JP6827748B2 - 液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置 - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、液滴噴射ヘッド及び液滴噴射装置に関する。
生物学、薬学などの分野の研究開発や医療診断や検査、農業試験において、ピコリットル(pL)からマイクロリットル(μL)の液体を分注する操作を行うことがある。例えばガン細胞に対して、効果的に攻撃するのに必要な化合物の濃度を決定するステージにおいて、低容量の液体の分注は重要な作業である。
これらは一般に用量応答実験と呼ばれ、化合物の有効濃度を決定するため、多くの異なった濃度の化合物をマイクロプレートのウエルなどの容器内に作成する。このような用途で使用されるオンデマンド型の液滴噴射ヘッドを搭載した液滴噴射装置がある。この液滴噴射ヘッドは、例えば、溶液を保持する溶液保持容器と、溶液を吐出するノズルと、溶液保持容器とノズルとの間に配置される圧力室と、圧力室内の溶液の圧力を制御するアクチュエータとを備える。
この液滴噴射ヘッドは、ノズルから吐出される1滴の液量がpLオーダーであり、滴下回数を制御することにより、各ウエルにpLからμLのオーダーの液体を滴下することが可能である。そのため、この液滴噴射ヘッドを搭載した液滴噴射装置は、用量応答実験に代表される多くの異なった濃度の化合物を分注する作業やpLからナノリットル(nL)の極微少量の分注作業に適した装置である。
この液滴噴射ヘッドが備えるアクチュエータとしては、圧電アクチュエータが液滴を噴射するノズルを有する構造も可能であり、例えばインクジェットヘッドの用途として、特許文献1が開示されている。
特開2014−172292号公報
この従来技術の圧電アクチュエータは、ノズルが設けられているため、ノズルの液滴噴射方向の長さがアクチュエータの厚みと同一となる。駆動効率の観点から、アクチュエータの厚みは薄い方が望ましいため、ノズルの長さも制約される。
揮発性の高い溶液に溶解された化合物を、マイクロプレートのウエルなどの複数の容器内に滴下する際は、溶液の揮発により化合物の濃度が変化しないよう、短時間で滴下作業を完了する必要がある。このため、ノズルから吐出する溶液の吐出速度を高くすることを試みている。
しかし、従来技術の圧電アクチュエータは、ノズルの液滴噴射方向の長さが短いため、ノズルから吐出する溶液の吐出速度を上げようとすると、溶液を吐出した直後に、意図しない溶液が吐出してしまう現象が生じる可能性がある。このような場合は、目標の滴下量よりも多くの溶液が滴下される課題があった。
本実施形態の課題は、高い吐出速度においても溶液を吐出した後に、意図しない溶液が吐出することがなく、短時間で目標の溶液量を正確に滴下することができる、ノズルを備えた圧電アクチュエータを有する液滴噴射ヘッド及びこれを備える液滴噴射装置を提供することである。
実施形態の液滴噴射ヘッドは、基板と、アクチュエータと、溶液保持容器と、を有する。基板は、溶液を吐出するノズルに連通し、内部に溶液が充填される圧力室が形成され、前記圧力室へ溶液を供給する側の第1の面と前記溶液を前記ノズルから吐出する側の第2の面を有する。アクチュエータは、電気信号に応じて前記圧力室の容積を変化させて前記溶液に圧力振動を生じさせるとともに、前記ノズルを有する。溶液保持容器は、溶液を受ける溶液受け口と、前記圧力室内に連通する溶液出口を有し、前記第1の面に配置される。さらに、前記液滴噴射ヘッドは、前記ノズルの液滴噴射方向の長さが前記アクチュエータの厚みと同一となる。そして、前記圧力室及び前記ノズルに溶液が充填された状態での前記アクチュエータの1次固有振動周期をλとする時、前記電気信号は、第1電圧と、前記第1電圧より前記圧力室の容積を大きくする第2電圧と、前記第1電圧と前記第2電圧との間の第3電圧を含む。前記第1電圧から前記第2電圧に変化し、λ時間経過後に前記第3電圧から前記第1電圧に変化することで、前記溶液保持容器中の溶液を前記ノズルから吐出する。
図1は、一実施の形態である液滴噴射ヘッドを備えた液滴噴射装置の概略構成を示す斜視図である。 図2は、液滴噴射ヘッドを示す上面(溶液保持容器側)の平面図である。 図3は、液滴噴射ヘッドを示す下面(液滴噴射側)の平面図である。 図4は、液滴噴射ヘッドの図2のF4−F4線の縦断面図である。 図5は、液滴噴射ヘッドの液滴噴射アレイを示す平面図である。 図6は、液滴噴射ヘッドの図5のF6−F6線の縦断面図である。 図7は、液滴噴射ヘッドのアクチュエータ構造を示す縦断面図である。 図8は、第1の実施例におけるグラフである。 図9は、第1の実施例における電圧V3が電圧V2と等しい場合のグラフである。 図10は、第2の実施例におけるグラフである。 図11は、第3の実施例におけるグラフである。 図12は、第4の実施例におけるグラフ。
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、各図は実施形態とその理解を促すための模式図であり、その形状や寸法、比などは実際のものと異なる個所があるが、これらは適宜、設計変更することができる。
一実施の形態である液滴噴射ヘッド及びこれを備える液滴噴射装置の一例について図1乃至図7を参照して説明する。
図1は、液滴噴射ヘッド2を備えた液滴噴射装置1を示す斜視図である。図2は、液滴噴射ヘッド2の上面図であり、図3は液滴噴射ヘッド2の液滴を噴射する面である下面図を示す。図4は、図2のF4−F4線断面図を示す。図5は、液滴噴射ヘッド2の液滴噴射アレイ27を示す平面図である。図6は、図5のF6−F6線断面図である。図7は、液滴噴射ヘッド2のノズル110の周辺構造を示す縦断面図である。
液滴噴射装置1は、矩形平板状の基台3と、液滴噴射ヘッド装着モジュール5と、駆動回路11と、を有する。本実施形態では、生化学分野の分析や臨床検査などで一般的に用いられているマイクロプレートの中で、96穴のマイクロプレート4へ溶液を滴下する実施形態について説明する。
マイクロプレート4は、基台3の中央位置に固定されている。基台3の上には、マイクロプレート4の両側に、X方向に延設された左右一対のX方向ガイドレール6a、6bを有する。各X方向ガイドレール6a、6bの両端部は、基台3上に突設された、固定台7a、7bに固定されている。
X方向ガイドレール6a、6b間には、Y方向に延設されたY方向ガイドレール8が架設されている。Y方向ガイドレール8の両端は、X方向ガイドレール6a、6bに沿ってX方向に摺動可能なX方向移動台9にそれぞれ固定されている。
Y方向ガイドレール8には、液滴噴射ヘッド装着モジュール5がY方向ガイドレール8に沿ってY方向に移動可能なY方向移動台10が設けられている。このY方向移動台10には、液滴噴射ヘッド装着モジュール5が装着されている。この液滴噴射ヘッド装着モジュール5には、本実施形態の液滴噴射ヘッド2が固定されている。これにより、Y方向移動台10がY方向ガイドレール8に沿ってY方向に移動する動作と、X方向移動台9がX方向ガイドレール6a、6bに沿ってX方向に移動する動作との組み合わせにより、液滴噴射ヘッド2は、直交するXY方向の任意の位置に移動可能に支持されている。
液滴噴射ヘッド2は、平板状の電装基板21を有する。図2に示すようにこの電装基板21の表面側(第1の面21a)には、複数、本実施形態では8個の溶液保持容器22がY方向に一列に並設されている。溶液保持容器22は、図4に示すように上面が開口された有底円筒形状の容器である。さらに、溶液保持容器22の底部には、中心位置に溶液出口となる開口部22aが形成されている。上面開口部22bの開口面積は、溶液出口の開口部22aの開口面積よりも大きくなっている。
図3に示すように電装基板21には、溶液保持容器22の溶液出口の開口部22aより大径な貫通孔である矩形状の開口部21cが形成されている。図4に示すように、溶液保持容器22の底部は、電装基板21の第1の面21aに、溶液保持容器22の溶液出口の開口部22aが電装基板21の開口部21c内に位置するよう接着固定されている。
電装基板21の裏面側(第2の面21b)には、電装基板配線24がパターニング形成されている。この電装基板配線24には、後述する下部電極131の端子部131c及び上部電極133の端子部133cとそれぞれ接続される2つの配線パターン24a、24bが形成されている。
電装基板配線24の一端部には、駆動回路11からの電気信号(駆動信号ともいう)を入力するための電気信号入力端子25が形成されている。電装基板配線24の他端部には、電極端子接続部26を備える。電極端子接続部26は、図5に示す後述する液滴噴射アレイ27に形成された下部電極端子部131c及び上側電極端子部133cと接続するための接続部である。
溶液保持容器22の下面には、溶液保持容器22の開口部22aを覆う状態で図5に示す液滴噴射アレイ27が接着固定されている。この液滴噴射アレイ27は、電装基板21の開口部21cと対応する位置に配置されている。
図6に示すように液滴噴射アレイ27は、ノズルプレート100と、圧力室構造体200とが積層されて形成されている。ノズルプレート100は、溶液を吐出するノズル110を有するアクチュエータ101と、後述する下部電極配線部131bと端子部131c、上側電極配線部133bと端子部133cを備える。本実施形態では、図5に示すように複数のノズル110を有するアクチュエータ101は、例えば3×3列に配列される。隣接するノズルの中心間距離d1は250μmとする。
図7に示すようにアクチュエータ101は、振動板120、駆動素子130、絶縁膜140、保護膜150、撥液膜160、ノズル110で構成されている。振動板120は、例えば圧力室構造体200と一体に形成される。圧力室構造体200を製造するためのシリコンウエハ201を酸素雰囲気で加熱処理すると、シリコンウエハ201の表面にSiO(酸化シリコン)膜が形成される。振動板120は、酸素雰囲気で加熱処理して形成されるシリコンウエハ201の表面の厚さ4μmのSiO(酸化シリコン)膜を用いる。振動板120は、シリコンウエハ201の表面にCVD法(化学的気相成膜法)でSiO(酸化シリコン)膜を成膜して形成しても良い。振動板120は、直径20μmのノズル110を備えている。
振動板120の膜厚は、1〜30μmの範囲が好ましい。振動板120は、SiO(酸化シリコン)膜に代えて、SiN(窒化シリコン)等の半導体材料、或いは、Al(酸化アルミニウム)等を用いることもできる。
駆動素子130は、ノズル110を囲む円環状の形状である。駆動素子130の形状は限定されず、例えば円環の一部を切り欠いたC字状でも良い。図7に示すように駆動素子130は、圧電体である圧電体膜132を挟んで下部電極131の電極部131aと、上部電極133の電極部133aとを備える。電極部131aと、圧電体膜132及び電極部133aは、ノズル110と同軸であり、同じ大きさの円形パターンである。
下部電極131は、円形の複数のノズル110と同軸の円形の複数の電極部131aをそれぞれ備える。例えば、ノズル110の直径20μmに対し、電極部131aの外径を133μm、内径を42μmとする。図5に示すように下部電極131は、複数の電極部131aを接続する配線部131bを備え、配線部131bの端部に端子部131cを備える。
駆動素子130は、下部電極131の電極部131a上に例えば厚さ2μmの圧電材料である圧電体膜132を備える。圧電体膜132は、PZT(Pb(Zr,Ti)O:チタン酸ジルコン酸鉛)からなる。圧電体膜132は、例えばノズル110と同軸であって、電極部131aと同一形状の外径が133μm、内径が42μmの円環状の形状である。圧電体膜132の膜厚は、概ね1〜5μmの範囲となる。圧電体膜132は、例えばPTO(PbTiO:チタン酸鉛)、PMNT(Pb(Mg1/3Nb2/3)O−PbTiO)、PZNT(Pb(Zn1/3Nb2/3)O−PbTiO)、ZnO、AlN等の圧電材料を用いることもできる。
圧電体膜132は、厚み方向に分極を発生する。分極と同じ方向の電界を圧電体膜132に印加すると、圧電体膜132は、電界方向と直交する方向に伸縮する。言い換えると、圧電体膜132は、膜厚に対して直交する方向に収縮し、或いは伸長する。
駆動素子130の上部電極133は、圧電体膜132上にノズル110と同軸であって、圧電体膜132と同一形状の外径が133μm、内径が42μmの円環状の形状である。図5に示すように上部電極133は、複数の電極部133aを接続する配線部133bを備え、配線部133bの端部に端子部133cを備える。
下部電極131は、例えばスパッタリング法によりTi(チタン)とPt(白金)を積層して厚さ0.5μmに形成する。下部電極131の膜厚は、概ね0.01〜1μmの範囲となる。下部電極131は、Ni(ニッケル)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、W(タングステン)、Mo(モリブデン)、Au(金)、SrRuO(ストロンチウムルテニウム酸化物)等の他の材料を使用できる。下部電極131は、各種金属を積層して使用することもできる。
上部電極133は、Pt薄膜で形成した。薄膜の成膜はスパッタリング法を用い、膜厚0.5μmとした。上部電極133の他の電極材料として、Ni、Cu、Al、Ti、W、Mo、Au、SrRuOなどを利用することも可能である。他の成膜法として、蒸着、鍍金を用いることも可能である。上部電極133は、各種金属を積層して使用することもできる。上部電極133の望ましい膜厚は0.01から1μmである。
アクチュエータ101は、下部電極131と、上部電極133とを絶縁する絶縁膜140を備える。絶縁膜140は、例えば、厚さ0.5μmのSiO(酸化シリコン)を用いる。絶縁膜140は、駆動素子130の領域にあっては、電極部131aと、圧電体膜132及び電極部133aの周縁を覆う。絶縁膜140は、下部電極131の配線部131bを覆う。絶縁膜140は、上部電極133の配線部133bの領域で振動板120を覆う。絶縁膜140は、上部電極133の電極部133aと配線部133bを電気的に接続するコンタクト部140aを備える。
アクチュエータ101は、駆動素子130を保護する例えばポリイミドの保護膜150を備える。ノズル110は、振動板120と保護膜150に連通して形成される。
保護膜150は、他の樹脂またはセラミックス等の他の絶縁性の材料を利用することもできる。他の樹脂として、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)、ポリアセタール、ポリアミド、ポリカーボネート、オイルエーテルサルフォン等がある。セラミックスとして、例えばジルコニア、炭化シリコン、窒化シリコン等がある。保護膜150の膜厚は、概ね0.5〜50μmの範囲にある。
アクチュエータ101は、保護膜150を覆う撥液膜160を備える。撥液膜160は、溶液をはじく特性のある例えばシリコーン系樹脂をスピンコーティングして形成される。撥液膜160は、フッ素含有樹脂等の溶液をはじく特性を有する材料で形成することもできる。撥液膜160の厚さは、概ね0.5〜5μmの範囲にある。
圧力室構造体200は、例えば厚さ525μmのシリコンウエハ201を用いて形成される。圧力室構造体200は、振動板120と反対側の面に、反り低減層である反り低減膜220を備える。圧力室構造体200は、反り低減膜220を貫通して振動板120の位置に達し、ノズル110と連通する圧力室210を備える。圧力室210は、例えばノズル110と同軸上に位置する直径190μmの円形に形成される。圧力室210の形状、及びサイズは限定されない。
但し本実施形態のように、圧力室210は溶液保持容器22の開口部22aに連通する開口部を備えている。圧力室210の開口部の幅方向のサイズDより、深さ方向のサイズLを大きくすることが好ましい。深さ方向のサイズL>幅方向のサイズDとすることにより、アクチュエータ101の振動により、圧力室210内の溶液にかかる圧力が、溶液保持容器22へ逃げるのを遅らせる。
圧力室210の振動板120が配置される側を第1の面とし、反り低減膜220が配置される側を第2の面とする。圧力室構造体200の反り低減膜220側には例えばエポキシ系接着剤により溶液保持容器22が接着される。圧力室構造体200の圧力室210は、反り低減膜220側の開口部で、溶液保持容器22の開口部22aに連通する。溶液保持容器22の開口部22aの開口面積は、圧力室210の溶液保持容器22の開口部22aに連通する開口部の開口面積より大きくなっている。
反り低減膜220は、例えば圧力室構造体200を製造するためのシリコンウエハ201を酸素雰囲気で加熱処理して、シリコンウエハ201の表面に形成される厚さ4μmのSiO(酸化シリコン)膜を用いる。反り低減膜220は、シリコンウエハ201の表面にCVD法(化学的気相成膜法)でSiO(酸化シリコン)膜を成膜して形成しても良い。反り低減膜220は、液滴噴射アレイ27に生じる反りを低減する。
反り低減膜220は、シリコンウエハ201の振動板120側と対向する側にあって、シリコンウエハ201の反りを低減する。反り低減膜220は、圧力室構造体200と振動板120との膜応力の違い、更には、駆動素子130の各種構成膜の膜応力の違い等によるシリコンウエハ201の反りを低減する。反り低減膜220は、成膜プロセスを用いて液滴噴射アレイ27の構成部材を作成する場合に、液滴噴射アレイ27が反るのを低減する。
反り低減膜220の材料及び膜厚等は振動板120と異なるものであっても良い。但し、反り低減膜220を振動板120と同じ材料で同じ膜厚とすれば、シリコンウエハ201の両面にての振動板120との膜応力の違いと反り低減膜220との膜応力の違いは同じになる。反り低減膜220を振動板120と同じ材料で同じ膜厚とすれば、液滴噴射アレイ27に生じる反りをより効果的に低減する。
アクチュエータ101に電気信号(駆動信号ともいう)を送ると、アクチュエータ101は厚み方向に変形し、電気信号に応じて圧力室210の容積を変化させて溶液に圧力振動を生じさせる。これにより、ノズル110は、圧力室210内の溶液を吐出する。
液滴噴射アレイ27の製造方法の一例について述べる。液滴噴射アレイ27は、先ず圧力室構造体200を形成するためのシリコンウエハ201の両面の全面に、SiO(酸化シリコン)膜を成膜する。シリコンウエハ201の一方の面に形成したSiO(酸化シリコン)膜を振動板120として用いる。シリコンウエハ201の他方の面に形成したSiO(酸化シリコン)膜を反り低減膜220として用いる。
例えばバッチ式の反応炉を用いて、酸素雰囲気で加熱処理する熱酸化法によって、例えば円板状のシリコンウエハ201の両面にSiO(酸化シリコン)膜を形成する。次に、成膜プロセスにより、円板状のシリコンウエハ201に複数個のノズルプレート100及び圧力室210を形成する。ノズルプレート100及び圧力室210を形成後、円板状のシリコンウエハ201を切って、ノズルプレート100と一体の、複数の圧力室構造体200に分離する。円板状のシリコンウエハ201を用いて、複数個の液滴噴射アレイ27を一度に量産できる。シリコンウエハ201は円板状でなくても良い。1枚の矩形のシリコンウエハ201を用いて、一体のノズルプレート100と圧力室構造体200とを個別に形成しても良い。
シリコンウエハ201に形成される振動板120を、エッチングマスクを用いてパターニングしてノズル110を形成する。パターニングは、エッチングマスクの材料として、感光性レジストを用いる。振動板120の表面に感光性レジストを塗布後、露光及び現像して、ノズル110に相当する開口部をパターニングしたエッチングマスクを形成する。エッチングマスク上から振動板120を圧力室構造体200に達するまでドライエッチングして、ノズル110を形成する。振動板にノズル110を形成後、例えば剥離液を用いてエッチングマスクを除去する。
次にノズル110が形成された振動板120の表面に、駆動素子130、絶縁膜140、保護膜150および撥液膜160を形成する。駆動素子130、絶縁膜140、保護膜150および撥液膜160の形成は、成膜工程と、パターニングする工程を繰り返す。成膜工程は、スパッタリング法或いはCVD法、スピンコーティング法等により行う。パターニングは、例えば感光性レジストを用いて膜上にエッチングマスクを形成し、膜材料をエッチングした後、エッチングマスクを除去することで行う。
振動板120の上に、下部電極131、圧電体膜132及び上部電極133の材料を積層成膜する。下部電極131の材料として、膜厚0.05μmのTi(チタン)膜と膜厚0.45μmのPt(白金)膜をスパッタリング法により順に成膜する。Ti(チタン)及びPt(白金)膜は、蒸着法或いは鍍金により形成しても良い。
下部電極131の上に、圧電体膜132の材料として、膜厚2μmのPZT(Pb(Zr,Ti)O:チタン酸ジルコン酸鉛)を基板温度350℃にてRFマグネトロンスパッタリング法により成膜する。PZTを成膜後、500℃で3時間熱処理することによりPZTは、良好な圧電性能を得る。PZT膜は、CVD(化学的気相成膜法)、ゾルゲル法、AD(エアロゾルデポジション)法、水熱合成法により形成しても良い。
圧電体膜132の上に、上部電極133の材料として、膜厚0.5μmのPt(白金)膜をスパッタリング法により成膜する。成膜したPt(白金)膜上に、下部電極131の材料膜を残して、上部電極133の電極部133aと圧電体膜132を残すエッチングマスクを作る。エッチングマスク上からエッチングをして、Pt(白金)とPZT(Pb(Zr,Ti)O:チタン酸ジルコン酸鉛)の膜を除去し、上部電極の電極部133aと圧電体膜132を形成する。
次に、上部電極の電極部133aと圧電体膜132を形成した下部電極131材料の上に、下部電極131の電極部131a、配線部131b及び端子部131cを残すエッチングマスクを作る。エッチングマスク上からエッチングをして、Ti(チタン)及びPt(白金)の膜を除去し、下部電極131を形成する。
下部電極131、上部電極の電極部133aと圧電体膜132を形成した振動板120上に、絶縁膜140の材料として、膜厚0.5μmのSiO(酸化シリコン)膜を成膜する。SiO(酸化シリコン)膜は、例えばCVD法により低温成膜して良好な絶縁性を得る。成膜したSiO(酸化シリコン)膜をパターニングして絶縁膜140を形成する。
絶縁膜140を形成した振動板120上に、上部電極133の配線部133b及び端子部133cの材料として、膜厚0.5μmのAu(金)をスパッタリング法により成膜する。Au(金)膜は、蒸着法或いはCVD法、又は鍍金により形成しても良い。成膜したAu(金)膜上に上部電極133の電極配線部133b及び端子部133cを残すエッチングマスクを作る。エッチングマスク上からエッチングをして、Au(金)の膜を除去し、上部電極133の電極配線部133b及び端子部133cを形成する。
上部電極133を形成した振動板120上に、膜厚4μmの保護膜150の材料であるポリイミド膜を成膜する。ポリイミド膜は、振動板120上にポリイミド前駆体を含む溶液をスピンコーティング法により塗布し、ベークによる熱重合及び溶剤を除去して成膜する。成膜したポリイミド膜をパターニングして、ノズル110、下部電極131の端子部131c及び上部電極133の端子部133cを露出する保護膜150を形成する。
保護膜150上に撥液膜160の材料であるシリコーン系樹脂膜を膜厚0.5μmにスピンコーティング法により塗布し、ベークによる熱重合及び溶剤を除去して成膜する。成膜したシリコーン系樹脂膜をパターニングして、ノズル110、下部電極131の端子部131c及び上部電極133の端子部133cを露出する撥液膜160を形成する。
撥液膜160上に、例えばシリコンウエハ201のCMP(化学機械研磨)用の裏面保護テープを、カバーテープとして貼り付けて撥液膜160を保護し、圧力室構造体200をパターニングする。シリコンウエハ201の反り低減膜220上に、圧力室210の直径190μmを露出するエッチングマスクを形成し、まず、反り低減膜220をCF(4フッ化カーボン)とO(酸素)の混合ガスによってドライエッチングする。次に、例えばSF(6フッ化硫黄)とOの混合ガスで、シリコンウエハ専用の垂直深堀ドライエッチングをする。ドライエッチングは、振動板120に当接する位置で止め、圧力室構造体200に圧力室210を形成する。
圧力室210を形成するエッチングは、薬液を用いるウェットエッチング法、プラズマを用いてのドライエッチング法等で行っても良い。エッチング終了後、エッチングマスクを除去する。撥液膜160上に貼り付けたカバーテープに紫外線を照射して接着性を弱めてから、カバーテープを撥液膜160から剥がし、円板状のシリコンウエハ201を切断することにより、複数個の液滴噴射アレイ27が分離形成される。
次に、液滴噴射ヘッド2の製造方法について説明する。液滴噴射アレイ27と溶液保持容器22を接着させる。このとき、液滴噴射アレイ27における圧力室構造体200の反り低減膜220側に、溶液保持容器22の底面(開口部22a側の面)を接着する。
その後、液滴噴射アレイ27と接着した溶液保持容器22を電装基板21の第1の面21aに、電装基板21の開口部21cの内側に溶液保持容器22の開口部22aが収まるように接着する。
続いて、電装基板配線24の電極端子接続部26と、液滴噴射アレイ27の下部電極131の端子部131c及び上部電極133の端子部133cとを、ワイヤ配線12で接続する。他の接続方法として、フレキシブルケーブルを用いた方法等がある。これは、フレキシブルケーブルの電極パッドと電極端子接続部26、又は端子部131c、端子部133cを異方性導電フィルムにて熱圧着して電気的接続する方法である。
電装基板配線24のもう一方の端子は、電気信号入力端子25であり、駆動回路11から出力される電気信号を入力する板バネコネクタと接触できる形状となっている。これにより液滴噴射ヘッド2が形成される。
次に、上記構成の作用について説明する。本実施形態の液滴噴射ヘッド2は、液滴噴射装置1の液滴噴射ヘッド装着モジュール5に固定して使用される。液滴噴射ヘッド2の使用時には、まず、溶液保持容器22の上面開口部22bから図示しないピペッターなどにより、溶液を所定量、溶液保持容器22に供給する。溶液は、溶液保持容器22の内面で保持される。溶液保持容器22の底部の開口部22aは、液滴噴射アレイ27と連通している。溶液保持容器22に保持された溶液は、溶液保持容器22の底面の開口部22aを介して液滴噴射アレイ27の各圧力室210へ充填される。
この状態で、駆動回路11から電装基板配線24の電気信号入力端子25に入力された電気信号は、電装基板配線24の電極端子接続部26から下部電極131の端子部131c及び上部電極133の端子部133cへ送られる。このとき、アクチュエータ101は、電気信号に応じて圧力室210の容積を変化させて溶液に圧力振動を生じさせる。これにより、ノズル110から圧力室210内の溶液が溶液滴として吐出される。そして、ノズル110から、マイクロプレート4の各ウエル4bに所定量の液体を滴下する。
ノズル110から吐出される1滴の液量は、2から5ピコリットルである。そのため、滴下回数を制御することにより、各ウエル4bにpLからμLのオーダーの液体を滴下制御することが可能となる。
ノズル110の長さは、振動板120の厚みと保護膜150の厚みの合計によって定まる。本実施例では、一例として8μmである。このように、ノズル110の長さは、きわめて短いので、溶液吐出動作の後に、圧力室210内の溶液に残留圧力振動が残っていると、意図しない溶液滴がノズル110から吐出し、目標の滴下量よりも多くの溶液が滴下される。
続いて、本実施形態の液滴噴射ヘッド2の動作についていくつかの実施例を用いて説明する。
(第1の実施例)
図8は、第1の実施例における、駆動回路11が下部電極131に対して発生する電気信号Vと、電気信号Vにより圧力室210に発生する溶液の圧力振動Pと、圧力振動Pによりノズル110に発生する流速振動Uと、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mを示している。なお、圧力振動Pを構成する任意の圧力を圧力Pということもある。また、流速振動Uを構成する任意の流速を流速Uということもある。ここで、流速Uは、溶液吐出方向を正としている。メニスカス位置Mは、ノズル110の溶液吐出側の開口面の位置を0として、溶液吐出側を正、圧力室210側を負としている。上部電極133の電圧は、0Vで一定としている。
時間λは、溶液が圧力室210とノズル110に充填された状態におけるアクチュエータ101の1次固有振動周期を示している。圧力室210やノズル110内の溶液の圧力Pや流速Uも、この1次固有振動周期λで振動する。
1次固有振動周期λは、液滴噴射ヘッド2に溶液を充填した状態で、市販のインピーダンスアナライザ、例えばアジレントテクノロジー社製の4294Aによりアクチュエータ101のインピーダンスを測定することにより測定できる。あるいは、駆動回路11からステップ波形等の電気信号を出力した状態で、市販のレーザードップラー振動計でアクチュエータ101の振動を測定することによっても測定できる。
液滴噴射ヘッド2は、溶液保持容器22の開口部22aから溶液が注入され、圧力室210とノズル110の内部に溶液が充填された状態で溶液吐出の待機を行う。この状態では、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mは、0の付近で静止している。
電気信号Vは、溶液吐出動作の開始タイミングt1より前の待機状態では、電圧V1を維持している。
この状態では、下部電極131と上部電極133との間に電圧V1が印可され、圧電体膜132の厚み方向に電界が生じ、圧電体膜132にはd31モードの変形が生じて、厚みの方向に直交する方向に収縮している。圧電体膜132の収縮により、振動板120と保護膜150に圧縮応力が生じるが、振動板120のヤング率が保護膜150のヤング率より大きいので、振動板120に生じる圧縮力の方が、保護膜150に生じる圧縮力よりも大きい。そのため、アクチュエータ101は、圧力室210の方向に湾曲して、圧力室210の容積は電圧V1が印可されない状態より小さい状態を維持している。つまり、電気信号Vの値が大きくなるにつれ、アクチュエータ101の作用により、圧力室210の容積は小さくなる。
時刻t1のタイミングにおいて、溶液吐出動作を開始する。電気信号Vは、電圧V1から電圧V2に変化する。
電圧V2は、電圧V1よりも低い。電圧V2は、電圧V1より圧力室210の容積を大きくする電圧で、好適には0Vであるが、わずかに負の値、すなわち電圧V1と逆極性であっても良い。ただし、負の値が大きいと、圧電体膜132の分極方向が待機状態に対して反転してしまい、所望の動作が得られないので、電圧V2は、0Vか、あるいは電圧V1と同極性の電圧が望ましい。
電気信号Vが電圧V1から電圧V2になると、アクチュエータ101は、圧力室210の容積を拡大する方向に変位する。
圧力室210の容積が拡大すると、圧力室210内の溶液の圧力Pが低下し、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mは圧力室210の方向に後退する。また、溶液保持容器22から圧力室210に溶液が供給される。圧力Pは、一旦低下するが、その後上昇する。
時刻t1からλ/2の時間が経過して時刻t2になると、圧力Pの上昇が停止する。溶液のメニスカス位置Mは後退を停止する。
このタイミングで、電気信号Vの電圧をV2からV3に変化させる。電圧V3は、電圧V2以上であって、電圧V1よりも低い。アクチュエータ101が圧力室210の方向に変位し、圧力室210の溶液は、さらに加圧される。溶液のメニスカス位置Mは吐出方向に前進を始め、ノズル110から溶液が吐出する。溶液の吐出は、λ/2の時間、継続する。この間、圧力Pは低下する。
時刻t2からλ/2の時間が経過して時刻t3になると、圧力Pは最低の圧力になる。ノズル110内の溶液の流速Uは0になり、吐出を停止する。しかし、すでにノズル110から出た溶液は液滴を形成して飛翔を続ける。
このタイミングで、電気信号Vの電圧をV3からV1に変化させる。アクチュエータ101が圧力室210の方向に変位し、圧力室210の溶液の圧力Pは、負圧の状態から加圧されて実質的に0になり、溶液の振動が停止する。このように、時刻t1で発生した溶液の振動は、時刻t3でアクチュエータ101の変位によって打ち消され、停止する。そのため、時刻t3では、圧力P及び流速Uは0になる。
時刻t3を経過した後も、ノズル110から吐出した溶液滴は、マイクロプレート4のウエル4bに向かって飛翔する。溶液滴の飛翔に伴い、溶液滴の尾とノズル110内の溶液が自然に切断し、メニスカス位置Mが0の付近で、溶液メニスカスが再形成される。
電圧V3は、溶液の圧力振動Pまたは流速振動Uの減衰率に応じて決められる。圧力振動Pの減衰率も、流速振動Uの減衰率も、同じ値になる。減衰率は、1次固有振動周期λの測定と同時に求めることができる。減衰率が大きい場合、電圧(V1−V2)に対する電圧(V1−V3)の比を小さく設定する。すなわち、電圧V3を高く設定する。減衰率が小さい場合、電圧(V1−V2)に対する電圧(V1−V3)の比を大きく設定する。すなわち、電圧V3を低く設定する。電圧V3は、時刻t3経過後の圧力振動Pあるいは流速振動Uが最小あるいは実質的に0になるように調整する。なお、粘度が低い溶液で減衰率が小さい場合には減衰率を0とみなして、電圧V3を電圧V2と等しくしてもよい。
図9は、電圧V3が電圧V2と等しい場合の第1の実施例における、駆動回路11が下部電極131に対して発生する電気信号Vと、電気信号Vにより圧力室210に発生する溶液の圧力振動Pと、圧力振動Pによりノズル110に発生する流速振動Uと、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mを示している。
以上説明したように、電気信号Vは、第1電圧V1と、第1電圧V1より圧力室210の容積を大きくする第2電圧V2と、第1電圧V1と第2電圧V2との間、あるいは第2電圧V2に等しい第3電圧V3を含む。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化し、λ時間経過後に第3電圧V3から第1電圧V1に変化することで1つの溶液滴をノズル110から吐出する。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化した後、第2電圧V2をλ/2の時間維持し、第2電圧V2から第3電圧V3に変化する。電気信号Vは、第2電圧V2から第3電圧V3に変化した後、第3電圧V3をλ/2の時間維持する。
このように、ノズル110からの溶液吐出が終了した直後に、溶液の圧力振動Pや流速振動Uが停止するため、溶液吐出動作の後の残留振動により意図しない溶液がノズル110から吐出することを防止できる。
また、溶液メニスカスが待機状態の位置より圧力室210側で再形成されると、溶液メニスカスは溶液の表面張力の作用などにより溶液吐出方向に前進し、意図しない溶液がノズル110から吐出してしまう。しかしながら、本実施形態によれば、溶液メニスカスは溶液吐出動作前の静止状態の位置付近で再形成されるので、再形成された後の溶液メニスカスは、ほぼ静止状態となる。そのため、高い吐出速度においても溶液を吐出した後に、意図しない溶液が吐出することがなく、短時間で目標の溶液量を正確に滴下することができる。
(第2の実施例)
図10は、第2の実施例における電気信号Vと、圧力振動Pと、流速振動Uと、メニスカス位置Mを第1の実施例と同様に示している。この場合、電圧V1は0Vである。上部電極133の電圧は、V2で一定とする。以下、第1の実施例と異なる部分を中心に説明する。
下部電極131と上部電極133との間に電圧が印可されると、アクチュエータ101は圧力室210の方向に湾曲して、圧力室210の容積は電圧が印可されない状態より小さい状態を維持している。そのため、電気信号Vの値が大きくなるにつれ、アクチュエータ101の作用により、圧力室210の容積も大きくなる。
電気信号Vは、溶液吐出動作の開始タイミングt1より前の待機状態では、電圧V1=0Vを維持している。電気信号Vは、時刻t1のタイミングにおいて、電圧V1から電圧V2に変化する。電圧V2は、電圧V1よりも高い。時刻t1からλ/2の時間が経過して時刻t2になると、電気信号Vは、電圧V2から電圧V3に変化する。電圧V3は、電圧V2よりも低く、電圧V1よりも高い。なお、第1の実施例で説明したように、電圧V3は電圧V2と等しくてもよい。時刻t2からλ/2の時間が経過して時刻t3になると、電気信号Vを電圧V3から電圧V1に変化させる。
上部電極133と下部電極131との間の電位差の絶対値は第1の実施例と同じであるため、圧電体膜132の動作も第1の実施例と同じである。そのため、圧力振動Pと、流速振動Uと、メニスカスの位置Mは、それぞれ、第1の実施例における圧力振動Pと、流速振動Uと、メニスカスの位置Mと同じである。
以上説明したように、電気信号Vは、第1電圧V1と、第1電圧V1より圧力室210の容積を大きくする第2電圧V2と、第1電圧V1と第2電圧V2との間、あるいは第2電圧V2に等しい第3電圧V3を含む。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化し、λ時間経過後に第3電圧V3から第1電圧V1に変化することで1つの溶液滴をノズル110から吐出する。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化した後、第2電圧V2をλ/2の時間維持し、第2電圧V2から第3電圧V3に変化する。電気信号Vは、第2電圧V2から第3電圧V3に変化した後、第3電圧V3をλ/2の時間維持する。なお、第2の実施例は、第1の実施例と同じ動作なので、説明を省略する。
(第3の実施例)
図11は、第3の実施例における電気信号Vと、圧力振動Pと、流速振動Uと、メニスカス位置Mを第1の実施例と同様に示している。第1の実施例と同様に、上部電極133の電圧は、0Vで一定としている。以下、第1の実施例と異なる部分を中心に説明する。 時刻t1のタイミングにおいて、電気信号Vが電圧V1から電圧V2になると、振動板120は、圧力室210の容積を拡大する方向に変位する。
圧力室210の容積が拡大すると、圧力室210内の溶液の圧力Pが低下し、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mは圧力室210の方向に後退する。また、溶液保持容器22から圧力室210に溶液が供給される。圧力Pは、一旦低下するが、その後上昇する。
電気信号Vは、時刻t1経過後、時刻t3に至るまでに、電圧V2から電圧V3まで連続的に上昇する。それに伴い、圧力室210の容積は、徐々に収縮する。しかし、圧力室210の容積の変化率が小さいので、この収縮動作による圧力振動Pや流速振動Uの発生は小さく、実質的に無視できる。
時刻t1からλ/2の時間が経過して時刻t2になると、圧力Pの上昇が停止する。溶液のメニスカス位置Mは後退を停止する。溶液のメニスカス位置Mは吐出方向に前進を始め、ノズル110から溶液が吐出する。溶液の吐出はλ/2の時間、継続する。この間、圧力Pは低下する。
時刻t2からλ/2の時間が経過して時刻t3になると、圧力Pは最低の圧力になる。ノズル110内の溶液の流速Uは0になり、吐出を停止する。しかし、すでにノズル110から出た溶液は液滴を形成して飛翔を続ける。
このタイミングで、電気信号Vの電圧をV3からV1に変化させる。アクチュエータ101が圧力室210の方向に変位し、圧力室210の溶液の圧力Pは、負圧の状態から加圧されて実質的に0になり、溶液の流速振動Uが停止する。このように、時刻t1で発生した溶液の振動は、時刻t3でアクチュエータ101の変位によって打ち消され、停止する。そのため、時刻t3では、圧力P及び流速Uは0になる。
時刻t3を経過した後も、ノズル110から吐出した溶液滴は、マイクロプレート4のウエル4bに向かって飛翔する。溶液滴の飛翔に伴い、溶液滴の尾とノズル110内の溶液が自然に切断し、メニスカス位置Mが0の付近で、溶液メニスカスが再形成される。
以上説明したように、電気信号Vは、第1電圧V1と、第1電圧V1より圧力室210の容積を大きくする第2電圧V2と、第1電圧V1と第2電圧V2との間、あるいは第2電圧V2に等しい第3電圧V3を含む。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化し、λ時間経過後に第3電圧V3から第1電圧V1に変化することで1つの溶液滴をノズル110から吐出する。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化した後、λ時間かけて第2電圧V2から第3電圧V3に変化する。
このように、第3の実施例においても、溶液吐出動作の後の残留振動により意図しない溶液がノズル110から吐出することを防止できる。
また、溶液メニスカスは溶液吐出動作前の静止状態の位置付近で再形成されるので、再形成された後の溶液メニスカスは、ほぼ静止状態となり、高い吐出速度においても溶液を吐出した後に、意図しない溶液が吐出することがなく、短時間で目標の滴下量を正確に滴下することができる。
電圧V3は、第1の実施例と同様に、溶液の圧力振動Pまたは流速振動Uの減衰率に応じて決められる。
なお、上述の第2の実施例においても、電気信号Vを、時刻t1経過後、時刻t3に至るまでに、電圧V2から電圧V3まで連続的に下降させるようにしてもよい。このときの動作は、上述した動作と同様であるため、説明を省略する。
(第4の実施例)
図12は、第4の実施例における、駆動回路11が下部電極131に対して発生する電気信号VGと、電気信号VGにより圧力室210に発生する溶液の圧力振動Pと、圧力振動Pによりノズル110に発生する流速振動Uと、ノズル110内の溶液のメニスカスの位置Mを示している。上部電極133の電圧は、0Vで一定としている。なお、第1の実施例と同一の説明は省略する。
第4の実施例の電気信号VGは、第1の実施例の電気信号Vを4回連結した例である。これにより、ノズル110は連続的に溶液滴を4回吐出する。なお、電気信号VGは、電気信号Vを4回以外の複数の必要回連結してもよい。吐出した溶液滴は、マイクロプレート4の同一のウエル4bに滴下される。電気信号Vを連結する回数を変更することにより、溶液滴の吐出回数を制御し、マイクロプレート4のウエル4bへの溶液の滴下量を制御できる。
電気信号VGは、溶液吐出動作の開始タイミングt1より前の待機状態では、電圧V1を維持している。
この状態では、圧力室210の容積は電圧V1が印可されない状態より小さい状態を維持している。つまり、電気信号Vの値が大きくなるにつれ、アクチュエータ101の作用により、圧力室210の容積は小さくなる。
時刻t1のタイミングにおいて、溶液吐出動作を開始する。電気信号VGは、電圧V1から電圧V2に変化する。
電圧V2は、電圧V1よりも低い。電圧V2は、電圧V1より圧力室210の容積を大きくする電圧で、好適には0Vであるが、わずかに負の値、すなわち電圧V1と逆極性であっても良い。
電気信号VGが電圧V1から電圧V2になると、アクチュエータ101は、圧力室210の容積を拡大する方向に変位する。
圧力室210の容積が拡大すると、圧力室210内の溶液の圧力Pが低下し、ノズル110内の溶液のメニスカス位置Mは圧力室210の方向に後退する。また、溶液保持容器22から圧力室210に溶液が供給される。圧力Pは、一旦低下するが、その後上昇する。
時刻t1からλ/2の時間が経過して時刻t2になると、圧力Pの上昇が停止する。溶液のメニスカス位置Mは後退を停止する。
このタイミングで、電気信号Vの電圧をV2からV3に変化させる。電圧V3は、電圧V2以上であって、電圧V1よりも低い。アクチュエータ101が圧力室210の方向に変位し、圧力室210の溶液は、さらに加圧される。溶液のメニスカス位置Mは吐出方向に前進を始め、ノズル110から溶液が吐出する。溶液の吐出は、λ/2の時間、継続する。この間、圧力Pは低下する。
時刻t2からλ/2の時間が経過して時刻t3になると、圧力Pは最低の圧力になる。ノズル110内の溶液の流速Uは0になり、吐出を停止する。しかし、すでにノズル110から出た溶液は液滴を形成して飛翔を続ける。
時刻t3で、電気信号Vの電圧をV3からV2に変化させる。アクチュエータ101が圧力室210の容積を拡大する方向に変位し、圧力室210の溶液の圧力Pは、負圧の状態から、さらに圧力が下がり、時刻t1で電気信号VGが電圧V1から電圧V2に変化した後と同じ圧力になる。このように、電気信号VGの電圧V2から電圧V3への変化と、電圧V3から電圧V2への変化により圧力室210内の溶液の圧力振動Pの振幅は一定に維持される。これにより、時刻t3から時刻t4の間に圧力室210内に溶液が再補給され、時刻t4から時刻t5の間にノズル110から溶液が吐出する。
この溶液吐出動作が時刻t5から時刻t9までの間に、さらに2回繰り返され、合計4つの溶液滴がノズル110から吐出する。
時刻t9になると、圧力Pは最低の圧力になる。ノズル110内の溶液の流速Uは0になり、吐出を停止する。しかし、すでにノズル110から出た溶液は液滴を形成して飛翔を続ける。
このタイミングで、電気信号Vの電圧をV3からV1に変化させる。アクチュエータ101が圧力室210の方向に変位し、圧力室210の溶液の圧力Pは、負圧の状態から加圧されて実質的に0になり、溶液の振動が停止する。
時刻t9を経過した後も、ノズル110から吐出した溶液滴は記録媒体に向かって飛翔する。溶液滴の飛翔に伴い、溶液滴の尾とノズル110内の溶液が自然に切断し、メニスカス位置Mが0の付近で、溶液メニスカスが再形成される。
電圧V3は、連続して吐出する溶液滴の吐出速度がなるべく均一になるように設定する。あるいは、第1の実施例と同様に、溶液の圧力振動Pまたは流速振動Uの減衰率に応じて決めても良い。
以上説明したように、電気信号Vは、第1電圧V1と、第1電圧V1より圧力室210の容積を大きくする第2電圧V2と、第1電圧V1と第2電圧V2との間、あるいは第2電圧V2に等しい第3電圧V3を含む。電気信号Vは、第1電圧V1から第2電圧V2に変化し、λ時間経過後に第3電圧V3から第2電圧V2に変化して1つの溶液滴をノズル110から溶液を吐出することを必要な回数繰り返した後に第3電圧V3から第1電圧V1に変化する。
このように、ノズル110からの溶液吐出が終了した直後に、溶液の圧力振動Pや流速振動Uが停止するため、溶液吐出動作の後の残留振動により意図しない溶液がノズル110から吐出することを防止できる。
また、溶液メニスカスは溶液吐出動作前の静止状態の位置付近で再形成されるので、再形成された後の溶液メニスカスは、ほぼ静止状態となる。そのため、高い吐出速度においても溶液を吐出した後に、意図しない溶液が吐出することがなく、短時間で目標の溶液量を正確に滴下することができる。
第4の実施例の駆動波形VGは、連続的に溶液を吐出するため滴下時間を短縮できることと、意図しない溶液がノズル110から吐出することを防止できる効果に加え、1番目の吐出動作で発生した圧力振動を利用して2番目以降の溶液滴の吐出を行うため、2番目以降の溶液滴に要する電気エネルギーを小さく抑えることができる効果がある。
すなわち、下部電極131と、上部電極133の間の静電容量をCとして、電圧V2を0とする時、1番目の溶液滴の吐出動作に要する電気エネルギーE1はC×V3+C×(V1―V3)であるが、2番目以降の溶液滴の吐出動作に要する電気エネルギーE2はC×V3である。多くの場合、電圧V3は、電圧V1の50%以下なので、2番目以降の溶液滴の吐出動作に要する電気エネルギーE2は、1番目の溶液滴の吐出動作に要する電気エネルギーE1に対して約50%以下である。
このため、液滴噴射ヘッド2の消費電力を低減でき、液滴噴射装置の駆動エネルギーコストを低減できる。
なお、電気信号VGは、第3の実施例で説明したように、電圧V2から電圧V3まで連続的に上昇するようにしてもよい。また、電気信号VGは、第2の実施例の電気信号Vを複数回連結した例であってもよい。この場合、電気信号VGは、第3の実施例で説明したように、電圧V2から電圧V3まで連続的に下降するようにしてもよい。
これらの実施形態によれば、液滴噴射ヘッドは、溶液の吐出動作において、まずアクチュエータにより圧力室の容積を拡大させ、溶液圧力を減圧させて溶液保持容器から圧力室に溶液を引き込み、溶液圧力が圧力振動により自然に上昇してノズルから溶液が吐出し、溶液の吐出が終了して溶液圧力が低下したタイミングでアクチュエータにより圧力室の容積を収縮させて溶液を加圧にすることにより、溶液吐出終了と同時に溶液圧力振動を打ち消して溶液吐出後の意図しない溶液の吐出を防止する。これにより、高い吐出速度においても溶液を吐出した後に、意図しない溶液が吐出することがなく、短時間で目標の溶液量を正確に滴下することができる、ノズルを備えた圧電アクチュエータを有する液滴噴射ヘッド及びこれを備える液滴噴射装置を提供することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、駆動部である駆動素子130を円形としたが、駆動部の形状は限定されない。駆動部の形状は、例えばひし形或いは楕円等であっても良い。また圧力室210の形状も円形に限らず、ひし形或いは楕円形、更には矩形等であっても良い。
また、実施形態では、駆動素子130の中心にノズル110を配置したが、圧力室210の溶液を吐出可能であれば、ノズル110の位置は限定されない。例えばノズル110を、駆動素子130の領域内ではなく、駆動素子130の外側に形成しても良い。ノズル110を駆動素子130の外側に配置した場合には、駆動素子130の複数の膜材料を貫通してノズル110をパターニングする必要がない。駆動素子130の複数の膜材料は、ノズル110に対応する位置の開口パターニングが不要であり、ノズル110は振動板120と保護膜150をパターニングするのみで形成でき、パターニングが容易となる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]溶液を吐出するノズルに連通し、内部に溶液が充填される圧力室が形成され、前記圧力室へ溶液を供給する側の第1の面と前記溶液を前記ノズルから吐出する側の第2の面を有する基板と、電気信号に応じて前記圧力室の容積を変化させて前記溶液に圧力振動を生じさせるとともに、前記ノズルを有するアクチュエータと、溶液を受ける溶液受け口と、前記圧力室内に連通する溶液出口を有し、前記第1の面に配置される溶液保持容器と、を有する液滴噴射ヘッドであって、前記圧力室及び前記ノズルに溶液が充填された状態での前記アクチュエータの1次固有振動周期をλとする時、前記電気信号は、第1電圧と、前記第1電圧より前記圧力室の容積を大きくする第2電圧と、前記第1電圧と前記第2電圧との間、あるいは前記第2電圧に等しい第3電圧を含み、前記第1電圧から前記第2電圧に変化し、λ時間経過後に前記第3電圧から前記第1電圧に変化することで、前記溶液保持容器中の溶液を前記ノズルから吐出することを特徴とした液滴噴射ヘッド。
[2]溶液を吐出するノズルに連通し、内部に溶液が充填される圧力室が形成され、前記圧力室へ溶液を供給する側の第1の面と前記溶液を前記ノズルから吐出する側の第2の面を有する基板と、電気信号に応じて前記圧力室の容積を変化させて前記溶液に圧力振動を生じさせるとともに、前記ノズルを有するアクチュエータと、溶液を受ける溶液受け口と、前記圧力室内に連通する溶液出口を有し、前記第1の面に配置される溶液保持容器と、を有する液滴噴射ヘッドであって、前記圧力室及び前記ノズルに溶液が充填された状態での前記アクチュエータの1次固有振動周期をλとする時、前記電気信号は、第1電圧と、前記第1電圧より前記圧力室の容積を大きくする第2電圧と、前記第1電圧と前記第2電圧との間にある第3電圧を含み、前記第1電圧から前記第2電圧に変化し、λ時間経過後に前記第3電圧から前記第2電圧に変化させることで、前記溶液保持容器中の溶液を前記ノズルから吐出することを連続的に複数回繰り返した後、前記第3電圧から第1電圧に変化することを特徴とした液滴噴射ヘッド。
[3]前記第2電圧をλ/2の時間維持し、前記第2電圧から前記第3電圧に変化させ、前記第3電圧をλ/2の時間維持することを特徴とした請求項1又は2に記載の液滴噴射ヘッド。
[4]前記溶液受け口は前記溶液出口より大きく、前記溶液出口は前記圧力室の開口より大きい請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液滴噴射ヘッド。
[5]請求項1から4のうちの何れか1項に記載の液滴噴射ヘッドと、前記アクチュエータに前記電気信号を供給する駆動回路と、を有することを特徴とした液滴噴射装置。
1…液滴噴射装置、2…液滴噴射ヘッド、3…基台、4…マイクロプレート、4b…ウエル、5…液滴噴射ヘッド装着モジュール、6a…X方向ガイドレール、6b…X方向ガイドレール、7a…固定台、7b…固定台、8…Y方向ガイドレール、9…X方向移動台、10…Y方向移動台、11…駆動回路、12…ワイヤ配線、21…電装基板、21a…第1の面、21c…開口部、22…溶液保持容器、22a…開口部、22b…上面開口部、24…電装基板配線、24a…配線パターン、24b…配線パターン、25…電気信号入力端子、26…電極端子接続部、27…液滴噴射アレイ、100…ノズルプレート、101…アクチュエータ、110…ノズル、120…振動板、130…駆動素子、131…下部電極、131a…電極部、131b…下部電極配線部、131c…下部電極端子部、132…圧電体膜、133…上部電極、133a…電極部、133b…上側電極配線部、133c…上側電極端子部、140…絶縁膜、140a…コンタクト部、150…保護膜、160…撥液膜、200…圧力室構造体、201…シリコンウエハ、210…圧力室、220…反り低減膜。

Claims (5)

  1. 溶液を吐出するノズルに連通し、内部に溶液が充填される圧力室が形成され、前記圧力室へ溶液を供給する側の第1の面と前記溶液を前記ノズルから吐出する側の第2の面を有する基板と、
    電気信号に応じて前記圧力室の容積を変化させて前記溶液に圧力振動を生じさせるとともに、前記ノズルを有するアクチュエータと、
    溶液を受ける溶液受け口と、前記圧力室内に連通する溶液出口を有し、前記第1の面に配置される溶液保持容器と、を有し、
    前記ノズルの液滴噴射方向の長さが前記アクチュエータの厚みと同一となる液滴噴射ヘッドであって、
    前記圧力室及び前記ノズルに溶液が充填された状態での前記アクチュエータの1次固有振動周期をλとする時、
    前記電気信号は、第1電圧と、前記第1電圧より前記圧力室の容積を大きくする第2電圧と、前記第1電圧と前記第2電圧との間の第3電圧を含み、
    前記第1電圧から前記第2電圧に変化し、λ時間経過後に前記第3電圧から前記第1電圧に変化することで、前記溶液保持容器中の溶液を前記ノズルから吐出する液滴噴射ヘッド。
  2. 溶液を吐出するノズルに連通し、内部に溶液が充填される圧力室が形成され、前記圧力室へ溶液を供給する側の第1の面と前記溶液を前記ノズルから吐出する側の第2の面を有する基板と、
    電気信号に応じて前記圧力室の容積を変化させて前記溶液に圧力振動を生じさせるとともに、前記ノズルを有するアクチュエータと、
    溶液を受ける溶液受け口と、前記圧力室内に連通する溶液出口を有し、前記第1の面に配置される溶液保持容器と、を有し、
    前記ノズルの液滴噴射方向の長さが前記アクチュエータの厚みと同一となる液滴噴射ヘッドであって、
    前記圧力室及び前記ノズルに溶液が充填された状態での前記アクチュエータの1次固有振動周期をλとする時、
    前記電気信号は、第1電圧と、前記第1電圧より前記圧力室の容積を大きくする第2電圧と、前記第1電圧と前記第2電圧との間にある第3電圧を含み、
    前記第1電圧から前記第2電圧に変化し、λ時間経過後に前記第3電圧から前記第2電圧に変化させることで、前記溶液保持容器中の溶液を前記ノズルから吐出することを連続的に複数回繰り返した後、前記第3電圧から第1電圧に変化する液滴噴射ヘッド。
  3. 前記第2電圧をλ/2の時間維持し、前記第2電圧から前記第3電圧に変化させ、
    前記第3電圧をλ/2の時間維持する請求項1又は2に記載の液滴噴射ヘッド。
  4. 前記溶液受け口は前記溶液出口より大きく、前記溶液出口は前記圧力室の開口より大きい請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液滴噴射ヘッド。
  5. 請求項1から4のうちの何れか1項に記載の液滴噴射ヘッドと、
    前記アクチュエータに前記電気信号を供給する駆動回路と、
    を有する液滴噴射装置。
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