JP6836117B2 - 回折光学素子、光照射装置 - Google Patents

回折光学素子、光照射装置 Download PDF

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Description

本発明は、回折光学素子、光照射装置に関するものである。
ネットワークの普及によるセキュリティリスク回避のための個人認証へのニーズや、自動車の自動運転化の流れ、又は、いわゆる「モノのインターネット」の普及等、近年、センサーシステムを必要とする局面が増大している。センサーには色々な種類があり、検出する情報も様々であるが、その中の1つの手段として、光源から対象物に対して光を照射し、反射してきた光から情報を得るというものがある。例えば、パターン認証センサーや赤外線レーダー等はその一例である。
これらのセンサーの光源は、用途に応じた波長分布や明るさ、広がりをもったものが使用される。光の波長は、可視光〜赤外線がよく用いられ、特に赤外線は外光の影響を受けにくく、不可視であり、対象物のやや内部を観察することも可能という特徴があるため、広く用いられている。また、光源の種類としては、LED光源やレーザー光源等が多く用いられる。例えば、遠いところを検知するには光の広がりが少ないレーザー光源が好適に用いられ、比較的近いところを検知する場合や、ある程度の広がりを持った領域を照射するにはLED光源が好適に用いられる。
ところで、対象とする照射領域の大きさや形状は、必ずしも光源からの光の広がり(プロファイル)と一致しているとは限らず、その場合には拡散板やレンズ、遮蔽板等により光を整形する必要がある。最近では、Light Shaping Diffuser(LSD)という、光の形状をある程度整形できる拡散板が開発されている。
また、光を整形する別の手段として、回折光学素子(Diffractive Optical Element :DOE)が挙げられる。これは異なる屈折率を持った材料が周期性を持って配列している場所を光が通過する際の回折現象を応用したものである。DOEは、基本的に単一波長の光に対して設計されるものであるが、理論的には、ほぼ任意の形状に光を整形することが可能である。また、前述のLSDにおいては、照射領域内の光強度がガウシアン分布となるのに対し、DOEでは、照射領域内の光分布の均一性を制御することが可能である。DOEのこのような特性は、不要な領域への照射を抑えることによる高効率化や、光源数の削減等による装置の小型化等の点で有利となる(例えば、特許文献1参照)。
また、DOEは、レーザーの様な平行光源や、LEDの様な拡散光源のいずれにも対応可能であり、また、紫外光から可視光、赤外線までの広い範囲の波長に対して適用可能である。
DOEは、nmオーダーでの微細加工が必要となり、特に長波長の光を回折するためには、高アスペクト比の微細形状を形成する必要があった。そのため、DOEの製造には、従来、電子線を用いた電子線リソグラフィ技術が用いられている。例えば、紫外線〜近赤外線領域で透明である石英板に、ハードマスクやレジストを成膜後、電子線を用いてレジストに所定の形状を描画し、レジスト現像、ハードマスクのドライエッチング、石英のドライエッチングを順次行って、石英板表面にパターンを形成した後、ハードマスクを除去することで所望のDOEを得ることができる。
特開2015−170320号公報
DOEは、光を効率よく整形することが可能であるが、DOEと空気界面(又は、DOEと屈折率が異なる材料との界面)において、屈折率が急激に変化することによる界面反射が起こってしまう。この界面反射は、光の利用効率を低下させてしまう。
界面反射を回避するためには、例えば、誘電体多層膜のような反射防止膜を形成するという手法が考えられるが、一般的にコストアップにつながる場合が多かった。また、反射防止膜をDOEの微細形状に沿って均一に形成することが困難な場合が多かった。
また、DOEは、一般的にある決まった方向からの入射光に対して所望の整形を光に行うことができるように設計される。レーザー光源を用いる場合は、DOE面(DOEの周期構造が存在する面、又は、その裏面)に対して通常、垂直入射されることが多い。また、LED等の拡散光源を用いる場合は、光源の拡散プロファイルを元にして、DOE平面(回折格子の周期構造を含む面)に対して斜めに光が入ることを考慮した設計がDOEに対して行われる。
しかし、DOEを実際に使用する場合には、設計に用いた拡散プロファイル通りの角度で光が入射するとは限らず、装置の組み付け精度や光源の性能ぶれ等の影響で入射角が変化することがある。従来のDOEでは、入射角が設計時の角度からずれると、回折光(出射光)の特性(例えば、配光特性)が大きく変化する傾向にあった。そのため、DOE及びDOEを備えた光照射装置の設計マージンが狭くなる傾向にあり、実用化が困難であったり、装置の高額化が懸念されたりしていた。
本発明の課題は、光の利用効率が高く、また、光の入射角がずれた場合であっても、回折光への影響が少なく安定して所望の回折光を得ることができる回折光学素子、光照射装置を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
第1の発明は、光を整形する回折光学素子であって、断面形状において複数の凸部(11a,21a,31a等の形状)が並んで配置されている高屈折率部(11,21,31)と、前記高屈折率部(11,21,31)よりも屈折率が低く、少なくとも前記凸部(11a,21a,31a等の形状)の間に形成されている凹部(12)を含む低屈折率部(14)と、を有する回折層(15,25,35)を備え、前記凸部(11a,21a,31a)の側面形状は、前記回折層(15,25,35)を含む平面に対して傾いた傾斜部(11b,11c,11d,21b,21c,21d,31b)を少なくとも一部に備える回折光学素子(10,20,30)である。
第2の発明は、第1の発明に記載の回折光学素子(10,20,30)において、前記凸部(11a,21a,31a)の側面形状は、前記凸部(11a,21a,31a)の先端部(11e,21e,31e)から根元部(11f,21f,31f)に向かって前記凸部(11a,21a,31a)の幅が広がる向きに傾斜した第1の傾斜部(11b,21b,31b)を備えること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第3の発明は、第2の発明に記載の回折光学素子(30)において、前記第1の傾斜部(31b)から前記根元部(31f)に向かって前記回折層(35)に垂直な向きに延在する垂直部(31h)を備えること、を特徴とする回折光学素子(30)である。
第4の発明は、第2の発明に記載の回折光学素子(10,20)において、前記第1の傾斜部(11b,21b)から前記根元部(11f,21f)に向かって前記凸部(11a,21a)の幅が狭くなる向きに傾斜した第2の傾斜部(11c,21c)と、前記第2の傾斜部(11c,21c)からさらに前記根元部(11f,21f)に向かって前記凸部(11a,21a)の幅が広がる向きに傾斜した第3の傾斜部(11d,21d)と、を備えること、を特徴とする回折光学素子(10,20)である。
第5の発明は、第4の発明に記載の回折光学素子(10,20)において、前記第2の傾斜部(11c,21c)と前記第3の傾斜部(11d,21d)とが繋がるくびれ部分の幅は、前記凸部(11a,21a)の先端部(11e,21e)の幅よりも広いこと、を特徴とする回折光学素子(10,20)である。
第6の発明は、第1の発明から第5の発明までのいずれかに記載の回折光学素子(20)において、前記凸部(21a)の先端部(21e)は、複数の頂点(21g)を有すること、を特徴とする回折光学素子(20)である。
第7の発明は、第1の発明から第6の発明までのいずれかに記載の回折光学素子(10)において、前記凹部(12)の底部分(12a)は、前記凸部(11a)の突出する方向に突出していること、を特徴とする回折光学素子(10)である。
第8の発明は、第1の発明から第7の発明までのいずれかに記載の回折光学素子(10,20,30)において、前記高屈折率部(11,21,31)は、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化したものであること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第9の発明は、第1の発明から第8の発明までのいずれかに記載の回折光学素子(10,20,30)において、前記低屈折率部(14)は、空気であること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第10の発明は、第1の発明から第9の発明までのいずれかに記載の回折光学素子(10,20,30)において、透明基材(41)と、前記回折層(15,25,35)と、前記回折層(15,25,35)を被覆する被覆層(42,43)とが、この順番で積層されていること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第11の発明は、第1の発明から第10の発明までのいずれか1項に記載の回折光学素子(10,20,30)において、前記回折層(15,25,35)は、波長780nm以上の赤外線を回折すること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第12の発明は、第11の発明に記載の回折光学素子(10,20,30)において、前記凸部(11a,21a,31a)の高さは650nm以上であること、を特徴とする回折光学素子(10,20,30)である。
第13の発明は、光源(L)と、前記光源(L)が発光する光が通過する位置に少なくとも1つ配置された、請求項1から請求項12までのいずれか1項に記載の回折光学素子(10,20,30)と、を備える光照射装置である。
第14の発明は、第13の発明に記載の光照射装置において、前記光源(L)は、波長780nm以上の赤外線を発光できること、を特徴とする光照射装置である。
本発明によれば、光の利用効率が高く、また、光の入射角がずれた場合であっても、回折光への影響が少なく安定して所望の回折光を得ることができる回折光学素子、光照射装置を提供することができる。
本発明による回折光学素子の第1実施形態を示す平面図である。 図1の回折光学素子の例における部分周期構造の一例を示す斜視図である。 図2中の矢印E−E’の位置で回折光学素子を切断した断面図である。 凸部11aを拡大して示した図である。 第2実施形態の回折光学素子20を図3と同様な断面で示した図である。 凸部21aを拡大して示した図である。 第3実施形態の回折光学素子30を図3と同様な断面で示した図である。 凸部31aを拡大して示した図である。 比較例の回折光学素子を図3等と同様に示した断面図である。 評価の状況を示す図である。 本発明の回折光学素子が比較例の回折光学素子よりも反射光が少なくなる理由を説明する図である。 入射角度の変化と回折光との関係を単純化して模式的に示した図である。 回折光学素子を説明する図である。 回折光学素子の変形形態として、透明基材を設けている例、及び、被覆層を設けている例を示す図である。
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面等を参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明による回折光学素子の第1実施形態を示す平面図である。
図2は、図1の回折光学素子の例における部分周期構造の一例を示す斜視図である。
図3は、図2中の矢印E−E’の位置で回折光学素子を切断した断面図である。
なお、図1を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張して示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
なお、本発明において用いる、形状や幾何学的条件、及び、それらの程度を特定する用語、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、この明細書における「平面視」とは、回折光学素子の板面に対し垂直方向であって、微細形状が形成されている側から視認することを意味する。すなわち、回折光学素子の回折層を有する面に対して垂直方向から視認することに相当する(図2中のZ軸のプラス側から視認した状態であって、図1のような平面図が視認されることになる)。
また、本発明において「光を整形する」とは、光の進行方向を制御することにより、対象物又は対象領域に投影された光の形状(照射領域)が任意の形状となるようにすることをいう。例えば、図13の例に示されるように、平面形状のスクリーン200に直接投影した場合に照射領域202が円形となる光201(図13(b))を用意する。この光201を、本発明の回折光学素子10を透過させることにより、照射領域204が正方形(図13(a))や、長方形、円形(図示せず)等、目的の形状とすることを、「光を整形する」いう。
また、本発明において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
第1実施形態の回折光学素子10は、光を整形する回折光学素子(DOE)である。回折光学素子10は、波長が980nmの赤外レーザーに対して十文字形状、具体的には±50度に、幅が±3.3度で広がる光の帯が2本公差した形状に光を広げるように設計されている。回折光学素子10は、通常、異なる周期構造を持つ複数の領域(部分周期構造:例えば、図1のA〜D領域)を有している。図2では、部分周期構造の一例を抽出して示している。
回折光学素子10は、図3に示すように、断面形状において複数の凸部11aが並んで配置されている高屈折率部11を備えている。この高屈折率部11は、同じ断面形状を維持したまま、断面の奥行き方向に延在している。
高屈折率部11は、例えば、クオーツ(SiO、合成石英)をドライエッチング処理により形状を加工して作られたものであってもよいし、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化したものであってもよい。このような周期構造の製造方法は、様々な手法が公知であり、それら公知の手法によって、適宜作成することができる。そして、以下に説明する本願に特徴的な傾斜部等の形状は、主にドライエッチング処理の各種条件を調整することによって実現されるものである。
また、凸部11aの間に形成されている凹部12及び凸部11aの頂部付近の空間13を含む図3の上方の部分は、空気が存在しており、高屈折率部11よりも屈折率が低い低屈折率部14となっている。これら高屈折率部11及び低屈折率部14が交互に並んで配置された周期構造により、光を整形する作用を備える回折層15が構成されている。
図4は、凸部11aを拡大して示した図である。
凸部11aの側面形状は、回折層15を含む平面Pに対して傾いた傾斜部を複数備えている。具体的には、凸部11aには、第1の傾斜部11bと、第2の傾斜部11cと、第3の傾斜部11dとが設けられている。
第1の傾斜部11bは、凸部11aの先端部11eから根元部11fに向かって凸部11aの幅が広がる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。この第1の傾斜部11bの斜面を含めて、斜面とは、曲面により構成されているものを主に示し、これを説明する。しかし、これらの斜面は、平面により構成されている部分を含んでいてもよい。
第2の傾斜部11cは、第1の傾斜部11bから根元部11fに向かって凸部11aの幅が狭くなる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。
第3の傾斜部11dは、第2の傾斜部11cからさらに根元部11fに向かって凸部11aの幅が広がる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。
また、凹部12の底部分12aは、凸部11aの突出する方向に突出して構成されている。なお、根元部11fは、曲面に構成されて、凹部12の底部分12aに繋がっている。
例えば、980nmのレーザー光に対し、材質を石英とし、長辺±50°×短辺±3.3°に広がる矩形の拡散形状を2−levelで設計する場合には、回折格子の最適深さは1087nm、最も細かい形状のパターン幅は250nmとなり、最大アスペクト比は4を越える。
これらの設計は、例えば厳密結合波解析(RCWA)アルゴリズムを用いたGratingMOD(Rsoft社製)や、反復フーリエ変換アルゴリズム(IFTA)を用いたVirtuallab(LightTrans社製)などの各種シミュレーションツールを用いて行うことができる。
また、凸部11aの高さは、650nm以上であることが望ましい。これは、波長780nm、屈折率1.6で計算した場合、2−levelでは650nm、4−levelでは975nm、8−levelでは1137nmの凸部11aの高さが必要になるからである。
上述した様に、先端部11eから、第1の傾斜部11bと、第2の傾斜部11cと、第3の傾斜部11dとが繋がって設けられていることにより、凸部11aは、その幅が、先端部11eから根元部11fに向かって広がっていき、次に狭まっていき、第2の傾斜部11cと第3の傾斜部11dとの境界部分で幅が最も狭くなって、くびれ部分が形成され、第3の傾斜部11dで幅が広がって根元部11fに達する。したがって、凸部11aは、全体としてみれば、略矩形形状に突出した部位であるが、その断面形状を詳細にみると、向きが異なる複数の斜面を組み合わせて構成されている。
第1実施形態の回折光学素子10の作用及び効果については、他の実施形態及び比較例と比べた評価結果を参照しながら後述する。
(第2実施形態)
図5は、第2実施形態の回折光学素子20を図3と同様な断面で示した図である。
第2実施形態の回折光学素子20は、凸部21aの形状が第1実施形態の回折光学素子10と異なる他は、第1実施形態と同様な形態をしている。よって、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
回折光学素子20は、凸部21aを有する高屈折率部21と、凹部12及び空間13を含む低屈折率部14とを備え、高屈折率部21及び低屈折率部14が交互に並んで配置された周期構造により、光を整形する作用を備える回折層25が構成されている。
凸部21aは、形状が異なる他は、第1実施形態の凸部11aと同様である。以下、凸部21aの形状について説明する。
図6は、凸部21aを拡大して示した図である。
凸部21aの側面形状は、回折層25を含む平面Pに対して傾いた傾斜部を複数備えている。具体的には、凸部21aには、第1の傾斜部21bと、第2の傾斜部21cと、第3の傾斜部21dとが設けられている。
第1の傾斜部21bは、凸部21aの先端部21eから根元部21fに向かって凸部21aの幅が広がる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。ただし、第2実施形態の第1の傾斜部21bは、第1実施形態の第1の傾斜部11bよりも曲率が大きくなっている。
第2の傾斜部21cは、第1の傾斜部21bから根元部21fに向かって凸部21aの幅が狭くなる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。
第3の傾斜部21dは、第2の傾斜部21cからさらに根元部21fに向かって凸部21aの幅が広がる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。なお、根元部21fは、曲面に構成されて、凹部12の底部分12aに繋がっている。
第2実施形態の凸部21aの先端部21eは、2つの頂点21gを有している。よって、先端部21eの中央部は、2つの頂点21gの間になって窪んだ形状となっている。
上述したように、先端部21eから、第1の傾斜部21bと、第2の傾斜部21cと、第3の傾斜部21dとが繋がって設けられていることにより、凸部21aは、その幅が、先端部21eから根元部21fに向かって広がっていき、次に狭まっていき、第2の傾斜部21cと第3の傾斜部21dとの境界部分で幅が最も狭くなって、くびれ部分が形成され、第3の傾斜部21dで幅が広がって根元部21fに達する。したがって、凸部21aは、全体としてみれば、略矩形形状に突出した部位であるが、その断面形状を詳細にみると、向きが異なる複数の斜面を組み合わせて構成されている。
さらに、第2実施形態の凸部21aの先端部21eは、2つの頂点21gを有し、先端部21eの中央部は、窪んだ形状となっている。
なお、第2実施形態の回折光学素子20の形状は、第1実施形態の回折光学素子10の逆版形状となっている。よって、第2実施形態の回折光学素子20の作製は、第1実施形態の回折光学素子10を作製した後、この回折光学素子10から型取りを行って逆版1を作製する。そして、この逆版1をさらに型取りして逆版2を作製し、この逆版2を用いて、電離放射線硬化型樹脂による賦型を行って、回折光学素子20が得られる。
第2実施形態の回折光学素子20の作用及び効果についても、他の実施形態及び比較例と比べた評価結果を参照しながら後述する。
(第3実施形態)
図7は、第3実施形態の回折光学素子30を図3と同様な断面で示した図である。
第3実施形態の回折光学素子30は、凸部31aの形状が第1実施形態の回折光学素子10と異なる他は、第1実施形態と同様な形態をしている。よって、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
回折光学素子30は、凸部31aを有する高屈折率部31と、凹部12及び空間13を含む低屈折率部14とを備え、高屈折率部31及び低屈折率部14が交互に並んで配置された周期構造により、光を整形する作用を備える回折層35が構成されている。
凸部31aは、形状が異なる他は、第1実施形態の凸部11aと同様である。以下、凸部31aの形状について説明する。
図8は、凸部31aを拡大して示した図である。
凸部21aの側面形状は、第1の傾斜部31bと、垂直部31hとを有している。
第1の傾斜部31bは、凸部31aの先端部31eから根元部31fに向かって凸部31aの幅が広がる向きに傾斜した曲面により構成された斜面である。
垂直部31hは、第1の傾斜部31bから根元部31fに向かって回折層35を含む平面Pに対して垂直な向きに延在する平面である。垂直部31hは、そのまま根元部31fまで延在している。なお、根元部31fは、曲面に構成されて、凹部12の底部分12aに繋がっている。
第3実施形態の回折光学素子30の作用及び効果についても、他の実施形態及び比較例と比べた評価結果を参照しながら後述する。
(各実施形態の作用及び効果)
次に、上記各実施形態の作用と効果について、比較例と比較しながら説明する。
各実施形態の回折光学素子の作用及び硬化を確認するために、本発明の構成を適用していない比較例を用意した。
図9は、比較例の回折光学素子を図3等と同様に示した断面図である。
比較例の回折光学素子50は、各実施形態の回折光学素子が備えている傾斜部を備えず、略完全な矩形形状として構成されている。なお、比較例の回折光学素子50は、各実施形態の回折光学素子と同じく、波長が980nmの赤外レーザーに対して具体的には±50度に、幅が±3.3度で広がる光の帯が2本公差した十文字形状に光を広げるように設計されている。
図10は、評価の状況を示す図である。
第1実施形態の回折光学素子10から第3実施形態の回折光学素子30と、比較例の回折光学素子50の、合計4種類の回折光学素子に対して、図10に示すような状況で回折光の形状と反射光の確認を行った。
スクリーンSとしては、市販のコピー用紙を用いた。
赤外線カメラCAM1,CAM2は、980nmの波長を検出できるRadiant Zemax社のPrometricを用いた。赤外線カメラCAM1,CAM2には、ノイズを防ぐため可視光カットフィルターを取り付けて測定した。
光源Lは、波長980nmの赤外レーザーをDOE(回折光学素子10から第3実施形態の回折光学素子30、及び比較例の回折光学素子50)に対し1度傾けて照射するように設定した。なお、この光源Lと、光源Lが発光する光が通過する位置に上記回折光学素子10〜30のいずれかが配置されることにより、光照射装置が構成されている。
この条件で、回折光学素子(DOE)の表面で反射する光、及び、スクリーンSに投影される光を、それぞれ赤外線カメラCAM1,CAM2で観察し、比較を行った。
また、赤外レーザーの入射角度を1±1度で変動させたときのスクリーン投影形状の変動についても確認した。その結果を表1に示す。
Figure 0006836117
表1の結果を見ると、1度入射による投影形状については、第1実施形態から第3実施形態のように傾斜部を設けたものでも、比較例と同等の結果が得られていることがわかる。
次に、表1の1度入射によるDOE反射光の弱さについては、第1実施形態から第3実施形態の方が、比較例よりも良好な結果、すなわち、反射光が弱いという結果が得られている。この結果について説明する。
図11は、本発明の回折光学素子が比較例の回折光学素子よりも反射光が少なくなる理由を説明する図である。
図11では、断面形状の位置に合せて、見かけの屈折率の変化をグラフとして併記している。図11(a)は、比較例の回折光学素子50の場合であり、図11(b)は、第1実施形態の回折光学素子10の場合を示している。
比較例の回折光学素子50では、形状の変化が急激になるので、見かけ上の屈折率も急激に変化しているのに対して、第1実施形態の回折光学素子10では、傾斜部が設けられていることから、形状の変化が急激ではなく、したがって、見かけ上の屈折率の変化も緩やかな変化となっている。屈折率が変化している界面で反射が発生するので、第1実施形態の回折光学素子10では、見かけ上の屈折率の変化が緩やかになっていることにより、界面の反射が抑制されているのである。なお、この現象は、第2実施形態の回折光学素子20及び第3実施形態の回折光学素子30においても同様である。ただし、表1の結果を見て分かるように、反射光の抑制効果は、第1実施形態の回折光学素子10が最も高い。これは、第3実施形態の回折光学素子30よりも第1実施形態の回折光学素子10の方が、傾斜部が多く形成されているからである。また、第2実施形態の回折光学素子20と第1実施形態の回折光学素子10とでは、両者は、逆版形状の関係(反転した対称形状)にあるので傾斜部の数は同じである。しかし、第1実施形態の回折光学素子10では、凹部12の底部分12aが、凸部11aの突出する方向に突出していることにより、見かけ上の屈折率の変化を緩やかにする作用を、凹部の底部分12aでも得られることが有利に働いているからである。
次に、表1の入射角度変動による投影形状の変化の少なさについても、第1実施形態から第3実施形態の方が、比較例よりも良好な結果、すなわち、反射光が弱いという結果が得られている。この結果について説明する。
図12は、入射角度の変化と回折光との関係を単純化して模式的に示した図である。
図12(a)は、比較例の回折光学素子50に設計位置である垂直方向からの光が入射したときの光の回折状態を示している。回折光学素子50に対して垂直に入射した光は、1次光として左右に均等に回折する。
図12(b)は、比較例の回折光学素子50に設計位置からずれた位置から光が入射したときの光の回折状態を示している。回折光学素子50に対し光が斜めから入射すると、この図12(b)のように、光の均等性が崩れてしまう。回折光学素子の光学設計は、通常は、図12(a)のような単純形状をベースになされているため、光の入射状態が変化してしまうと、回折光学素子全体としての光の回折状態が変化してしまう。
図12(c)は、第1実施形態の回折光学素子10に設計位置である垂直方向からの光が入射したときの光の回折状態を示している。断面形状の一部に傾斜部を設けた回折光学素子10でも、垂直に入射した光は、1次光として左右に均等に回折する。
図12(d)は、第1実施形態の回折光学素子10に設計位置からずれた位置から光が入射したときの光の回折状態を示している。断面形状の一部に傾斜部を設けた回折光学素子10では、光の入射方向が多少変動しても、光に対して垂直な面が必ず一部存在することになり、回折光の分布に影響を与えにくい。したがって、表1のように、投影形状の変化が少ないという結果が得られる。
なお、入射角度変動による投影形状の変化の少なさについて、第3実施形態の回折光学素子30が、比較例の回折光学素子50よりも良好な結果が得られているものの、他の実施形態よりも悪い結果が得られている。これは、第3実施形態の回折光学素子30が、垂直部31hを備えていることから、入射角度の影響を受ける部位が多いからである。
以上説明したように、第1実施形態から第3実施形態の回折光学素子10,20,30によれば、凸部に傾斜部を備えたので、界面で反射してしまう光を少なくすることができ、光の利用効率を高めることができる。
また、第1実施形態から第3実施形態の回折光学素子10,20,30によれば、凸部に傾斜部を備えたので、装置の組み付け精度や光源の性能ぶれ等の影響で入射角が変化することがあっても影響を受けにくく、回折光への影響が少なく安定して所望の回折光を得ることができる。
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
(1)第1実施形態及び第2実施形態において、第2の傾斜部と第3の傾斜部とが繋がる部分におけるくびれ部分の幅は、先端部と略同等か、若干狭い例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、第2の傾斜部と第3の傾斜部とが繋がる部分におけるくびれ部分の幅は、凸部の先端部の幅よりも広く形成してもよい。
(2)各実施形態において、回折光学素子は、高屈折率部のみで構成されている簡単な形態として示した。これに限らず例えば、高屈折率部を形成するための透明基材を設けてもよいし、回折層を被覆する被覆層を設けてもよい。
図14は、回折光学素子の変形形態として、透明基材を設けている例、及び、被覆層を設けている例を示す図である。
図14(a)では、透明基材41の上に、第1実施形態で示した回折光学素子10が形成されており、この全体が回折光学素子として構成されている。このように、透明基材41を設けることにより、樹脂賦型を利用した製造方法を用いることができ、製造を容易に行える。
図14(b)では、図14(a)の形態に加えて、被覆層42をそのまま積層した形態とし、この全体が回折光学素子として構成されている。このような形態とすることにより、被覆層42を設けたことにより、凸形状を保護することができる。
図14(c)では、図14(a)の形態に加えて、凹部にまで入り込む透明樹脂により被覆層43を形成し、この全体が回折光学素子として構成されている。この場合、被覆層43を形成する透明樹脂は、低屈折率部とするために、高屈折率部よりも屈折率の低い樹脂を用いる。このような形態とすることにより、凸形状をより効果的に保護することができる。
(3)各実施形態において、回折光学素子は、波長が980nmの赤外レーザーを回折するように設計されている例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、回折光学素子は、波長780nm以上の赤外線を回折するものであってもよいし、赤外光に限らず、可視光等、どのような波長の光を回折するものに本発明を適用してもよい。
(4)各実施形態において、光照射装置は、光源が波長980nmの赤外レーザーを発光する例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、光源が波長780nm以上の赤外光を発光するものとしてもよいし、赤外光に限らず、可視光等、どのような波長の光を発光する光源を光照射装置に適用してもよい。
なお、第1実施形態〜第3実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は以上説明した各実施形態によって限定されることはない。
10 回折光学素子
11 高屈折率部
11a 凸部
11b 第1の傾斜部
11c 第2の傾斜部
11d 第3の傾斜部
11e 先端部
11f 根元部
12 凹部
12a 底部分
13 空間
14 低屈折率部
15 回折層
20 回折光学素子
21 高屈折率部
21a 凸部
21b 第1の傾斜部
21c 第2の傾斜部
21d 第3の傾斜部
21e 先端部
21f 根元部
21g 頂点
25 回折層
30 回折光学素子
31 高屈折率部
31a 凸部
31b 第1の傾斜部
31e 先端部
31f 根元部
31h 垂直部
35 回折層
41 透明基材
42 被覆層
43 被覆層
50 回折光学素子
200 スクリーン
201 光
202 照射領域
204 照射領域
CAM1 赤外線カメラ
CAM2 赤外線カメラ
L 光源
P 平面
S スクリーン

Claims (12)

  1. 光を整形する回折光学素子であって、
    断面形状において複数の凸部が並んで配置されている高屈折率部と、
    前記高屈折率部よりも屈折率が低く、少なくとも前記凸部の間に形成されている凹部を含む低屈折率部と、
    を有する回折層を備え、
    前記凸部の側面形状は、
    前記凸部の先端部から根元部に向かって前記凸部の幅が広がる向きに傾斜した第1の傾斜部と、
    前記第1の傾斜部から前記根元部に向かって前記凸部の幅が狭くなる向きに傾斜した第2の傾斜部と、
    前記第2の傾斜部からさらに前記根元部に向かって前記凸部の幅が広がる向きに傾斜した第3の傾斜部と、
    を備え、
    前記第1の傾斜部と、前記第2の傾斜部と、前記第3の傾斜部とは、曲面で繋がっている回折光学素子。
  2. 請求項に記載の回折光学素子において、
    前記第1の傾斜部から前記根元部に向かって前記回折層に垂直な向きに延在する垂直部を備えること、
    を特徴とする回折光学素子。
  3. 請求項1又は請求項2に記載の回折光学素子において、
    前記第2の傾斜部と前記第3の傾斜部とが繋がるくびれ部分の幅は、前記凸部の先端部の幅よりも広いこと、
    を特徴とする回折光学素子。
  4. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    前記凸部の先端部は、複数の頂点を有すること、
    を特徴とする回折光学素子。
  5. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    前記凹部の底部分は、前記凸部の突出する方向に突出していること、
    を特徴とする回折光学素子。
  6. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    前記高屈折率部は、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化したものであること、
    を特徴とする回折光学素子。
  7. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    前記低屈折率部は、空気であること、
    を特徴とする回折光学素子。
  8. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    透明基材と、前記回折層と、前記回折層を被覆する被覆層とが、この順番で積層されていること、
    を特徴とする回折光学素子。
  9. 請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の回折光学素子において、
    前記回折層は、波長780nm以上の赤外線を回折すること、
    を特徴とする回折光学素子。
  10. 請求項に記載の回折光学素子において、
    前記凸部の高さは650nm以上であること、
    を特徴とする回折光学素子。
  11. 光源と、
    前記光源が発光する光が通過する位置に少なくとも1つ配置された、請求項1から請求項10までのいずれか1項に記載の回折光学素子と、
    を備える光照射装置。
  12. 請求項11に記載の光照射装置において、
    前記光源は、波長780nm以上の赤外線を発光できること、
    を特徴とする光照射装置。
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US6791760B2 (en) * 2001-07-24 2004-09-14 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Planar diffractive relay
JP2006010778A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 回折格子の製造方法
CN102360092B (zh) * 2007-06-19 2014-05-07 阿尔卑斯电气株式会社 光学元件及其制造方法
US8040607B2 (en) * 2008-04-25 2011-10-18 Jds Uniphase Corporation Surface-relief diffraction grating
WO2010141453A2 (en) * 2009-06-01 2010-12-09 Han Jefferson Y Touch sensing
CN102548723A (zh) * 2009-09-30 2012-07-04 柯尼卡美能达精密光学株式会社 模具的加工方法、模具、物镜及光拾取装置

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