JP6811444B2 - 電気化学式水素ポンプ - Google Patents

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Description

本開示は電気化学式水素ポンプに関する。
近年、地球の温暖化等の環境問題、石油資源の枯渇等のエネルギー問題から、化石燃料に代わるクリーンな代替エネルギー源として、水素ガスが注目されている。水素ガスは燃焼しても水しか放出せず、地球温暖化の原因となる二酸化炭素及び窒素酸化物などが排出されないので、クリーンエネルギーとして期待されている。水素ガスを燃料として利用する装置としては、例えば、燃料電池があり、自動車用電源向け、家庭用自家発電向けに、燃料電池の開発及び普及が進んでいる。そして、来るべき水素社会では、水素ガスを製造することはもとより、水素ガスを高密度で貯蔵し、小容量かつ低コストで輸送又は利用し得る技術開発が求められている。更に、燃料電池の普及の促進には、燃料供給インフラを整備する必要がある。そこで、高純度の水素ガスを精製する様々な提案が行われている。
例えば、特許文献1には、電解質膜が挟持されたアノードとカソードとの間の電圧印加によって、水素ガスの精製及び昇圧が行われる水素精製昇圧システムが記載されている。なお、アノード、電解質膜及びカソードの積層構造体を膜−電極接合体(以下、MEA:Membrane Electrode Assembly)という。
ここで、アノードとカソードとの間に電流が流れる時、プロトンが、アノードからカソードへと、水分子を同伴しながら電解質膜を移動する。すると、カソードで水分子から水(浸透水)が生じる。そこで、特許文献1では、この水を水素ガスから効率良く分離するため、水素ガス流路中に水トラップ・ドレイン器が設けられている。水トラップ・ドレイン器は、ドレインバルブが設けられた一対の水トラップを備える。特許文献1の水素精製昇圧システムは、水トラップを交互に切り替えて、水素ガス流路から排水することで、水素精製昇圧システムの連続運転時にも水素ガス流路中の水を適時に除去可能に構成されている。これにより、高純度の水素が精製される。
特開2015−117139号公報
しかし、従来例は、水素ガス流路に水トラップ・ドレイン器を設ける場合の問題点については十分に検討されていない。本開示の一態様(aspect)は、このような事情に鑑みてなされたものであり、従来よりも簡易な構成で、水素ガスの精製及び昇圧を行い得る電気化学式水素ポンプを提供する。
上記課題を解決するため、本開示の一態様の電気化学式水素ポンプは、電解質膜と、前記電解質膜の一方の主面に設けられたカソード触媒層と、前記電解質膜の他方の主面に設けられたアノード触媒層と、内面にガス流路を備え、前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層を挟持するように設けられた、一対のセパレータと、前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層の間に電圧を印加する電圧印加部と、を備え、前記一方の主面は重力方向上側に配置され、前記カソード触媒層が親水性である。
本開示の一態様の電気化学式水素ポンプは、従来よりも簡易な構成で、水素ガスの精製及び昇圧を行い得る。
図1は、実施形態の電気化学式水素ポンプの一例を示す図である。 図2は、実施形態の電気化学式水素ポンプの一例を示す図である。 図3は、カソード触媒層の親水性の評価指標の説明に用いる図である。 図4は、実施形態の電気化学式水素ポンプの動作の説明に用いる図である。
水素ガス流路に水トラップ・ドレイン器を設ける場合の問題について鋭意検討が行われ、以下の知見が得られた。
水素ガス中の水を除去する目的で、従来例の如く水トラップ・ドレイン器を設けることは、システムの大型化を招く。また、水トラップ・ドレイン器の信頼性の確保が必要となる観点からシステムのコストが嵩む可能性がある。
そこで、発明者らは、MEAのカソードの浸透水を排水せずに、寧ろ、MEAの電解質膜の湿潤状態保持のために、この浸透水を有効に活用するという着想に到達した。
すなわち、本開示の一態様の電気化学式水素ポンプは、電解質膜と、前記電解質膜の一方の主面に設けられたカソード触媒層と、前記電解質膜の他方の主面に設けられたアノード触媒層と、内面にガス流路を備え、前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層を挟持するように設けられた、一対のセパレータと、前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層の間に電圧を印加する電圧印加部と、を備え、前記一方の主面は重力方向上側に配置され、前記カソード触媒層が親水性である。
かかる構成によると、従来よりも簡易な構成で、水素ガスの精製及び昇圧を行い得る。具体的には、MEAのカソード側には電解質膜を透過した水分子から浸透水が生じる。そこで、カソード触媒層を親水性にするとともに、浸透水が、電解質膜側へ移動し、電解質膜を均一に濡らすようにカソード触媒層を電解質膜よりも上方に配置することで、MEAの電解質膜の湿潤状態を適切に保持できる。よって、浸透水が有効に活用されるので、従来の水トラップ・ドレイン器を設ける必要性が低減される。また、水トラップ・ドレイン器を設ける場合でも、水トラップ・ドレイン器を簡易(例えば、小型)に構成できる。
また、上記の構成を取らない場合に比べ、電解質膜の主面(上面)に水を留まらせることが可能となり、電解質膜の保水性が均一に保持され得るので、電解質膜の劣化、電解質膜の膜抵抗及び反応過電圧の増加等を適切に抑制できる。よって、水素ガスの精製及び昇圧における省エネルギー化を図ることができる。
また、電解質膜を水で浸すことで電解質膜の洗浄が効果的に行われるので、電解質膜への不純物蓄積による膜劣化が抑制される。
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。
なお、以下で説明する実施形態は、いずれも包括的又は具体的な例を示すものである。以下の実施形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態等は、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。また、以下の実施形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
(実施形態)
[装置構成]
図1及び図2は、実施形態の電気化学式水素ポンプの一例を示す図である。なお、図1及び図2において、「上」及び「下」がこれらの図面のように取られ、重力が「上」から「下」へ作用するものとする。
電気化学式水素ポンプ16は、電解質膜4と、カソード触媒層3Cと、アノード触媒層3Aと、カソードガス拡散層2Cと、アノードガス拡散層2Aと、一対のセパレータ1C、1Aと、電圧印加部13と、を備える。
図2に示すように、電解質膜4は、一対の主面4U、4Dを備える。電解質膜4の一方の主面4Uは上面(あもて面)であり、電解質膜4の他方の主面4Dは下面(うら面)である。
電解質膜4は、プロトン(H)を透過可能なプロトン伝導性高分子膜である。電解質膜4はプロトン伝導性高分子膜であれば、どのような膜であってもよい。例えば、電解質膜4として、フッ素系高分子電解質膜等を挙げることができる。具体的には、例えば、Nafion(登録商標、デュポン社製)、Aciplex(商品名、旭化成株式会社製)等を用いることができる。
カソード触媒層3Cは、電解質膜4の一方の主面4Uに設けられている。カソード触媒層3Cは、例えば、触媒金属として白金を含むが、これに限定されない。
アノード触媒層3Aは、電解質膜4の他方の主面4Dに設けられている。アノード触媒層3Aは、例えば、触媒金属としてRuIrFeOxを含むが、これに限定されない。
なお、カソード触媒層3Cもアノード触媒層3Aも、触媒の調製方法としては、種々の方法を挙げることができるので、特に限定されない。例えば、触媒の担体としては、導電性多孔質物質粉末、炭素系粉末などを挙げることができる。炭素系粉末としては、例えば、黒鉛、カーボンブラック、電気導電性を有する活性炭等の粉末を挙げることができる。カーボン等の担体に、白金若しくは他の触媒金属を担持する方法は、特に限定されない。例えば、粉末混合又は液相混合等の方法を用いてもよい。後者の液相混合としては、例えば、触媒成分コロイド液にカーボン等の担体を分散させ、吸着させる方法等が挙げられる。また、必要に応じて活性酸素除去材を担体として、白金若しくは他の触媒金属を上記と同様の方法で担持することができる。白金等の触媒金属の担体への担持状態は、特に限定されない。例えば、触媒金属を微粒子化し、高分散で担体に担持してもよい。
カソードガス拡散層2Cは、カソード触媒層3Cに設けられている。カソードガス拡散層2Cは、高圧による電解質膜4の押し付けに耐え得る程度の剛性が必要である。カソードガス拡散層2Cとしては、例えば、高弾性の黒鉛化炭素繊維、チタン粉末焼結体の表面に白金メッキを施した多孔質体等で構成され、ペーパー状にしたものを用いることができる。なお、前者の場合、例えば、炭素繊維を2000℃以上で熱処理すると黒鉛結晶が発達し黒鉛繊維に変化する。
アノードガス拡散層2Aは、アノード触媒層3Aに設けられている。アノードガス拡散層2Aは、高圧による電解質膜4の押し付けに耐え得る程度の剛性が必要である。アノードガス拡散層2Aとしては、例えば、チタン繊維焼結体又はチタン粉末焼結体の表面に白金メッキを施したもの等、導電性の多孔質体を用いることができる。
このようにして、MEA15は、電解質膜4と、電解質膜4の一対の主面4U、4Dのそれぞれに設けられたカソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aと、カソード触媒層3Cの上面に設けられたカソードガス拡散層2Cと、アノード触媒層3Aの下面に設けられたアノードガス拡散層2Aと、を備える。そして、これらの各層が積層状態で接合されている。
セパレータ1C、1Aはそれぞれ、ガス流路14C、14Aを備え、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aのそれぞれ、及び/又は、カソードガス拡散層2C及びアノードガス拡散層2Aのそれぞれにガスを供給するための部材である。セパレータ1C、1Aは、内面にガス流路を備え、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aを挟持するように設けられる。具体的には、セパレータ1Cは、平面視において、例えば、サーペンタイン状のガス流路14Cが形成されており、このガス流路14Cの形成領域がカソードガス拡散層2Cの上面に当接するように配されている。セパレータ1Aは、平面視において、例えば、サーペンタイン状のガス流路14Aが形成されており、このガス流路14Aの形成領域がアノードガス拡散層2Aの下面に当接するように配されている。そして、MEA15の上下面をそれぞれ、セパレータ1C、1Aで挟持することにより電気化学式水素ポンプ16の単セルが得られる。
電圧印加部13は、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aの間に電圧を印加する。具体的には、電圧印加部13のプラス端子は、導電性のセパレータ1Aに接続され、電圧印加部13のマイナス端子が、導電性のセパレータ1Cに接続されている。電圧印加部13は、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aの間に電圧を印加できれば、どのような構成であってもよい。
ここで、カソードガス拡散層2C及びアノードガス拡散層2Aはそれぞれ、MEA15のカソード及びアノードにおける給電体である。つまり、カソードガス拡散層2C及びアノードガス拡散層2Aは、セパレータ1C、1Aと、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aとの間を通電する役割を備える。
また、カソードガス拡散層2C及びアノードガス拡散層2Aは、セパレータ1C、1Aのガス流路14C、14Aと、カソード触媒層3C及びアノード触媒層3Aとの間でガスを拡散させる役割も備える。例えば、セパレータ1Aのガス流路14Aを流れる水素含有ガスは、アノードガス拡散層2Aを通じてアノード触媒層3Aの表面へと拡散する。
なお、必要に応じて、電気化学式水素ポンプ16の単セルに冷却器等が設けられ、2セル以上に積層することで、複数の単セルからなるスタックを構成しても構わない。
図1に示すように、電気化学式水素ポンプ16は、アノード室8とカソード室7とを備える。
アノード室8の内部は、アノード入口配管11と連通するとともに、図示しない流体流路(例えば、配管、マニホールド等)を介してセパレータ1Aのガス流路14Aとも連通している。これにより、アノード入口配管11を流れる水素含有ガスは、アノード室8内に流入した後、セパレータ1Aのガス流路14Aへと供給される。なお、水素含有ガスは、少なくとも水素ガス及び水分子(水蒸気)を含む。水素含有ガスとして、例えば、改質ガス、水電解法によるガス等を挙げることができる。
カソード室7の内部は、カソード出口配管12と連通するとともに、図示しない流体流路(例えば、配管、マニホールド等)を介してセパレータ1Cのガス流路14Cとも連通している。これにより、MEA15を通過した高純度の水素ガスは、セパレータ1Cのガス流路14Cを流れて、カソード室7内に流入した後、カソード出口配管12へと供給される。なお、カソード出口配管12には、開閉弁9(例えば、電磁弁等)が設けられており、開閉弁9を適時に開閉することで、水素ガスが、高圧水素タンク10内に貯えられる。そして、このような水素ガスは、図示しない水素利用機器(例えば、燃料電池車)の燃料等に使用される。
ここで、本実施形態の電気化学式水素ポンプ16は、重力が上から下へ作用する場合、電解質膜4の一方の主面4Uが上面であるとともに、カソード触媒層3Cは親水性である。カソード触媒層3Cは親水性は、アノード触媒層3Aの親水性よりも大きいことが望ましい。なお、カソード触媒層3Cの表面に所望の表面処理を行い、保水層19(図2参照)が存在することで、カソード触媒層3Cの親水性を適切に向上できる。表面処理の詳細は実施例で説明する。
また、本実施形態では、図3に示す如く、カソード触媒層3Cに水滴17を垂らした時、カソード触媒層3Cの触媒層の表面と水滴17の接線とが成す角度(接触角θ)をカソード触媒層3Cの親水性の評価指標に用い、この接触角θが、約90°以下の場合、カソード触媒層3Cが、親水性であるものとする。
以上より、本実施形態の電気化学式水素ポンプ16は、従来よりも簡易な構成で、水素ガスの精製及び昇圧を行い得る。具体的には、MEA15のカソード側には電解質膜4を透過した水分子から浸透水が生じる。そこで、カソード触媒層3Cの親水性をアノード触媒層3Aの親水性よりも大きくするとともに、浸透水が、電解質膜4側へ移動し、電解質膜4を均一に濡らすようにカソード触媒層3Cを電解質膜4よりも上方に配置することで、MEA15の電解質膜4の湿潤状態を適切に保持できる。よって、浸透水が有効に活用されるので、従来の水トラップ・ドレイン器を設ける必要性が低減される。また、水トラップ・ドレイン器を設ける場合でも、水トラップ・ドレイン器を簡易(例えば、小型)に構成できる。
また、上記の構成を取らない場合に比べ、電解質膜4の主面4U(上面)に水を留まらせることが可能となり、電解質膜4の保水性が均一に保持され得るので、電解質膜4の劣化、電解質膜4の膜抵抗及び反応過電圧の増加等を適切に抑制できる。よって、水素ガスの精製及び昇圧における省エネルギー化を図ることができる。
また、電解質膜4を水で浸すことで電解質膜4の洗浄が効果的に行われるので、電解質膜4への不純物蓄積による膜劣化が抑制される。
また、MEA15のアノードは、重力が作用する方向においてMEA15の下側の電極であるので、アノード触媒層3Aに水は滞留しにくくなる。よって、水素がプロトンと電子に解離する際のアノードでの反応抵抗の増加が抑制されるので、電気化学式水素ポンプ16の水素ガスの精製及び昇圧に必要な消費電力アップを抑制できる。
[動作]
図4は、実施形態の電気化学式水素ポンプの動作の説明に用いる図である。
なお、以下の動作は、図示しない制御器の制御プログラムにより行われても構わない。制御器は、制御機能を有するものであれば、どのような構成であっても構わない。制御器は、例えば、演算回路と、制御プログラムを記憶する記憶回路と、を備える。演算回路として、例えば、MPU、CPU等が例示される。記憶回路として、例えば、メモリが例示される。制御器は、集中制御を行う単独の制御器で構成されていてもよいし、互いに協働して分散制御を行う複数の制御器で構成されていてもよい。
まず、電圧印加部13により、MEA15のアノードとカソードの間に電圧を印加する。
次に、アノード入口配管11を通じて、水素含有ガスをアノード室8に供給すると、水素含有ガス中の水素ガスは、アノード上で電子を遊離してプロトン(H)となる(式(1))。遊離した電子は、電圧印加部13を介してカソードへと移動する。
一方、プロトンは、図4に示す如く、水分子を同伴しながら電解質膜4内を透過し、カソードに触れる。カソードでは、電解質膜4を透過したプロトンと、カソードガス拡散層2Cからの電子とによる還元反応が行われ、水素ガスが生成される(式(2))。
これにより、COガス等の不純物を含む水素含有ガスから高効率に水素ガスの純化が行われる。つまり、カソードにおいて、水素含有ガスから水素ガスだけを取り出すことが可能となり、COガス等の不純物は、MEA15において除去される。なお、水素含有ガスには、不純物としてCOガスを含有する場合がある。この場合、COガスは、アノード触媒層3A等の触媒活性を低下させるので、COガスは、図示しないCO除去器(例えば、変成器、CO選択酸化器等)で除去する方がよい。
そして、開閉弁9が閉止される場合、カソード室7内の水素ガスの圧力が上昇し、水素ガス圧が高圧になる。具体的には、アノードのガス圧P1、カソードのガス圧P2及び電圧印加部13の電圧Eの関係は、以下の式(3)で定式化される。
アノード:H(低圧)→2H+2e ・・・(1)
カソード:2H+2e→H(高圧) ・・・(2)
E=(RT/2F)ln(P2/P1)+ir・・・(3)
式(3)において、Rは気体定数(8.3145J/K・mol)、TはMEA15の温度(K)、Fはファラデー定数(96485C/mol)、P2はカソードのガス圧、P1はアノードのガス圧、iは電流密度(A/cm)、rはセル抵抗(Ω・cm)である。
式(3)から、電圧印加部13の電圧Eを上げることで、カソードのガス圧P2を上昇し得ることが容易に理解できる。
よって、本実施形態の電気化学式水素ポンプ16では、開閉弁9を閉止し、電圧印加部13の電圧Eを上げることで、カソード室7内の水素ガス圧を上昇させる。そして、水素ガス圧が所定圧以上になると、開閉弁9を開けてことで、カソード室7内の水素ガスが、カソード出口配管12を通じて高圧水素タンク10へ充填される。一方、カソード室7内の水素ガス圧が所定圧力未満になると、開閉弁9を閉めることで、カソード室7と高圧水素タンク10とが遮断される。このため、高圧水素タンク10の水素ガスがカソード室7に逆流することが抑制される。
このようにして、電気化学式水素ポンプ16により、水素ガスが、所望の目標圧力に昇圧され、高圧水素タンク10へ充填される。
なお、電解質膜4は、乾燥すると膜抵抗(IR損失)、水素がプロトンと電子に解離する際の反応抵抗(反応過電圧)が大きくなるだけでなく、破れ易くなる可能性がある。しかし、本実施形態の電気化学式水素ポンプ16は、上述のとおり、MEA15のカソードの浸透水を、MEA15の電解質膜4の湿潤状態保持のために有効に活用しているので、このような可能性が低減される。
(実施例)
以下、カソード触媒層3Cの表面処理の具体的な実施例について説明する。
カソード触媒層3Cの表面上に、親水性微粒子を含むペーストがコーティングされ、このペーストを凝固させる。これにより、カソード触媒層3Cの親水性が向上し、電解質膜4の保水性を向上させ得る。なお、吸湿性を備えるゼオライト、モルデナイト又はシリカゲル等の粒子を、カソード触媒層3Cの触媒と混合させてもよい。
上記ペーストのコーティング法として、例えば、ウエットコーティング法を用いることができる。ウエットコーティング法として、例えば、ナイフ又はドクターブレードコーティング法、押し出しコーティング法、スロットコーティング法、ローラーコーティング法等を用いることができる。
上記の親水性微粒子として、例えば、酸化ジルコニウム粒子を挙げることができる。この場合、ペーストは、溶媒中の細孔形成ポリマーの溶液及びポリマー溶液中に分散した酸化ジルコニウム粒子を含む組成物であることが好ましい。
細孔形成ポリマーとして、例えば、ポリスルホン(PSU)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリ(アクリロニトル)(PAN)、ポリエチレンオキシド(PEO)、ポリメチルメタクリレート又はこれらのコポリマーがある。ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、フッ化ビニリデン(VDF)のコポリマー及び主としてポリフッ化ビニリデンからなる有機ポリマーは、酸化/還元−抵抗及び膜形成特性の観点から特に好ましい。これらのうち、フッ化ビニリデン(VDF)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)及びクロロトリフルオロエチレン(CTFE)のターポリマーがその優れた膨潤特性、熱抵抗及び電極への接着性のために好ましい。他の好適な親水性ポリマーとして、例えば、ポリ(ビニルピロリドン)(PVP)、架橋ポリビニルピロリドン(PVPP)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(酢酸ビニル)、メチルセルロース及びポリエチレンオキシドがある。
ペーストは、例えば、ポリプロピレングリコール、グリセロール、グリセリンなどの多価アルコール、フタル酸ジブチル(DBP)、フタル酸ジエチル(DEP)、フタル酸ジウンデシル(DUP)、エチレングリコール、トリプロピレングリコール、イソノナン酸及びネオデカン酸などの親水化及び安定化剤を含んでもよい。
このようなペーストをカソード触媒層3Cの表面にコーティングし、凝固させることで、カソード触媒層3Cに存在する浸透水が球状の液滴とならず、図3に示すような接触角θが90°以下の膜状の液体となった。これにより、電解質膜4を湿潤状態に適切に保持することができる。
以上により、電解質膜4の劣化が抑制され、電解質膜4のプロトン伝導性能の低下を抑制できる。このため、電解質膜4の抵抗(IR損失)及び水素がプロトンと電子に解離する際の反応抵抗(反応過電圧)を低い状態で維持できるので、電気化学式水素ポンプ16の水素ガスの精製及び昇圧の運転に必要な消費電力アップを抑制できる。
なお、以上の表面処理の方法及び材料等は例示であって、本例に限定されない。
(変形例)
実施形態の変形例の電気化学式水素ポンプ16は、本開示の一態様の電気化学式水素ポンプ16において、カソード触媒層3Cの親水性は、カソードガス拡散層2Cの親水性よりも大きい。
かかる構成によると、MEA15のカソードの浸透水が更に電解質膜4上に溜まりやすくなる。このため、上記の構成を取らない場合に比べ、電解質膜4の保水性が高い状態で保持され得る。なお、カソードガス拡散層2Cの親水性の向上には、カソードガス拡散層2Cの表面に、カソード触媒層3Cと同様の表面処理を行うとよい。
本変形例の電気化学式水素ポンプ16は、上記特徴点以外は、実施形態の電気化学式水素ポンプ16と同様に構成してもよい。
本開示の一態様は、例えば、電気化学式水素ポンプとして利用できる。
1A :セパレータ
1C :セパレータ
2A :アノードガス拡散層
2C :カソードガス拡散層
3A :アノード触媒層
3C :カソード触媒層
4 :電解質膜
4D :主面
4U :主面
7 :カソード室
8 :アノード室
9 :開閉弁
10 :高圧水素タンク
11 :アノード入口配管
12 :カソード出口配管
13 :電圧印加部
14A :ガス流路
14C :ガス流路
15 :MEA
16 :電気化学式水素ポンプ

Claims (7)

  1. 電解質膜と、
    前記電解質膜の一方の主面に設けられたカソード触媒層と、
    前記電解質膜の他方の主面に設けられたアノード触媒層と、
    内面にガス流路を備え、前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層を挟持するように設けられた、一対のセパレータと、
    前記カソード触媒層及び前記アノード触媒層の間に電圧を印加する電圧印加部と、
    を備え、
    前記一方の主面は重力方向上側に配置され、前記カソード触媒層が親水性である、電気化学式水素ポンプであって、
    前記カソード触媒層は、親水性微粒子を含むペーストをコーティングし、前記ペーストを凝固させることにより処理された表面を有し、前記ペーストは、溶媒中の細孔形成ポリマーの溶液及びポリマー溶液中に分散した酸化ジルコニウム粒子を含む、電気化学式水素ポンプ
  2. 前記カソード触媒層の接触角は、90°以下である、請求項1に記載の電気化学式水素ポンプ。
  3. 前記カソード触媒層の親水性は、前記アノード触媒層の親水性よりも大きい、請求項1に記載の電気化学式水素ポンプ。
  4. 前記カソード触媒層上に設けられたカソードガス拡散層と、前記アノード触媒層上に設けられたアノードガス拡散層と、を更に備える、請求項1に記載の電気化学式水素ポンプ。
  5. 前記カソード触媒層の親水性は、前記カソードガス拡散層の親水性よりも大きい請求項4に記載の電気化学式水素ポンプ。
  6. 前記細孔形成ポリマーは、ポリスルホン(PSU)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリ(アクリロニトル)(PAN)、ポリエチレンオキシド(PEO)、ポリメチルメタクリレート又はこれらのコポリマーのいずれかである請求項1から5のいずれか1項に記載の電気化学式水素ポンプ。
  7. 前記ペーストは、さらに、ポリプロピレングリコール、グリセロール又はグリセリンを含む多価アルコール、フタル酸ジブチル(DBP)、フタル酸ジエチル(DEP)、フタル酸ジウンデシル(DUP)、エチレングリコール、トリプロピレングリコール、イソノナン酸及びネオデカン酸のうちの少なくとも1つを含む請求項1から6のいずれか1項に記載の電気化学式水素ポンプ。
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