JP6845272B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる、2014年11月13日出願の欧州特許出願第14192938.0号の利益を主張する。
‐放射ビームB(例えば、UV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
‐パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
‐基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板ステージ(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
‐(パターニングデバイスMAによって放射ビームBにパターンが付与されたときに形成される)パターン付き放射ビームを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
スカーテン13の特性が使用される。異なるガスカーテン13の特性は、露光段階および検知段階の少なくとも一部に対してブレイクスルーに耐え得るように最適化される一方、可能な限り遅いバリアガス速度を使用することにより、音響外乱を減少させる。
Claims (15)
- 周囲ガスのある環境内で基板を支持するように構成された基板ステージと、
露光段階中に、前記基板ステージ上に支持された際に、前記基板上に放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
検知段階中、前記基板ステージ上の前記基板の性質を検知するように構成された検知システムと、
参照システムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の放射経路を介して前記参照システムに対する前記基板ステージの位置を決定するように構成された位置決めシステムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の前記放射経路が横断する体積内への前記周囲ガスの侵入を減少させるように作用するバリアガスのガスカーテンを提供するように構成されたアウトレットシステムと、
制御システムであって、
前記基板ステージを、前記検知段階中には前記参照システムに対するある移動を行い、前記露光段階中には前記参照システムに対する他の移動を行うように制御し、かつ
前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの前記アウトレットシステムに対するスピード、および/または、単位時間当たりに前記アウトレットシステムから出る前記バリアガスの量を、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成された制御システムと、を備え、
前記アウトレットシステムは、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異なる前記経路の周りの幾何学形状を有するガスカーテンを提供するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置は、前記ガスカーテンが跨ぐ領域が、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異なるように、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの空間分布を、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異ならせて提供するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
周囲ガスのある環境内で基板を支持するように構成された基板ステージと、
露光段階中に、前記基板ステージ上に支持された際に、前記基板上に放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
検知段階中、前記基板ステージ上の前記基板の性質を検知するように構成された検知システムと、
参照システムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の放射経路を介して前記参照システムに対する前記基板ステージの位置を決定するように構成された位置決めシステムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の前記放射経路が横断する体積内への前記周囲ガスの侵入を減少させるように作用するバリアガスのガスカーテンを提供するように構成されたアウトレットシステムと、
制御システムであって、
前記基板ステージを、前記検知段階中には前記参照システムに対するある移動を行い、前記露光段階中には前記参照システムに対する他の移動を行うように制御し、かつ
前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの前記アウトレットシステムに対するスピード、および/または、単位時間当たりに前記アウトレットシステムから出る前記バリアガスの量を、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成された制御システムと、を備え、
前記リソグラフィ装置は、前記ガスカーテンが跨ぐ領域が、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異なるように、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの空間分布を、前記検知段階の少なくとも一部内と前記露光段階内とで異ならせて提供するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 前記検知段階の少なくとも一部内の前記ガスカーテンは、前記アウトレットシステムの第1の開口部を使用して、または前記アウトレットシステムの第1の開口部の組み合わせを使用して生成され、前記露光段階内の前記ガスカーテンは、前記アウトレットシステムの、前記第1の開口部とは異なる第2の開口部を使用して、または前記アウトレットシステムの、前記第1の開口部の組み合わせとは異なる第2の開口部の組み合わせを使用して生成される、請求項1〜3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検知段階の少なくとも一部内の前記ガスカーテンの幾何学形状は、2つの直行方向において略等しい寸法を有し、前記露光段階内の前記ガスカーテンの前記幾何学形状は、2つの直行方向において異なる寸法を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、前記基板ステージの移動方向に向けられた先端を有するとがった形状を形成するように前記ガスカーテンの形状を提供するように構成される、請求項1〜5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 周囲ガスのある環境内で基板を支持するように構成された基板ステージと、
露光段階中に、前記基板ステージ上に支持された際に、前記基板上に放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
検知段階中、前記基板ステージ上の前記基板の性質を検知するように構成された検知システムと、
参照システムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の放射経路を介して前記参照システムに対する前記基板ステージの位置を決定するように構成された位置決めシステムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の前記放射経路が横断する体積内への前記周囲ガスの侵入を減少させるように作用するバリアガスのガスカーテンを提供するように構成されたアウトレットシステムと、
制御システムであって、
前記基板ステージを、第1段階中には前記参照システムに対するある移動を行い、第2段階中には前記参照システムに対する他の移動を行うように制御し、かつ
前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの前記アウトレットシステムに対するスピード、および/または、単位時間当たりに前記アウトレットシステムから出る前記バリアガスの量を、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成された制御システムと、を備え、
前記アウトレットシステムは、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異なる前記経路の周りの幾何学形状を有するガスカーテンを提供するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 前記制御システムは、さらに、前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの空間分布を、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 周囲ガスのある環境内で基板を支持するように構成された基板ステージと、
露光段階中に、前記基板ステージ上に支持された際に、前記基板上に放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
検知段階中、前記基板ステージ上の前記基板の性質を検知するように構成された検知システムと、
参照システムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の放射経路を介して前記参照システムに対する前記基板ステージの位置を決定するように構成された位置決めシステムと、
前記基板ステージと前記参照システムとの間の前記放射経路が横断する体積内への前記周囲ガスの侵入を減少させるように作用するバリアガスのガスカーテンを提供するように構成されたアウトレットシステムと、
制御システムであって、
前記基板ステージを、第1段階中には前記参照システムに対するある移動を行い、第2段階中には前記参照システムに対する他の移動を行うように制御し、かつ
前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの前記アウトレットシステムに対するスピード、および/または、単位時間当たりに前記アウトレットシステムから出る前記バリアガスの量を、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成された制御システムと、を備え、
前記制御システムは、さらに、前記アウトレットシステムを、前記アウトレットシステムから出る時の前記バリアガスの空間分布を、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異ならせて提供するように制御するべく構成される、
リソグラフィ装置。 - 前記第1段階は、前記検知段階の第1副段階であり、前記第2段階は、前記検知段階の第2副段階である、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御システムは、前記アウトレットシステムを、前記ガスカーテンの特性が、前記露光段階の少なくとも一部内と、前記第1段階および/または前記第2段階とで異なるように制御するべく構成される、請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御システムは、さらに、前記アウトレットシステムを、前記ガスカーテンが跨ぐ領域が、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異なるように提供するべく制御する、請求項9〜11のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アウトレットシステムは、前記第1段階の少なくとも一部内と前記第2段階内とで異なる前記経路の周りの幾何学形状を有するガスカーテンを提供するように構成される、請求項9〜12のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1段階の少なくとも一部内の前記ガスカーテンは、前記アウトレットシステムの第1の開口部を使用して、または前記アウトレットシステムの第1の開口部の組み合わせを使用して生成され、前記第2段階内の前記ガスカーテンは、前記アウトレットシステムの、前記第1の開口部とは異なる第2の開口部を使用して、または前記アウトレットシステムの、前記第1の開口部の組み合わせとは異なる第2の開口部の組み合わせを使用して生成される、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、前記基板ステージの移動方向に向けられた先端を有するとがった形状を形成するように前記ガスカーテンの形状を提供するように構成され、かつ/または、前記リソグラフィ装置は、前記第1段階の少なくとも一部内において、2つの直行方向に略等しい寸法を有する前記ガスカーテンの幾何学形状と、前記第2段階内において、2つの直行方向に異なる寸法を有する前記ガスカーテンの幾何学形状とを提供するように構成される、請求項9〜14のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
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