JP6838377B2 - 化粧シート及び化粧板 - Google Patents
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Description
その一方で、印刷を施した紙が、化粧シートあるいは化粧紙として用いられることがある。この場合には、原紙に印刷を施し、それに熱硬化性樹脂を含浸した後、プレスで熱及び圧をかけて化粧板にする方法が知られている。この方法によれば、熱硬化性樹脂が化粧板の表面にあることにより、表面硬度及び耐摩耗性が高い化粧板(若しくは化粧シート)を得ることができる。
そこで、本発明では、意匠性及び触感を向上させた化粧シート及び当該化粧シートを備えた化粧板を提供することを目的とする。
また、この化粧シートでは、表面保護層に無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方を含有させて、表面保護層の表面に上記粒子の一部分が表出するようにしている。さらに、表面保護層の表面は、接触式粗さ計で測定した最大高さRmax値が3μm以上である。このため、化粧シートの表面に凹凸形状を設けると共に、触感を付与することが可能となる。
このように、本発明の一態様に係る化粧シートであれば、エンボス凹部を深くすることで意匠性が向上し、さらに触感を付与することで立体感(立体意匠感)が向上することが可能となる。つまり、本発明の一態様に係る化粧シートであれば、より優れた触感と立体意匠感とを有する化粧シートを提供することが可能となる。
(化粧シートの全体構成)
図1は、本発明の第1実施形態に係る化粧シートの断面構成を示す模式的な断面図である。図1に示すように、化粧シート10(10A)は、第1の紙基材層1と、第2の紙基材層2と、熱可塑性樹脂層3と、絵柄印刷層4(絵柄層)と、表面保護層5と、を備えて構成されている。第1及び第2の紙基材層1、2は、それらの間に配置される熱可塑性樹脂層3を介して互いに接着固定されている。
第1及び第2の紙基材層1、2としては、例えばセルロース繊維を50%以上含有する各種の紙材を用いることができる。第1及び第2の紙基材層1、2を構成する紙材は、例えばその厚さが15μm以上60μm未満の範囲内であることが好ましく、25μm以上35μm以下の範囲内であることがより好ましい。第1及び第2の紙基材層1、2に用いる紙材が15μmよりも薄い場合には、強度において印刷及び後加工に適さないことがある。一方、紙材が60μm以上の場合には、エンボス適性が低く、エンボス加工が困難となる、若しくは深いエンボス加工が難しくなるといったことが生じることがある。
熱可塑性樹脂層3は、第1及び第2の紙基材層1、2の間に積層され、第1及び第2の紙基材層1、2を互いに接着するための層である。また、熱可塑性樹脂層3は、エンボス処理をされた際に変形しその形状を保持固定するための層でもある。熱可塑性樹脂層3は、その厚さは限定されるものではないが、例えば20μm以上70μm以下の範囲内であることが好ましく、45μm以上55μm以下の範囲内であることがより好ましい。また、熱可塑性樹脂層3は、その厚みが第1及び第2の紙基材層1、2を構成する紙材よりも厚いことが好ましい。特に、熱可塑性樹脂層3が第2の紙基材層2を構成する紙材よりも厚いこと、つまり第2の紙基材層2の紙材が熱可塑性樹脂層3よりも薄いことが好ましい。このような熱可塑性樹脂層3は、例えば押出機を用いて熱可塑性樹脂層を形成し、第1及び第2の紙基材層1、2を貼り合せるといったことにより設けられる。
絵柄印刷層4は、第1の紙基材層1上に形成され、化粧シート10に絵柄等を付与するための層であり、例えばインキ等により構成される。絵柄としては、例えば木目等が例示される。このような絵柄印刷層4を設ける印刷の方法としては、既知の印刷方法や印刷装置を用いることができる。その方法は特に限定されるものではないが、例えば生産性の観点などからグラビア印刷法を用いることができる。
絵柄印刷層4を構成する印刷インキについては、特に限定されるものではなく、水性インキ又は溶剤タイプのインキを用いることができ、装置との適合性、又は、化粧シート、化粧板に求められる性能を考慮して適宜選択することができる。インキに含まれる着色剤は、化粧シートや化粧板の場合には、一般に耐光性を考慮して顔料タイプを用いることが好ましい。
表面保護層5は、絵柄印刷層4上に形成され、絵柄印刷層4の全体を被覆するシート状の層である。表面保護層5は、表面保護層5を通して、絵柄印刷層4の絵柄を透視できる程度に透明または半透明な材料(樹脂)で形成されている。透明樹脂で形成された表面保護層5を設けることにより、化粧シート10の表面10aの光沢を調節し、好ましい意匠性を得ることが可能となる。また、表面保護層5を設けることにより、化粧シート10において、耐摩耗性などの表面物性の向上を図ることも可能となる。また、表面保護層5には、たとえば木目の導管部分のような光沢の差を部分的に設けることができる。これにより、凹凸感を視覚的に作りだして、エンボス凹部6による凹凸形状と組み合わせてより高度な意匠性を表現することも可能である。
表面保護層5の材料としては、例えば、熱硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂としては、例えば、絵柄印刷層4との接着性、化粧シート10の変形追従性、耐擦傷性等を考慮すれば、2液硬化型ウレタン樹脂等のウレタン結合を有する熱硬化性樹脂(バインダー)を用いるのが好ましい。ここで、熱硬化性樹脂には、無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方が添加されている。また、溶剤としては、酢酸エチル、酢酸nブチルを用いることができる。
また、イソシアネートとしては、分子中に2個以上のイソシアネート基を有する多価イソシアネートを用いることができる。例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、或いは、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪族(乃至は脂環式)イソシアネートを用いることができる。また、上記各種イソシアネートの付加体又は多量体を用いることができる。例えば、トリレンジイソシアネートの付加体、トリレンジイソシアネート3量体(trimer)等がある。なお、上記イソシアネートにおいて脂肪族(乃至は脂環式)イソシアネートは、耐候性、耐熱黄変性も良好にできる点で好ましく、例えば1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートを使用できる。
以下、表面粒子について説明する。
熱硬化性樹脂に添加可能な無機粒子は、例えば、シリカ粒子である。
シリカ粒子は、熱硬化性樹脂の全質量に対し、5質量部以上含むのが好ましい。これにより、表面保護層5に凹凸形状を付与することができ、触感による立体感を得ることができる。それゆえ、表面保護層5に形成したエンボス凹部6の深さDが浅くても、視覚的な立体感を適切に感じさせることができる。なお、シリカ粒子の添加量の上限は、熱硬化性樹脂の全質量に対し、35質量部以下とする。
合成樹脂粒子は、熱硬化性樹脂の全質量に対し、5質量部以上含むのが好ましい。これにより、表面保護層5に凹凸形状を付与することができ、触感による立体感を得ることができる。それゆえ、表面保護層5に形成したエンボス凹部6の深さDが浅くても、視覚的な立体感を適切に感じさせることができる。なお、合成樹脂粒子の添加量の上限は、熱硬化性樹脂の全質量に対し、35質量部以下とする。
なお、本実施形態では、バインダーとして、熱硬化性樹脂を用いる例を示したが、他の構成を採用することもできる。例えば、電離放射線硬化性樹脂を用いる構成としてもよい。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。これにより、表面保護層5、つまり、化粧シート10の最表面層の硬度を向上でき、化粧シート10の耐摩耗性や、耐擦傷性、耐溶剤性等の表面物性を向上できる。また、例えば、バインダーとして、熱硬化性樹脂と電離放射線硬化性樹脂との混合物を用いる構成としてもよい。
また、本実施形態では、熱硬化性樹脂に、合成樹脂ビーズを添加する例を示したが、他の構成を採用してもよく、例えば、無機化合物のフィラーを添加する構成としてもよい。
以下、熱可塑性樹脂層3により互いに接着された第1及び第2の紙基材層1、2を含む積層体に対してエンボス加工を施す方法について、図2及び図3を参照しながら説明する。なお、第1及び第2の紙基材層1、2を構成する紙材を熱可塑性樹脂層3により接着する方法については、従来の方法を用いることができるため、その説明を省略する。
まず、図2(a)に示すように、第2の紙基材層2、熱可塑性樹脂層3、第1の紙基材層1、絵柄印刷層4、表面保護層5がこの順に積層された積層体100を準備する。積層体100の総厚Dは、例えば、60μm〜160μmであり、より好ましくは、80μm〜120μmである。なお、積層体100を形成する際、熱及び圧をかけて積層するため、第1及び第2の紙基材層1、2を構成する紙材等の厚みが多少は縮められる。
メインヒートドラム21は、円筒形を呈し、中心軸線回りに回転可能である。エンボス装置20に供給された積層体100は、まず、メインヒートドラム21の外周に巻き付いて進行する。インフラヒーター22は、メインヒートドラム21に巻き付いた状態の積層体100を加熱するためのヒーターである。インフラヒーター22は、メインヒートドラム21の近傍に、メインヒートドラム21の外周の一部に沿って配置されている。積層体100は、メインヒートドラム21の回転に伴って下流側に向かって進行しつつ、インフラヒーター22によって加熱される。
エンボスロール24及びゴムバックロール25は、エンボスユニットを構成し、協働して積層体100にエンボス加工を施す。エンボスロール24及びゴムバックロール25は、メインヒートドラム21の下流側に配置されている。エンボスロール24及びゴムバックロール25のそれぞれは、円筒形を呈し、それぞれの中心軸線回りに回転可能である。エンボスロール24及びゴムバックロール25は、互いに外周が接し、その間を積層体100が通過する際に積層体100に対してエンボス加工を施す。エンボスロール24及びゴムバックロール25の詳細な構成については後述する。
上述したように、ここで用いるエンボス装置20は、例えば積層体100を加熱する装置を有している。加熱された積層体100は、次いで表面に凹凸を有するエンボスロール24とゴムバックロール25からなるエンボスユニットに挟み込まれて図2(b)に示すようにエンボス加工が施される。積層体100を加熱することによって、熱可塑性樹脂層3が軟化して表面100aにエンボスが入りやすくなる。また第1及び第2の紙基材層1、2を構成する紙材の中間に熱可塑性樹脂層3が位置しているため、加熱された積層体100の抗張力が増し、積層体100が破断しにくくなるなどの効果を得ることができる。
また、本実施形態で用いるゴムバックロール25は、特にその硬度が50°以上80°以下を用いるのが好ましく、より好ましくは50°のゴムバックロール25が適しているが、限定されない。硬度は、例えばISO7619により測定される。本実施形態では、好ましくは、硬度が50°のゴムバックロール25を用いることが好ましい。なお、硬度が90°のゴムバックロール25を用いた場合にはエンボス意匠が劣ってしまう場合がある。なお、ゴムバックロール25の硬度は、JIS K 6301 A型又はJIS K 6253に基づいて測定されてもよく、これらに基づいて測定される硬度は、ISO7619に基づいて測定される硬度と同等である。
本実施形態に係る化粧シート10では、上述したエンボス加工方法を採用しているため、従来よりも深いエンボスを化粧シート10に施すことができる。そこで、本実施形態に係る化粧シート10では、エンボス凹部6の深さD1が化粧シート10のエンボス加工前の総厚Dに対して15%以上の比率となるようになっており、より好ましくは、エンボス凹部6の深さD1が化粧シート10のエンボス加工前の総厚Dに対して10%より大きく200%以下の比率である。エンボス凹部6がこのような深い凹部(溝)であることから、化粧シート10の意匠性、例えば、より自然な木目調のシートとすることが可能となる。なお、エンボス凹部6の深さD1は、具体的には、例えば15μm以上であり、より好ましくは30μm以上であり、更に好ましくは45μm以上であり、また更に好ましくは70μm以上である。エンボス凹部6の深さD1が深くなるに従って視覚的な立体感が増すと共に、触感による立体感も増すという効果を奏する。また、エンボス凹部6の深さD1は、200μm以下であると好ましく、この場合、化粧シートの強度を十分に維持することができるという効果を奏する。
また、熱可塑性樹脂がエンボス時に再加熱されることで、第1の紙基材層1又は第2の紙基材層2を構成する紙材と熱可塑性樹脂層3の相関剥離強度を高めることが可能となる。例えば、幅が25mmの化粧シートを厚さが3mmであるMDF(medium density fiberboard)の基材に両面テープ(積水化学工業(株)製両面テープ#5760)で固定した後、引張試験機((株)オリエンテック製RTM−100)で引張速度が200mm/minで180°引張を行い評価した場合に、ピーリング強度(相関剥離強度)を1.8N/25mm以上、より好ましくは2.3N/25mm以上とすることが可能となる。
なお、このような化粧シート10は、例えば接着剤を用いて基材の一方の面に貼りあわせて化粧板として用いることも可能である。化粧板に用いられる基材としては、例えば、木質系のMDF、合板、又はパーティクルボード、無機質系であれば石膏ボードや金属板などを用いることができる。
(化粧シートの全体構成)
図4は、本発明の第2実施形態に係る化粧シートの断面構成を示す模式的な断面図である。図4に示すように、化粧シート10(10B)は、第1の紙基材層1と、第2の紙基材層2と、熱可塑性樹脂層3と、絵柄印刷層4(絵柄層)と、艶消し層8と、表面保護層5と、を備えて構成されている。つまり、第2実施形態に係る化粧シート10(10B)は、艶消し層8を備えている以外は、第1実施形態に係る化粧シート10(10A)と同じ構成である。
そこで、ここでは、第1実施形態に係る化粧シート10(10A)と異なる部分である艶消し層8についてのみ説明し、その他の部分は説明を省略する。
艶消し層8は、絵柄印刷層4を覆う層であり、化粧シート10の表面の光沢を調整するために形成される。
艶消し層8の厚さは、例えば、20μm以上55μm以下の範囲内が好ましい。
艶消し層8は、少なくとも、透明な樹脂に艶消し剤が添加されて形成されている。
透明な樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂等、透明熱可塑性樹脂層等を用いることが可能である。
無機物としては、例えば、シリカ、アルミナ(α−アルミナ等)、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、カオリナイト、アルミノシリケート等を用いることが可能である。
有機物(樹脂)としては、例えば、ポリカーボネート、ナイロン、ウレタン樹脂等を用いることが可能である。
艶消し剤の平均粒径は、1μm以上10μm以下の範囲内とすることが好適である。
艶消し剤の添加量は、所望の光沢に応じて適宜選択するが、通常は、艶消し層8を構成する樹脂100質量部に対し、粒径が10μm以下の粒子で、20質量部以上30質量部以下の範囲内で添加される。
なお、艶消し層8には、適宜、公知の紫外線吸収剤等を添加してもよい。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明する。但し本発明はこれらの例にのみ限定されるものではない。なお、本実施例及び比較例で製造する化粧シートは、第2実施形態に係る化粧シート10(10B)、即ち艶消し層8を備えた化粧シート10である。
以下の材料と手順で、化粧シートを作成し、それを用いた化粧板を作製した。
(1)第1の紙基材(第1の紙基材層1)として、坪量23g/m2(厚み33μm)の混抄紙(天間特殊製紙(株)製TP23)を準備し、その表面に硝化綿インキ(東洋インキ(株)製PCNTインキ)及びウレタンインキ(東洋インキ(株)製PCRNTインキ)を用いて絵柄を印刷して絵柄印刷層4を形成した。その後、その印刷面上に、艶消し層形成用塗液(DICグラフィック(株)製G125HV)を用いて艶消し層8を形成した。そして、その艶消し層8上に、アクリルポリオールを主成分とし、合成樹脂粒子(表面粒子)として平均粒径40μmのアクリルビーズを含有する主剤にイソシアネート硬化剤を添加した透明な表面保護コート(表面保護層5)を乾燥重量で7g/m2施し、化粧シート用の紙基材を作成した。
これにより、実施例1に係る凹凸形状を有する化粧シート10(10B)を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大100μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率(厚み比率)が99%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、35μmであった。
なお、エンボス凹部の深さD1の高低差(深さ)は、接触式粗さ計である表面粗さ形状測定器((株)東京精密製サーフコム120A)で最大高さ(Rmax)を測定した。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、JIS Z−8741に準じた鏡面光沢度測定法により測定された60°入射の光沢値とした。
表面保護層5に含有される合成樹脂粒子(表面粒子)の平均粒径を47μmにした以外は、実施例1と同様にした。
こうして、実施例2に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大100μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が99%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、2であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、10μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が良好であり、意匠性が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。また、ラミネート加工も容易に行うことができた。
第1の紙基材(第1の紙基材層1)の厚みを52μmとし、第2の紙基材(第2の紙基材層2)の厚みを55μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を21μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは140μmであった。
こうして、実施例3に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大21μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が15%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、32μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が好ましいことが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。また、ラミネート加工も容易に行うことができた。
ポリエチレン層(熱可塑性樹脂層3)の厚みを18μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を72μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは72μmであった。
こうして、実施例4に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大72μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が100%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、29であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、15μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が良好であり、意匠性が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本実施例では、化粧板を作製しなかった。
ポリエチレン層(熱可塑性樹脂層3)の厚みを90μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を140μmにし、表面保護層5に含有される合成樹脂粒子の平均粒径を5μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは136μmであった。
こうして、実施例5に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大140μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が103%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、5であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、3μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が好ましく、意匠性が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。また、ラミネート加工も容易に行うことができた。
ポリエチレン層(熱可塑性樹脂層3)の厚みを105μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を148μmにし、表面保護層5に含有される合成樹脂粒子の平均粒径を15μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは150μmであった。
こうして、実施例6に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大148μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が99%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、30μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感及び意匠性の両方が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。また、ラミネート加工も容易に行うことができた。
第1の紙基材(第1の紙基材層1)の厚みを50μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を17μmにし、表面保護層5に含有される合成樹脂粒子の平均粒径を49μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは116μmであった。
こうして、実施例7に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大17μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が15%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、30μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が好ましいことが確認された。また、エンボス加工も行うことができた。なお、本実施例では、化粧板を作製しなかった。
化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を29μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは101μmであった。
こうして、実施例8に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大29μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が28%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、30μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が好ましいことが確認された。また、エンボス加工も行うことができた。また、ラミネート加工も容易に行うことができた。
表面保護層5に含有される合成樹脂粒子の平均粒径を2μmにした以外は、実施例1と同様にした。
こうして、比較例1に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大100μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が99%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、1μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が劣っており、意匠性が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本比較例では、化粧板を作製しなかった。
表面保護層5に合成樹脂粒子を含有しない以外は、実施例1と同様にした。
こうして、比較例2に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大100μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が99%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、0μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が劣っており、意匠性が優れていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本比較例では、化粧板を作製しなかった。
第1の紙基材(第1の紙基材層1)の厚みを60μmとし、第2の紙基材(第2の紙基材層2)の厚みを60μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を10μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは151μmであった。
こうして、比較例3に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大10μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が6%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、35μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が劣っていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本比較例では、化粧板を作製しなかった。
第1の紙基材(第1の紙基材層1)の厚みを52μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を12μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは117μmであった。
こうして、比較例4に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大12μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が10%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、35μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が劣っていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本比較例では、化粧板を作製しなかった。
第1の紙基材(第1の紙基材層1)の厚みを52μmとし、第2の紙基材(第2の紙基材層2)の厚みを55μmとし、化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1を5μmにした以外は、実施例1と同様にした。なお、積層体100の総厚Dは140μmであった。
こうして、比較例5に係る凹凸形状を有する化粧シート10を作成した。得られた化粧シート10の表面10a側のエンボス凹部6の深さD1は、最大5μmの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Dに対して深さD1の比率が4%であった。また、艶消し層8と表面保護層5との間の艶差は、15であった。また、得られた化粧シート10の表面保護層5の最大高さ(Rmax)は、35μmであった。
このような化粧シート10は、化粧シートとして、触感が優れており、意匠性が劣っていることが確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、本比較例では、化粧板を作製しなかった。
第1及び第2の各実施形態に係る発明は、以下の効果を奏する。
(1)本実施形態に係る化粧シート10は、第1の紙基材層1と、第2の紙基材層2と、第1の紙基材層1及び第2の紙基材層2の間に配置され、第1の紙基材層1及び第2の紙基材層2を接着する熱可塑性樹脂層3と、第1の紙基材層1の上に形成される絵柄印刷層4と、絵柄印刷層4の上に形成される表面保護層5と、を備えている。そして、化粧シート10の表面保護層5が形成される表面10a側には複数のエンボス凹部6が形成されており、複数のエンボス凹部6の最大深度は、化粧シート10のエンボス加工前の総厚に対して15%以上となっている。また、表面保護層5は、無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方を含有しており、化粧シート10の表面10aに無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方の一部分が表出している。また、表面保護層5の表面は、接触式粗さ計で測定した最大高さRmax値が3μm以上である。
このような構成であれば、表面保護層5の光沢の影響を受けずに視覚的な立体感を表現することができる。
このような構成であれば、表面保護層5の透明度を向上でき、意匠を付与するための絵柄印刷層4の絵柄をより明瞭に透視することができる。
(4)また、本実施形態に係る化粧シート10を構成する表面保護層5が含有する粒子(無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方)の平均粒径を10μm以上60μm以下の範囲内としてもよい。
このような構成であれば、十分な触感を容易に表面保護層5に付与することができる。
このような構成であれば、最適な触感を表面保護層5に付与することができる。
(6)また、本実施形態に係る化粧シート10は、複数のエンボス凹部6の最大深度を45μm以上としてもよい。
このような構成であれば、化粧シート10の意匠性を極めて良好なものとすることができ、また、エンボス加工性も良好にすることができる。
各紙材の厚みが60μm以上であると、化粧シート10に適正なエンボス加工を施すことが難しくなることがあり、意匠性の高い化粧シート10を得ることが困難となる。一方、各紙材の厚みが15μmよりも薄くなると、エンボス加工を施す際に紙材に破れ等が生じやすくなる可能性がある。
よって、上記構成であれば、エンボス加工が施された意匠性の高い化粧シート10を容易に得ることができる。
このような構成であれば、熱可塑性樹脂層3が20μm以上の厚みを有しているので、エンボス加工を施した際に化粧シート10にエンボス凹部6がより確実に形成されて意匠性を高めることができると共に、化粧シート10にラミネート処理等を施したとしても形成されたエンボス形状が元に戻ってしまうといったことを抑制することが可能となる。
このような構成であれば、印刷がし易くなる(印刷適性が良くなる)。
(10)また、本実施形態に係る化粧シート10は、表面10a側の反対側となる化粧シート10の裏面10b側に複数の凹部7を形成してもよい。
このような構成であれば、化粧シート10を基材に接着等する際に凹部7に接着剤が入り込むことによって、化粧シート10の接着性を向上させることができる。その結果、使用する接着剤の量を減らすことも可能となる。また、裏面側に凹部7を設けることにより、化粧シート10を貼り合せる際の皺寄りを抑制することもできる。
このような構成であっても上述した効果を奏することは可能である。
(12)また、本実施形態に係る化粧板は、上述した何れかの構成を備えた化粧シート10と、その化粧シート10が少なくとも一方の面に貼り合わされた基材とを備えている。
このような構成であれば、化粧シート10と同様に、上述した効果を奏することが可能となる。
本発明によれば、触感及び意匠性をより一層高めた化粧シート及びその化粧シートを備えた化粧板を得ることが可能となる。
2…第2の紙基材層
3…熱可塑性樹脂層
4…絵柄印刷層(絵柄層)
5…表面保護層
5a…表面粒子
6…エンボス凹部
7…凹部
8…艶消し層
10…化粧シート
10A…化粧シート
10B…化粧シート
10a…表面
10b…裏面
100…積層体
100a…表面
100b…裏面
D…化粧シートのエンボス加工前の総厚
D1…エンボス凹部の深さ。
Claims (16)
- 第1及び第2の紙基材層と、前記第1及び第2の紙基材層の間に配置され前記第1及び第2の紙基材層を接着する熱可塑性樹脂層と、前記第1の紙基材層の上に形成される絵柄層と、前記絵柄層の上に形成される表面保護層と、を備えた化粧シートであって、
前記化粧シートの前記表面保護層が形成される表面側には複数のエンボス凹部が形成されており、当該複数のエンボス凹部の最大深度は、前記化粧シートのエンボス加工前の総厚に対して15%以上となっており、
前記表面保護層は、無機粒子及び合成樹脂粒子の少なくとも一方を含有し、前記化粧シートの表面に前記無機粒子及び前記合成樹脂粒子の少なくとも一方の一部分が表出しており、前記表面保護層の表面は、接触式粗さ計で測定した最大高さRmax値が3μm以上であり、
前記絵柄層と前記表面保護層との間には艶消し層が形成されており、
前記艶消し層の厚さは、20μm以上55μm以下の範囲内であることを特徴とする化粧シート。 - 前記艶消し層と前記表面保護層との間の艶差は、JIS Z−8741に準じた鏡面光沢度測定法により測定された60°入射の光沢値で、1以上30以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の化粧シート。
- 前記表面保護層は、前記合成樹脂粒子を少なくとも含有し、
前記合成樹脂粒子は、アクリル樹脂系粒子であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の化粧シート。 - 前記表面保護層が含有する前記粒子の平均粒径は、10μm以上60μm以下の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記表面保護層の表面は、前記最大高さRmax値が30μm以上であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記複数のエンボス凹部の最大深度は、70μm以上であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記第1及び前記第2の紙基材層に用いる紙材の厚みは、それぞれ15μm以上60μm未満の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記熱可塑性樹脂層の厚みは、20μm以上70μm以下の範囲内であり、前記第2の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚くなっていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記化粧シートの前記表面側に位置する前記第1の紙基材層に用いる紙材の厚みは、前記第2の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚いことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記化粧シートの裏面側には複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記艶消し層に含まれる艶消し剤の含有量は、前記艶消し層を構成する樹脂100質量部に対し、20質量部以上30質量部以下の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記艶消し剤は、ポリカーボネート、ナイロン、またはウレタン樹脂であることを特徴とする請求項11に記載の化粧シート。
- 前記複数のエンボス凹部の最大深度は、前記化粧シートのエンボス加工前の総厚に対して30%以上であることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記化粧シートの前記表面側に位置する前記第1の紙基材層に用いる紙材の厚みは、前記第2の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚く、
前記熱可塑性樹脂層の厚みは、前記第1の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚く、
前記表面保護層の厚みは、前記第1の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚く、且つ前記熱可塑性樹脂層の厚みよりも薄いことを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の化粧シート。 - 前記化粧シートの裏面側には複数の凹部が形成されており、
前記化粧シートの裏面側に形成された前記複数の凹部と、前記化粧シートの表面側に形成された前記複数のエンボス凹部とは、積層方向において形成位置が異なっていることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の化粧シート。 - 請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の化粧シートと、
前記化粧シートが少なくとも一方の面に貼り合わされた基材と、を備えたことを特徴とする化粧板。
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