リチウム又はヘキサフルオロリン酸リチウムが好ましい。
第２リチウム塩におけるリン酸リチウム塩Ａ２は、第１リチウム塩におけるリン酸リチウム塩Ａ１のうち、リン原子に直接結合するフッ素原子を有するリン酸リチウム塩である。
リン酸リチウム塩Ａ２としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ジフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロオキサラトリン酸リチウム、ジフルオロビス（オキサラト）リン酸リチウムなどが挙げられる。
リン酸リチウム塩Ａ２としては、ジフルオロリン酸リチウム又はヘキサフルオロリン酸リチウムが好ましい。
（ホウ酸リチウム塩Ｂ２）
第２リチウム塩におけるホウ酸リチウム塩Ｂ２は、第１リチウム塩におけるホウ酸リチウム塩Ｂ１のうち、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩である。
ホウ酸リチウム塩Ｂ２としては、例えば、テトラフルオロホウ酸リチウム、ジフルオロオキサラトホウ酸リチウムなどが挙げられる。
フッ素含有ホウ酸リチウム塩Ｂ２としては、テトラフルオロホウ酸リチウムが好ましい。
第２リチウム塩におけるホウ酸リチウム塩Ｂ２は、第１リチウム塩におけるホウ酸リチウム塩Ｂ１のうち、ホウ素原子に直接結合するフッ素原子を有するホウ酸リチウム塩である。
ホウ酸リチウム塩Ｂ２としては、例えば、テトラフルオロホウ酸リチウム、ジフルオロオキサラトホウ酸リチウムなどが挙げられる。
フッ素含有ホウ酸リチウム塩Ｂ２としては、テトラフルオロホウ酸リチウムが好ましい。
（スルホン酸リチウム塩Ｃ２）
第２リチウム塩におけるスルホン酸リチウム塩Ｃ２は、第１リチウム塩におけるスルホン酸リチウム塩Ｃ１のうち、硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩である。
スルホン酸リチウム塩Ｃ２としては、例えば、フルオロスルホン酸リチウムが挙げられる。
第２リチウム塩におけるスルホン酸リチウム塩Ｃ２は、第１リチウム塩におけるスルホン酸リチウム塩Ｃ１のうち、硫黄原子に直接結合するフッ素原子を有するスルホン酸リチウム塩である。
スルホン酸リチウム塩Ｃ２としては、例えば、フルオロスルホン酸リチウムが挙げられる。
＜化合物Ｘ＞
化合物Ｘは、下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である。
化合物Ｘは、下記式（Ｉ）〜下記式（Ｖ）のいずれかで表される化合物から選択される１種である。
（式（Ｉ）で表される化合物）
式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表し、
Ｒ２は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
Ｒ２は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基と同義である。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基としては、無置換の炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基と同義である。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましく、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基がより好ましく、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、又はイソプロペニル基がより好ましく、ビニル基が更に好ましい。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルケニル基が好ましく、無置換の炭素数２〜６のアルケニル基がより好ましく、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、又はイソプロペニル基がより好ましく、ビニル基が更に好ましい。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基は、置換基Ｌの項で例示したハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基と同義である。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。
Ｒ１における、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基としては、無置換の炭素数２〜６のアルキニル基又は炭素数２〜６のハロゲン化アルキニル基が好ましい。
Ｒ１におけるアリール基は、置換基Ｌにおけるアリール基と同義である。
Ｒ１におけるアリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
Ｒ１におけるアリール基としては、無置換の炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
式（Ｉ）中、Ｒ２は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
ここで、上記置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基とは、無置換の炭素数２〜９のアルキレン基、又は、無置換の炭素数２〜９のアルキレン基が上記置換基によって置換された構造を有する基を意味する。
ここで、上記置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基とは、無置換の炭素数２〜９のアルキレン基、又は、無置換の炭素数２〜９のアルキレン基が上記置換基によって置換された構造を有する基を意味する。
Ｒ２で表されるアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよい。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基などが挙げられる。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基がより好ましい。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、プロピレン基が特に好ましい。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基などが挙げられる。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基がより好ましい。
Ｒ２で表されるアルキレン基としては、プロピレン基が特に好ましい。
Ｒ２において、アルキレン基に対して置換され得る置換基としては、例えば、置換基Ｌの説明において、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、無置換のアルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、無置換のアルキニル基、及びハロゲン化アルキニル基として例示したものと同様のものが挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ−ビニルピロリドンが好ましく、Ｎ−メチルピロリドンがより好ましい。
式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｎ−メチルピロリドン、又はＮ−ビニルピロリドンが好ましく、Ｎ−メチルピロリドンがより好ましい。
（式（II）で表される化合物）
式（II）中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基、又はアリール基を表し、
Ｒ５は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
Ｒ５は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（II）中のＲ３及びＲ４は、それぞれ、式（Ｉ）中のＲ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（II）中のＲ５は、式（Ｉ）中のＲ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
但し、式（II）中のＲ５としては、エチレン基が特に好ましい。
式（II）中のＲ５は、式（Ｉ）中のＲ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
但し、式（II）中のＲ５としては、エチレン基が特に好ましい。
式（II）で表される化合物としては、例えば、１−メチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、などが挙げられる。
式（II）で表される化合物としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが好ましい。
式（II）で表される化合物としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが好ましい。
（式（III）で表される化合物）
式（III）中、Ｒ６は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（III）中のＲ６は、式（Ｉ）中のＲ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
但し、式（III）中のＲ６としては、エチレン基が特に好ましい。
但し、式（III）中のＲ６としては、エチレン基が特に好ましい。
式（III）で表される化合物としては、例えば、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−エチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４，５−ジメチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−エチニル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、４，５−ジフルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンなどが挙げられる。
式（III）で表される化合物としては、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、又は４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンが好ましく、１，３−ジオキソラン−２−オンがより好ましい。
式（III）で表される化合物としては、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、又は４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンが好ましく、１，３−ジオキソラン−２−オンがより好ましい。
（式（IV）で表される化合物）
式（IV）中、Ｒ７は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（IV）中のＲ７は、式（Ｉ）中のＲ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
但し、式（IV）中のＲ７としては、エチレン基が特に好ましい。
但し、式（IV）中のＲ７としては、エチレン基が特に好ましい。
式（IV）で表される化合物としては、例えば、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキサン、４−フェニル−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキセパンなどが挙げられる。
式（IV）で表される化合物としては、１，３−ジオキソラン又は１，３−ジオキサンが好ましく、１，３−ジオキソランがより好ましい。
式（IV）で表される化合物としては、１，３−ジオキソラン又は１，３−ジオキサンが好ましく、１，３−ジオキソランがより好ましい。
（式（Ｖ）で表される化合物）
式（Ｖ）中、Ｒ８は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルケニル基、及びハロゲン原子で置換されていてもよいアルキニル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基によって置換されていてもよい炭素数２〜９のアルキレン基を表す。
式（Ｖ）中のＲ８は、式（Ｉ）中のＲ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（Ｖ）で表される化合物としては、例えば、２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホラン−２−オキシド、２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドなどが挙げられる。
式（Ｖ）で表される化合物としては、２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドが好ましい。
式（Ｖ）で表される化合物としては、２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドが好ましい。
〔リチウム塩錯化合物の好ましい態様〕
本開示のリチウム塩錯化合物の好ましい態様は、
第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、及びリチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミドからなる群から選択される１種であり、
第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及び２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドからなる群から選択される１種である態様である。
本開示のリチウム塩錯化合物の好ましい態様は、
第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、メチル硫酸リチウム、ベンゼンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド、及びリチウムビス（パーフルオロエチルスルホニル）イミドからなる群から選択される１種であり、
第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、及び２−フルオロ−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドからなる群から選択される１種である態様である。
本開示のリチウム塩錯化合物のより好ましい態様は、
第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、及びメチル硫酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、及び１，３−ジオキソランからなる群から選択される１種である態様である。
第１リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、及びメチル硫酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
第２リチウム塩が、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種であり、
化合物Ｘが、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、及び１，３−ジオキソランからなる群から選択される１種である態様である。
以下、本開示のリチウム塩錯化合物の例示化合物（錯化合物１〜錯化合物３６）を示すが、本開示のリチウム塩錯化合物は、以下の例示化合物には限定されない。
・錯化合物１
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物４
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物５
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物６
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物７
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物８
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物９
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１０
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１１
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１２
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物１３
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１４
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１５
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１６
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物１７
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１８
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１９
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２０
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２１
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２２
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２３
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２４
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２５
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２６
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２７
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２８
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２９
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物３０
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３１
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３２
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物３３
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物３４
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３５
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３６
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物４
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物５
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物６
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物７
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物８
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物９
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１０
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１１
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１２
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物１３
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１４
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１５
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１６
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物１７
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物１８
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物１９
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２０
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２１
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２２
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２３
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２４
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２５
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物２６
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２７
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物２８
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物２９
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物３０
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３１
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３２
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
・錯化合物３３
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物。
・錯化合物３４
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３５
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物。
・錯化合物３６
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物。
以下、錯化合物１〜３６の構造を示す。以下の構造（１）〜構造（３６）は、それぞれ、錯化合物１〜３６の構造である。
上記具体例の中でも、錯化合物１〜３、６、７、１０〜１２、１４〜１６、１８〜２０、２２〜２４、２６〜２８、３０、３１、３４、及び３５が好ましい。
〔リチウム塩錯化合物の製造方法の一例（製法Ａ）〕
以下、本開示のリチウム塩錯化合物の製造方法の一例（以下、「製法Ａ」ともいう）を示す。
以下、本開示のリチウム塩錯化合物の製造方法の一例（以下、「製法Ａ」ともいう）を示す。
製法Ａは、第１リチウム塩と第２リチウム塩と化合物Ｘとを混合することにより、本開示のリチウム塩錯化合物を得る工程（以下、「混合工程」ともいう）を含む。
混合工程では、最終的に、第１リチウム塩、第２リチウム塩及び化合物Ｘの３成分（以下、単に「３成分」ともいう）が混合されればよく、混合工程における具体的な混合方法には特に制限はない。
混合方法として、例えば、
３成分を一度に混合する方法、
３成分を何度かに分けて混合する方法（例えば、まず２成分を混合し、得られた混合物に残りの１成分を加えて混合する方法を含む）、等が挙げられる。
混合工程では、最終的に、第１リチウム塩、第２リチウム塩及び化合物Ｘの３成分（以下、単に「３成分」ともいう）が混合されればよく、混合工程における具体的な混合方法には特に制限はない。
混合方法として、例えば、
３成分を一度に混合する方法、
３成分を何度かに分けて混合する方法（例えば、まず２成分を混合し、得られた混合物に残りの１成分を加えて混合する方法を含む）、等が挙げられる。
混合工程において、第１リチウム塩に対する第２リチウム塩の混合モル比（第２リチウム塩／第１リチウム塩）は、リチウム塩錯化合物を安定して形成する観点から、０．２〜６であることが好ましく、０．３〜４であることがより好ましい。
上記混合モル比が０．２以上であると、第１リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。上記混合モル比が６以下であると、第２リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。
上記混合モル比が０．２以上であると、第１リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。上記混合モル比が６以下であると、第２リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。
混合工程において、第１リチウム塩に対する化合物Ｘの混合モル比（化合物Ｘ／第１リチウム塩）は、リチウム塩錯化合物を安定して形成する観点から、１〜２０であることが好ましく、１〜１０であることがより好ましい。
上記混合モル比が１以上であると、第１リチウム塩又は第２リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。
上記混合モル比が２０以下であると、化合物Ｘが過剰となる状態を回避しやすい。
上記混合モル比が１以上であると、第１リチウム塩又は第２リチウム塩が過剰となる状態を回避しやすい。
上記混合モル比が２０以下であると、化合物Ｘが過剰となる状態を回避しやすい。
第１リチウム塩、第２リチウム塩及び化合物Ｘの３成分の混合は、溶媒の存在下で行うことが好ましい。
溶媒としては、より均質な生成物（リチウム塩錯化合物）を得る観点から、３成分のうちの少なくとも１成分を溶解することのできる溶媒を使用することが好ましい。
溶媒としては、より均質な生成物（リチウム塩錯化合物）を得る観点から、３成分のうちの少なくとも１成分を溶解することのできる溶媒を使用することが好ましい。
溶媒としては、非水溶媒であって目的とするリチウム塩錯化合物の生成を阻害しなければどのような溶媒でも用いることができる。
上記溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、アセトニトリル、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、トルエン、キシレン（オルト、メタ、パラ）、エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン（キュメン）、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、メシチレンメチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン等が挙げられる。
上記溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、アセトニトリル、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、トルエン、キシレン（オルト、メタ、パラ）、エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン（キュメン）、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、メシチレンメチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン等が挙げられる。
３成分の混合は、常圧下、減圧下のいずれでも行える。
３成分の混合は、リチウム塩錯化合物の生成を阻害する成分（例えば水分）の混入を抑制する観点から、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
３成分の混合は、リチウム塩錯化合物の生成を阻害する成分（例えば水分）の混入を抑制する観点から、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
３成分を混合する際の温度は、２０℃〜２００℃であることが好ましく、２０℃〜１５０℃であることがより好ましく、２０℃〜１００℃であることがさらに好ましい。
温度が２０℃以上であると、リチウム塩錯化合物の生成が促進されやすい。
温度が２００℃以下であると、生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、生成率が向上しやすい。
温度が２０℃以上であると、リチウム塩錯化合物の生成が促進されやすい。
温度が２００℃以下であると、生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、生成率が向上しやすい。
３成分の混合時間は、反応を効率よく進行させる観点から、３０分〜１２時間であることが好ましく、１時間〜８時間であることがより好ましい。
製法Ａは、混合工程で得られた本開示のリチウム塩錯化合物を取り出す工程（以下、「取り出し工程」ともいう）を含んでいてもよい。
取り出し工程における操作には特に制限はない。
例えば、混合工程において、リチウム塩錯化合物が固体として得られた場合には、固体であるリチウム塩錯化合物を特段の処理なく取り出すことができる。
また、混合工程において、リチウム塩錯化合物が溶媒に分散されているスラリーが得られた場合には、スラリーから溶媒を、分離及び／又は乾燥によって除去することにより、リチウム塩錯化合物を取り出すことができる。
また、混合工程において、リチウム塩錯化合物が溶媒に溶解されている溶液が得られた場合には、加熱濃縮によって溶液から溶媒を留去することにより、又は、溶液に対しリチウム塩錯化合物が溶解しない溶媒を添加してリチウム塩錯化合物を析出させ、次いで溶媒を分離及び／若しくは乾燥によって除去することにより、リチウム塩錯化合物を取り出すことができる。
取り出し工程における操作には特に制限はない。
例えば、混合工程において、リチウム塩錯化合物が固体として得られた場合には、固体であるリチウム塩錯化合物を特段の処理なく取り出すことができる。
また、混合工程において、リチウム塩錯化合物が溶媒に分散されているスラリーが得られた場合には、スラリーから溶媒を、分離及び／又は乾燥によって除去することにより、リチウム塩錯化合物を取り出すことができる。
また、混合工程において、リチウム塩錯化合物が溶媒に溶解されている溶液が得られた場合には、加熱濃縮によって溶液から溶媒を留去することにより、又は、溶液に対しリチウム塩錯化合物が溶解しない溶媒を添加してリチウム塩錯化合物を析出させ、次いで溶媒を分離及び／若しくは乾燥によって除去することにより、リチウム塩錯化合物を取り出すことができる。
取り出し工程における乾燥の方法としては、従来公知の方法を任意に選択し実施することができる。
例えば、棚段式乾燥機での静置乾燥法；コニカル乾燥機での流動乾燥法；ホットプレート、オーブン等の装置を用いて乾燥させる方法；ドライヤーなどの乾燥機で温風又は熱風を供給する方法；等が挙げられる。
例えば、棚段式乾燥機での静置乾燥法；コニカル乾燥機での流動乾燥法；ホットプレート、オーブン等の装置を用いて乾燥させる方法；ドライヤーなどの乾燥機で温風又は熱風を供給する方法；等が挙げられる。
取り出されたリチウム塩錯化合物を乾燥する際の圧力は、常圧、減圧のいずれであってもよい。
乾燥温度は２０℃〜２００℃であることが好ましく、２０℃〜１５０℃であることがより好ましく、２０℃〜１００℃であることがさらに好ましい。
温度が２０℃以上であると乾燥効率がよい。
温度が２００℃以下であると、生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、リチウム塩錯化合物を安定して取り出しやすい。
温度が２０℃以上であると乾燥効率がよい。
温度が２００℃以下であると、生成したリチウム塩錯化合物の解離が抑制され、リチウム塩錯化合物を安定して取り出しやすい。
取り出し工程において取り出されたリチウム塩錯化合物は、そのまま用いてもよいし、例えば、溶媒中に分散又は溶解して用いてもよい。
また、取り出されたリチウム塩錯化合物を、他の固体物質と混合して用いてもよい。
また、取り出されたリチウム塩錯化合物を、他の固体物質と混合して用いてもよい。
本開示のリチウム塩錯化合物は、リチウム電池用添加剤（好ましくはリチウム二次電池用添加剤、より好ましはリチウム二次電池の非水電解液用の添加剤）、反応試剤、合成反応触媒、各種電気化学デバイス用電解質、ドーピング剤、潤滑油の添加剤などの用途に有用に使用できる。
〔リチウム二次電池用添加剤〕
本開示のリチウム二次電池用添加剤は、上述したリチウム塩錯化合物を含む。
本開示のリチウム二次電池用添加剤は、特にリチウム二次電池の非水電解液用の添加剤として好適である。
本開示のリチウム二次電池用添加剤は、上述したリチウム塩錯化合物を含む。
本開示のリチウム二次電池用添加剤は、特にリチウム二次電池の非水電解液用の添加剤として好適である。
以下、本開示の実施例を示すが、本開示は以下の実施例には限定されない。
また、以下において、室温は２５℃を意味する。
また、以下において、室温は２５℃を意味する。
〔実施例１〕ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物１
撹拌装置、温度計、ガス導入ライン、及び排気ラインを備えた１００ｍＬのフラスコを乾燥窒素ガスでパージした後、ここに、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇ（０．０３ｍｏｌ）とジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル５０ｇとを入れ、室温で攪拌することにより、ヘキサフルオロリン酸リチウム及びジフルオロリン酸リチウムを溶解させた。得られた溶液にＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇ（０．１８ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌して反応液を得た。次に、反応液を撹拌したまま、フラスコ内を１０ｋＰａ以下に減圧し、かつ、６０℃に加温することにより、反応液から酢酸エチルを留去させた。得られた固体を、更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理することにより、固体生成物２５．６４ｇを得た。
撹拌装置、温度計、ガス導入ライン、及び排気ラインを備えた１００ｍＬのフラスコを乾燥窒素ガスでパージした後、ここに、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇ（０．０３ｍｏｌ）とジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇ（０．０３ｍｏｌ）と酢酸エチル５０ｇとを入れ、室温で攪拌することにより、ヘキサフルオロリン酸リチウム及びジフルオロリン酸リチウムを溶解させた。得られた溶液にＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇ（０．１８ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌して反応液を得た。次に、反応液を撹拌したまま、フラスコ内を１０ｋＰａ以下に減圧し、かつ、６０℃に加温することにより、反応液から酢酸エチルを留去させた。得られた固体を、更に、１０ｋＰａ以下の減圧下、６０℃で乾燥処理することにより、固体生成物２５．６４ｇを得た。
得られた固体生成物を重ジメチルスルホキシド溶媒に溶解し、１Ｈ−ＮＭＲ分析及び１９Ｆ−ＮＭＲ分析の各々を行った。
１Ｈ−ＮＭＲ分析及び１９Ｆ−ＮＭＲ分析の各々によって得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕及び積分値（比）は、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ：２．０ｐｐｍ（２Ｈ）、２．４ｐｐｍ（２Ｈ）、２．９ｐｐｍ（３Ｈ）、３．４ｐｐｍ（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、Ｎ−メチルピロリドンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウム及びヘキサフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また得られた固体生成物の、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を行った。得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない、１９８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
なお、吸熱熱解離挙動の観測は、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計（ＤＳＣ２２０Ｃ型）を用いて行った。実施例２以降についても同様である。
なお、吸熱熱解離挙動の観測は、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計（ＤＳＣ２２０Ｃ型）を用いて行った。実施例２以降についても同様である。
以上の結果から、固体生成物が、ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物１であることが確認された。
〔実施例２〕ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．６４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．６４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウム及びヘキサフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果から、固体生成物が、ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２であることが確認された。
〔実施例３〕ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２６．８８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２６．８８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１１８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１１８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３であることが確認された。
〔実施例４〕ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物６
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをビス（オキサラト）ホウ酸リチウム５．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２４．８８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをビス（オキサラト）ホウ酸リチウム５．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２４．８８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
本実施例では、更に、１１Ｂ−ＮＭＲ分析も行った。１１Ｂ−ＮＭＲ分析によって得られたスペクトルのケミカルシフト〔ｐｐｍ〕は以下の通りであった。
１1Ｂ−ＮＭＲ：６．５ｐｐｍ。
１1Ｂ−ＮＭＲ：６．５ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウムのスペクトルパターンが確認され、１1Ｂ−ＮＭＲから、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない、２１６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない、２１６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物６であることが確認された。
〔実施例５〕ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンからなる錯化合物７
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをビス（オキサラト）ホウ酸リチウム５．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２８．１４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをビス（オキサラト）ホウ酸リチウム５．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２８．１４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：６．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：６．５ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１1Ｂ−ＮＭＲから、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１６８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１６８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンからなる錯化合物７であることが確認された。
〔実施例６〕メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１０
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、また、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．９４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、また、Ｎ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．９４ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．５ｐｐｍ（２４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ、−７４ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ、−７４ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ヘキサフルオロリン酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２４６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２４６℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１０であることが確認された。
〔実施例７〕メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１１
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２７．１８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２７．１８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．６ｐｐｍ（６Ｈ）、４．７ｐｐｍ（６Ｈ）、６．５ｐｐｍ（３Ｈ）、６．６ｐｐｍ（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ヘキサフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１１であることが確認された。
〔実施例８〕メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物１２
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン１３．３３ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２１．４２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン１３．３３ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２１．４２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．２ｐｐｍ（２４Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ、−７４ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ、−７４ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び１，３−ジオキソランの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ヘキサフルオロリン酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２４８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２４８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物１２であることが確認された。
〔実施例９〕メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１４
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２２．６３ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２２．６３ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．５ｐｐｍ（２４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２７９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２７９℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１４であることが確認された。
〔実施例１０〕メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１５
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．８６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．８６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．６ｐｐｍ（６Ｈ）、４．７ｐｐｍ（６Ｈ）、６．５ｐｐｍ（３Ｈ）、６．６ｐｐｍ（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２３４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２３４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１５であることが確認された。
〔実施例１１〕メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物１６
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン１３．３３ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２０．０９ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをメチル硫酸リチウム３．５４ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン１３．３３ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２０．０９ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：３．５ｐｐｍ（３Ｈ）、４．２ｐｐｍ（２４Ｈ）、５．６ｐｐｍ（１２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−８２ｐｐｍ、−８５ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、メチル硫酸リチウム及び１，３−ジオキソランの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、ジフルオロリン酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２９２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２９２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物１６であることが確認された。
〔実施例１２〕フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１８
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．５８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．５８ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びヘキサフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１７２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１７２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１８であることが確認された。
〔実施例１３〕フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１９
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２６．８２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２６．８２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１２０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１２０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物１９であることが確認された。
〔実施例１４〕フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２０
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１４．４０ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１４．４０ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．２ｐｐｍ（４Ｈ）、５．６ｐｐｍ（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソランのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びヘキサフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１８８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２０であることが確認された。
〔実施例１５〕フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２２
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２２．２５ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２２．２５ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びジフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２２３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２２３℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２２であることが確認された。
〔実施例１６〕フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２３
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．５０ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．５０ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム、ジフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１６０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１６０℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２３であることが確認された。
〔実施例１７〕フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２４
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１３．０７ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１３．０７ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．２ｐｐｍ（４Ｈ）、５．６ｐｐｍ（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソランのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びジフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１９８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１９８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２４であることが確認された。
〔実施例１８〕フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２６
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２１．８２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２１．８２ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びテトラフルオロホウ酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１1Ｂ−ＮＭＲから、テトラフルオロホウ酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２１２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２１２℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２６であることが確認された。
〔実施例１９〕フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２７
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．０６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．０６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１1Ｂ−ＮＭＲから、テトラフルオロホウ酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１５７℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１５７℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物２７であることが確認された。
〔実施例２０〕フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２８
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１２．６６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをフルオロスルホン酸リチウム３．１８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをテトラフルオロホウ酸リチウム２．８１ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン６．６７ｇ（０．０９ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物１２．６６ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例４と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．２ｐｐｍ（４Ｈ）、５．６ｐｐｍ（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：４０ｐｐｍ（１Ｆ）、−１５３ｐｐｍ（４Ｆ）。
１1Ｂ−ＮＭＲ：−２．４ｐｐｍ。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソランのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、フルオロスルホン酸リチウム及びテトラフルオロホウ酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認され、１1Ｂ−ＮＭＲから、テトラフルオロホウ酸リチウムのスペクトルパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２１４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２１４℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物２８であることが確認された。
〔実施例２１〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３０
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．０９ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２５．０９ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−７８ｐｐｍ（３Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−７８ｐｐｍ（３Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム及びヘキサフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２０５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２０５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３０であることが確認された。
〔実施例２２〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３１
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２８．３１ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ジフルオロリン酸リチウム３．２４ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２８．３１ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７２ｐｐｍ（３Ｆ）、−７４ｐｐｍ（３Ｆ）、−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２０５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２０５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３１であることが確認された。
〔実施例２３〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３４
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．７７ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを１，３−ジオキソラン−２−オン１５．８５ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２３．７７ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．５ｐｐｍ。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム及びジフルオロリン酸リチウムの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２６５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない２６５℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３４であることが確認された。
〔実施例２４〕トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３５
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２７．００ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
実施例１と同様の方法を行う中で、ヘキサフルオロリン酸リチウム４．５６ｇをトリフルオロメタンスルホン酸リチウム４．６８ｇ（０．０３ｍｏｌ）に変更し、またＮ−メチルピロリドン１７．８４ｇを４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン１９．０９ｇ（０．１８ｍｏｌ）に変更して処理を行い、固体生成物２７．００ｇを得た。
得られた固体生成物について、実施例１と同様の分析及び測定を行った。
結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：４．６ｐｐｍ（１Ｈ）、４．７ｐｐｍ（１Ｈ）、６．５ｐｐｍ（０．５Ｈ）、６．６ｐｐｍ（０．５Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ：−７８ｐｐｍ（３Ｆ）、−８２ｐｐｍ（１Ｆ）、−８５ｐｐｍ（１Ｆ）、−１２４ｐｐｍ（６Ｆ）。
１Ｈ−ＮＭＲから、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンのスペクトルパターンが確認され、１９Ｆ−ＮＭＲから、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ジフルオロリン酸リチウム及び４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンの各々の単独のスペクトルパターンを併せたパターンが確認された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１９８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
また、室温から６００℃までの示差走査熱量（ＤＳＣ）測定の結果、得られた固体生成物には、各原料化合物を単独で測定する際には認められない１９８℃ピークの吸熱熱解離挙動が観測された。
以上の結果より、固体生成物が、トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物３５であることが確認された。
以上に示すように、各実施例では、新規なリチウム塩錯化合物が得られた。
また、各実施例で得られたリチウム塩錯化合物は、原料化合物（第１リチウム塩、第２リチウム塩、及び化合物Ｘ）の各々の単独では認められない温度において、吸熱熱解離挙動が観測された。即ち、各実施例で得られたリチウム塩錯化合物は、原料化合物の単なる混合物ではなく錯化合物であること、及び、熱的安定性に優れる化合物であることが確認された。
また、各実施例で得られたリチウム塩錯化合物は、原料化合物（第１リチウム塩、第２リチウム塩、及び化合物Ｘ）の各々の単独では認められない温度において、吸熱熱解離挙動が観測された。即ち、各実施例で得られたリチウム塩錯化合物は、原料化合物の単なる混合物ではなく錯化合物であること、及び、熱的安定性に優れる化合物であることが確認された。
Claims (3)
- ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、ビス（オキサラト）ホウ酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、フルオロスルホン酸リチウム、及びメチル硫酸リチウムからなる群から選択される１種である第１リチウム塩と、
ジフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロホウ酸リチウム、及びフルオロスルホン酸リチウムからなる群から選択される１種である第２リチウム塩と、
Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジオキソラン−２−オン、４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オン、及び１，３−ジオキソランからなる群から選択される１種である化合物Ｘと、
からなるリチウム塩錯化合物（但し、前記第１リチウム塩と前記第２リチウム塩とが同一の化合物である場合を除く）。 - ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムとＮ−メチルピロリドンとからなる錯化合物、
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ヘキサフルオロリン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
ビス（オキサラト）ホウ酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
メチル硫酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
トリフルオロメタンスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとヘキサフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとジフルオロリン酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと４−フルオロ−１，３−ジオキソラン−２−オンとからなる錯化合物、又は、
フルオロスルホン酸リチウムとテトラフルオロホウ酸リチウムと１，３−ジオキソランとからなる錯化合物である
請求項１に記載のリチウム塩錯化合物。 - 請求項１又は請求項２に記載のリチウム塩錯化合物を含むリチウム二次電池用添加剤。
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