JP6877563B2 - Compound manufacturing method and compound - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 320
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 71
- -1 R 31 Chemical compound 0.000 claims description 131
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 54
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 46
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 43
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 107
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 74
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 53
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine hydrate Chemical compound O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 41
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 36
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 36
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 33
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 27
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 25
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 23
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 17
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 101100132433 Arabidopsis thaliana VIII-1 gene Proteins 0.000 description 11
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 11
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 11
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 10
- 101100459319 Arabidopsis thaliana VIII-2 gene Proteins 0.000 description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 8
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- ZLBLYGIIADHDKG-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-disulfonic acid;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O ZLBLYGIIADHDKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 4
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001602 bicycloalkyls Chemical group 0.000 description 3
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 3
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 2,2-diethylpropanedioate Chemical compound CCC(CC)(C([O-])=O)C([O-])=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanal Chemical compound CCCCC(CC)C=O LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006598 aminocarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004657 aryl sulfonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 2
- 0 *C(N(*)N(*)C(*)=O)=O Chemical compound *C(N(*)N(*)C(*)=O)=O 0.000 description 1
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NCWDBNBNYVVARF-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxaborolane Chemical group B1OCCO1 NCWDBNBNYVVARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine Chemical group C1CSCN1 OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 1-bromohexane Chemical compound CCCCCCBr MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 3-(bromomethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)CBr NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPSNMXSUNGTIDG-UHFFFAOYSA-N O.O.O.O.C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC=C21 Chemical compound O.O.O.O.C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC=C21 GPSNMXSUNGTIDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003806 alkyl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004656 alkyl sulfonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004658 aryl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002350 geranyl group Chemical group [H]C([*])([H])/C([H])=C(C([H])([H])[H])/C([H])([H])C([H])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000006216 methylsulfinyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)=O 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-L naphthalene-1,5-disulfonate(2-) Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- NOPZJEGEHWRZSE-UHFFFAOYSA-N octadecyl formate Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC=O NOPZJEGEHWRZSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001844 prenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000003696 stearoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C241/00—Preparation of compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
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- C07C241/00—Preparation of compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
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- C07C243/00—Compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
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- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C309/29—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of non-condensed six-membered aromatic rings
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- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C309/33—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems
- C07C309/34—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems formed by two rings
- C07C309/35—Naphthalene sulfonic acids
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
本発明は、化合物およびその製造方法に関する。より詳しくは、ヒドラジン化合物のスルホン酸塩およびその製造方法、ならびに、ヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a compound and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a sulfonate of a hydrazine compound and a method for producing the same, and a method for producing an acid hydrazide compound derived from the hydrazine compound.
ヒドラジン化合物のスルホン酸塩の製造方法についてはいくつかの方法が知られている。例えば、特許文献1の実施例3には、ヒドラジンと2−エチルヘキサナールとを反応させて式(E−6)で表される化合物を合成した後、式(E−6)で表される化合物とエタノールとパラジウム−炭素触媒とをオートクレーブ中に加えて、40気圧になるまで水素を充填し、80℃で5時間攪拌して、式(D−6)で表される化合物のエタノール溶液を調製し、このエタノール溶液にナフタレン1,5−ジスルホン酸4水和物を添加して式(D−6)で表される化合物のナフタレン1,5−ジスルホン酸塩を製造することが記載されている。
従来より知られているヒドラジン化合物のスルホン酸塩の製造方法においては、中性のヒドラジン化合物を製造したのち、中性のヒドラジン化合物とスルホン酸とを反応させて製造している。特許文献1においても、中性のヒドラジン化合物である式(D−6)で表される化合物を合成し、この化合物とナフタレン1,5−ジスルホン酸4水和物とを反応させてヒドラジン化合物のスルホン酸塩としている。 In the conventionally known method for producing a sulfonate compound of a hydrazine compound, a neutral hydrazine compound is produced and then the neutral hydrazine compound is reacted with a sulfonic acid to produce the sulfonate. Also in Patent Document 1, a compound represented by the formula (D-6), which is a neutral hydrazine compound, is synthesized, and this compound is reacted with naphthalene 1,5-disulfonic acid tetrahydrate to obtain a hydrazine compound. It is a sulfonate.
しかしながら、中性のヒドラジン化合物は、分解しやすい化合物であるため、換気などを十分に行う必要があり、製造時の安全性に注意が必要であった。また、中性のヒドラジン化合物は、分解しやすい化合物であるため、最終生成物の収率が低下し易い傾向にあった。 However, since the neutral hydrazine compound is a compound that is easily decomposed, it is necessary to sufficiently ventilate the compound, and it is necessary to pay attention to the safety at the time of production. Further, since the neutral hydrazine compound is a compound that is easily decomposed, the yield of the final product tends to decrease.
よって、本発明の目的は、安全で、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる化合物の製造方法を提供することにある。また、安全で、収率よくヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物を製造できる化合物の製造方法を提供することにある。また、安全性に優れたヒドラジン化合物のスルホン酸塩を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a compound capable of producing a sulfonate of a hydrazine compound in a safe and high yield. Another object of the present invention is to provide a method for producing a compound capable of producing an acid hydrazide compound derived from a hydrazine compound in a safe and high yield. Another object of the present invention is to provide a sulfonate of a hydrazine compound having excellent safety.
本発明者の検討によれば、後述する式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物とを反応させることにより、中性のヒドラジン化合物の製造工程を経由することなくヒドラジン化合物のスルホン酸塩である後述する式(II)で表わされる化合物を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
<1> 式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物とを反応させることを含む、式(IV)で表わされる化合物の製造方法;
mは正の整数を表し、qは正数を表し、
R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。
<2> 式(II)で表される化合物のモル数に対する、式(III)で表される化合物のモル数とmの数との積の比が1.0以上である、<1>に記載の化合物の製造方法。
<3> 式(IV)で表わされる化合物が式(I)で表わされる化合物である、<1>または<2>に記載の化合物の製造方法;
<4> <1>〜<3>のいずれかに記載の化合物の製造方法により式(IV)で表わされる化合物を得たのち、式(IV)で表わされる化合物と式(V)で表わされる化合物とを反応させることを含む、式(VI)で表わされる化合物の製造方法;
<5> <1>〜<3>のいずれかに記載の化合物の製造方法により式(IV)で表わされる化合物を得たのち、式(IV)で表わされる化合物と式(VII)で表わされる化合物とを反応させることを含む、式(VIII)で表わされる化合物の製造方法;
<6> 式(I)で表わされる化合物;
<7> R21およびR22が各々独立に炭素数1〜10の直鎖アルキル基である、<6>に記載の化合物。
<8> R32がアリール基である、<6>または<7>に記載の化合物。
<9> 示差走査熱量分析における発熱開始温度が150℃以上である、<6>〜<8>のいずれかに記載の化合物。
<10> <4>または<5>に記載の化合物の製造方法に用いられる、<6>〜<9>のいずれかに記載の化合物。
<11> 式(VI)で表される化合物または式(VIII)で表される化合物の前駆体である、<6>〜<9>のいずれかに記載の化合物;
<1> A method for producing a compound represented by the formula (IV), which comprises reacting a compound represented by the formula (II) with a compound represented by the formula (III);
m represents a positive integer, q represents a positive number,
R 21 and R 22 may be combined with each other to form a ring.
<2> In <1>, the ratio of the product of the number of moles of the compound represented by the formula (III) to the number of m to the number of moles of the compound represented by the formula (II) is 1.0 or more. The method for producing the compound described.
<3> The method for producing a compound according to <1> or <2>, wherein the compound represented by the formula (IV) is a compound represented by the formula (I);
<4> After obtaining the compound represented by the formula (IV) by the method for producing the compound according to any one of <1> to <3>, the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (V) are represented. A method for producing a compound represented by the formula (VI), which comprises reacting with the compound;
<5> After obtaining the compound represented by the formula (IV) by the method for producing the compound according to any one of <1> to <3>, the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (VII) are represented. A method for producing a compound represented by the formula (VIII), which comprises reacting with the compound;
<6> Compound represented by formula (I);
<7> The compound according to <6>, wherein R 21 and R 22 are independently linear alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
<8> The compound according to <6> or <7>, wherein R 32 is an aryl group.
<9> The compound according to any one of <6> to <8>, wherein the heat generation start temperature in the differential scanning calorimetry is 150 ° C. or higher.
<10> The compound according to any one of <6> to <9>, which is used in the method for producing the compound according to <4> or <5>.
<11> The compound according to any one of <6> to <9>, which is a precursor of the compound represented by the formula (VI) or the compound represented by the formula (VIII);
本発明によれば、安全で、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる化合物の製造方法を提供することができる。また、安全で、収率よくヒドラジン化合物に由来する酸ヒドラジド化合物を製造できる化合物の製造方法を提供することができる。また、安全性に優れたヒドラジン化合物のスルホン酸塩を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a compound capable of producing a sulfonate of a hydrazine compound in a safe and high yield. Further, it is possible to provide a method for producing a compound capable of producing an acid hydrazide compound derived from a hydrazine compound in a safe and high yield. Further, it is possible to provide a sulfonate of a hydrazine compound having excellent safety.
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程を意味するだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail.
In the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation not describing substitution and non-substitution includes a group having a substituent as well as a group having no substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
The numerical range represented by using "~" in the present specification means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value.
In the present specification, the total solid content means the total amount of the components excluding the solvent from all the components of the composition.
As used herein, the term "process" not only means an independent process, but also the term "process" as long as the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. include.
<式(IV)で表わされる化合物の製造方法>
本発明の化合物の製造方法は、式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物とを反応させることを含む、式(IV)で表わされる化合物の製造方法である。
mは正の整数を表し、qは正数を表し、
R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。<Method for producing the compound represented by the formula (IV)>
The method for producing a compound of the present invention is a method for producing a compound represented by the formula (IV), which comprises reacting a compound represented by the formula (II) with a compound represented by the formula (III).
m represents a positive integer, q represents a positive number,
R 21 and R 22 may be combined with each other to form a ring.
本発明によれば、中性のヒドラジン化合物の製造工程を経ることなく、ヒドラジン化合物のスルホン酸塩である式(IV)で表わされる化合物を製造することができる。このため、安全で、かつ、収率よくヒドラジン化合物のスルホン酸塩を製造できる。 According to the present invention, the compound represented by the formula (IV), which is a sulfonate of the hydrazine compound, can be produced without going through the process of producing the neutral hydrazine compound. Therefore, the sulfonate of the hydrazine compound can be produced safely and in high yield.
式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。 The reaction between the compound represented by the formula (II) and the compound represented by the formula (III) may be carried out in the presence of a solvent or may be carried out without using a solvent. Further, the above-mentioned reaction may be carried out by adding an acid, a base, a salt, an inorganic compound or the like.
溶媒としては、水、アミド系溶媒(例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチルー2−ピロリドン)、スルホン系溶媒(例えばスルホラン)、スルホキシド系溶媒(例えばジメチルスルホキシド)、ウレイド系溶媒(例えばテトラメチルウレア)、アルコール系溶媒(例えばメタノール、オクタノール、ベンジルアルコール)、エーテル系溶媒(例えばジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン)、ケトン系溶媒(例えばアセトン、シクロヘキサノン)、炭化水素系溶媒(例えばトルエン、キシレン、メシチレン、n−オクタン、n−ドデカン)、ハロゲン系溶媒(例えばクロロベンセン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン)、ピリジン系溶媒(例えばピリジン、γ―ピコリン、2,6−ルチジン)およびニトリル系溶媒(例えばアセトニトリル)が挙げられ、これらを単独で或いは混合して用いることが好ましい。これらの溶媒のうち好ましくは、水、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒およびニトリル系溶媒であり、より好ましくは、水、アルコール系溶媒、スルホン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒およびハロゲン系溶媒であり、更に好ましくは水、アルコール系溶媒およびエーテル系溶媒であり、特に好ましくは、水およびアルコール系溶媒である。 Examples of the solvent include water, amide-based solvents (for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone), sulfone-based solvents (for example, sulfolane), sulfoxide-based solvents (for example, dimethylsulfoxide), and the like. Ureid solvents (eg tetramethylurea), alcohol solvents (eg methanol, octanol, benzyl alcohol), ether solvents (eg dioxane, anisole, tetrahydrofuran), ketone solvents (eg acetone, cyclohexanone), hydrocarbon solvents (eg acetone, cyclohexanone) For example, toluene, xylene, mesitylene, n-octane, n-dodecane), halogen solvents (eg chlorobenzene, tetrachloroethane, dichlorobenzene), pyridine solvents (eg pyridine, γ-picolin, 2,6-rutidine) and nitriles. Examples of the system solvent (for example, acetonitrile) are mentioned, and it is preferable to use these alone or in combination. Of these solvents, water, alcohol-based solvents, amide-based solvents, sulfone-based solvents, sulfoxide-based solvents, ureido-based solvents, ether-based solvents, hydrocarbon-based solvents, halogen-based solvents and nitrile-based solvents are preferable. Water, alcohol-based solvent, sulfone-based solvent, ether-based solvent, hydrocarbon-based solvent and halogen-based solvent are preferable, water, alcohol-based solvent and ether-based solvent are more preferable, and water and alcohol are particularly preferable. It is a system solvent.
式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物との反応温度は、0〜250℃が好ましい。下限は10℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましく、25℃以上が更に好ましく、30℃以上が特に好ましい。上限は、200℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましく、70℃以下が更に好ましく、60℃以下が特に好ましい。 The reaction temperature of the compound represented by the formula (II) and the compound represented by the formula (III) is preferably 0 to 250 ° C. The lower limit is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, further preferably 25 ° C. or higher, and particularly preferably 30 ° C. or higher. The upper limit is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, further preferably 70 ° C. or lower, and particularly preferably 60 ° C. or lower.
式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物は、式(II)で表される化合物のモル数に対する、式(III)で表される化合物のモル数とmの数との積の比(式(III)で表される化合物のモル数とmの数との積/式(II)で表される化合物のモル数)が0.01以上となる割合で反応させることが好ましく、0.1以上となる割合で反応させることがより好ましく、0.8以上となる割合で反応させることが更に好ましく、収率の観点から1.0以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、1.5以上となる割合で反応させることが特に好ましく、1.8以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、収率の観点から10.0以下であることが好ましく、6.0以下であることがより好ましく、5.0以下であることが更に好ましく、4.0以下であることがより一層好ましく、3.0以下であることが特に好ましく、2.5以下であることが最も好ましい。 The compound represented by the formula (II) and the compound represented by the formula (III) are the number of moles and m of the compound represented by the formula (III) with respect to the number of moles of the compound represented by the formula (II). The reaction is carried out at a ratio of the product of and (the product of the number of moles of the compound represented by the formula (III) and the number of m / the number of moles of the compound represented by the formula (II)) of 0.01 or more. The reaction is preferably 0.1 or more, more preferably 0.8 or more, and 1.0 or more from the viewpoint of yield. Is even more preferable, and the reaction is particularly preferably at a ratio of 1.5 or more, and most preferably at a ratio of 1.8 or more. The upper limit of the above-mentioned ratio is preferably 10.0 or less, more preferably 6.0 or less, further preferably 5.0 or less, and 4.0 or less from the viewpoint of yield. More preferably, it is particularly preferably 3.0 or less, and most preferably 2.5 or less.
次に、式(II)で表わされる化合物、式(III)で表わされる化合物および式(IV)で表わされる化合物について説明する。 Next, the compound represented by the formula (II), the compound represented by the formula (III), and the compound represented by the formula (IV) will be described.
(式(II)で表される化合物)
R21およびR22が表す脂肪族基の炭素数は、1〜30が好ましく、1〜20がより好ましく、1〜15が更に好ましく、1〜10が特に好ましく、1〜7が最も好ましい。脂肪族基の種類としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアラルキル基が挙げられ、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアラルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tで説明した基が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、1〜30が好ましく、1〜20がより好ましく、1〜15が更に好ましく、1〜10が特に好ましく、1〜7が最も好ましい。アルキル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。また、環状のアルキル基、および環状のアルコキシ基のアルキル基部位は、単環のシクロアルキル基であってもよく、多環アルキル基(ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基など)であってもよい。
アルケニル基の炭素数は、2〜30が好ましく、2〜20がより好ましく、2〜15が更に好ましく、2〜10が特に好ましく、2〜7が最も好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アルキニル基の炭素数は、2〜30が好ましく、2〜20がより好ましく、2〜15が更に好ましく、2〜10が特に好ましく、2〜7が最も好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐および環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
アラルキル基の炭素数は、7〜30が好ましく、7〜20がより好ましく、7〜15が更に好ましい。アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。The number of carbon atoms of the aliphatic group represented by R 21 and R 22 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, further preferably 1 to 15, particularly preferably 1 to 10, and most preferably 1 to 7. Examples of the type of the aliphatic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group and an aralkyl group, and an alkyl group or an alkenyl group is preferable, and an alkyl group is more preferable. The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include the group described in Substituent T described later.
The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, further preferably 1 to 15, particularly preferably 1 to 10, and most preferably 1 to 7. The alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear. Further, the alkyl group moiety of the cyclic alkyl group and the cyclic alkoxy group may be a monocyclic cycloalkyl group or a polycyclic alkyl group (bicycloalkyl group, tricycloalkyl group, etc.). ..
The alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, further preferably 2 to 15 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and most preferably 2 to 7 carbon atoms. The alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
The alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, further preferably 2 to 15 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and most preferably 2 to 7 carbon atoms. The alkynyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
The carbon number of the aralkyl group is preferably 7 to 30, more preferably 7 to 20, and even more preferably 7 to 15. The alkyl moiety of the aralkyl group is the same as the above alkyl group. The aryl moiety of the aralkyl group is the same as the following aryl group.
芳香族基としては、アリール基が挙げられる。芳香族基の炭素数は6〜40が好ましく、6〜30がより好ましく、6〜20が更に好ましく、6〜15が特に好ましく、6〜12が最も好ましい。アリール基としてはフェニル基およびナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tで説明した基が挙げられる。 Examples of the aromatic group include an aryl group. The number of carbon atoms of the aromatic group is preferably 6 to 40, more preferably 6 to 30, further preferably 6 to 20, particularly preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 12. As the aryl group, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the group described in Substituent T described later.
複素環基における複素環は5員または6員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環基は炭素原子の部位が連結手であることが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環の環を構成するヘテロ原子としては、B、N、O、S、SeおよびTeが挙げられ、N、OおよびSが好ましい。
好ましい複素環基の炭素原子数は1〜40であり、より好ましくは1〜30であり、更に好ましくは1〜20である。複素環基における飽和複素環の例として、ピロリジン環、モルホリン環、2−ボラ−1,3−ジオキソラン環および1,3−チアゾリジン環が挙げられる。複素環基における不飽和複素環の例として、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が挙げられる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては後述する置換基Tで説明した基が挙げられる。The heterocycle in the heterocyclic group preferably contains a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocycle. It is preferable that the site of the carbon atom of the heterocyclic group is a linking hand. The heterocycle may be fused with an aliphatic ring, an aromatic ring or another heterocycle. Examples of the heteroatom constituting the ring of the heterocycle include B, N, O, S, Se and Te, and N, O and S are preferable.
The number of carbon atoms of the preferred heterocyclic group is 1 to 40, more preferably 1 to 30, and even more preferably 1 to 20. Examples of saturated heterocycles in the heterocyclic group include pyrrolidine ring, morpholine ring, 2-bora-1,3-dioxolane ring and 1,3-thiazolidine ring. Examples of the unsaturated heterocycle in the heterocyclic group include an imidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, a benzotriazole ring, a benzoselenazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a quinoline ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the group described in Substituent T described later.
式(II)において、R21およびR22は各々独立に脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数1〜30の脂肪族基または炭素数6〜30の芳香族基であることがより好ましく、炭素数1〜20の脂肪族基であることが更に好ましく、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数7〜20のアラルキル基であることがより一層好ましく、炭素数1〜15のアルキル基であることが更に一層好ましく、炭素数1〜10の直鎖アルキル基であることが特に好ましく、炭素数1〜7の直鎖アルキル基であることが最も好ましい。In the formula (II), R 21 and R 22 are preferably an aliphatic group or an aromatic group, respectively, and are an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 30 carbon atoms. Is more preferable, an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms is further preferable, and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms is even more preferable. It is even more preferable that it is an alkyl group of 1 to 10, particularly preferably a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and most preferably a linear alkyl group having 1 to 7 carbon atoms.
式(II)において、R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。R21及びR22が結合して形成される環は5または6員の環が好ましい。In formula (II), R 21 and R 22 may be bonded to each other to form a ring. The ring formed by combining R 21 and R 22 is preferably a 5- or 6-membered ring.
(置換基T)
置換基Tとしては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子);
アルキル基〔直鎖、分岐、環状のアルキル基。具体的には、直鎖または分岐のアルキル基(好ましくは炭素数1〜30の直鎖または分岐のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチル基、エイコシル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、2−エチルヘキシル基)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5〜30のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル基)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基(例えばアルキルチオ基のアルキル基)もこのような概念のアルキル基を表す。];
アルケニル基[直鎖、分岐、環状のアルケニル基。具体的には、直鎖または分岐のアルケニル基(好ましくは炭素数2〜30の直鎖または分岐のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基)、シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3〜30のシクロアルケニル基。つまり、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル基、2−シクロヘキセン−1−イル基)、ビシクロアルケニル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル基)を包含するものである。];
アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜30の直鎖または分岐のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基;(Substituent T)
As the substituent T,
Halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom, iodine atom);
Alkyl group [straight, branched, cyclic alkyl group. Specifically, a linear or branched alkyl group (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, n -Octyl group, eicosyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethylhexyl group), cycloalkyl group (preferably cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4- n-dodecylcyclohexyl group), bicycloalkyl group (preferably a bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms, for example, bicyclo [ It also includes 1,2,2] heptan-2-yl group, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl group), and tricyclo structure having many ring structures. The alkyl group among the substituents described below (for example, the alkyl group of the alkylthio group) also represents the alkyl group of such a concept. ];
Alkenyl group [straight, branched, cyclic alkenyl group. Specifically, a linear or branched alkenyl group (preferably a linear or branched alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, an oleyl group), a cycloalkenyl group. (Preferably, it is a cycloalkenyl group having 3 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group from which one hydrogen atom of cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms has been removed. For example, 2-cyclopenten-1-yl group, 2 -Cyclohexene-1-yl group), bicycloalkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent by removing one hydrogen atom of bicycloalkene having one double bond. It is a group, for example, a bicyclo [2,2,1] hept-2-ene-1-yl group, a bicyclo [2,2,2] octo-2-en-4-yl group). .. ];
An alkynyl group (preferably a linear or branched alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms; for example, an ethynyl group, a propargyl group, a trimethylsilylethynyl group;
アリール基(好ましくは炭素数6〜30のアリール基。例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基、m−クロロフェニル基、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル基);
ヘテロ環基(好ましくは5または6員の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数3〜30の5もしくは6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基);
シアノ基;
ヒドロキシル基;
ニトロ基;
カルボキシル基;
アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の直鎖または分岐のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基);
アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6〜30のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基);
シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基);
ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2〜30のヘテロ環オキシ基。例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基);
アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2〜30のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基);Aryl groups (preferably aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, such as phenyl group, p-tolyl group, naphthyl group, m-chlorophenyl group, o-hexadecanoylaminophenyl group);
Heterocyclic group (preferably a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic or non-aromatic heterocyclic compound having 5 or 6 members, and more preferably 5 or 6 members having 3 to 30 carbon atoms. Aromatic heterocyclic groups such as 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyrimidinyl group, 2-benzothiazolyl group);
Cyano group;
Hydroxy group;
Nitro group;
Carboxylic group;
Alkoxy groups (preferably linear or branched alkoxy groups having 1 to 30 carbon atoms, such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, t-butoxy group, n-octyloxy group, 2-methoxyethoxy group);
Aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a 3-nitrophenoxy group, a 2-tetradecanoylaminophenoxy group. );
A silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, for example, a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group);
Heterocyclic oxy group (preferably a heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, for example, 1-phenyltetrazole-5-oxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group);
Acyloxy group (preferably formyloxy group, alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group. Group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group);
カルバモイルオキシ基(好ましくは、炭素数1〜30のカルバモイルオキシ基。例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基);
アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30のアルコキシカルボニルオキシ基。例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基);
アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜30のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基);
アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数6〜30のアニリノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基);
アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基);Carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N-di-n- Octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group);
Alkoxycarbonyloxy groups (preferably alkoxycarbonyloxy groups having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyloxy groups, ethoxycarbonyloxy groups, t-butoxycarbonyloxy groups, n-octylcarbonyloxy groups);
Aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms; for example, a phenoxycarbonyloxy group, a p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, a pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy group);
Amino group (preferably an amino group, an alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, an anilino group having 6 to 30 carbon atoms, for example, an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, an anilino group, an N-methyl-anilino group. , Diphenylamino group);
Acylamino group (preferably formylamino group, alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, for example, formylamino group, acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoyl. Amino group, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group);
アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1〜30のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基);
アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30のアルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ基);
アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7〜30のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基);
スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0〜30のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基);
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜30のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基);
メルカプト基;
アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜30のアルキルチオ基。例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基);
アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基);
ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30のヘテロ環チオ基。例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基);Aminocarbonylamino group (preferably an aminocarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms; for example, a carbamoylamino group, an N, N-dimethylaminocarbonylamino group, an N, N-diethylaminocarbonylamino group, a morpholinocarbonylamino group);
Alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a methoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, a t-butoxycarbonylamino group, an n-octadecyloxycarbonylamino group, an N-methyl-methoxy group. Carbonyl group);
Aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms; for example, a phenoxycarbonylamino group, a p-chlorophenoxycarbonylamino group, an mn-octyloxyphenoxycarbonylamino group);
Sulfamoylamino group (preferably a sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms; for example, a sulfamoylamino group, an N, N-dimethylaminosulfonylamino group, an Nn-octylaminosulfonylamino group);
Alkyl or arylsulfonylamino groups (preferably alkylsulfonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, arylsulfonylamino groups having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonylamino groups, butylsulfonylamino groups, phenylsulfonylamino groups, 2, 3,5-Trichlorophenylsulfonylamino group, p-methylphenylsulfonylamino group);
Mercapto group;
Alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methylthio group, an ethylthio group, an n-hexadecylthio group);
Arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a phenylthio group, a p-chlorophenylthio group, an m-methoxyphenylthio group);
Heterocyclic thio group (preferably a heterocyclic thiogroup having 2 to 30 carbon atoms, for example, 2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazole-5-ylthio group);
スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30のスルファモイル基。例えば、N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N’−フェニルカルバモイル)スルファモイル基);
スルホ基;
アルキル又はアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1〜30のアルキルスルフィニル基、6〜30のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基);
アルキル又はアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、6〜30のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、p−メチルフェニルスルホニル基);Sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, for example, N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsul. Famoyl group, N-benzoyl sulfamoyl group, N- (N'-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group);
Sulfone group;
Alkyl or arylsulfinyl groups (preferably alkylsulfinyl groups having 1 to 30 carbon atoms, arylsulfinyl groups having 6 to 30 carbon atoms, for example, methylsulfinyl groups, ethylsulfinyl groups, phenylsulfinyl groups, p-methylphenylsulfinyl groups);
Alkyl or arylsulfonyl groups (preferably alkylsulfonyl groups with 1 to 30 carbon atoms, arylsulfonyl groups with 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonyl groups, ethylsulfonyl groups, phenylsulfonyl groups, p-methylphenylsulfonyl groups);
アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30のアリールカルボニル基、炭素数4〜30の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、2−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル基、2−ピリジルカルボニル基、2−フリルカルボニル基);
アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7〜30のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、o−クロロフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、p−t−ブチルフェノキシカルボニル基);
アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基);
カルバモイル基(好ましくは、炭素数1〜30のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基);
アリール又はヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素数6〜30のアリールアゾ基、炭素数3〜30のヘテロ環アゾ基。例えば、フェニルアゾ基、p−クロロフェニルアゾ基、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ基);
イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基);
ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2〜30のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基)
ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2〜30のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基);
ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基);
ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2〜30のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基);
シリル基(好ましくは、炭素数3〜30のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基)が挙げられる。An acyl group (preferably a formyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heterocyclic carbonyl group bonded to the carbonyl group with a carbon atom having 4 to 30 carbon atoms, for example. , Acetyl group, pivaloyl group, 2-chloroacetyl group, stearoyl group, benzoyl group, pn-octyloxyphenylcarbonyl group, 2-pyridylcarbonyl group, 2-furylcarbonyl group);
Aryloxycarbonyl groups (preferably aryloxycarbonyl groups having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl groups, o-chlorophenoxycarbonyl groups, m-nitrophenoxycarbonyl groups, pt-butylphenoxycarbonyl groups);
Alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms; for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, an n-octadecyloxycarbonyl group);
Carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, an N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (methyl). Sulfonyl) carbamoyl group);
Aryl or heterocyclic azo groups (preferably arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, for example, phenylazo groups, p-chlorophenylazo groups, 5-ethylthio-1,3,4- Thianazol-2-ylazo group);
Imid group (preferably N-succinimide group, N-phthalimide group);
Phosphino group (preferably a phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a dimethylphosphino group, a diphenylphosphino group, a methylphenoxyphosphino group).
A phosphinyl group (preferably a phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a phosphinyl group, a dioctyloxyphosphinyl group, a diethoxyphosphinyl group);
A phosphinyloxy group (preferably a phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms; for example, a diphenoxyphosphinyloxy group, a dioctyloxyphosphinyloxy group);
A phosphinylamino group (preferably a phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a dimethoxyphosphinylamino group, a dimethylaminophosphinylamino group);
A silyl group (preferably a silyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group) can be mentioned.
上記で挙げた基のうち、水素原子を有する基については、1個以上の水素原子が上記の置換基Tで置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。具体例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。 Among the groups listed above, for a group having a hydrogen atom, one or more hydrogen atoms may be substituted with the above-mentioned substituent T. Examples of such functional groups include alkylcarbonylaminosulfonyl groups, arylcarbonylaminosulfonyl groups, alkylsulfonylaminocarbonyl groups and arylsulfonylaminocarbonyl groups. Specific examples include a methylsulfonylaminocarbonyl group, a p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl group, an acetylaminosulfonyl group, a benzoylaminosulfonyl group and the like.
式(II)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
(式(III)で表される化合物)
R31が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したR21およびR22で説明したものが挙げられる。なかでも、R31は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、芳香族基であることがより好ましく、式(IV)で表わされる化合物の収率および式(IV)で表わされる化合物の安定性の観点から、アリール基であることが更に好ましい。具体的には、R31は、炭素数1〜15の脂肪族基または炭素数6〜15の芳香族基であることが好ましく、炭素数1〜12の脂肪族基または炭素数6〜12の芳香族基であることがより好ましく、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基であることが更に好ましく、炭素数1〜4の直鎖アルキル基、フェニル基またはナフタレン−1,5−ジイル基であることがより一層好ましく、メチル基、フェニル基またはp−トリル基であることが特に好ましく、フェニル基またはp−トリル基であることが最も好ましい。Examples of the aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group represented by R 31 include those described in R 21 and R 22 described above. Among them, R 31 is preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an aromatic group, and the yield of the compound represented by the formula (IV) and the yield of the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (IV). From the viewpoint of stability, it is more preferably an aryl group. Specifically, R 31 is preferably an aliphatic group having 1 to 15 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms, and an aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms or an aliphatic group having 6 to 12 carbon atoms. It is more preferably an aromatic group, further preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group or a naphthalene. It is even more preferably a 1,5-diyl group, particularly preferably a methyl group, a phenyl group or a p-tolyl group, and most preferably a phenyl group or a p-tolyl group.
mは正の整数を表し、1〜3であることが好ましく、1または2であることがより好ましく、式(IV)で表わされる化合物の安定性の観点から、1であることが更に好ましい。 m represents a positive integer, preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1 from the viewpoint of the stability of the compound represented by the formula (IV).
式(III)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
(式(IV)で表される化合物)
R21、R22、R31、mについては、式(II)のR21、R22、式(III)のR31、mと同義であり、好ましい範囲も同様である。式(IV)において、qは正数を表す。mとqの積は、1〜3であることが好ましく、1.5〜2.5がより好ましく、1.8〜2.3が更に好ましく、2が特に好ましい。R 21 , R 22 , R 31 , and m are synonymous with R 21 , R 22 in formula (II) and R 31 , m in formula (III), and the preferred ranges are also the same. In equation (IV), q represents a positive number. The product of m and q is preferably 1 to 3, more preferably 1.5 to 2.5, further preferably 1.8 to 2.3, and particularly preferably 2.
式(IV)においてmは1であることが好ましい。すなわち、式(IV)で表される化合物は、下記の式(I)で表される化合物であることが好ましい。式(I)で表される化合物は、熱分解温度が高く、安定性に優れている。また、式(I)で表される化合物を用いて、後述する式(VI)で表される化合物や式(VIII)で表される化合物を製造することで、これらの化合物を高い収率で製造することができる。このため、これらの化合物の前駆体として好ましく用いることができる。式(I)で表される化合物は、本発明の化合物でもある。
式中、R21、R22およびR32は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、pは正数を表し、R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。R21、R22、R32については、式(II)のR21、R22、式(III)のR31と同義であり、好ましい範囲も同様である。式(I)において、pは正数を表し、1〜3が好ましく、1.5〜2.5がより好ましく、1.8〜2.3が更に好ましく、2が特に好ましい。式(I)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式(IV)で表される化合物のうち、式(I)で表される化合物以外の化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
<式(VI)で表わされる化合物の製造方法>
次に、式(VI)で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式(VI)で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式(IV)で表わされる化合物を得たのち、式(IV)で表わされる化合物と式(V)で表わされる化合物とを反応させることを含む。
Next, a method for producing the compound represented by the formula (VI) will be described.
In the method for producing a compound represented by the formula (VI) in the present invention, a compound represented by the formula (IV) is obtained by the method described above, and then a compound represented by the formula (IV) and a compound represented by the formula (V) are obtained. Including reacting with.
式(VI)で表わされる化合物の製造方法において、式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物との反応物から式(IV)で表わされる化合物を精製するなどして取り出したのち、式(V)で表わされる化合物と反応させて式(VI)で表わされる化合物を製造してもよく、前述の反応物から式(IV)で表わされる化合物を取り出すことなく前述の反応物と式(V)で表わされる化合物とを反応させることでも式(VI)で表わされる化合物を製造することができる。 In the method for producing a compound represented by the formula (VI), the compound represented by the formula (IV) is purified from a reaction product of the compound represented by the formula (II) and the compound represented by the formula (III). After taking out, the compound represented by the formula (VI) may be produced by reacting with the compound represented by the formula (V), without taking out the compound represented by the formula (IV) from the above-mentioned reactant. The compound represented by the formula (VI) can also be produced by reacting the reactant with the compound represented by the formula (V).
式(IV)で表わされる化合物と式(V)で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。 The reaction between the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (V) may be carried out in the presence of a solvent or may be carried out without using a solvent. Further, the above-mentioned reaction may be carried out by adding an acid, a base, a salt, an inorganic compound or the like.
溶媒としては、アミド系溶媒(例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチルー2−ピロリドン)、スルホン系溶媒(例えばスルホラン)、スルホキシド系溶媒(例えばジメチルスルホキシド)、ウレイド系溶媒(例えばテトラメチルウレア)、アルコール系溶媒(例えばメタノール、オクタノール、ベンジルアルコール)、エーテル系溶媒(例えばジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン)、ケトン系溶媒(例えばアセトン、シクロヘキサノン)、炭化水素系溶媒(例えばトルエン、キシレン、メシチレン、n−オクタン、n−ドデカン)、ハロゲン系溶媒(例えばクロロベンセン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン)、ピリジン系溶媒(例えばピリジン、γ―ピコリン、2,6−ルチジン)、ニトリル系溶媒(例えばアセトニトリル)および水を単独で或いは混合して用いることができる。また、式(IV)で表わされる化合物を溶媒として用いることもできる。これらの溶媒のうち好ましくはスルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒および水であり、より好ましくはスルホン系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒および水であり、更に好ましくはエーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒であり、最も好ましくは炭化水素系溶媒である。 Examples of the solvent include amide-based solvents (for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone), sulfone-based solvents (for example, sulfolane), sulfoxide-based solvents (for example, dimethylsulfoxide), and ureido-based solvents. Solvents (eg tetramethylurea), alcohol solvents (eg methanol, octanol, benzyl alcohol), ether solvents (eg dioxane, anisole, tetrahydrofuran), ketone solvents (eg acetone, cyclohexanone), hydrocarbon solvents (eg toluene) , Xylene, mesitylene, n-octane, n-dodecane), halogen-based solvents (eg chlorobenzene, tetrachloroethane, dichlorobenzene), pyridine-based solvents (eg pyridine, γ-picolin, 2,6-rutidine), nitrile-based solvents (For example, acetonitrile) and water can be used alone or in admixture. Further, the compound represented by the formula (IV) can also be used as a solvent. Of these solvents, a sulfone solvent, a sulfoxide solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a ketone solvent, a hydrocarbon solvent, a halogen solvent and water are preferable, and a sulfone solvent and an ether solvent are more preferable. , Ketone-based solvent, hydrocarbon-based solvent, halogen-based solvent and water, more preferably ether-based solvent, hydrocarbon-based solvent, halogen-based solvent, and most preferably hydrocarbon-based solvent.
式(IV)で表わされる化合物と式(V)で表わされる化合物との反応温度は、0〜250℃が好ましい。下限は20℃以上が好ましく、50℃以上がより好ましく、90℃以上が更に好ましい。上限は、200℃以下が好ましく、180℃以下がより好ましく、160℃以下が更に好ましい。 The reaction temperature of the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (V) is preferably 0 to 250 ° C. The lower limit is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and even more preferably 90 ° C. or higher. The upper limit is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, and even more preferably 160 ° C. or lower.
式(IV)で表わされる化合物と、式(V)で表わされる化合物は、式(IV)で表される化合物のモル数に対する、式(V)で表される化合物のモル数の比が0.1以上となる割合で反応させることが好ましく、1.0以上となる割合で反応させることがより好ましく、1.5以上となる割合で反応させることが更に好ましく、1.6以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、1.8以上となる割合で反応させることが特に好ましく、2.0以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、20.0以下であることが好ましく、15.0以下であることがより好ましく、10.0以下であることが更に好ましく、4.0以下であることがより一層好ましく、3.0以下であることが特に好ましく、2.6以下であることが最も好ましい。 In the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (V), the ratio of the number of moles of the compound represented by the formula (V) to the number of moles of the compound represented by the formula (IV) is 0. It is preferable to react at a ratio of 1 or more, more preferably 1.0 or more, further preferably 1.5 or more, and 1.6 or more. It is more preferable to react with the above, particularly preferably with a ratio of 1.8 or more, and most preferably with a ratio of 2.0 or more. The upper limit of the above-mentioned ratio is preferably 20.0 or less, more preferably 15.0 or less, further preferably 10.0 or less, and even more preferably 4.0 or less. , 3.0 or less is particularly preferable, and 2.6 or less is most preferable.
次に、式(V)で表わされる化合物、式(VI)で表わされる化合物について説明する。 Next, the compound represented by the formula (V) and the compound represented by the formula (VI) will be described.
(式(V)で表わされる化合物)
式中、R51およびR52は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
R51およびR52が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したR21およびR22で説明したものが挙げられる。In the formula, R 51 and R 52 each independently represent an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
Examples of the aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group represented by R 51 and R 52 include those described in R 21 and R 22 described above.
R51は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数1〜30の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基であることがより好ましく、炭素数1〜20の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基であることが更に好ましく、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることがより一層好ましく、炭素数1〜15のアルキル基またはフェニル基であることが特に好ましく、炭素数1〜10のアルキル基またはフェニル基であることが特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tで説明した基が挙げられる。R 51 is preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms. It is more preferably a group or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, further preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a phenyl group or an naphthyl group, and carbon. It is particularly preferably an alkyl group or a phenyl group having a number of 1 to 15, and particularly preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
R52は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数1〜20の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基であることがより好ましく、炭素数1〜10の脂肪族基または炭素数6〜10の芳香族基であることが更に好ましい。また、R52は、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、炭素数1〜15のアルキル基またはフェニル基であることがより好ましく、炭素数1〜10のアルキル基またはフェニル基であることが更に好ましく、炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基であることが最も好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tで説明した基が挙げられる。R 52 is preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. It is more preferably a group or an aromatic group having 6 to 10 carbon atoms. Further, R 52 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and may be an alkyl group or a phenyl group having 1 to 15 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and most preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 3 carbon atoms. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
式(V)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
(式(VI)で表わされる化合物)
式中、R21、R22およびR51は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。式(VI)におけるR21およびR22は、式(II)におけるR21およびR22と同義であり、式(VI)におけるR51は、式(V)におけるR51と同義であり、好ましい範囲も同様である。式(VI)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
<式(VIII)で表わされる化合物の製造方法>
次に、式(VIII)で表わされる化合物の製造方法について説明する。
本発明における式(VIII)で表わされる化合物の製造方法は、上述した方法により式(IV)で表わされる化合物を得たのち、式(IV)で表わされる化合物と式(VII)で表わされる化合物とを反応させることを含む。
Next, a method for producing the compound represented by the formula (VIII) will be described.
In the method for producing a compound represented by the formula (VIII) in the present invention, a compound represented by the formula (IV) is obtained by the method described above, and then a compound represented by the formula (IV) and a compound represented by the formula (VII) are obtained. Including reacting with.
式(VIII)で表わされる化合物の製造方法において、式(II)で表わされる化合物と、式(III)で表わされる化合物との反応物から式(IV)で表わされる化合物を精製するなどして取り出したのち、式(VII)で表わされる化合物と反応させて式(VIII)で表わされる化合物を製造してもよく、前述の反応物から式(IV)で表わされる化合物を取り出すことなく前述の反応物と式(VII)で表わされる化合物とを反応させることでも式(VIII)で表わされる化合物を製造することができる。 In the method for producing a compound represented by the formula (VIII), the compound represented by the formula (IV) is purified from a reaction product of the compound represented by the formula (II) and the compound represented by the formula (III). After taking out, the compound represented by the formula (VIII) may be produced by reacting with the compound represented by the formula (VII), without taking out the compound represented by the formula (IV) from the above-mentioned reactant. The compound represented by the formula (VIII) can also be produced by reacting the reaction product with the compound represented by the formula (VII).
式(IV)で表わされる化合物と式(VII)で表わされる化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。溶媒については、式(VI)で表わされる化合物の製造方法で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、前述の反応は、酸、塩基、塩、無機化合物などを添加して行ってもよい。 The reaction between the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (VII) may be carried out in the presence of a solvent or may be carried out without using a solvent. Examples of the solvent include those described in the method for producing a compound represented by the formula (VI), and the preferred range is also the same. Further, the above-mentioned reaction may be carried out by adding an acid, a base, a salt, an inorganic compound or the like.
式(IV)で表わされる化合物と式(VII)で表わされる化合物との反応温度は、0〜250℃が好ましい。下限は20℃以上が好ましく、50℃以上がより好ましく、90℃以上が更に好ましい。上限は、200℃以下が好ましく、180℃以下がより好ましく、160℃以下が更に好ましい。 The reaction temperature of the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (VII) is preferably 0 to 250 ° C. The lower limit is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and even more preferably 90 ° C. or higher. The upper limit is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, and even more preferably 160 ° C. or lower.
式(IV)で表わされる化合物と、式(VII)で表わされる化合物は、式(IV)で表される化合物のモル数に対する、式(VII)で表される化合物のモル数の比が0.05以上となる割合で反応させることが好ましく、0.5以上となる割合で反応させることがより好ましく、0.75以上となる割合で反応させることが更に好ましく、0.8以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、0.9以上となる割合で反応させることが特に好ましく、1.0以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、10.0以下であることが好ましく、7.5以下であることがより好ましく、5.0以下であることが更に好ましく、2.0以下であることがより一層好ましく、1.5以下であることが特に好ましく、1.3以下であることが最も好ましい。 In the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (VII), the ratio of the number of moles of the compound represented by the formula (VII) to the number of moles of the compound represented by the formula (IV) is 0. The reaction is preferably at a rate of 0.05 or more, more preferably at a rate of 0.5 or more, further preferably at a rate of 0.75 or more, and at a rate of 0.8 or more. It is more preferable to react with, particularly preferably to react at a ratio of 0.9 or more, and most preferably to react at a ratio of 1.0 or more. The upper limit of the above-mentioned ratio is preferably 10.0 or less, more preferably 7.5 or less, further preferably 5.0 or less, and even more preferably 2.0 or less. , 1.5 or less is particularly preferable, and 1.3 or less is most preferable.
次に、式(VII)で表わされる化合物、式(VIII)で表わされる化合物について説明する。 Next, the compound represented by the formula (VII) and the compound represented by the formula (VIII) will be described.
(式(VII)で表わされる化合物)
R71が表わす脂肪族基、芳香族基または複素環基としては、上述したR21およびR22で説明したものが挙げられる。R71は脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、炭素数1〜20の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基であることがより好ましく、炭素数1〜10の脂肪族基または炭素数6〜10の芳香族基であることが更に好ましい。また、R71は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、炭素数1〜15のアルキル基またはフェニル基であることがより好ましく、炭素数1〜10のアルキル基またはフェニル基であることが更に好ましく、炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基であることが最も好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tで説明した基が挙げられる。Examples of the aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group represented by R 71 include those described in R 21 and R 22 described above. R 71 is preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. It is more preferably a group or an aromatic group having 6 to 10 carbon atoms. Further, R 71 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group, and more preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 15 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and most preferably an alkyl group or a phenyl group having 1 to 3 carbon atoms. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
L71が表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、またはこれらの基の組み合わせからなる基が好ましく、アルキレン基またはアリーレン基であることがより好ましく、炭素数1〜10のアルキレン基または炭素数6〜10のアリーレン基であることが更に好ましく、メチレン基、エチレン基またはo−フェニレン基であることが特に好ましく、メチレン基であることが最も好ましい。The divalent linking group represented by L 71 consists of an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, or a combination of these groups. The group is preferably an alkylene group or an arylene group, more preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, and a methylene group, an ethylene group or an o-phenylene group. Is particularly preferable, and a methylene group is most preferable.
式(VII)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
(式(VIII)で表わされる化合物)
式中、R21およびR22は各々独立に脂肪族基、芳香族基または複素環基を表し、L71は2価の連結基を表し、R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。
式(VIII)におけるR21およびR22は、式(II)のR21およびR22と同義であり、式(VIII)におけるL71は、式(VII)におけるL71と同義であり、それぞれ好ましい範囲も同様である。式(VIII)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
R 21 and R 22 in formula (VIII) has the same meaning as R 21 and R 22 of formula (II), L 71 in the formula (VIII) has the same meaning as L 71 in the formula (VII), preferred are The range is similar. Specific examples of the compound represented by the formula (VIII) include the following compounds.
<化合物>
次に、本発明の化合物について説明する。
本発明の化合物は、上述した式(I)で表される化合物である。
本発明の化合物は、熱分解温度が高く、安定性に優れている。本発明の化合物は、色素、医薬、農薬などの原料として好ましく用いることができる。また、本発明の化合物は、上述した式(VI)で表される化合物や式(VIII)で表される化合物を製造するための原料として好ましく用いることができる。すなわち、本発明の化合物は、前述の化合物の前駆体として好ましく用いることができる。<Compound>
Next, the compound of the present invention will be described.
The compound of the present invention is a compound represented by the above-mentioned formula (I).
The compound of the present invention has a high thermal decomposition temperature and is excellent in stability. The compound of the present invention can be preferably used as a raw material for pigments, pharmaceuticals, pesticides and the like. In addition, the compound of the present invention can be preferably used as a raw material for producing the compound represented by the above formula (VI) or the compound represented by the formula (VIII). That is, the compound of the present invention can be preferably used as a precursor of the above-mentioned compound.
本発明の化合物は、示差走査熱量分析における発熱開始温度が150℃以上であることが好ましく、180℃以上であることがより好ましく、200℃以上であることが更に好ましい。発熱開始温度の上限は特に限定はない。高いほど安定性に優れるので好ましい。例えば、上限は380℃以下とすることができる。なお、示差走査熱量分析における発熱開始温度とは、室温(25℃)の状態から昇温速度10℃/分の条件で昇温して現れる発熱ピークの接線とベースラインの交点の温度のことである。 The compound of the present invention preferably has a heat generation start temperature of 150 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and even more preferably 200 ° C. or higher in the differential scanning calorimetry. The upper limit of the heat generation start temperature is not particularly limited. The higher the value, the better the stability, which is preferable. For example, the upper limit can be 380 ° C. or lower. The heat generation start temperature in the differential scanning calorimetry is the temperature at the intersection of the tangent line of the heat generation peak and the baseline that appears when the temperature rises from the room temperature (25 ° C.) at a temperature rise rate of 10 ° C./min. is there.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は、質量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. Unless otherwise specified, "part" and "%" are based on mass.
<製造例1>(実施例1)
以下のスキームに従い化合物(VIII−1)を合成した。
Compound (VIII-1) was synthesized according to the following scheme.
3口フラスコに化合物(1)(ヒドラジン1水和物)の62.6g、イソプロピルアルコールの109mL、ギ酸125.4gを入れ、加熱還流下にて3時間攪拌した。その後、フラスコを水冷し、15℃にて1時間攪拌した後、析出した結晶を濾過して、乾燥して、化合物(2)の84.7gを得た(収率96%)。
次に、3口フラスコに化合物(2)の69.9g、炭酸カリウム332.0g、N,N−ジメチルアセトアミド105mL、アセトニトリル253mLを入れ、加熱還流下にてn−ブロモブタン260.6gを滴下した。滴下後、そのまま3時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル776mLと水777mLを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩11.6gと水817mLを混合して調製した食塩水にて3回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮し、化合物(II−1)の152.7gを得た(収率96%)。
次に、3口フラスコに化合物(II−1)の100.1g、p−トルエンスルホン酸1水和物の190.2g、メタノール230mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。ついで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−1)の244.3gを得た(収率100%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−1)までの総収率は92%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−1)の48.9g、キシレン489mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水240mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水240mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン240mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸240mLで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム4.2gと食塩76gを水440mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩76gを水440mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−1)の20.5gを得た(収率96%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−1)までの総収率は88%であった。62.6 g of compound (1) (hydrazine monohydrate), 109 mL of isopropyl alcohol and 125.4 g of formic acid were placed in a three-necked flask, and the mixture was stirred under heating under reflux for 3 hours. Then, the flask was cooled with water, stirred at 15 ° C. for 1 hour, and the precipitated crystals were filtered and dried to obtain 84.7 g of compound (2) (yield 96%).
Next, 69.9 g of compound (2), 332.0 g of potassium carbonate, 105 mL of N, N-dimethylacetamide and 253 mL of acetonitrile were placed in a three-necked flask, and 260.6 g of n-bromobutane was added dropwise under heating under reflux. After the dropping, the mixture was heated under reflux for 3 hours as it was, cooled, and 776 mL of ethyl acetate and 777 mL of water were added and stirred to carry out extraction. The obtained ethyl acetate phase was washed 3 times with a saline solution prepared by mixing 11.6 g of salt and 817 mL of water, and then concentrated with a rotary evaporator to obtain 152.7 g of compound (II-1) (152.7 g of compound (II-1)). Yield 96%).
Next, 100.1 g of compound (II-1), 190.2 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 230 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred at 40 ° C. for 2 hours. Then, after concentrating with a rotary evaporator, 500 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 244.3 g of compound (I-1) (yield 100%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-1) was 92%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 48.9 g of compound (I-1), 489 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 6 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 240 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 240 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 240 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 240 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then in an aqueous solution prepared by dissolving 4.2 g of sodium hydrogen carbonate and 76 g of salt in 440 mL of water. After washing, 76 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 440 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 20.5 g of compound (VIII-1) (yield 96%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-1) was 88%.
<製造例2> (化合物(I−1)を取出さない化合物(VIII−1)の合成)
製造例1と同様の方法で化合物(II−1)を合成した。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(II−1)の20.0g、p−トルエンスルホン酸1水和物の38.0g、メタノール50mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。ここへキシレン489mLを添加して、外温を上げ、留出物を除きながら、内温135℃まで加熱した。さらにここへキシレン300mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水240mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水240mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン240mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸240mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム4.2gと食塩76gを水440mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩76gを水440mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−1)の20.2gを得た(収率95%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−1)までの総収率は88%であった。<Production Example 2> (Synthesis of compound (VIII-1) that does not extract compound (I-1))
Compound (II-1) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, attach a Dean Stark condenser to a three-necked flask, add 20.0 g of compound (II-1), 38.0 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 50 mL of methanol, and add them at 40 ° C. for 2 hours. , Heated and stirred. 489 mL of xylene was added thereto to raise the external temperature, and the mixture was heated to an internal temperature of 135 ° C. while removing distillates. Further, 300 mL of xylene and 26.4 g of dimethyl malonate were added thereto, and the mixture was stirred under heating under reflux for 6 hours while removing the distillate containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 240 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 240 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 240 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 240 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution of 4.2 g of sodium hydrogen carbonate and 76 g of salt in 440 mL of water. Then, 76 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 440 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 20.2 g of compound (VIII-1) (yield 95%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-1) was 88%.
<製造例3>
以下のスキームに従い化合物(VIII−1)を合成した。
Compound (VIII-1) was synthesized according to the following scheme.
製造例1と同様の方法で化合物(II−1)を合成した。
次に、3口フラスコに化合物(II−1)の100.1g、ナフタレン−1,5−ジスルホン酸4水和物の180g、メタノール230mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(IV−21)の190.3gを得た(収率88%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(IV−21)までの総収率は81%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(IV−21)の43.3g、キシレン433mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水240mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水240mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン240mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸240mLで洗浄し、次いで、炭酸水素ナトリウム4.2gと食塩76gを水440mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩76gを水440mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−1)の17.2gを得た(収率81%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−1)までの総収率は66%であった。Compound (II-1) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, 100.1 g of compound (II-1), 180 g of naphthalene-1,5-disulfonic acid tetrahydrate, and 230 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred at 40 ° C. for 2 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 500 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 190.3 g of the compound (IV-21) (yield 88%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (IV-21) was 81%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 43.3 g of compound (IV-21), 433 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 6 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 240 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 240 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 240 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 240 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then in an aqueous solution prepared by dissolving 4.2 g of sodium hydrogen carbonate and 76 g of salt in 440 mL of water. After washing, 76 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 440 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 17.2 g of compound (VIII-1) (yield 81%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-1) was 66%.
<製造例4>
以下のスキームに従い化合物(VIII−18)を合成した。
Compound (VIII-18) was synthesized according to the following scheme.
製造例1と同様の方法で化合物(2)を合成した。
次いで、3口フラスコに化合物(2)の88.07g、炭酸カリウム414.6g、N−メチルピロリドン600mLを入れ、内温80℃にてn−オクチルブロミド463.5gを滴下した。滴下後、そのまま4時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル1000mLと水1000mLを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水1000mLと食塩20.0gからなる水溶液にて3回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物(II−20)の306.3gを得た(収率98%)。
次に、3ツ口フラスコに化合物(II−20)の156.3g、p−トルエンスルホン酸1水和物の190.2g、メタノール500mLを入れて50℃で3時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル1000mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−12)の297.5gを得た(収率99%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−12)までの総収率は93%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−12)の60.1g、キシレン500mL、マロン酸ジエチル32.0gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて8時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を90℃まで冷却し、水200mLを滴下した後、内温90〜100℃にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水300mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン300mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸500mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム7.0gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII―18)の31.8gを得た(収率98%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−18)までの総収率は91%であった。Compound (2) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, 88.07 g of compound (2), 414.6 g of potassium carbonate, and 600 mL of N-methylpyrrolidone were placed in a three-necked flask, and 463.5 g of n-octyl bromide was added dropwise at an internal temperature of 80 ° C. After the dropping, the mixture was heated and stirred as it was for 4 hours, cooled, and 1000 mL of ethyl acetate and 1000 mL of water were added and stirred, and extraction was performed. The obtained ethyl acetate phase was washed 3 times with an aqueous solution consisting of 1000 mL of water and 20.0 g of salt, and then concentrated with a rotary evaporator to obtain 306.3 g of compound (II-20) (yield 98%). ).
Next, 156.3 g of compound (II-20), 190.2 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 500 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred by heating at 50 ° C. for 3 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 1000 mL of acetonitrile was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 297.5 g of the compound (I-12) (yield 99%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-12) was 93%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 60.1 g of compound (I-12), 500 mL of xylene, and 32.0 g of diethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 8 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 90 ° C., 200 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred at an internal temperature of 90 to 100 ° C. for 1 hour. This was cooled to room temperature, 300 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 300 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 500 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution of 7.0 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride dissolved in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 31.8 g of compound (VIII-18) (yield 98%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-18) was 91%.
<製造例5>
以下のスキームに従い化合物(VIII−18)を合成した。
Compound (VIII-18) was synthesized according to the following scheme.
製造例4と同様の方法で化合物(II−20)を合成した。
3口フラスコに化合物(II−20)の156.3g、ナフタレン−1,5−ジスルホン酸4水和物の180.0g、メタノール500mLを入れて50℃で3時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル1000mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(IV−22)の237.0gを得た(収率87%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(IV−22)までの総収率は82%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(IV−22)の54.5g、キシレン500mL、マロン酸ジエチル32.0gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて8時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を90℃まで冷却し、水200mLを滴下した後、内温90〜100℃にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水300mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン300mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸500mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム7.0gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−18)の26.7gを得た(収率82%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−18)までの総収率は67%であった。Compound (II-20) was synthesized in the same manner as in Production Example 4.
156.3 g of compound (II-20), 180.0 g of naphthalene-1,5-disulfonic acid tetrahydrate, and 500 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred by heating at 50 ° C. for 3 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 1000 mL of acetonitrile was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 237.0 g of the compound (IV-22) (yield 87%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (IV-22) was 82%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 54.5 g of compound (IV-22), 500 mL of xylene, and 32.0 g of diethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 8 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 90 ° C., 200 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred at an internal temperature of 90 to 100 ° C. for 1 hour. This was cooled to room temperature, 300 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 300 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 500 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution of 7.0 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride dissolved in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 26.7 g of compound (VIII-18) (yield 82%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-18) was 67%.
<製造例6>
以下のスキームに従い化合物(VIII−9)を合成した。
Compound (VIII-9) was synthesized according to the following scheme.
製造例1と同様の方法で化合物(2)を合成した。
次いで、3口フラスコに化合物(2)の88.07g、炭酸カリウム414.6g、N−メチルピロリドン600mLを入れ、内温80℃にてn−ヘキシルブロミド412.9gを滴下した。滴下後、そのまま4時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル1000mLと水1000mLを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水1000mLと食塩20.0gからなる水溶液にて3回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、化合物(II−5)の253.9gを得た(収率99%)。
次に、3口フラスコに化合物(II−5)の128.2g、p−トルエンスルホン酸1水和物の190.2g、メタノール500mLを入れて45℃で3時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル1000mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−4)269.8gを得た(収率99%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−4)までの総収率は94%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−4)の54.5g、キシレン500mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて8時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を90℃まで冷却し、水200mLを滴下した後、内温90〜100℃にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水300mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン300mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸500mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム7.0gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−9)の26.0gを得た(収率97%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−9)までの総収率は91%であった。Compound (2) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, 88.07 g of compound (2), 414.6 g of potassium carbonate, and 600 mL of N-methylpyrrolidone were placed in a three-necked flask, and 412.9 g of n-hexyl bromide was added dropwise at an internal temperature of 80 ° C. After the dropping, the mixture was heated and stirred as it was for 4 hours, cooled, and 1000 mL of ethyl acetate and 1000 mL of water were added and stirred, and extraction was performed. The obtained ethyl acetate phase was washed 3 times with an aqueous solution consisting of 1000 mL of water and 20.0 g of salt, and then concentrated with a rotary evaporator to obtain 253.9 g of compound (II-5) (yield 99%). ).
Next, 128.2 g of compound (II-5), 190.2 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 500 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred by heating at 45 ° C. for 3 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 1000 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 269.8 g of compound (I-4) (yield 99%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-4) was 94%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 54.5 g of compound (I-4), 500 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 8 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 90 ° C., 200 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred at an internal temperature of 90 to 100 ° C. for 1 hour. This was cooled to room temperature, 300 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 300 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 500 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution of 7.0 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride dissolved in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 26.0 g of compound (VIII-9) (yield 97%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-9) was 91%.
<製造例7>
以下のスキームに従い化合物(VIII−9)を合成した。
Compound (VIII-9) was synthesized according to the following scheme.
製造例6と同様の方法で化合物(II−5)を合成した。
次いで、3口フラスコに化合物(II―5)128.2g、ナフタレンジスルホン酸4水和物180g、メタノール500mLを入れて45℃で3時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル1000mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(IV−23)の217.5gを得た(収率89%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(IV−23)までの総収率は85%であった。
次いで、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(IV−23)の48.9g、キシレン500mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて8時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を90℃まで冷却し、水200mLを滴下した後、内温90〜100℃にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水300mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン300mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸500mLで洗浄し、ついで、炭酸水素ナトリウム7.0gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、ついで、食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−9)の21.7gを得た(収率81%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−9)までの総収率は69%であった。Compound (II-5) was synthesized in the same manner as in Production Example 6.
Next, 128.2 g of compound (II-5), 180 g of naphthalene disulfonic acid tetrahydrate, and 500 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred by heating at 45 ° C. for 3 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 1000 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 217.5 g of the compound (IV-23) (yield 89%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (IV-23) was 85%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 48.9 g of compound (IV-23), 500 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and the distilled product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser was added. While removing the mixture, the mixture was stirred under heating and reflux for 8 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 90 ° C., 200 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred at an internal temperature of 90 to 100 ° C. for 1 hour. This was cooled to room temperature, 300 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 300 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 500 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then with an aqueous solution prepared by dissolving 7.0 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of salt in 700 mL of water. After washing, it was washed with an aqueous solution in which 100 g of sodium chloride was dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 21.7 g of compound (VIII-9) (yield 81%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-9) was 69%.
<製造例8>
以下のスキームに従い化合物(VIII−2)を合成した。
Compound (VIII-2) was synthesized according to the following scheme.
製造例1と同様の方法で化合物(2)を合成した。
次いで、3口フラスコに化合物(2)の88.07g、炭酸カリウム414.6g、N,N−ジメチルアセトアミド133mLとアセトニトリル317mLを入れ、加熱還流下にて2−エチルヘキシルブロミド463.5gを滴下した。滴下後、そのまま3時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチル1000mLと水1000mLを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩14.5gと水1,000mLから調製した食塩水にて3回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物(II−2)の297.0gを得た(収率95%)。
次に、3口フラスコに化合物(II−2)の31.3g、p−トルエンスルホン酸1水和物の38.1g、メタノール90mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−2)の55.3gを得た(収率92%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−2)までの総収率は84%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−2)の60.1g、キシレン400mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水250mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水250mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン400mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸800mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム6gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−2)の29.9gを得た(収率92%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−2)までの総収率は77%であった。Compound (2) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, 88.07 g of compound (2), 414.6 g of potassium carbonate, 133 mL of N, N-dimethylacetamide and 317 mL of acetonitrile were placed in a three-necked flask, and 463.5 g of 2-ethylhexyl bromide was added dropwise under heating under reflux. After the dropping, the mixture was heated under reflux for 3 hours as it was, cooled, 1000 mL of ethyl acetate and 1000 mL of water were added, and the mixture was stirred and extracted. The obtained ethyl acetate phase was washed 3 times with a saline solution prepared from 14.5 g of salt and 1,000 mL of water, and then concentrated with a rotary evaporator to obtain 297.0 g of compound (II-2) as a residue. Obtained (yield 95%).
Next, 31.3 g of compound (II-2), 38.1 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 90 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred at 40 ° C. for 2 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 500 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 55.3 g of compound (I-2) (yield 92%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-2) was 84%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 60.1 g of compound (I-2), 400 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 6 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 250 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 250 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 400 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 800 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution prepared by dissolving 6 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 29.9 g of compound (VIII-2) (yield 92%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-2) was 77%.
<製造例9>
以下のスキームに従い化合物(VIII−2)を合成した。
Compound (VIII-2) was synthesized according to the following scheme.
製造例8と同様の方法で化合物(II−2)を合成した。
ついで、3口フラスコに化合物(II−2)の31.3g、メタンスルホン酸19.2g、メタノール90mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−11)の41.7gを得た(収率93%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−11)までの総収率は85%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−11)の44.8g、キシレン400mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水250mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水250mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン400mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸800mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム6gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VIII−2)の29.5gを得た(収率91%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−2)までの総収率は77%であった。Compound (II-2) was synthesized in the same manner as in Production Example 8.
Then, 31.3 g of compound (II-2), 19.2 g of methanesulfonic acid, and 90 mL of methanol were placed in a three-necked flask and heated and stirred at 40 ° C. for 2 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 500 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 41.7 g of compound (I-11) (yield 93%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-11) was 85%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 44.8 g of compound (I-11), 400 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 6 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 250 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 250 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 400 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 800 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution prepared by dissolving 6 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 29.5 g of compound (VIII-2) (yield 91%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-2) was 77%.
<製造例10>
以下のスキームに従い化合物(VIII−2)を合成した。
Compound (VIII-2) was synthesized according to the following scheme.
製造例8と同様の方法で化合物(II−2)を合成した。
次に、3口フラスコに化合物(II−2)の31.3g、p−トルエンスルホン酸1水和物の38.0g、メタノール90mLを入れて40℃にて2時間、加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(IV−20)の45.8gを得た(収率84%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(IV−20)までの総収率は77%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(IV−20)の54.5g、キシレン400mL、マロン酸ジメチル26.4gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて6時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を120℃まで冷却し、水250mLを滴下した後、加熱還流下にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水250mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン400mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸800mLで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム6gと食塩100gを水700mLに溶解した水溶液で洗浄し、次いで、食塩100gを水700mLに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、目的の化合物(VIII−2)の26.9gを得た(収率83%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VIII−2)までの総収率は64%であった。Compound (II-2) was synthesized in the same manner as in Production Example 8.
Next, 31.3 g of compound (II-2), 38.0 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and 90 mL of methanol were placed in a three-necked flask and stirred at 40 ° C. for 2 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 500 mL of ethyl acetate was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 45.8 g of the compound (IV-20) (yield 84%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (IV-20) was 77%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 54.5 g of compound (IV-20), 400 mL of xylene, and 26.4 g of dimethyl malonate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 6 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 120 ° C., 250 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred under heating under reflux for 1 hour. This was cooled to room temperature, 250 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 400 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 800 mL of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then washed with an aqueous solution prepared by dissolving 6 g of sodium hydrogen carbonate and 100 g of sodium chloride in 700 mL of water. Then, 100 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 700 mL of water. Then, it concentrated with a rotary evaporator to obtain 26.9 g of the target compound (VIII-2) (yield 83%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VIII-2) was 64%.
<製造例11>
以下のスキームに従い化合物(VI−2)を合成した。
Compound (VI-2) was synthesized according to the following scheme.
製造例1と同様の方法で化合物(2)を合成した。
次に、3口フラスコに化合物(2)の88.07g、炭酸カリウム414.6g、N−メチルピロリドン600mLを入れ、内温70℃にてベンジルブロミド376.3gを滴下した。滴下後、そのまま2時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチル1000mLと水1000mLを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を水1000mLにて3回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物として化合物(II−6)の269gを得た(収率100%)。
次に、3口フラスコに化合物(II−6)の26.8g、ベンゼンスルホン酸31.6g、イソプロピルアルコール200mLを入れて60℃で3時間加熱攪拌した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル500mLを添加して結晶を分散させた後、濾過、乾燥して、化合物(I−6)の49.2gを得た(収率93%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(I−6)までの総収率は89%であった。
次に、3口フラスコにディーンシュタークコンデンサーを付けて、化合物(I−6)の49.2g、キシレン400mL、安息香酸メチル68.1gを入れ、ディーンシュタークコンデンサーに溜まった、水などを含む蒸留物を抜きながら、加熱還流下にて8時間攪拌した。途中、抜き取った蒸留物と等量のキシレンを継ぎ足した。その後、反応混合物を90℃まで冷却し、水600mLを滴下した後、内温90〜100℃にて1時間攪拌した。このものを室温まで冷却し、水600mLを追加して、抽出し、得られた水相を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、トルエン600mLにて抽出した。得られたトルエン相と先の抽出で得られたキシレン相を併せて、0.02mol/Lの塩酸1.21Lで洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム12.9gと食塩232gを水1.21Lに溶解した水溶液で洗浄し、次いで食塩232gを水1.21Lに溶解した水溶液にて洗浄した。その後、ロータリーエバポレーターにて濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、化合物(VI−2)の35.2gを得た(収率90%)。ヒドラジン1水和物から、化合物(VI−2)までの総収率は80%であった。Compound (2) was synthesized in the same manner as in Production Example 1.
Next, 88.07 g of compound (2), 414.6 g of potassium carbonate, and 600 mL of N-methylpyrrolidone were placed in a three-necked flask, and 376.3 g of benzyl bromide was added dropwise at an internal temperature of 70 ° C. After the dropping, the mixture was heated and stirred as it was for 2 hours, cooled, and 1000 mL of ethyl acetate and 1000 mL of water were added and stirred, and extraction was performed. The obtained ethyl acetate phase was washed 3 times with 1000 mL of water and then concentrated on a rotary evaporator to obtain 269 g of compound (II-6) as a residue (yield 100%).
Next, 26.8 g of compound (II-6), 31.6 g of benzenesulfonic acid, and 200 mL of isopropyl alcohol were placed in a three-necked flask and stirred by heating at 60 ° C. for 3 hours. After concentrating this with a rotary evaporator, 500 mL of acetonitrile was added to disperse the crystals, and then the crystals were filtered and dried to obtain 49.2 g of compound (I-6) (yield 93%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (I-6) was 89%.
Next, a Dean Stark condenser was attached to a three-necked flask, 49.2 g of compound (I-6), 400 mL of xylene, and 68.1 g of methyl benzoate were added, and a distillation product containing water and the like accumulated in the Dean Stark condenser. The mixture was stirred under heating and reflux for 8 hours. On the way, the same amount of xylene as the extracted distillate was added. Then, the reaction mixture was cooled to 90 ° C., 600 mL of water was added dropwise, and the mixture was stirred at an internal temperature of 90 to 100 ° C. for 1 hour. This was cooled to room temperature, 600 mL of water was added, and the mixture was extracted. The obtained aqueous phase was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and then extracted with 600 mL of toluene. The obtained toluene phase and the xylene phase obtained in the previous extraction were combined and washed with 1.21 L of 0.02 mol / L hydrochloric acid, and then 12.9 g of sodium hydrogen carbonate and 232 g of salt were dissolved in 1.21 L of water. Then, 232 g of sodium chloride was washed with an aqueous solution dissolved in 1.21 L of water. Then, the mixture was concentrated on a rotary evaporator, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 35.2 g of compound (VI-2) (yield 90%). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (VI-2) was 80%.
<製造例12>
特開2010−018595号公報の実施例3に記載された方法に準じて化合物(IV−20)を合成した。
すなわち、ヒドラジン1水和物46.2g(0.92モル)にエタノール900mLを加えて氷冷下(内温0℃以下)で攪拌し、次いで、これに2−エチルヘキサナール236.7g(1.84モル)をエタノール600mLに溶解した混合液を30分かけて滴下した(内温2〜5℃)。この反応液を室温で2時間攪拌した後、反応液全量が2.0Lになるようにエタノールを加えて化合物(E−6)のエタノール溶液を調製した。
調製した化合物(E−6)のエタノール溶液110mL(理論モル数50ミリモル)とエタノール10mLとラネーニッケル触媒1.0gをオートクレーブ中に加えて、40気圧になるまで水素を充填し、80℃で5時間攪拌した。反応液を空冷した後、セライトろ過により触媒を除去して、化合物(D−6)のエタノール溶液を調製した。このエタノール溶液にナフタレン1,5−ジスルホン酸4水和物19.8g(55ミリモル)を添加した後、エタノールを減圧濃縮して全量を約100mLにして、さらにアセトニトリル200mLを加えると結晶が析出した。室温で30分攪拌した後、この結晶をろ取、乾燥して化合物(IV−20)の14.9gを得た。ヒドラジン1水和物から化合物(IV−20)までの総収率は56%であった。
Compound (IV-20) was synthesized according to the method described in Example 3 of JP-A-2010-018595.
That is, 900 mL of ethanol was added to 46.2 g (0.92 mol) of hydrazine monohydrate and stirred under ice-cooling (internal temperature 0 ° C. or lower), and then 236.7 g (1.) of 2-ethylhexanal was added thereto. A mixed solution prepared by dissolving 84 mol) in 600 mL of ethanol was added dropwise over 30 minutes (internal temperature 2 to 5 ° C.). After stirring this reaction solution at room temperature for 2 hours, ethanol was added so that the total amount of the reaction solution became 2.0 L to prepare an ethanol solution of compound (E-6).
110 mL of an ethanol solution (theoretical molar number of 50 mmol) of the prepared compound (E-6), 10 mL of ethanol, and 1.0 g of a lane nickel catalyst were added to an autoclave, filled with hydrogen until the pressure reached 40 atm, and at 80 ° C. for 5 hours. Stirred. After cooling the reaction solution with air, the catalyst was removed by filtration through Celite to prepare an ethanol solution of compound (D-6). After adding 19.8 g (55 mmol) of naphthalene 1,5-disulfonic acid tetrahydrate to this ethanol solution, ethanol was concentrated under reduced pressure to make the total volume about 100 mL, and 200 mL of acetonitrile was further added to precipitate crystals. .. After stirring at room temperature for 30 minutes, the crystals were collected by filtration and dried to obtain 14.9 g of compound (IV-20). The total yield from hydrazine monohydrate to compound (IV-20) was 56%.
製造例1〜12における各工程で得られた化合物の収率を以下の表にまとめて記す。
製造例1〜11は、本発明の実施例に該当する製造例であり、製造例12は本発明に対する比較例に該当する製造例である。
上記表から明らかなように、製造例1、3〜11は、化合物(I)又は化合物(IV)のヒドラジン1水和物からの総収率が製造例12よりも著しく高く、同化合物の収率が顕著に優れていた。
なお、製造例2は、化合物(I−1)を取出すことなく化合物(VIII−1)を合成したため、化合物(I−1)の収率は算出していないが、最終生成物である化合物(VIII−1)のヒドラジン1水和物の総収率が製造例1と同じであったため、製造例2においても、化合物(I−1)の収率は、製造例1と同程度の高い収率であることが理解できる。
また、製造例1〜11は、中性のヒドラジン化合物の合成工程を経ることなく化合物(I)又は化合物(IV)を製造できたため、同化合物の製造時の安全性に優れていた。Production Examples 1 to 11 are production examples corresponding to the examples of the present invention, and Production Example 12 is a production example corresponding to a comparative example with respect to the present invention.
As is clear from the above table, in Production Examples 1, 3 to 11, the total yield of the compound (I) or the compound (IV) from the hydrazine monohydrate was significantly higher than that of the production example 12, and the yield of the compound was significantly higher. The rate was remarkably excellent.
In Production Example 2, since the compound (VIII-1) was synthesized without taking out the compound (I-1), the yield of the compound (I-1) was not calculated, but the compound (Final product) was obtained. Since the total yield of hydrazine monohydrate of VIII-1) was the same as that of Production Example 1, the yield of compound (I-1) in Production Example 2 was as high as that of Production Example 1. It can be understood that it is a rate.
Further, in Production Examples 1 to 11, since the compound (I) or the compound (IV) could be produced without going through the step of synthesizing the neutral hydrazine compound, the safety at the time of producing the compound was excellent.
(発熱開始温度の評価)
化合物(I−1)、(IV−21)、(R−1)、(R−2)の示差走査熱量分析における発熱開始温度を測定した。化合物(I−1)の発熱開始温度は233℃で、化合物(IV−21)の発熱開始温度は223℃で、化合物(R−1)の発熱開始温度は56℃で、化合物(R−2)の発熱開始温度は85℃であった。化合物(I−1)は本発明の実施例に該当する化合物であり、この化合物は化合物(IV−21)、(R−1)、(R−2)よりも発熱開始温度が高く、より安定な化合物であった。
The heat generation start temperature in the differential scanning calorimetry of compounds (I-1), (IV-21), (R-1), and (R-2) was measured. The heat generation start temperature of compound (I-1) is 233 ° C., the heat generation start temperature of compound (IV-21) is 223 ° C., the heat generation start temperature of compound (R-1) is 56 ° C., and the heat generation start temperature of compound (R-2) is 56 ° C. The heat generation start temperature of) was 85 ° C. Compound (I-1) is a compound corresponding to an example of the present invention, and this compound has a higher heat generation start temperature than compounds (IV-21), (R-1), and (R-2) and is more stable. It was a compound.
Claims (5)
mは正の整数を表し、qは正数を表し、
R21とR22は互いに結合して環を形成していてもよい。 A method for producing a compound represented by the formula (IV), which comprises reacting a compound represented by the formula (II) with a compound represented by the formula (III);
m represents a positive integer, q represents a positive number,
R 21 and R 22 may be combined with each other to form a ring.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017183121 | 2017-09-25 | ||
JP2017183121 | 2017-09-25 | ||
PCT/JP2018/031639 WO2019058885A1 (en) | 2017-09-25 | 2018-08-28 | Method for producing compound, and compound |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019058885A1 JPWO2019058885A1 (en) | 2020-11-05 |
JP6877563B2 true JP6877563B2 (en) | 2021-05-26 |
Family
ID=65811153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019543501A Active JP6877563B2 (en) | 2017-09-25 | 2018-08-28 | Compound manufacturing method and compound |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6877563B2 (en) |
CN (1) | CN111132959B (en) |
WO (1) | WO2019058885A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019146280A1 (en) * | 2018-01-23 | 2020-12-10 | 富士フイルム株式会社 | Compounds and methods for producing compounds |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU891649A2 (en) * | 1979-08-15 | 1981-12-23 | Предприятие П/Я В-8469 | Method of preparing deformalhydrazine |
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DE4434847A1 (en) * | 1994-09-29 | 1996-04-04 | Bayer Ag | Process for the preparation of alkylhydrazine salts |
JPH09124610A (en) * | 1995-11-06 | 1997-05-13 | Mitsubishi Chem Corp | 1,2-diformylhexahydropyridazine, its production and production of hexahydropyridazine |
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-
2018
- 2018-08-28 CN CN201880060927.0A patent/CN111132959B/en active Active
- 2018-08-28 WO PCT/JP2018/031639 patent/WO2019058885A1/en active Application Filing
- 2018-08-28 JP JP2019543501A patent/JP6877563B2/en active Active
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JPWO2019146280A1 (en) * | 2018-01-23 | 2020-12-10 | 富士フイルム株式会社 | Compounds and methods for producing compounds |
JP7316228B2 (en) | 2018-01-23 | 2023-07-27 | 富士フイルム株式会社 | Compounds and methods for producing compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019058885A1 (en) | 2019-03-28 |
CN111132959A (en) | 2020-05-08 |
CN111132959B (en) | 2023-07-28 |
JPWO2019058885A1 (en) | 2020-11-05 |
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