JP6876998B1 - 圧縮装置 - Google Patents
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Abstract
Description
水透過膜、前記水透過膜の一方の主面上に設けられ、前記圧縮機から排出されたカソードガスが流れる第1の流路、および前記水透過膜の他方の主面上に設けられ、前記カソードガスよりも低圧のガスが流れる第2の流路を含み、前記第1の流路を流れるカソードガスに含まれる水蒸気および液水の少なくともいずれか一方を除去する除去器と、を備え、
前記圧縮機と前記除去器とが一体で設けられている。
水透過膜、水透過膜の一方の主面上に設けられ、圧縮機から排出されたカソードガスが流れる第1の流路、および水透過膜の他方の主面上に設けられ、カソードガスよりも低圧のガスが流れる第2の流路を含み、第1の流路を流れるカソードガスに含まれる水蒸気および液水の少なくともいずれか一方を除去する除去器と、を備え、
圧縮機と除去器とが一体で設けられている。
以上の圧縮機のアノード流体は、アノードにおける酸化反応でプロトンを生成する流体であれば、様々な種類のガス、液体が想定される。アノード流体は例えば、水素含有ガスまたは液水であってもよい。例えば、圧縮機が電気化学式水素ポンプである場合、アノード流体として、水素含有ガスなどを挙げることができる。また、例えば、圧縮機が水電解装置である場合、アノード流体として、液水などを挙げることができる。アノード流体が液水の場合、アノード触媒層上で液水の電気分解反応が実行される。そこで、以下の各実施形態では、アノード流体が水素含有ガスである場合において、圧縮機の一例である電気化学式水素ポンプ、および圧縮機を備える圧縮装置の構成および動作について説明する。
図1Aは、第1実施形態の圧縮装置の一例を示す図である。図1Bは、図1Aの圧縮装置のB部の拡大図である。
図1Aに示すように、圧縮装置200は、電気化学式水素ポンプ100の水素ポンプユニット100Aおよび水素ポンプユニット100Bを備える。なお、水素ポンプユニット100Aが、水素ポンプユニット100Aに対して上側の位置に設けられている。
図1Aに示すように、圧縮装置200は、除去器300の除去ユニット300Aを備える。なお、除去器300には、1個の除去ユニット300Aが示されているが、除去ユニット300Aの個数は、本例に限定されない。
図1Aおよび図1Bに示すように、除去器300は、電気化学式水素ポンプ100に対して、電気化学式水素ポンプ100内のアノードガス拡散層15、アノード触媒層13、電解質膜11、カソード触媒層12、およびカソードガス拡散層14の積層方向と同一方向に積層されている。
以下、図1Aを参照しながら、電気化学式水素ポンプ100のアノードANに水素含有ガスを供給するための流路構成の一例を説明する。なお、図1Aでは、水素含有ガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。
以下、図1Aを参照しながら、電気化学式水素ポンプ100および除去器300におけるカソードガスの流路構成の一例を説明する。なお、図1Aでは、カソードガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。
以下、図1Aを参照しながら、除去ユニット300Aの低圧のガスの流路構成の一例を説明する。なお、図1Aでは、低圧のガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。
以下、第1実施形態の圧縮装置200の動作の一例について図面を参照しながら説明する。
カソード:2H++2e−→H2(高圧) ・・・(2)
電気化学式水素ポンプ100のカソードCAで生成された水素は、カソードガスとして、カソードCAで圧縮される。例えば、図示しない流量調整器を用いて、カソードガス導出経路の圧損を増加させることにより、カソードCAでカソードガスを圧縮させることができる。なお、流量調整器として、例えば、カソードガス導出経路に設けられた背圧弁、調整弁などを挙げることができる。
図2は、第1実施形態の第1実施例の圧縮装置の一例を示す図である。
図3は、第1実施形態の第2実施例の圧縮装置の一例を示す図である。
図4は、第2実施形態の圧縮装置の一例を示す図である。
図5は、第3実施形態の圧縮装置の一例を示す図である。
12 :カソード触媒層
13 :アノード触媒層
14 :カソードガス拡散層
15 :アノードガス拡散層
16 :カソードセパレーター
17 :中間セパレーター
18 :アノードセパレーター
19 :第1のプレート
20 :第2のプレート
40 :アノードガス供給経路
40A :第1横流路
40B :第2横流路
40H :縦流路
50 :カソードガス通過経路
50A :第1横流路
50B :第2横流路
50C :第3横流路
50H :縦流路
51 :カソードガス排出経路
51A :横流路
51H :縦流路
60 :低圧ガス排出経路
60H :縦流路
61 :低圧ガス供給経路
61H :縦流路
70 :断熱部材
80 :冷却器
100 :圧縮機
100A :水素ポンプユニット
100B :水素ポンプユニット
102 :電圧印加器
113 :低圧ガス流路
113A :第2の多孔質部材
114 :カソードガス流路
114A :第1の多孔質部材
115 :水透過膜
200 :圧縮装置
300 :除去器
300A :除去ユニット
AN :アノード
CA :カソード
Claims (11)
- 電解質膜、前記電解質膜の一方の主面上に設けられたアノード触媒層、前記電解質膜の他方の主面上に設けられたカソード触媒層、前記アノード触媒層上に設けられたアノードガス拡散層、前記カソード触媒層上に設けられたカソードガス拡散層、および前記アノード触媒層と前記カソード触媒層との間に電圧を印加する電圧印加器を備え、前記電圧印加器が前記電圧を印加することで、前記アノード触媒層上に供給されたアノード流体から取り出されたプロトンを、前記電解質膜を介して前記カソード触媒層上に移動させ、圧縮された水素を生成する圧縮機と、
水透過膜、前記水透過膜の一方の主面上に設けられ、前記圧縮機から排出されたカソードガスが流れる第1の流路、および、前記水透過膜の他方の主面上に設けられ、前記カソードガスよりも低圧のガスが流れる第2の流路を含み、前記第1の流路を流れるカソードガスに含まれる水蒸気および液水の少なくともいずれか一方を除去する除去器と、を備え、
前記圧縮機と前記除去器とが一体で設けられている圧縮装置。 - 前記第1の流路には、第1の多孔質部材が設けられている請求項1に記載の圧縮装置。
- 前記第2の流路には、第2の多孔質部材が設けられている請求項1または2に記載の圧縮装置。
- 前記第1の多孔質部材は、前記カソードガス拡散層を含む請求項2に記載の圧縮装置。
- 前記第2の多孔質部材は、前記アノードガス拡散層を含む請求項3に記載の圧縮装置。
- 前記除去器は、前記第1の流路が、前記第2の流路よりも上に位置するように設けられている請求項1−5のいずれか1項に記載の圧縮装置。
- 前記除去器は、前記圧縮機の下側に設けられている請求項1−6のいずれか1項に記載の圧縮装置。
- 前記圧縮機と前記除去器との間に、断熱部材を備える請求項1−7のいずれか1項に記載の圧縮装置。
- 前記低圧のガスが、水素含有ガスである請求項1−8のいずれか1項に記載の圧縮装置。
- 前記第1の流路を流れるカソードガスを冷却する冷却器を備える請求項1−9のいずれか1項に記載の圧縮装置。
- 前記除去器は、前記圧縮機に対して、前記圧縮機内の前記アノードガス拡散層、前記アノード触媒層、前記電解質膜、前記カソード触媒層、および前記カソードガス拡散層の積層方向と同一方向に積層されている請求項1−10のいずれか1項に記載の圧縮装置。
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