JP6877707B2

JP6877707B2 - ベンゾトリアゾール系重合体を含有する樹脂組成物

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Publication number: JP6877707B2
Application number: JP2017155735A
Authority: JP
Inventors: 壽一阪口; 加菜荻野; 橋本　保; 保橋本; 敏之上坂; 岩本　拓也; 拓也岩本
Original assignee: University of Fukui; Shipro Kasei Kaisha Ltd
Current assignee: University of Fukui; Shipro Kasei Kaisha Ltd
Priority date: 2017-08-10
Filing date: 2017-08-10
Publication date: 2021-05-26
Anticipated expiration: 2037-08-10
Also published as: JP2019034998A

Description

本発明は、紫外線吸収成分であるベンゾトリアゾール誘導体化合物の単独重合体が樹脂素材に含まれる樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、前記単独重合体が高温状態でも揮散や分解が起こりにくい高い耐熱性を示し、かつ前記単独重合体と前記樹脂素材とが高い相溶性を示す樹脂組成物に関する。

樹脂は自然光の紫外線の作用によって劣化を生じて、軟化、脆化または変色などの現象を伴ってその機械的強度が著しく低下することはよく知られている。このような光による劣化を防ぐため、従来より各種の紫外線吸収剤が樹脂の加工工程中に添加され、使用されている。このような紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系またはトリアジン系の化合物が知られている。

しかし、従来より使用されている紫外線吸収剤は、樹脂加工時の高温状態でそれ自身の揮散や分解が起こることから、樹脂加工時における紫外線吸収剤の揮散による樹脂成型金型の汚染、紫外線吸収剤の熱分解による樹脂の着色等の問題があった。

これらの問題を解決するため、上記の紫外線吸収性化合物を二量化したり、紫外線吸収性化合物に嵩高い置換基を付加することによって、分子量を向上させた高耐熱性の紫外線吸収剤として、揮散や分解を防ぐ提案がされているが、このような化合物は一般的に樹脂との相溶性が不十分であることが多く、紫外線吸収剤を樹脂に添加した樹脂組成物は、紫外線吸収剤が樹脂表面にブリードアウトしてくるという問題があった。

特許文献１および２では、（メタ）アクリロイル基を含有するベンゾトリアゾール誘導体と（メタ）アクリル酸エステルを共重合した高分子紫外線吸収剤が提案されており、紫外線吸収性の構造を高分子体の成分として組み込むことで、加工時の高温状態で紫外線吸収性成分の揮散や分解がなく、さらに加工後の紫外線吸収性成分のブリードアウトを防ぐ提案がされている。

特開２０１２−２５８１１号公報特開昭６０−３８４１１号公報

これらに記載された高分子紫外線吸収剤には、コンタクトレンズ、フィルム、塗料等の用途が示されている。しかしながら、いずれの文献の高分子紫外線吸収剤においても単独で成型または成膜されていることから、他の樹脂との相溶性は不十分と考えられる。このため汎用樹脂である樹脂素材にこれら高分子紫外線吸収剤を添加するような方法で使用することができず、高分子紫外線吸収剤と樹脂素材との樹脂組成物を得る事は困難であった。

そこで本発明における課題は、高い耐熱性を持ちながら他の樹脂との相溶性に優れる紫外線吸収性成分を、汎用樹脂である樹脂素材に含有させた樹脂組成物を提供することである。

本発明では、下記の一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物を数平均分子量２０００〜８０００の範囲で単独重合した、紫外線吸収性を有する単独重合体を、樹脂素材に含有させた樹脂組成物であることを、上記課題の主要な解決手段とする。

一般式（１）
［式中、Ｒ_１は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基、トリル基、ホルミル基、アルキル炭素数１〜７のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、Ｒ_２は炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ_３は水素原子、またはメチル基を表す］

上記一般式（１）で示されるベンゾトリアゾール誘導体化合物は、好ましくは、Ｒ_１が炭素数２〜８のアルキル基であり、Ｒ_２がエチレン基で表される化合物である。

本発明の樹脂組成物は、高温状態においても紫外線吸収性成分の揮散や分解がなく、紫外線吸収性成分のブリードアウトが起こらない。したがって本発明の樹脂組成物は、従来技術の課題を解決できる樹脂組成物として有用である。

以下に本発明につき詳細に説明する。本発明の樹脂組成物に用いられるベンゾトリアゾール誘導体化合物の単独重合体は、下記の一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物を数平均分子量２０００〜８０００の範囲で単独重合したものである。以下に下記一般式（１）において表される化合物について説明する。

一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ_１は水素原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基；フェニル基；トリル基；ホルミル基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、オクタノイル基、２−エチルヘキサノイル基等のアルキル炭素数１〜７の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基；トルオイル基が挙げられ、Ｒ_２はメチレン基、エチレン基、トリエチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキレン基が挙げられ、Ｒ_３は水素原子；メチル基が挙げられる。

好ましくは、上記一般式（１）のＲ_１が炭素数２〜８のアルキル基であり、Ｒ_２がエチレン基で表される化合物である。

上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体の具体例としては、次に示すものを挙げることができる。２−［２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（４−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、４−［２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［２−（４−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］ブチルメタクリレート、２−［２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（４−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート等。

ここに例示する化合物の中で、特に２−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレートを好ましく用いることができる。

一般式（１）で表わされるベンゾトリアゾール誘導体化合物は、たとえば、下記（化２〜化５）に示した反応式を経て合成することができる。なお、Ｘはハロゲン原子を表す。

前記ベンゾトリアゾール系重合体を数平均分子量２０００〜８０００に単独重合する方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の種々の重合方法、例えば、ラジカル重合、イオン重合による連鎖重合反応を用いた溶液重合法、塊状（バルク）重合法、懸濁（パール）重合法、光重合法等を採用することができる。

溶液重合法で前記単独重合体の数平均分子量を２０００〜８０００の範囲内に制御する方法としては、たとえば溶媒に対する前記ベンゾトリアゾール誘導体化合物のモル濃度を制御することによって行なうことができる。数平均分子量が２０００以下の場合は、未反応のベンゾトリアゾール誘導体化合物が多く残存するが、未反応成分は低分子量であるため、樹脂加工時の高温状態において揮散や分解が起こるおそれがあり、また、重合性基が残存していることから、樹脂加工時の高温状態において制御できない重合反応が起こり、樹脂組成物の相溶性が損なわれるおそれがあるので、好ましくない。一方、数平均分子量８０００を境にして、それ以上の数平均分子量を持つ単独重合体は、各種樹脂素材との相溶性が不十分であるので樹脂組成物として好ましくないことが本実施例により証明された。

溶液重合法を採用してベンゾトリアゾール系重合体を得る場合において用いることができる溶媒としては、具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、その他の高沸点の芳香族系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これら溶媒は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、溶媒の使用量は、特に限定されるものではない。

懸濁（パール）重合法を採用してベンゾトリアゾール系重合体を得る場合において用いることができる分散剤としては、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリル酸またはその塩、スチレンとマレイン酸共重合体の塩、α−メチルスチレンとアクリル酸共重合体の塩、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリルアミド、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、デンプン、トラガント、ペクチン、グルー、アルギン酸またはその塩等の高分子界面活性剤；ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリオキシアルキレン系分散剤；ポリオキシエチレン−アルキルエーテル、ポリオキシエチレン−アルキルフェノール、ポリオキシエチレン−多価アルコールエステル、多価アルコールと脂肪酸とのエステル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロック縮合物等の非イオン系界面活性剤等が挙げられる。また、これら分散剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、分散剤の使用量は、特に限定されるものではない。

また、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法を採用してベンゾトリアゾール系重合体を得る際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、具体的には、例えば、２，２'−アゾビス−(２−メチルブチロニトリル) 、２,２'−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’ −アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ− ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の油溶性のラジカル重合開始剤；過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、t−ブチルパーオキサイド、２，２−アゾビス[２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン]・二塩酸塩、２，２−アゾビス[２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン]・二硫酸・二水和物、２，２−アゾビス（２−アミジノプロパン）・二塩酸塩、２，２−アゾビス〔Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン]水和物、２，２−アゾビス{２−[１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル]プロパン}・二塩酸塩、２，２−アゾビス[２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン]、２，２−アゾビス（１−イミノ−１−ピロリジノ−２−エチルプロパン）・二塩酸塩、２、２−アゾビス{２−メチル−Ｎ−[１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、２，２−アゾビス[２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド]、２，２−アゾビス（Ｎ−ヒドロキシエチルイソブチルアミド）、４，４−アゾビス（４−シアノペンタン酸）等の水溶性のラジカル重合開始剤；過硫酸塩類や有機過酸化物類の重合開始剤にナトリウムスルホオキシレートホルムアルデヒド、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、過酸化水素、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸、およびその塩、第一銅塩、第一鉄塩などの還元剤を重合開始剤に組み合わせて用いるレドックス系開始剤；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラアルキル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、アルキルアントラキノン、フェナントレンキノン等のキノン類、ベンゾイン、アルキルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、９−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］等のオキシムエステル類、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン等のクマリン系化合物、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物等の光（主として紫外線）開裂型ラジカル重合開始剤が挙げられるが、特に限定されるものではない。また、これら重合開始剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、重合開始剤の使用量は、特に限定されるものではない。

反応温度は、特に限定されるものではないが、室温〜２００℃の範囲が好ましく、５０℃〜１５０℃の範囲がより好ましい。尚、反応時間は、反応温度、或いは、用いる原材料の種類等に応じて、数平均分子量が２０００〜８０００になるように、適宜設定すればよい。

光重合法を採用してベンゾトリアゾール系重合体を得る場合において用いる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によって光重合開始作用を示す公知の光重合開始剤のいずれもが使用できる。例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどを挙げることができ、また、ベンゾフェノンおよび／または２−イソプロピルチオキサントンと重合促進剤の２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエートおよび／またはエチル−４−ジメチルアミノベンゾエートといった組み合わせも使用できる。本発明で、これらの光重合開始剤を単独で用いてもよいし、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明の樹脂組成物に用いられる樹脂素材としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリ-３−メチルブチレン、ポリメチルペンテンなどのα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、スチレンと他の単量体（無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン樹脂、メタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン樹脂などのスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、強化ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマレイミド、ポリアミドイミド、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、水溶性樹脂、粉体塗料用樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等を挙げることができる。

その中でも、樹脂素材としてポリスチレン、ポリカーボネートおよびポリメタクリル酸メチルの群からいずれかを選択した本発明の樹脂組成物では、高い相溶性、及び耐熱性を示すことが本発明の実施例により証明された。

本発明の樹脂組成物は、数平均分子量が２０００〜８０００の範囲にある前記ベンゾトリアゾール誘導体化合物単独重合体が前記樹脂素材に含まれたものであればよく、紫外線吸収剤として、前記単独重合体のみが含まれたものでも使用できるが、前記単独重合体の他に紫外線吸収剤と組み合わせて使用することもできる。前記ベンゾトリアゾール系単独重合体以外の紫外線吸収剤としては、一般に市場で入手できるもので紫外領域を吸収できるものであれば特に限定されない。例えば、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、サリシレート誘導体、シアノアクリレート誘導体、トリアジン誘導体等が用いられる。これらの紫外線吸収剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。

本発明の樹脂組成物は、前記ベンゾトリアゾール系重合体が前記樹脂素材に対して０.０１〜２０重量％の範囲で含まれていることが好ましく、さらには０.１〜２重量％の範囲で含まれていることがいっそう好ましい。

本発明のベンゾトリアゾール系重合体を含有する樹脂組成物は、射出成形、ブロー成形、押出成形など、一般的な樹脂成型法により成形できる。また、フィルムやシートを成形する場合には、前記に加えて、溶液流延法やキャスト法を用いることができる。

以下に本発明を実施例により詳述するが、本発明はこれらの様態のみに限定されるものではない。

（中間体合成例１）
［前駆体；２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−５−オクチルオキシフェノールの合成］

１０００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、常法にて合成した４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールを１７６．０ｇ（０．６８４モル）、メチルイソブチルケトン３５０ｍｌ、１−クロロオクタン１４２．０ｇ（０．９５５モル）、炭酸ナトリウム６２．０ｇ（０．５８５モル）、ヨウ化カリウム５．２ｇを入れて、１２０〜１３０℃で１２時間還流脱水した。水２００ｍｌを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水２００ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン３５０ｍｌを減圧で回収し、イソプロピルアルコール４５０ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール２００ｍｌで洗浄し、乾燥して、２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−オクチルオキシフェノールを２１６．９ｇ得た。

１０Ｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−オクチルオキシフェノールを２１６．９ｇ（０．５８７モル）、４７％臭化水素酸１２５．８ｇ（０．７３１モル）、スルホラン１８００ｍｌを入れて１００〜１０５℃で４８時間撹拌した。トルエン８００ｍｌ、水３５００ｍｌを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水１３００ｍｌで２回洗浄し、トルエン８００ｍｌを減圧で回収した。イソプロピルアルコール８００ｍｌ、水２００ｍｌを加えて、５℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液（８０％Ｖ／Ｖ）２００ｍｌで洗浄し、乾燥して、２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−オクチルオキシフェノールを１２６．６ｇ得た。

１０００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−オクチルオキシフェノールを１２６．６ｇ（０．３５６モル）、メチルイソブチルケトン４５０ｍｌ、２−クロロエタノール３５．８ｇ（０．４４５モル）、炭酸ナトリウム２３．５ｇ（０．２２２モル）、ヨウ化カリウム１７．８ｇを入れて、１１３〜１１８℃で１０時間還流脱水した。２５０ｍｌの水を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水１５０ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン４５０ｍｌを減圧で回収後にイソプロピルアルコール５００ｍｌを加えて１０℃まで冷却し、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール５０ｍｌで洗浄し、乾燥して、２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−５−オクチルオキシフェノールを９５．３ｇ得た。収率３５％（４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールから）であった。

（中間体合成例２）
［化合物（ａ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートの合成］

化合物（ａ）

１０００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−５−オクチルオキシフェノールを９５．３ｇ（０．２３９モル）、トルエン５５０ｍｌ、メタクリル酸５０．６ｇ（０．５８８モル）、メタンスルホン酸２９．８ｇ（０．３１０モル）を入れて、１１０〜１１５℃で４時間還流脱水した。水２００ｍｌ、炭酸ナトリウム３２．８ｇ（０．３０９モル）を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭１．８ｇを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時にろ過し、そのろ液からトルエン５５０ｍｌを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール７５０ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール１００ｍｌで洗浄した後、減圧下４０℃で乾燥し、白色結晶を８８．１ｇ得た。全量をイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下４０℃で乾燥し、化合物（ａ）を７７．８ｇ得た。収率７０％（２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−５−オクチルオキシフェノールから）であった。融点は９２℃。

また、ＨＰＬＣ分析により、化合物（ａ）の純度を測定した。
＜測定条件＞
装置：Ｌ−２１３０（（株）日立ハイテクノロジーズ製）
使用カラム：ＳＵＭＩＰＡＸＯＤＳＡ−２１２６×１５０ｍｍ５μｍ
カラム温度：４０℃
移動相：メタノール／水＝９９／１
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
＜測定結果＞
ＨＰＬＣ面百純度：９９．９％
なお、以下の化合物（ｂ）も化合物（ａ）と同様の測定条件でＨＰＬＣ分析を行った。

また、化合物（ａ）の紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λｍａｘは３５０ｎｍであり、この時の吸光度εは３０９００であった。スペクトルの測定条件は次のとおりである。
＜測定条件＞
装置：ＵＶ−２４５０（(株)島津製作所製)
測定波長：２５０〜４５０ｎｍ
溶媒：クロロホルム
濃度：１０ｐｐｍ
セル：１ｃｍ石英
なお、以下の化合物（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）も化合物（ａ）と同様の測定条件で紫外〜可視吸収スペクトルの測定を行った。

また、化合物（ａ）のＮＭＲ解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
＜測定条件＞
装置：ＪＥＯＬＡＬ−３００
共鳴周波数：３００ＭＨｚ（１Ｈ−ＮＭＲ）
溶媒：クロロホルム−ｄ
１Ｈ−ＮＭＲの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値（ｐｐｍ）、カップリング定数はＨｅｒｔｚで示した。またｓはｓｉｎｇｌｅｔ、ｄはｄｏｕｂｌｅｔ、ｔはｔｒｉｐｌｅｔ、ｄｄはｄｏｕｂｌｅｄｏｕｂｌｅｔ、ｍはｍｕｌｔｉｐｌｅｔ、ｂはｂｒｏａｄの略とする。以下の化合物（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）においても同様である。得られたＮＭＲスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ＝１１．３（ｓ，ＯＨ），８．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．７８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．９２Ｈｚ，Ｊ＝０．９６Ｈｚ，Ｊ＝０．８７Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ)，７．０−７．３（ｍ，２Ｈ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９１Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ＝２．９４Ｈｚ，Ｊ＝３．０６Ｈｚ，＝ＣＨ_２−Ｈ），６．１７（ｓ，１Ｈ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），５．６１（ｔ，１Ｈ，＝ＣＨ_２−Ｈ），４．５７（ｔ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），４．３２（ｔ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ，ｐＨ−Ｏ−ＣＨ_２−Ｈ)，１．８０（ｍ，２Ｈ，ＣＨ_２−Ｈ），１．２−１．６（ｍ，１０Ｈ，（ＣＨ_２）５−Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３−Ｈ）

（中間体合成例３）
［化合物（ｂ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレートの合成］

化合物（ｂ）

メタクリル酸をアクリル酸とした以外は中間体合成例２と同様にして、化合物（ｂ）を収率４３％（２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−５−オクチルオキシフェノールから）で得た。融点８６℃、ＨＰＬＣ面百純度９８．７％、最大吸収波長λｍａｘが３５１ｎｍの時の吸光度εは２９７００であった。

また、化合物（ｂ）のＮＭＲ解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
＜測定条件＞
装置：ＶＡＲＩＡＮＭｅｒｃｕｒｙ３００
共振周波数：３００ＭＨｚ（１Ｈ−ＮＭＲ）
溶媒：クロロホルム−ｄ
得られたＮＭＲスペクトルの内容は以下のとおりである。なお、以下の化合物（ｃ）、（ｄ）も化合物（ｂ）と同様の測定条件でＮＭＲ測定を行った。
δ＝１１．３（ｂ，ＯＨ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０７Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０７Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），7．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），７．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），７．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８１，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ，），６．６７（ｓ，１Ｈ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．６０（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨ_２−Ｈ），６．２０（ｑ，１Ｈ，ＣＨ＝−Ｈ），５．８９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，Ｊ＝０．６６Ｈｚ，Ｊ＝０．７５Ｈｚ，＝ＣＨ_２−Ｈ），４．３２（ｔ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），０．８−２（ｍ，１７Ｈ，ｎ−Ｃ８Ｈ１７−Ｈ）

（中間体合成例４）
［化合物（ｃ）；２−［２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートの合成］

化合物（ｃ）

２００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールを１７．０ｇ（０．０６６モル）、メチルイソブチルケトン３５ｍｌ、１−ブロモブタン９．２ｇ（０．０６７モル）、炭酸ナトリウム５．６ｇ（０．０５３モル）、ヨウ化カリウム４．９ｇを入れて１０５〜１１５℃で４時間還流撹拌した。水３５ｍｌを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水３５ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン３５ｍｌを減圧で回収後にイソプロピルアルコール１００ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール２０ｍｌで洗浄し、乾燥して、５−ブトキシ−２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを１５．０ｇ得た。

５００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−ブトキシ−２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを１５．０ｇ（０．０４８モル）、４７％臭化水素酸９．９ｇ（０．０５８モル）、スルホラン１４５ｍｌを入れて１００〜１０５℃で４８時間撹拌した。トルエン７０ｍｌ、水２００ｍｌを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水１００ｍｌで２回洗浄し、トルエン７０ｍｌを減圧で回収した。イソプロピルアルコール３０ｍｌ、水１５ｍｌを加えて、５℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液（７０％Ｖ／Ｖ）２０ｍｌで洗浄し、乾燥して、５−ブトキシ−２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを６．２ｇ得た。

２００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−ブトキシ−２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを６．２ｇ（０．０２１モル）、メチルイソブチルケトン５０ｍｌ、２−クロロエタノール７．４ｇ（０．０９２モル）、炭酸ナトリウム４．９ｇ（０．０４６モル）、ヨウ化カリウム０．２ｇを入れて１１３〜１１８℃で１０時間還流脱水した。水５０ｍｌを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水５０ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン５０ｍｌを減圧で回収後にイソプロピルアルコール２５ｍｌを加えて５℃まで冷却し、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール１５ｍｌで洗浄し、乾燥して、５−ブトキシ−２−（５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを３．４ｇ得た。

２００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−ブトキシ−２−（５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを３．４ｇ（０．０１０モル）、トルエン４０ｍｌ、メタクリル酸１．７ｇ（０．０２０モル）、メタンスルホン酸０．２ｇ（０．００２モル）を入れて、１１０〜１１５℃で４時間還流脱水した。水３０ｍｌ、炭酸ナトリウム０．７ｇ（０．００７モル）を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭０．１ｇを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時にろ過し、ろ液からトルエン４０ｍｌを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール３０ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール１５ｍｌで洗浄した後、減圧下４０℃で乾燥し、白色結晶を２．７ｇ得た。この２．７ｇをイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下４０℃で乾燥し、化合物（ｃ）を２．２ｇ得た。収率８％（４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールから）であった。融点１０１℃、最大吸収波長λｍａｘが３５１ｎｍの時の吸光度εは２９１００であった。

また、ＨＰＬＣ分析により、化合物（ｃ）の純度を測定した。
＜測定条件＞
装置：Ｌ−２１３０（（株）日立ハイテクノロジーズ製）
使用カラム：ＩｎｅｒｔｓｉｌＯＤＳ−３４．６×１５０ｍｍ５μｍ
カラム温度：２５℃
移動相：アセトニトリル／水＝９／１（リン酸３ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
＜測定結果＞
ＨＰＬＣ面百純度：９８．７％
なお、以下の化合物（ｄ）も化合物（ｃ）と同様の測定条件でＨＰＬＣ測定を行った。

また、化合物（ｃ）のＮＭＲ解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたＮＭＲスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ＝１１．３（ｂ，ＯＨ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２４Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．８０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，Ｊ＝０．６６Ｈｚ，Ｊ＝０．６６Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３１Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６４Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，Ｊ＝２．６４Ｈｚ，Ｊ＝２．６４Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ，），６．１８（ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ_２−Ｈ），５．６２（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨ_２−Ｈ），０．９−２．１（ｍ，３Ｈ，９Ｈ，ＣＨ_３，ｎ−Ｃ４Ｈ９−Ｈ）

（中間体合成例５）
［化合物（ｄ）；２−［２−（４−エトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートの合成］

化合物（ｄ）

２００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールを１０．０ｇ（０．０３９モル）、メチルイソブチルケトン４０ｍｌ、ブロモエタン６．４ｇ（０．０５９モル）、炭酸ナトリウム３．３ｇ（０．０３１モル）、ヨウ化カリウム３．０ｇを入れて９５〜１１０℃で６時間還流撹拌した。水２０ｍｌを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水２０ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン４０ｍｌを減圧で回収後にイソプロピルアルコール１００ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール２５ｍｌで洗浄し、乾燥して、５−エトキシ−２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを８．２ｇ得た。

５００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−エトキシ−２−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを８．２ｇ（０．０２９モル）、４７％臭化水素酸６．２ｇ（０．０３６モル）、スルホラン８２ｍｌを入れて１００〜１０５℃で３３時間撹拌させた。トルエン５０ｍｌ、水１６５ｍｌを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水８０ｍｌで洗浄し、トルエン５０ｍｌを減圧で回収した。イソプロピルアルコール３５ｍｌ、水１５ｍｌを加えて、５℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液（７０％Ｖ／Ｖ）２０ｍｌで洗浄し、乾燥して、５−エトキシ−２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを４．６ｇ得た。

２００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−エトキシ−２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールを４．６ｇ（０．０１７モル）、メチルイソブチルケトン３５ｍｌ、２−クロロエタノール１．７ｇ（０．０２１モル）、炭酸ナトリウム１．１ｇ（０．０１０モル）、ヨウ化カリウム０．９ｇを入れて、１１３〜１１８℃で８時間還流脱水した。水３０ｍｌを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水３０ｍｌで洗浄した。メチルイソブチルケトン３５ｍｌを減圧で回収し、５−エトキシ−２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］フェノールの固形分を５．０ｇ得た。

３００ｍｌの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、５−エトキシ−２−［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］フェノールの固形分を５．０ｇ（０．０１６モル）、トルエン１００ｍｌ、メタクリル酸２．７ｇ（０．０３１モル）、メタンスルホン酸２．０ｇ（０．０２１モル）を入れて、１１０〜１１５℃で４時間還流脱水した。水８０ｍｌ、炭酸ナトリウム１．９ｇ（０．０１８モル）を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭０．１ｇを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時ろ過し、ろ液からトルエン１００ｍｌを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール３０ｍｌを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール２０ｍｌで洗浄した後、減圧下４０℃で乾燥し、白色結晶を３．２ｇ得た。この３．２ｇをイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下４０℃で乾燥し、化合物（ｄ）を１．６ｇ得た。収率１１％（４−（５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールから）であった。融点１５６℃、ＨＰＬＣ面百純度９８．１％、最大吸収波長λｍａｘが３５０ｎｍの時の吸光度εは２９０００であった。

また、化合物（ｄ）のＮＭＲ解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたＮＭＲスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ＝１１．３（ｂ，ＯＨ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０７Ｈｚ，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．７２，ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ−Ｈ），７．１６（ｍ，１Ｈ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６４Ｈｚ，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ），６．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．２，Ｊ＝２．８，Ｊ＝２．６４，ｐｈｅｎｏｌ−Ｈ，），６．１７（ｓ，１Ｈ，Ｃ＝ＣＨ_２−Ｈ），５．６１（ｔ，１Ｈ，＝ＣＨ_２−Ｈ），４．５８（ｍ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），４．３２（ｔ，２Ｈ，Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｈ），４．０８（ｑ，２Ｈ，−ＣＨ_２−ＣＨ_３−Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｃ＝ＣＨ_２−ＣＨ_３−Ｈ），１．５７（ｔ，３Ｈ，ＣＨ_２−ＣＨ_３−Ｈ）

（合成例１）
［重合体（ａ）；化合物（ａ）の濃度０．０２５Ｍの単独重合］
１００ｍｌのガラス管に、化合物（ａ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートを０．２３４ｇ（０．０００５モル）、ベンゼン２０ｍｌ、ベンゾイルパーオキサイド０．０９７ｇ（０．０００４モル）を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を９０℃のオイルバスに入れて２４時間重合させた。重合溶液を１００ｍｌフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム１０ｍｌを加えて生成物を溶解させ、その溶液を２００ｍｌのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン１００ｍｌで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の重合体（ａ）を０．１４７ｇ得た。

また、重合体（ａ）の分子量を測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）は１１２００、数平均分子量（Ｍｎ）は３３３０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．３６であった。測定条件は次のとおりである。なお、以下の重合体（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）も重合体（ａ）と同様の測定条件で分子量測定を行った。
＜測定条件＞
装置：ＬＣ−１０ＡＤ（（株）島津製作所製）
溶離液：クロロホルム
カラム：ＳｈｏｄｅｘＫ−８０７Ｌ、ＳｈｏｄｅｘＫ８０５Ｌ、ＳｈｏｄｅｘＫ−８０４Ｌ（昭和電工（株）製）
吸収スペクトル削除

（合成例２）
［重合体（ｂ）；化合物（ａ）の濃度０．０５０Ｍの単独重合］
１００ｍｌのガラス管に、化合物（ａ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートを０．４６８ｇ（０．００１モル）、ベンゼン２０ｍｌ、ベンゾイルパーオキサイド０．０９７ｇ（０．０００４モル）を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を９０℃のオイルバスに入れて２４時間重合させた。重合溶液を１００ｍｌフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム１０ｍｌを加えて生成物を溶解させ、その溶液を２００ｍｌのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン１００ｍｌで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の重合体（ｂ）を０．３３７ｇ得た。

また、重合体（ｂ）の分子量を測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４６００、数平均分子量（Ｍｎ）は６４７０、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２５であった。

（比較合成例１）
［重合体（ｃ）；化合物（ａ）の濃度０．０７５Ｍの単独重合］
１００ｍｌのガラス管に、化合物（ａ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートを０．７０２ｇ（０．００１５モル）、ベンゼン２０ｍｌ、ベンゾイルパーオキサイド０．０９７ｇ（０．０００４モル）を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を９０℃のオイルバスに入れて２４時間重合させた。重合溶液を１００ｍｌフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム１５ｍｌを加えて生成物を溶解させ、その溶液を３００ｍｌのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン１００ｍｌで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の重合体（ｃ）を０．５９７ｇ得た。

また、重合体（ｃ）の分子量を測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）は２５７００、数平均分子量（Ｍｎ）は１００００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５７であった。

（比較合成例２）
［重合体（ｄ）；化合物（ａ）の濃度０．１Ｍの単独重合］
１００ｍｌのガラス管に、化合物（ａ）；２−［２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレートを０．９３６ｇ（０．００２モル）、ベンゼン２０ｍｌ、ベンゾイルパーオキサイド０．０９７ｇ（０．０００４モル）を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を９０℃のオイルバスに入れて２４時間重合させた。重合溶液を１００ｍｌフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム２０ｍｌを加えて生成物を溶解させ、その溶液を４００ｍｌのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン１００ｍｌで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の重合体（ｄ）を０．８６１ｇ得た。
また、重合体（ｄ）の分子量を測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）は５４９００、数平均分子量（Ｍｎ）は１７１００、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２１であった。

（実施例１）
[樹脂組成物の作製]
合成例１で得られた重合体（ａ）と、ポリスチレン、ポリカーボネート、またはポリメタクリル酸メチルと、ジクロロメタンを表１で示す比率で混合し、紫外線吸収剤を含有した樹脂組成物の溶液を得た。得られた紫外線吸収剤を含有した樹脂組成物の溶液２０ｍｌを、直径１２ｃｍのシャーレに移し、２５℃での常圧乾燥を４８時間実施して溶媒を除去し、膜厚２０μｍの紫外線吸収剤を１％または２０％含んだ樹脂組成物を得た。また、比較として、重合体（ｃ）及び重合体（ｄ）と、従来の一般的な紫外線吸収剤である化合物（ｅ）；２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールを含有する樹脂組成物も同様に作製した。

[耐熱性の測定]
上記で得られた紫外線吸収剤を２０％含んだ樹脂組成物の耐熱性を、示差熱熱重量同時測定装置を用いて測定した結果を、表２に示す。

[光沢度の測定]
上記で得られた紫外線吸収剤を１％含んだ樹脂組成物表面の光沢度を表３に示す。樹脂素材と紫外線吸収剤の相溶性が不十分な場合、紫外線吸収剤が樹脂組成物表面にブリードアウトしてくることから、樹脂組成物表面にざらつきが出て、光沢度が低下する。よって光沢度は、樹脂素材と紫外線吸収剤の相溶性の指標となる。

表２より、数平均分子量が２０００〜８０００であるベンゾトリアゾール系重合体（ａ）を含む樹脂組成物は、一般的な紫外線吸収剤である化合物（ｅ）を含む樹脂組成物と比較して、各種の樹脂素材で５％重量減少温度が高く、高温時の揮散や分解が起こりにくく高い耐熱性があることがわかる。また、表３より、数平均分子量が２０００〜８０００であるベンゾトリアゾール系重合体（ａ）を含む樹脂組成物は、数平均分子量が８０００以上であるベンゾトリアゾール系重合体（ｃ）及び重合体（ｄ）や、一般的な紫外線吸収剤である化合物（ｅ）を含む樹脂組成物と比較して、各種の樹脂素材で同等又は優れた光沢度を示していることから、各種の樹脂素材でブリードアウトが起こりにくい性質をもつことがわかり、有用な樹脂組成物であることがわかる。なお、耐熱性、および光沢度の測定条件は、以下の通りである。

＜耐熱性測定条件＞
装置：ＴＧ／ＤＴＡ６３００（セイコーインスツル（株）製)
測定温度：１００〜５００℃
昇温速度：１０℃／分
測定雰囲気：窒素

＜光沢度測定条件＞
装置：ＵＮＩＧＬＯＳＳ６０（コニカミノルタセンシング（株）製)
測定角度：６０°

本発明の樹脂組成物は、耐熱性が高いことから、加工工程における紫外線吸収性成分である前記単独重合体の揮散や分解がなく、さらに前記樹脂素材と前記単独重合体との相溶性が高いことから、ブリードアウトが起こりにくく、紫外線吸収用途の樹脂組成物として好適に利用できる。

Claims

下記の一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物の単独重合体が樹脂素材に含まれる樹脂組成物であって、前記単独重合体の数平均分子量が２０００〜８０００の範囲にある樹脂組成物。

一般式（１）
［式中、Ｒ_１は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基、トリル基、ホルミル基、アルキル炭素数１〜７のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、Ｒ_２は炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ_３は水素原子またはメチル基を表す］
前記単独重合体を構成する前記ベンゾトリアゾール誘導体化合物において、前記一般式（１）のＲ_１が炭素数２〜８のアルキル基であり、Ｒ_２がエチレン基である請求項１記載の樹脂組成物。
前記単独重合体が、前記樹脂素材に対して０.０１〜２０重量％の範囲で含まれている請求項１または２記載の樹脂組成物。