JP6818711B2 - 二酸化炭素電解装置および二酸化炭素電解方法 - Google Patents

二酸化炭素電解装置および二酸化炭素電解方法 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、二酸化炭素電解装置および二酸化炭素電解方法に関する。
近年、石油や石炭といった化石燃料の枯渇が懸念され、持続的に利用できる再生可能エネルギーへの期待が高まっている。再生可能エネルギーとしては、太陽電池や風力発電等が挙げられる。これらは発電量が天候や自然状況に依存するため、電力の安定供給が難しいという課題を有している。そのため、再生可能エネルギーで発生させた電力を蓄電池に貯蔵し、電力を安定化させることが試みられている。しかし、電力を貯蔵する場合、蓄電池にコストを要したり、また蓄電時にロスが発生するといった問題がある。
このような点に対して、再生可能エネルギーで発生させた電力を用いて水電解を行い、水から水素(H)を製造したり、あるいは二酸化炭素(CO)を電気化学的に還元し、一酸化炭素(CO)、ギ酸(HCOOH)、メタノール(CHOH)、メタン(CH)、酢酸(CHCOOH)、エタノール(COH)、エタン(C)、エチレン(C)等の炭素化合物のような化学物質(化学エネルギー)に変換する技術が注目されている。これらの化学物質をボンベやタンクに貯蔵する場合、電力(電気エネルギー)を蓄電池に貯蔵する場合に比べて、エネルギーの貯蔵コストを低減することができ、また貯蔵ロスも少ないという利点がある。
二酸化炭素の電解装置としては、例えばカソードにAgナノ粒子触媒を用い、カソードにカソード溶液とCOガスを接触させると共に、アノードにアノード溶液を接触させる構造が検討されている。電解装置の具体的な構成としては、例えばカソードの一方の面に沿って配置されたカソード溶液流路と、カソードの他方の面に沿って配置されたCOガス流路と、アノードの一方の面に沿って配置されたアノード溶液流路と、カソード溶液流路とアノード溶液流路との間に配置されたセパレータとを備える構成が挙げられる。このような構成を有する電解装置を用いて、例えばカソードとアノードに定電流を流して、COから例えばCOを生成する反応を長時間実施した場合、COの生成量が低下したり、セル電圧が増加したりする等といった経時的なセル性能の劣化が生じるという課題がある。このため、経時的なセル性能の劣化を抑制することを可能にした二酸化炭素の電解装置が求められている。
Zengcal Liu et al., Journal of CO2 Utilization, 15, p.50−56(2015) Sinchao Ma et al., Journal of The Electrochemical Society, 161(10), F1124−F1131(2014)
本発明が解決しようとする課題は、長時間にわたってセル性能を維持することを可能にした二酸化炭素電解装置およびその駆動方法を提供することにある。
実施形態の二酸化炭素電解装置は、二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成するための第1の触媒を含む第1の電極と、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成するための第2の触媒を含む第2の電極と、第1の電極に面する第1の電極流路と、第2の電極に面する第2の電極流路と、第1の電極と第2の電極とを分離するセパレータと、を備える電解セルと、第1の電極と第2の電極との間に電圧を印加する電源制御部と、二酸化炭素が流れる第1の流路と、炭素化合物が流れる第2の流路と、水を含む電解溶液が流れる第3の流路と、酸素が流れる第4の流路と、第1の電極流路と第1の流路とを接続するための第1のバルブと、第1の電極流路と第2の流路とを接続するための第2のバルブと、第1の電極流路に接続され、第2のバルブにより第2の流路との接続が制御される、リンス液を収容するためのタンクと、電解セルの性能の要求基準に基づいて第1のバルブおよび第2のバルブの開閉を制御する制御部と、を具備する。
第1の実施形態の二酸化炭素電解装置を示す図である。 図1に示す二酸化炭素電解装置の電解セルを示す断面図である。 図2に示す電解セルにおけるアノード溶液流路の一例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるカソード溶液流路の一例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるカソード溶液流路の他の例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるCOガス流路の一例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるカソードの一例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるカソードの他の例を示す図である。 図2に示す電解セルにおけるカソードでの反応を模式的に示す図である。 第1の実施形態の二酸化炭素電解装置の運転工程を示す図である。 第1の実施形態の二酸化炭素電解装置のリフレッシュ工程を示す図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 第1の実施形態の二酸化炭素電解装置のリフレッシュ工程の他の例を示す図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 第1の実施形態の二酸化炭素電解装置のリフレッシュ工程の他の例を示す図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 電解セルの状態を説明するための模式図である。 第2の実施形態の二酸化炭素電解装置を示す図である。 図23に示す二酸化炭素電解装置の電解セルを示す断面図である。 第3の実施形態の二酸化炭素電解装置を示す図である。 図25に示す二酸化炭素電解装置の電解セルを示す断面図である。
以下、実施形態の二酸化炭素電解装置について、図面を参照して説明する。以下に示す各実施形態において、実質的に同一の構成部位には同一の符号を付し、その説明を一部省略する場合がある。図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各部の厚さの比率等は現実のものとは異なる場合がある。
(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態による二酸化炭素の電解装置の構成を示す図であり、図2は図1に示す電解装置における電解セルの構成を示す断面図である。図1に示す二酸化炭素の電解装置1は、電解セル2と、電解セル2にアノード溶液を供給するアノード溶液供給系統100と、電解セル2にカソード溶液を供給するカソード溶液供給系統200と、電解セル2に二酸化炭素(CO)ガスを供給するガス供給系統300と、電解セル2における還元反応により生成した生成物を収集する生成物収集系統400と、収集した生成物の種類や生成量を検出すると共に、生成物の制御やリフレッシュ動作の制御を行う制御系500と、カソード溶液やアノード溶液の廃液を収集する廃液収集系統600と、電解セル2のアノードやカソード等を回復させるリフレッシュ材供給部700とを具備している。
電解セル2は、図2に示すように、アノード部10とカソード部20とセパレータ30とを具備している。アノード部10は、アノード11、アノード流路12、およびアノード集電板13を備えている。カソード部20は、カソード溶液流路21、カソード22、カソード流路23、およびカソード集電板24を備えている。セパレータ30は、アノード部10とカソード部20とを分離するように配置されている。電解セル2は、図示しない一対の支持板で挟み込まれ、さらにボルト等で締め付けられている。図1および図2において、アノード11およびカソード22に電流を流す電源制御部40が設けられている。電源制御部40は電流導入部材を介してアノード11およびカソード22と接続されている。電源制御部40は、通常の系統電源や電池等に限られるものではなく、太陽電池や風力発電等の再生可能エネルギーで発生させた電力を供給する電力源を有していてもよい。なお、電源制御部40は、上記電力源と、上記電力源の出力を調整してアノード11とカソード22との間の電圧を制御するパワーコントローラ等を有していてもよい。
なお、本明細書において、二酸化炭素の電解時における高電位側の電極をアノードと定義し、低電位側の電極をカソードと定義する。アノードおよびカソードは、例えばリフレッシュ動作時に入れ替わる場合がある。
アノード11は、電解溶液としてのアノード溶液中の水(HO)の酸化反応を生起し、酸素(O)や水素イオン(H)を生成する、もしくはカソード部20で生じた水酸化物イオン(OH)の酸化反応を生起し、酸素(O)や水(HO)を生成する電極(酸化電極)である。アノード11は、セパレータ30と接する第1の面11aと、アノード流路12に面する第2の面11bとを有することが好ましい。アノード11の第1の面11aは、セパレータ30と密着している。アノード流路12は、アノード11にアノード溶液を供給するものであり、第1の流路板14に設けられたピット(溝部/凹部)により構成されている。アノード溶液は、アノード11と接するようにアノード流路12内を流通する。アノード集電板13は、アノード流路12を構成する第1の流路板14のアノード11とは反対側の面と電気的に接している。
上述したように、実施形態の電解セル2においては、アノード11とセパレータ30とを密着させている。アノード11では酸素(O)が生成されるが、この際にセパレータをカソード溶液流路とアノード溶液流路とで挟み込んだセル構造では、アノード11で発生した酸素(O)ガスの気泡がアノード溶液流路に滞留し、アノードとセパレータ(イオン交換膜等)との間のセル抵抗が増加し、これによりアノードの電圧変動が大きくなることがある。このような点に対して、アノード11とセパレータ30との間にアノード流路12を配置せず、アノード11とセパレータ30とを密着させることで、アノード11で発生した酸素ガスはアノード溶液と共にアノード流路12に排出される。これによって、アノード11とセパレータ30との間における酸素ガスの滞留が防止され、アノードの電圧変動によるセル電圧の変動を抑制することが可能になる。
第1の流路板14には、図示を省略した溶液導入口と溶液導出口とが設けられており、これら溶液導入口および溶液導出口を介して、アノード溶液供給系統100によりアノード溶液が導入および排出される。第1の流路板14には、化学反応性が低く、かつ導電性が高い材料を用いることが好ましい。そのような材料としては、TiやSUS等の金属材料、カーボン等が挙げられる。アノード流路12には、図3に示すように、複数のランド(凸部)15が設けられていることが好ましい。ランド15は、機械的な保持と電気的な導通のために設けられている。ランド15は、アノード溶液の流れを均一化させるために、互い違いに設けることが好ましい。このようなランド15によって、アノード流路12は蛇行している。さらに、酸素(O)ガスが混在するアノード溶液を良好に排出するためにも、アノード流路12にランド15を互い違いに設け、アノード流路12を蛇行させることが好ましい。
アノード11は、水(HO)を酸化して酸素や水素イオンを生成する、もしくは水酸化物イオン(OH)を酸化して水や酸素を生成することが可能で、そのような反応の過電圧を減少させることが可能な触媒材料(アノード触媒材料)で主として構成されることが好ましい。そのような触媒材料としては、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)等の金属、それらの金属を含む合金や金属間化合物、酸化マンガン(Mn−O)、酸化イリジウム(Ir−O)、酸化ニッケル(Ni−O)、酸化コバルト(Co−O)、酸化鉄(Fe−O)、酸化スズ(Sn−O)、酸化インジウム(In−O)、酸化ルテニウム(Ru−O)、酸化リチウム(Li−O)、酸化ランタン(La−O)等の二元系金属酸化物、Ni−Co−O、Ni−Fe−O、La−Co−O、Ni−La−O、Sr−Fe−O等の三元系金属酸化物、Pb−Ru−Ir−O、La−Sr−Co−O等の四元系金属酸化物、Ru錯体やFe錯体等の金属錯体が挙げられる。なお、カソード22が上記触媒材料を含んでいてもよい。また、白金やニッケル、鉄などを用いる場合、水を酸化するとともに酸素を還元して水を生成することもできる。このため、これら複数の合金や混合物を用いることにより効率よく水の酸化と還元を行うことができる。
アノード11は、セパレータ30とアノード流路12との間でアノード溶液やイオンを移動させることが可能な構造、例えばメッシュ材、パンチング材、多孔体、金属繊維焼結体等の多孔構造を有する基材を備えている。基材は、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)等の金属やこれら金属を少なくとも1つ含む合金(例えばSUS)等の金属材料で構成してもよいし、上述したアノード触媒材料で構成してもよい。アノード触媒材料として酸化物を用いる場合には、上記した金属材料からなる基材の表面にアノード触媒材料を付着もしくは積層して触媒層を形成することが好ましい。アノード触媒材料は、酸化反応を高める上でナノ粒子、ナノ構造体、ナノワイヤ等を有することが好ましい。ナノ構造体とは、触媒材料の表面にナノスケールの凹凸を形成した構造体である。
カソード22は、二酸化炭素(CO)の還元反応やそれにより生成される炭素化合物の還元反応を生起し、一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、エタン(C)、エチレン(C)、メタノール(CHOH)、エタノール(COH)、エチレングリコール(C)等の炭素化合物を生成する電極(還元電極)である。カソード22においては、二酸化炭素(CO)の還元反応と同時に、水(HO)の還元反応により水素(H)を発生する副反応が生起される場合がある。カソード22は、カソード溶液流路21に面する第1の面22aと、カソード流路23に面する第2の面22bとを有する。カソード溶液流路21は、電解溶液としてのカソード溶液がカソード22およびセパレータ30と接するように、カソード22とセパレータ30との間に配置されている。
カソード溶液流路21は、第2の流路板25に設けられた開口部により構成されている。第2の流路板25には、図示を省略した溶液導入口と溶液導出口とが設けられており、これら溶液導入口および溶液導出口を介して、カソード溶液供給系統200によりカソード溶液が導入および排出される。カソード溶液は、カソード22およびセパレータ30と接するようにカソード溶液流路21内を流通する。カソード溶液流路21を構成する第2の流路板25には、化学反応性が低く、かつ導電性を有しない材料を用いることが好ましい。そのような材料としては、アクリル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂等の絶縁樹脂材料が挙げられる。
カソード22においては、主としてカソード溶液に接している部分でCOの還元反応が生じる。このため、カソード溶液流路21には、図4に示すように、開口面積が広い開口部を適用することが好ましい。ただし、機械的な保持や電気的な接続性を高めるために、図5に示すように、カソード溶液流路21にランド(凸部)26を設けてもよい。カソード溶液流路21のランド26は、カソード溶液流路21の中央部に設けられており、カソード溶液流路21内のカソード溶液の流通を妨げないように、ランド26より薄いブリッジ部27で第2の流路板25に保持されている。カソード溶液流路21にランド26を設ける場合、セル抵抗を低減するために、ランド26の数は少ない方が好ましい。
カソード流路23は、第3の流路板28に設けられたピット(溝部/凹部)により構成されている。カソード流路23を構成する第3の流路板28には、化学反応性が低く、かつ導電性が高い材料を用いることが好ましい。そのような材料としては、TiやSUS等の金属材料、カーボン等が挙げられる。なお、第1の流路板14、第2の流路板25、および第2の流路板28には、図示を省略した溶液やガスの導入口および導出口、また締め付けのためのネジ穴等が設けられている。また、各流路板14、25、28の前後には、図示を省略したパッキンが必要に応じて挟み込まれる。
第3の流路板28には、図示を省略したガス導入口とガス導出口とが設けられており、これらガス導入口およびガス導出口を介して、ガス供給系統300によりCOガスもしくはCOを含むガス(総称して、単にCOガスと呼称する場合もある。)が導入および排出される。COガスは、カソード22と接するようにカソード流路23内を流通する。カソード流路23には、図6に示すように、複数のランド(凸部)29が設けられていることが好ましい。ランド29は、機械的な保持と電気的な導通のために設けられている。ランド29は互い違いに設けることが好ましく、これによりカソード流路23はアノード流路12と同様に蛇行している。カソード集電板24は、第3の流路板28のカソード22とは反対側の面と電気的に接している。
実施形態の電解セル2においては、アノード流路12およびカソード流路23にランド15、29を設けることで、アノード11とアノード流路12を構成する第1の流路板14との接触面積、およびカソード22とカソード流路23を構成する第3の流路板28との接触面積を増やすことができる。また、カソード溶液流路21にランド26を設けることで、カソード22とカソード溶液流路21を構成する第2の流路板25との接触面積を増やすことができる。これらによって、電解セル2の機械的な保持性を高めつつ、アノード集電板13とカソード集電板24との間の電気的な導通が良好になり、COの還元反応効率等を向上させることが可能になる。
カソード22は、図7に示すように、ガス拡散層22Aとその上に設けられたカソード触媒層22Bとを有している。ガス拡散層22Aとカソード触媒層22Bとの間には、図8に示すように、ガス拡散層22Aより緻密な多孔質層22Cを配置してもよい。図9に示すように、ガス拡散層22Aはカソード流路23側に配置され、カソード触媒層22Bはカソード溶液流路21側に配置される。カソード触媒層22Bは、ガス拡散層22A中に入り込んでいてもよい。カソード触媒層22Bは、触媒ナノ粒子や触媒ナノ構造体等を有することが好ましい。ガス拡散層22Aは、例えばカーボンペーパやカーボンクロス等により構成され、撥水処理が施されている。多孔質層22Cは、カーボンペーパやカーボンクロスより孔径が小さい多孔質体により構成される。
図9の模式図に示すように、カソード触媒層22Bにおいてはカソード溶液流路21からカソード溶液やイオンが供給および排出される。ガス拡散層22Aにおいては、カソード流路23からCOガスが供給され、またCOガスの還元反応の生成物が排出される。ガス拡散層22Aに適度な撥水処理を施しておくことによって、カソード触媒層22Bには主としてガス拡散によりCOガスが到達する。COの還元反応やそれにより生成される炭素化合物の還元反応は、ガス拡散層22Aとカソード触媒層22Bとの境界近傍、もしくはガス拡散層22A中に入り込んだカソード触媒層22B近傍で生起し、ガス状の生成物はカソード流路23から主として排出され、液状の生成物はカソード溶液流路21から主として排出される。
カソード触媒層22Bは、二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成する、また必要に応じてそれにより生成した炭素化合物を還元して炭素化合物を生成することが可能で、そのような反応の過電圧を減少させることが可能な触媒材料(カソード触媒材料)で構成することが好ましい。そのような材料としては、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、チタン(Ti)、カドミウム(Cd)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、鉛(Pb)、錫(Sn)等の金属、それらの金属を少なくとも1つ含む合金や金属間化合物等の金属材料、炭素(C)、グラフェン、CNT(カーボンナノチューブ)、フラーレン、ケッチェンブラック等の炭素材料、Ru錯体やRe錯体等の金属錯体が挙げられる。なお、アノード11が上記触媒材料を含んでいてもよい。カソード触媒層22Bには、板状、メッシュ状、ワイヤ状、粒子状、多孔質状、薄膜状、島状等の各種形状を適用することができる。
カソード触媒層22Bを構成するカソード触媒材料は、上記した金属材料のナノ粒子、金属材料のナノ構造体、金属材料のナノワイヤ、もしくは上記した金属材料のナノ粒子がカーボン粒子、カーボンナノチューブ、グラフェン等の炭素材料に担持された複合体を有することが好ましい。カソード触媒材料として触媒ナノ粒子、触媒ナノ構造体、触媒ナノワイヤ、触媒ナノ担持構造体等を適用することによって、カソード22における二酸化炭素の還元反応の反応効率を高めることができる。
セパレータ30は、アノード11とカソード22との間でイオンを移動させることができ、かつアノード部10とカソード部20とを分離することが可能なイオン交換膜等で構成される。イオン交換膜としては、例えばナフィオンやフレミオンのようなカチオン交換膜、ネオセプタやセレミオンのようなアニオン交換膜を使用することができる。後述するように、アノード溶液やカソード溶液としてアルカリ溶液を使用し、主として水酸化物イオン(OH)の移動を想定した場合、セパレータ30はアニオン交換膜で構成することが好ましい。ただし、イオン交換膜以外にもアノード11とカソード22との間でイオンを移動させることが可能な材料であれば、ガラスフィルタ、多孔質高分子膜、多孔質絶縁材料等をセパレータ30に適用してもよい。
電解溶液としてのアノード溶液およびカソード溶液は、少なくとも水(HO)を含む溶液であることが好ましい。二酸化炭素(CO)は、カソード流路23から供給されるため、カソード溶液は二酸化炭素(CO)を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。アノード溶液とカソード溶液には、同一の溶液を適用してもよいし、異なる溶液を適用してもよい。アノード溶液およびカソード溶液として用いるHOを含む溶液としては、任意の電解質を含む水溶液が挙げられる。電解質を含む水溶液としては、例えば水酸化物イオン(OH)、水素イオン(H)、カリウムイオン(K)、ナトリウムイオン(Na)、リチウムイオン(Li)、塩化物イオン(Cl)、臭化物イオン(Br)、ヨウ化物イオン(I)、硝酸イオン(NO )、硫酸イオン(SO 2−)、リン酸イオン(PO 2−)、ホウ酸イオン(BO 3−)、および炭酸水素イオン(HCO )から選ばれる少なくとも1つを含む水溶液が挙げられる。電解溶液の電気的な抵抗を低減するためには、アノード溶液およびカソード溶液として、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム等の電解質を高濃度に溶解させたアルカリ溶液を用いることが好ましい。
カソード溶液には、イミダゾリウムイオンやピリジニウムイオン等の陽イオンと、BF やPF 等の陰イオンとの塩からなり、幅広い温度範囲で液体状態であるイオン液体もしくはその水溶液を用いてもよい。その他のカソード溶液としては、エタノールアミン、イミダゾール、ピリジン等のアミン溶液もしくはその水溶液が挙げられる。アミンは、一級アミン、二級アミン、三級アミンのいずれでもかまわない。
アノード部10のアノード流路12には、アノード溶液供給系統100からアノード溶液が供給される。アノード溶液供給系統100は、アノード溶液がアノード流路12内を流通するように、アノード溶液を循環させる。アノード溶液供給系統100は、圧力制御部101、アノード溶液タンク102、流量制御部(ポンプ)103、基準電極104、および圧力計105を有しており、アノード溶液がアノード流路12を循環するように構成されている。アノード溶液タンク102は、循環するアノード溶液中に含まれる酸素(O)等のガス成分を収集する、図示しないガス成分収集部に接続されている。アノード溶液は、圧力制御部101および流量制御部103において、流量や圧力が制御されてアノード流路12に導入される。
カソード部20のカソード溶液流路21には、カソード溶液供給系統200からカソード溶液が供給される。カソード溶液供給系統200は、カソード溶液がカソード溶液流路21内を流通するように、カソード溶液を循環させる。カソード溶液供給系統200は、圧力制御部201、カソード溶液タンク202、流量制御部(ポンプ)203、基準電極204、および圧力計205を有しており、カソード溶液がカソード溶液流路21を循環するように構成されている。カソード溶液タンク202は、循環するカソード溶液中に含まれる一酸化炭素(CO)等のガス成分を収集するガス成分収集部206に接続されている。カソード溶液は、圧力制御部201および流量制御部203において、流量や圧力が制御されてカソード溶液流路21に導入される。
カソード流路23には、ガス供給系統300からCOガスが供給される。ガス供給系統300は、COガスボンベ301、流量制御部302、圧力計303、および圧力制御部304を有している。COガスは、流量制御部302および圧力制御部304において、流量や圧力が制御されてカソード流路23に導入される。ガス供給系統300は、カソード流路23を流通したガス中の生成物を収集する生成物収集系統400と接続されている。生成物収集系統400は、気液分離部401と生成物収集部402とを有している。カソード流路23を流通したガス中に含まれるCOやH等の還元生成物は、気液分離部401を介して生成物収集部402に蓄積される。
アノード溶液やカソード溶液は、上述したように電解反応動作時においてはアノード流路12やカソード溶液流路21を循環する。後述する電解セル2のリフレッシュ動作時には、アノード11、アノード流路12、カソード22、カソード溶液流路21等がアノード溶液やカソード溶液から露出するように、アノード溶液やカソード溶液は廃液収集系統600に排出される。廃液収集系統600は、アノード流路12およびカソード溶液流路21に接続された廃液収集タンク601を有する。アノード溶液やカソード溶液の廃液は、図示しないバルブを開閉することによって、廃液収集タンク601に収集される。バルブの開閉等は制御系500により一括して制御される。廃液収集タンク601は、リフレッシュ材供給部700から供給されるリンス液の収集部としても機能する。さらに、リフレッシュ材供給部700から供給され、液状物質を一部含むガス状物質も、必要に応じて廃液収集タンク601で収集される。
リフレッシュ材供給部700は、ガス状物質供給系とリンス液供給系とを備えている。ガス状物質供給系は、空気、二酸化炭素、酸素、窒素、アルゴン等のガス状物質の供給源となるガスタンク711と、ガス状物質の供給圧力および流量を制御する制御部712とを有している。リンス液供給系は、水等のリンス液の供給源となるタンク70を有している。ガス状物質供給系およびリンス液供給系は、配管を介してアノード流路12、カソード溶液流路21、およびカソード流路23に接続されている。
タンク70は、例えばカソード流路23に接続される。タンク70は、リンス液を収容する。なお、タンク70は、リンス液と共に水等の酸化生成物を含んでいてもよい。
さらに、二酸化炭素電解装置1は、バルブ71ないしバルブ74とを有している。バルブ71は、開閉動作により、ガス供給系統300から供給される二酸化炭素が流れる流路とカソード流路23との接続を制御する。バルブ72は、開閉動作により、カソード流路23から生成物収集系統400に還元生成物が流れる流路とカソード流路23との接続を制御する。バルブ73は、開閉動作により、例えばアノード溶液が流れる流路とアノード流路12との接続を制御する。バルブ74は、開閉動作により、例えばアノード流路12から生成物収集系統400に酸化生成物が流れる流路とアノード流路12との接続を制御する。バルブ71ないし74を含む各バルブの開閉等は制御系500により一括して制御される。これに加え、カソード溶液をカソード溶液流路21に流入または排出するための流路とカソード溶液流路21とを接続するためのバルブを制御系500により制御してもよい。
生成物収集部402に蓄積された還元生成物の一部は、制御系500の還元性能検出部501に送られる。還元性能検出部501においては、還元生成物中のCOやH等の各生成物の生成量や比率が検出される。検出された各生成物の生成量や比率は、制御系500のデータ収集・制御部502に入力される。さらに、データ収集・制御部502は電解セル2のセル性能の一部として、セル電圧、セル電流、カソード電位、アノード電位等の電気的なデータやアノード溶液流路およびカソード溶液流路の内部の圧力および圧力損失等のデータを収集してリフレッシュ制御部503に送る。
データ収集・制御部502は、還元性能検出部501に加えて、電源制御部40、アノード溶液供給系統100の圧力制御部101や流量制御部103、カソード溶液供給系統200の圧力制御部201や流量制御部203、ガス供給系統300の流量制御部302や圧力制御部304、およびリフレッシュ材供給部700の制御部712と、一部図示を省略した双方向の信号線を介して電気的に接続されており、これらは一括して制御される。なお、各配管には図示しないバルブが設けられており、バルブの開閉動作はデータ収集・制御部502からの信号により制御される。データ収集・制御部502は、例えば電解動作時に上記構成要素の動作を制御してもよい。
リフレッシュ制御部503は、電源制御部40、アノード溶液供給系統100の流量制御部103、カソード溶液供給系統200の流量制御部203、ガス供給系統300の流量制御部302、およびリフレッシュ材供給部700の制御部712、流量制御部722と、一部図示を省略した双方向の信号線を介して電気的に接続されており、これらは一括して制御される。なお、各配管には図示しないバルブが設けられており、バルブの開閉動作はリフレッシュ制御部503からの信号により制御される。リフレッシュ制御部503は、例えば電解動作時に上記構成要素の動作を制御してもよい。また、リフレッシュ制御部503およびデータ収集・制御部502を一つの制御部により構成してもよい。
実施形態の二酸化炭素の電解装置1の運転動作について説明する。まず、図10に示すように、電解装置1の立上げ工程S101が実施される。電解装置1の立上げ工程S101においては、以下の動作が実施される。アノード溶液供給系統100においては、圧力制御部101や流量制御部103で流量や圧力を制御して、アノード溶液をアノード流路12に導入する。カソード溶液供給系統200においては、圧力制御部201や流量制御部203で流量や圧力を制御して、カソード溶液をカソード溶液流路21に導入する。ガス供給系統300においては、流量制御部302や圧力制御部304で流量や圧力を制御して、COガスをカソード流路23に導入する。
次に、COの電解動作工程S102が実施される。COの電解動作工程S102においては、立上げ工程S101が実施された電解装置1の電源制御部40による電解電圧の印加を開始し、アノード11とカソード22との間に電圧を印加して電流が供給される。アノード11とカソード22との間に電流を流すと、以下に示すアノード11付近での酸化反応およびカソード22付近での還元反応が生じる。ここでは、炭素化合物として一酸化炭素(CO)を生成する場合について、主として説明するが、二酸化炭素の還元生成物としての炭素化合物は一酸化炭素に限られるものではなく、前述した有機化合物等の他の炭素化合物であってもよい。また、電解セル2による反応過程としては、主に水素イオン(H)を生成する場合と、主に水酸化物イオン(OH)を生成する場合とが考えられるが、これら反応過程のいずれかに限定されるものではない。
まず、主に水(HO)を酸化して水素イオン(H)を生成する場合の反応過程について述べる。アノード11とカソード22との間に電源制御部40から電流を供給すると、アノード溶液と接するアノード11で水(HO)の酸化反応が生じる。具体的には、下記の(1)式に示すように、アノード溶液中に含まれるHOが酸化されて、酸素(O)と水素イオン(H)とが生成される。
2HO → 4H+O+4e …(1)
アノード11で生成されたHは、アノード11内に存在するアノード溶液、セパレータ30、およびカソード溶液流路21内のカソード溶液中を移動し、カソード22付近に到達する。電源制御部40からカソード22に供給される電流に基づく電子(e)とカソード22付近に移動したHとによって、二酸化炭素(CO)の還元反応が生じる。具体的には、下記の(2)式に示すように、カソード流路23からカソード22に供給されたCOが還元されてCOが生成される。
2CO+4H+4e → 2CO+2HO …(2)
次に、主に二酸化炭素(CO)を還元して水酸化物イオン(OH)を生成する場合の反応過程について述べる。アノード11とカソード22との間に電源制御部40から電流を供給すると、カソード22付近において、下記の(3)式に示すように、水(HO)と二酸化炭素(CO)が還元されて、一酸化炭素(CO)と水酸化物イオン(OH)とが生成される。水酸化物イオン(OH)はアノード11付近に拡散し、下記の(4)式に示すように、水酸化物イオン(OH)が酸化されて酸素(O)が生成される。
2CO+2HO+4e → 2CO+4OH …(3)
4OH → 2HO+O+4e …(4)
上述したカソード22における反応過程において、COの還元反応は前述したように、ガス拡散層22Aとカソード触媒層22Bとの境界近傍で生起すると考えられる。この際、カソード溶液流路21を流れるカソード溶液がガス拡散層22Aまで侵入したり、カソード触媒層22Bが水分過剰になったりすることによって、COの還元反応によるCOの生成量が低下したり、セル電圧が増加する等といった不都合が生じる。このような電解セル2のセル性能の低下は、アノード11およびカソード22付近におけるイオンや残存ガスの分布の偏り、カソード触媒層22Bの水分過剰、カソード22やアノード11における電解質の析出、さらにアノード流路12やカソード溶液流路21における電解質の析出等によっても引き起こされる。
また、電解動作によってカソード溶液流路21やガス拡散層22Aに塩が析出し、流路の閉塞やガス拡散性の低下によりセル性能が低下する場合がある。これはイオンがセパレータ30やイオン交換膜を介してアノード11とカソード22との間で移動し、当該イオンがガス成分と反応するためである。例えば、アノード溶液に水酸化カリウム溶液を用い、カソードガスに二酸化炭素ガスを用いる場合、アノード11からカソード22にカリウムイオンが移動し、当該イオンが二酸化炭素と反応して炭酸水素カリウムや炭酸カリウム等の塩が生じる。カソード溶液流路21やガス拡散層22A内において、上記塩が溶解度以下である場合にカソード溶液流路21やガス拡散層22Aに上記塩が析出する。流路の閉塞により、セル全体の均一なガスの流れが妨げられてセル性能が低下する。特に複数のカソード溶液流路21を設ける場合、セル性能の低下が顕著である。なお、ガス流速が部分的に速くなることなどで、セル自体の性能が向上する場合もある。これはガスの圧力が増加することによって、触媒への供給されるガス成分等が増加するまたはガス拡散性が増加することによりセル性能が向上させるためである。このようなセル性能の低下を検知するために、セル性能が要求基準を満たしているかどうかを判定する工程S103を実施する。
データ収集・制御部502は前述したように、例えば定期的にまたは連続的に各生成物の生成量や比率、電解セル2のセル電圧、セル電流、カソード電位、アノード電位、アノード流路12の内部の圧力、カソード溶液流路21の内部の圧力等のセル性能を収集する。さらに、データ収集・制御部502には、セル性能の要求基準が予め設定されており、収集したデータが設定された要求基準を満たしているかどうかが判定される。収集データが設定された要求基準を満たしている場合には、COの電解停止(S104)を行うことなく、COの電解動作S102が継続される。収集データが設定された要求基準を満たしていない場合には、リフレッシュ動作工程S105が実施される。
データ収集・制御部502で収集するセル性能は、例えば電解セル2に定電流を流した際のセル電圧の上限値、電解セル2に定電圧を印加した際のセル電流の下限値、COの還元反応により生成した炭素化合物のファラデー効率等のパラメータにより定義される。ここで、ファラデー効率は電解セル2に流れた全電流に対し、目的とする炭素化合物の生成に寄与した電流の比率と定義する。電解効率を維持するためには、定電流を流した際のセル電圧の上限値は設定値の150%以上、好ましくは120%以上に達した際にリフレッシュ動作工程S105を実施するとよい。また、定電圧を印加した際のセル電流の下限値は設定値の50%以下、好ましくは80%以下に達した際にリフレッシュ動作工程S105を実施するとよい。炭素化合物等の還元生成物の生産量を維持するためには、炭素化合物のファラデー効率が設定値より50%以下、好ましくは80%以下になった場合にリフレッシュ動作工程S105を実施するとよい。
セル性能の判定は、例えばセル電圧、セル電流、炭素化合物のファラデー効率、アノード流路12の内部の圧力、およびカソード溶液流路21の内部の圧力の少なくとも1つのパラメータが要求基準を満たしていない場合に、セル性能が要求基準を満たしていないと判定し、リフレッシュ動作工程S105を実施する。また、上記パラメータの2つ以上を組み合わせて、セル性能の要求基準を設定してもよい。例えば、セル電圧および炭素化合物のファラデー効率が共に要求基準を満たしていない場合に、リフレッシュ動作工程S105を実施するようにしてもよい。リフレッシュ動作工程S105は、セル性能の少なくとも1つが要求基準を満たしていない場合に実施する。CO電解動作工程S102を安定して実施するために、リフレッシュ動作工程S105は例えば1時間以上間隔を開けて実施することが好ましい。
セル性能の要求基準をセル電圧、セル電流、炭素化合物のファラデー効率のいずれかだけで判断すると、セル性能が向上もしくは変化がない場合でも、流路やガス拡散層に塩が析出して出力が低下する場合にはリフレッシュが必要と判断される場合がある。電解装置では、セル性能の低下を事前に察知し、最適なタイミングでリフレッシュ動作を行うことが重要である。そこで、実施形態の電解装置では、セルの圧力(アノード流路12の内部の圧力、カソード溶液流路21の内部の圧力等)を要求基準を定義するためのパラメータの一つとすることにより塩の析出を感知し、リフレッシュ動作を行うことが好ましい。
リフレッシュ動作の必要性の判断は、セル電圧や電流値、セルの圧力変化による塩の感知のみでなく、セパレータ30によりアノード11とカソード22との間を隔てている場合、アノード11とカソード22との間での気液分離の性能、つまり、アノード11とカソード22との間の液体、ガスの移動量や、生成物の量、基準電極との電圧差、これらパラメータからのファラデー効率の推測値等により判断する。各パラメータ値からのファラデー効率やリフレッシュ動作の必要性は、後述するパラメータからもリフレッシュ動作の必要性の判断として総合的に判定することができ、各値の組み合わせや計算手法は任意である。
フラッディング性能を検出するための運転方法による各セルデータや圧力変化などから見積もられたフラッディング度によりリフレッシュ動作の必要性を判断してもよい。また、電解セル2の運転時間を考慮してもよい。運転時間は、運転開始後の運転時間のみでなく、これまでの運転時間の積算値でもよく、継続時間でもよく、リフレッシュ動作後の運転時間でもよく、さらには積算した電圧値と時間、電流値と時間の掛け算等の計算値でもよく、その組み合わせや計算方法は任意である。また、これら組み合わせの計算値は、単に継続時間等による判断よりも電解セル2の運転方法による違いが加味されるため、好ましい。さらには電流や電圧の変動値や電解液のpH値、変化値、酸素発生量、変動量を用いてもよい。
リフレッシュ動作の必要性を判断する動作を行い、その運転時のセル電圧等のパラメータで判断すると、運転動作時間が減少してしまうが、リフレッシュ動作の必要性が的確に判断できるため、好ましい。なお、この際のリフレッシュ動作の必要性の判断時間は、リフレッシュ動作時間の少なくとも半分以下、好ましくは1/4以下、理想的には1/10以下であることが好ましい。また、リフレッシュ動作の必要性を判断するための各パラメータは、電解セル2の各データを電子的ネットワークを介して収集し、複数のセルのデータ収集・制御部502と解析部504により、ビックデーター解析や、機械学習などの解析により必要なパラメータを導き出し、リフレッシュ制御部503にリフレッシュの必要性を判断するための各パラメータにより定義されるセル性能の要求基準を更新させ、常に最良のリフレッシュ動作を行うことができる。
リフレッシュ動作工程S105は、例えば図11に示すフロー図にしたがって実施される。まず、電源制御部40による電解電圧の印加を停止し、COの還元反応を停止させる(S201)。このとき、必ずしも電解電圧の印加を停止しなくてもよい。次に、カソード溶液流路21およびアノード流路12からカソード溶液およびアノード溶液を排出(S202)させる。このとき、必ずしもカソード溶液およびアノード溶液の少なくとも一つを排出しなくてもよい。
次に、バルブ71およびバルブ72を閉じる(S203)。なお、バルブ73およびバルブ74を開けるまたは閉じてもよい。このときの電解セル2の状態を図12に示す。図12は、電解セル2と、タンク70と、流路701ないし流路704と、バルブ71ないしバルブ74と、を示す。なお、図12においてアノード流路12およびカソード流路23のそれぞれが複数に分割されているように図示されているが、それぞれ連続しているものとする。また、ステップS203においてカソード溶液流路21に接続されたバルブを閉じてもよい。
流路701は、ガス供給系統300から供給される二酸化炭素が流れる流路である。流路702は、生成物収集系統400に還元生成物が流れる流路である。流路703は、アノード溶液が流れる流路である。流路704は、生成物収集系統400に酸化生成物が流れる流路である。
バルブ71は、カソード流路23と流路701とを接続することができる。バルブ72は、カソード流路23と流路702とを接続することができる。バルブ73は、アノード流路12と流路703とを接続することができる。バルブ74は、アノード流路12と流路704とを接続することができる。
バルブ71およびバルブ72を閉じると、カソード流路23が流路701および流路702のそれぞれと非接続になる。このとき、カソード流路23の内部に残存する二酸化炭素はタンク70に収容されるリンス液70aに吸収され、カソード流路23の内部は減圧される。これにより、減圧されたカソード流路23の内部にリンス液70aの少なくとも一部が供給され、例えばカソード流路23の内部やカソード触媒層22Bに付着したイオンや不純物を除去することができる。なお、カソード流路23を完全に閉じると減圧され過ぎてかえってタンク70からカソード流路23にリンス液70aが供給されない場合がある。これを防止するために、例えばタンク70に配管を設けてカソード流路23の内部の圧力を調整することが好ましい。
リンス液への二酸化炭素の吸収量の低下を抑制するためにカソード流路23とタンク70とを接続するためのバルブを設けてもよい。例えば電解動作時に上記バルブを閉じておきステップS203において開けてカソード流路23とタンク70とを接続することにより電解動作によるリンス液への二酸化炭素の吸収量の低下を抑制することができる。また、タンク70の内部をわずかに加圧して電解動作時にガスがタンク70に侵入しないように調整してもよい。
次に、アノード流路12およびカソード流路23にガスを供給(S204)し、カソード22およびアノード11を乾燥させる。このとき、カソード溶液流路21にもガスを供給してもよい。アノード流路12およびカソード流路23にリンス液を供給すると、ガス拡散層22A中の水の飽和度が上昇し、ガスの拡散性による出力低下が生じる。ガスを供給することにより、水の飽和度が下がるためセル性能が回復し、リフレッシュ効果が高まる。ガスは、リンス液流通後すぐに供給することが好ましく、少なくともリンス液の供給の終了後5分以内に行うことが好ましい。これは水の飽和度の上昇による出力低下が大きいためであり、例えば1時間おきにリフレッシュ動作を行うとすると、5分間のリフレッシュ動作中の出力は0Vかあるいは著しく少ないため、出力の5/60を失う場合がある。
以上のリフレッシュ動作が終了したら、バルブ71ないしバルブ74を開けてアノード流路12にアノード溶液を、カソード流路23にCOガスを導入(S205)する。このとき、カソード溶液流路21にカソード溶液を導入するためにカソード溶液流路21に接続されたバルブを開けてもよい。そして、電源制御部40によるアノード11とカソード22との間に電解電圧の印加を再開させてCO電解動作を再開する(S206)。なお、S201で電解電圧の印加を停止していない場合には上記再開動作は行われない。各流路12、21からのカソード溶液およびアノード溶液の排出には、ガスを用いてもよいし、リンス液を用いてもよい。
リンス液の供給およびフロー(S203)は、カソード溶液およびアノード溶液に含まれる電解質の析出を防止し、カソード22、アノード11、および各流路12、21を洗浄するために実施される。そのため、リンス液は水が好ましく、電気伝導率が1mS/m以下の水がより好ましく、0.1mS/m以下の水がさらに好ましい。カソード22やアノード11等における電解質等の析出物を除去するためには、低濃度の硫酸、硝酸、塩酸等の酸性リンス液を供給してもよく、これにより電解質を溶解させるようにしてもよい。低濃度の酸性リンス液を用いた場合、その後工程で水のリンス液を供給する工程を実施する。ガスの供給工程の直前は、リンス液中に含まれる添加剤が残留することを防止するために、水のリンス液の供給工程を実施することが好ましい。
特にイオン交換樹脂のリフレッシュのためには、酸またはアルカリのリンス液が好ましい。これは、イオン交換樹脂中にプロトンやOHの代わりに置換された、陽イオンや陰イオンを排出する効果がある。このため、酸とアルカリのリンス液を交互に流通させることや、電気伝導率が1mS/m以下の水との組み合わせ、リンス液が混合しないように複数のリンス液の供給の合間にガスを供給することが好ましい。
リンス液として反応によって生成した水を用いてもよい。例えばCOとプロトンから還元によってCOを生成する場合、水が生じる。このときのカソード22から排出される水を気液分離によって分離し、溜めて用いてもよい。このようにすると新たに外部からリンス液を供給せずに済み、システム上有利になる。また、電位を変化させて反応電流を増加させ、生成される水の量を増加させることにより、当該水をカソード溶液流路21に供給してもよい。これにより、生成された水のタンクやリンス液として用いるための配管やポンプなどが不要になり、システム上有効な構成となる。また、カソード溶液流路21に酸素を含むガスを供給し、電圧を印加することにより、アノード11の電解液またはリンス液を水分解し、対極に移動したプロトンやOHイオンから触媒によって生成する水によってリフレッシュ動作を行ってもよい。例えば、金触媒を用いてCOをCOへ還元する電解セルで、ナフィオンをイオン交換膜として用いた場合、カソード22に空気を流通させて、セルに電位を掛けて水分解を行うと、カソード22に移動したプロトンが酸素と触媒によって反応し、水が生成する。この生成水でリフレッシュ動作を行うことができる。また、この後カソード22に酸素を含まないガスを供給することやガスの供給を停止することにより、水素ガスを発生させ、発生した水素によってカソード22を乾燥させるリフレッシュ動作を行ってもよい。これにより、プロトンや水素の還元力によって触媒のリフレッシュ動作を行うこともできる。
ガスの供給およびフロー工程S204に用いるガスは、空気、二酸化炭素、酸素、窒素、およびアルゴンの少なくとも1つを含むことが好ましい。さらに、化学反応性の低いガスを用いることが好ましい。このような点から、空気、窒素、およびアルゴンが好ましく用いられ、さらには窒素およびアルゴンがより好ましい。リフレッシュ用のリンス液およびガスの供給は、カソード溶液流路21およびアノード流路12のみに限らず、カソード22のカソード流路23と接する面を洗浄するため、カソード流路23にリンス液およびガスを供給してもよい。カソード流路23と接する面側からもカソード22を乾燥させるために、カソード流路23にガスを供給することは有効である。
以上ではリフレッシュ用のリンス液およびガスをアノード部10およびカソード部20の両方に供給する場合について説明したが、アノード部10またはカソード部20の一方のみにリフレッシュ用のリンス液およびガスを供給してもよい。例えば、炭素化合物のファラデー効率は、カソード22のガス拡散層22Aとカソード触媒層22Bにおけるカソード溶液とCOとの接触領域により変動する。このような場合、カソード部20のみにリフレッシュ用のリンス液やガスを供給しただけで、炭素化合物のファラデー効率が回復することもある。使用する電解溶液(アノード溶液およびカソード溶液)の種類によっては、アノード部10またはカソード部20の一方に析出しやすい傾向を有することがある。このような電解装置1の傾向に基づいて、アノード部10またはカソード部20の一方のみにリフレッシュ用のリンス液およびガスを供給してもよい。さらに、電解装置1の運転時間等によっては、アノード11およびカソード22を乾燥させるだけでセル性能が回復する場合もある。そのような場合には、アノード部10およびカソード部20の少なくとも一方にリフレッシュ用のガスのみを供給するようにしてもよい。リフレッシュ動作工程S105は、電解装置1の動作状況や傾向等に応じて種々に変更が可能である。
上述したように、第1の実施形態の電解装置1においては、電解セル2のセル性能が要求基準を満たしているかどうかに基づいて、COの電解動作工程S102を継続するか、もしくはリフレッシュ動作工程S105を実施するかが判定される。リフレッシュ動作工程S105でリフレッシュ用のリンス液やガスを供給することによって、セル性能の低下要因となるカソード溶液のガス拡散層22Aへの侵入、カソード触媒層22Bの水分過剰、アノード11およびカソード22付近におけるイオンや残存ガスの分布の偏り、カソード22、アノード11、アノード流路12、およびカソード溶液流路21における電解質の析出等が取り除かれる。従って、リフレッシュ動作工程S105後にCOの電解動作工程S102を再開することによって、電解セル2のセル性能を回復させることができる。このようなCOの電解動作工程S102およびリフレッシュ動作工程S105をセル性能の要求基準に基づいて繰り返すことによって、電解装置1によるCOの電解性能を長時間にわたって維持することが可能になる。
リンス液を供給している間、アノード11とカソード22との間にリフレッシュ電圧を印加してもよい。これにより、カソード触媒層22Bに付着したイオンや不純物を除去することができる。主に酸化処理になるようにリフレッシュ電圧を印加すると触媒表面についたイオンや有機物等の不純物が酸化され除去される。また、この処理をリンス液中で行うことによって触媒のリフレッシュだけでなく、セパレータ30としてイオン交換膜を用いる場合にイオン交換樹脂中に置換されたイオンを除去することもできる。
リフレッシュ電圧は、例えば−2.5V以上2.5V以下であることが好ましい。リフレッシュ動作にエネルギーを使うため、リフレッシュ電圧の範囲は、できる限り狭い方が好ましく、例えば−1.5V以上1.5V以下であることがより好ましい。リフレッシュ電圧は、イオンや不純物の酸化処理と還元処理が交互に行われるようにサイクリックに印加されてもよい。これにより、イオン交換樹脂の再生や触媒の再生を加速させることができる。また、リフレッシュ電圧として電解動作時の電解電圧と同等の値の電圧を印加して、リフレッシュ動作を行ってもよい。この場合、電源制御部40の構成を簡略化することができる。
リフレッシュ動作工程S105は、図11に示すフロー図に示す内容に限定されない。図13はリフレッシュ動作工程S105の他の例を示すフロー図である。本例では、図12に示す構成に加え、流路705と、バルブ75と、をさらに用いてリフレッシュ動作工程S105を行う。
流路705は、二酸化炭素が流れる流路である。なお、流路705は、流路701に接続されていてもよい。バルブ75は、アノード流路12と流路705とを接続することができる。
リフレッシュ動作工程S105の他の例では、図13に示すように、まず、電源制御部40による電解電圧の印加を停止し、COの還元反応を停止させる(S301)。このとき、必ずしも電解電圧の印加を停止しなくてもよい。次に、カソード溶液流路21およびアノード流路12からカソード溶液およびアノード溶液を排出(S302)させる。このとき、必ずしもカソード溶液およびアノード溶液の少なくとも一つを排出しなくてもよい。
次に、バルブ71、バルブ72、およびバルブ75を閉じる(S303)。なお、バルブ73およびバルブ74を開けるまたは閉じてもよい。このときの電解セル2の状態を図14に示す。
バルブ71、72、75を閉じると、カソード流路23が流路701および流路702のそれぞれと非接続になり、アノード流路12が流路705と非接続になる。
次に、バルブ73を閉じると共にバルブ75を開ける(S304)。なお、バルブ74を開けるまたは閉じてもよい。このときの電解セル2の状態を図15に示す。
バルブ73を閉じると共にバルブ75を開けると、アノード流路12が流路703と非接続になり且つ流路705に接続されるため、カソード流路23およびアノード流路12に二酸化炭素が供給される。
次に、バルブ74、75を閉じる(S305)。このときの電解セル2の状態を図16に示す。
バルブ74、75を閉じると、アノード流路12が流路703ないし流路705のそれぞれと非接続になる。このとき、アノード流路12およびカソード流路23の内部に残存する二酸化炭素はタンク70内のリンス液70aに吸収され、アノード流路12およびカソード流路23の内部は減圧される。これにより、減圧されたアノード流路12の内部やカソード流路23の内部にリンス液70aが供給され、アノード流路12の内部およびカソード流路23の内部やカソード触媒層22Bに付着したイオンや不純物を除去することができる。
その後のガスフロー工程S306、電解溶液等の導入工程S307、電解電圧印加開始工程S308については、S204、S205、S206とそれぞれ同様であるため、説明を省略する。
図17はリフレッシュ動作工程S105の他の例を示すフロー図である。本例では、図12に示す構成に加え、流路706と、バルブ76と、をさらに用いてリフレッシュ動作工程S105を行う。
流路706は、酸素が流れる流路である。なお、流路706は、流路704に直接または間接的に接続されていてもよい。バルブ76は、カソード流路23と流路706とを接続し、アノード流路12と流路706とを接続することができる。すなわち、バルブ76は、カソード流路23と流路706との接続と、アノード流路12と流路706とを接続とを切り替えることができる。
リフレッシュ動作工程S105の他の例では、図17に示すように、まず、電源制御部40による電解電圧の印加を停止し、COの還元反応を停止させる(S401)。このとき、必ずしも電解電圧の印加を停止しなくてもよい。次に、カソード溶液流路21およびアノード流路12からカソード溶液およびアノード溶液を排出(S402)させる。このとき、必ずしもカソード溶液およびアノード溶液の少なくとも一つを排出しなくてもよい。
次に、バルブ71、76を閉じると共にバルブ73、74を開ける(S403)。このときの電解セル2の状態を図18に示す。なお、本例では、アノード11に酸素の還元をさらに行うことが可能である触媒を用い、カソード22に水の酸化をさらに行うことが可能な触媒を用いる場合について説明する。
バルブ71、76を閉じると、カソード流路23が流路701および流路702のそれぞれと非接続になり、アノード流路12およびカソード流路23のそれぞれが流路706と非接続になる。バルブ73、74を開けるとアノード流路12が流路703および流路704に接続され、アノード流路12にアノード溶液が供給される。
次に、バルブ72を閉じると共にバルブ76を開けてカソード流路23と流路706とを接続する(S404)。なお、バルブ73およびバルブ74を開けるまたは閉じてもよい。このときの電解セル2の状態を図19に示す。
バルブ72を閉じると、カソード流路23が流路702と非接続となる。また、カソード流路23と流路706とを接続すると、カソード流路23に酸素が供給される。なお、流路706が流路704に接続される場合、バルブ73を閉じてアノード流路12を流路703と非接続にする。
次に、バルブ76を閉じると共にアノードとカソードとの間に第2の電解電圧を印加する(S405)。第2の電源電圧では、アノード11側が高電位VLであり、カソード22側が高電位VLよりも低い低電位VLである。このときの電解セル2の状態を図20に示す。
バルブ76を閉じると、カソード流路23が流路701、702、流路705のそれぞれと非接続になる。第2の電解電圧が印加されると、アノード11とカソード22との間に電圧を印加して電流が供給される。アノード11とカソード22との間に電源制御部40から電流を供給すると、アノード11で水(HO)の酸化反応が生じる。具体的には、下記の(5)式に示すように、HOが酸化されて、酸素(O)と水素イオン(H)とが生成される。なお、上記(4)式のような水酸化物イオンを用いた酸化反応が行われてもよい。
2HO + 2e → 4H+O …(5)
アノード11で生成されたHは、アノード流路12、セパレータ30、カソード溶液流路21、およびカソード流路23を介して移動し、カソード22付近に到達する。電源制御部40からカソード22に供給される電流に基づく電子(e)とカソード22付近に移動したHとによって、酸素の(O)の還元反応が生じる。具体的には、下記の(6)式に示すように、カソード流路23からカソード22に供給されたOが還元されてHOが生成される。なお、上記(3)式のような水酸化物イオンを用いた還元反応が行われてもよい。
+4H → 2e+2HO …(6)
生成されたHOがカソード流路23に供給されることにより、カソード流路23の内部やカソード触媒層22Bに付着したイオンや不純物を除去することができる。また、酸素等のガスがセパレータ30を通過してアノード流路12の内部が減圧されることにより、リンス液70aが減圧されたアノード流路12の内部に供給され、アノード流路12の内部に付着したイオンや不純物を除去することもできる。このとき、セパレータ30は多孔質体を用いることが好ましい。
次に、第3の電圧の印加を停止すると共にバルブ73を閉じてバルブ76を開けてアノード流路12と流路706とを接続する。(S406)。このときの電解セル2の状態を図21に示す。
アノード流路12と流路706とを接続するとアノード流路12に酸素が供給される。なお、流路706が流路704に接続される場合、ステップS405で生成された酸素がアノード流路12に供給される。
次に、バルブ76を閉じてバルブ72を開けると共にアノード11とカソード22との間に第3の電解電圧を印加する(S407)。第3の電源電圧では、カソード22側が高電位VLであり、アノード11側が高電位VLよりも低い低電位VLである。このとき、アノード11の機能とカソード22の機能は反対になる。なお、電位VL、VHの値は、第2の電源電圧と異なっていてもよい。このときの電解セル2の状態を図22に示す。
バルブ76を閉じると、アノード流路12が流路703ないし流路705のそれぞれと非接続になる。第3の電解電圧が印加されると、アノード11とカソード22との間に電圧を印加して電流が供給される。アノード11とカソード22との間に電源制御部40から電流を供給すると、ステップS406により生成された水と接するカソード22で水(HO)の酸化反応が生じる。具体的には、上記(5)式に示すように、HOが酸化されて、酸素(O)と水素イオン(H)とが生成される。なお、上記(4)式のような水酸化物イオンを用いた酸化反応が行われてもよい。
カソード22で生成されたHは、アノード流路12、セパレータ30、およびカソード流路23を移動し、アノード11付近に到達する。電源制御部40からアノード11に供給される電流に基づく電子(e)とアノード11付近に移動したHとによって、酸素の(O)の還元反応が生じる。具体的には、上記(6)式に示すように、アノード流路12からアノード11に供給されたOが還元されてHOが生成される。なお、上記(3)式のような水酸化物イオンを用いた還元反応が行われてもよい。
生成されたHOがアノード流路12の内部に供給されることにより、アノード流路12の内部に付着したイオンや不純物を除去することができる。なお、アノード流路12の内部が減圧されることにより、リンス液70aがアノード流路12の内部に供給され、アノード流路12の内部に付着したイオンや不純物を除去することもできる。
その後のガスフロー工程S408、電解溶液等の導入工程S409、電解電圧印加開始工程S410については、S204、S205、S206とそれぞれ同様であるため、説明を省略する。
セパレータ30が例えばナフィオンの場合は、不純物を除去することにより、不純物として混入した、金属イオン等が、プロトンへと置換され、セパレータ30を再生することができる。これは、リフレッシュ効果や寿命的観点から好ましい。さらには電極上の不純物や、酸化還元処理による触媒の再生機能が期待できるため、なお好ましい。以上の観点から、アノードとカソードに交互に酸素含有ガスを供給し、酸化と還元を繰り返す動作によって、触媒再生機能、セパレータ再生機能と、溶液中の保存効果による寿命向上という効果を得ることができる。
アノードとカソード共に同じ液体を供給することは長期安定性の観点からセルに不要な電位が印加することがなく、また、不要な電位を印加して両極の酸化還元処理を行う場合の条件や、両極間の電解液の混合、リンス液の混合による問題点が解消されるため好ましい。
比較的低い圧力によってセパレータ30を液体が通過する場合、例えば親水性のポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔体などを用いて、リンス液をアノード流路12にのみ供給し、図示しないバルブ等でアノード出口の液体に圧力を加えるもしくはアノード出口を塞ぐ。するとリンス液はセパレータ30を通過し、カソード22に流れ、カソード22の排出口からリンス液が流出する。これにより、カソード22とアノード11のリフレッシュを同時に行うことができる。この構成はカソード22にリンス液を流通させる装置が不要であるため、装置がコンパクトになり、また、システムが簡略化されて好ましい。
生成された水は純水のため、カソード流路23を洗浄することができる。この際、カソード流路23に移動したプロトンによってカソード流路23の不純物を還元処理することができ、触媒や部材を再生することができる。この構成はカソード流路23にリンス液を供給する装置が不要であるため、装置がコンパクトになり、また、システムが簡略化されてよい。また、その後のCOガスの流通前にカソードに流通した空気を停止させると、生じたプロトン同士が反応し、水素が発生し、生じた水を押し出すこともできる。COで押し出す前に酸素含有ガスを停止させ、プロトンによる触媒や部材の再生機能がより効果を発揮することができる。これは酸素がないために、他の還元しにくい触媒やカソード22の各部材が還元されるからである。具体的には不純物の有機物や、金属酸化物などがある。その後にCOを供給して、反応させることでよりリフレッシュ効果が期待できる。
カソード流路にCOガスとは別に液体流路が設けられていてもよい。この流路はセルの発熱を回収するために液体を循環させて、セルの温度管理に用いることができる。また、セルの触媒層に液体が接するように作製しておけば、触媒層や電解質膜の加湿に用いることができ、湿度を制御することができる。この方式は、セルの温度での飽和水蒸気条件で触媒層や、セパレータ30を動作させることができるため、好ましい。この流路は通常COを流しておいても良く、前述のようにリフレッシュやセルの保存のために、溶液流路に流通させたリンス液にCOガスが吸収することによって、流路にリンス液を供給することができるため、好ましい。
(第2の実施形態)
図23は第2の実施形態による二酸化炭素の電解装置の構成を示す図であり、図24は図23に示す電解装置における電解セルの構成を示す断面図である。図23に示す二酸化炭素の電解装置1Xは、第1の実施形態による二酸化炭素の電解装置1と同様に、電解セル2Xと、電解セル2Xにアノード溶液を供給するアノード溶液供給系統100と、電解セル2Xにカソード溶液を供給するカソード溶液供給系統200と、電解セル2Xに二酸化炭素(CO)ガスを供給するガス供給系統300と、電解セル2Xにおける還元反応により生成した生成物を収集する生成物収集系統400と、収集した生成物の種類や生成量を検出すると共に、生成物の制御やリフレッシュ動作の制御を行う制御系500と、カソード溶液やアノード溶液の廃液を収集する廃液収集系統600と、電解セル2Xのアノードやカソード等を回復させるリフレッシュ材供給部700とを具備している。また、図23は、図1と同様にバルブ71ないしバルブ74と、タンク70と、を示している。
図23に示す二酸化炭素の電解装置1Xは、電解セル2Xの構成が相違することを除いて、基本的には図1に示した電解装置1と同様な構成を備えている。電解セル2Xは、図24に示すように、アノード溶液槽51と、カソード溶液槽52と、これらアノード溶液槽51とカソード溶液槽52とを分離するセパレータ30とを有する反応槽53を備えている。アノード溶液槽51は、アノード溶液供給系統100に接続された溶液導入口54Aおよび溶液排出口55Aと、ガス導入口56Aおよびガス排出口57Aとを有している。アノード溶液槽51には、アノード溶液供給系統100からアノード溶液が導入および排出される。アノード溶液槽51には、アノード溶液に浸漬するようにアノード11が配置されている。アノード11は電流導入部58Aを介して電源制御部40と接続されている。
カソード溶液槽52は、カソード溶液供給系統200に接続された溶液導入口54Bおよび溶液排出口55Bと、ガス供給系統300に接続されたガス導入口56Bおよびガス排出口57Bとを有している。カソード溶液槽52には、カソード溶液供給系統200からカソード溶液が導入および排出される。さらに、カソード溶液槽52にはガス供給系統300からCOガスが導入され、ガス状生成物を含むガスは生成物収集系統400に送られる。カソード溶液中のCOガスの溶解度を高めるために、ガス導入口56BからCOガスをカソード溶液中に放出させることが好ましい。カソード溶液槽52には、カソード溶液に浸漬するようにカソード22が配置されている。カソード22は電流導入部58Bを介して電源制御部40と接続されている。
リフレッシュ材供給部700のガス状物質供給系は、配管を介してアノード溶液槽51のガス導入口56Aおよびカソード溶液槽52ガス導入口56Bと接続されている。リフレッシュ材供給部700のリンス液供給系は、配管を介してアノード溶液槽51の溶液導入口54Aおよびカソード溶液槽52の溶液導入口54Bと接続されている。アノード溶液槽51の溶液排出口55Aおよびカソード溶液槽52の溶液排出口55Bは、配管を介して廃液収集系統600と接続されている。アノード溶液槽51のガス排出口57Aおよびカソード溶液槽52のガス排出口57Bは、配管を介して廃液収集系統600と接続されており、廃液収集系統600を介して図示しない廃ガス収集タンクに回収されるか、もしくは大気中に放出される。各部の構成材料等は、第1の実施形態の電解装置1と同様であり、詳細は前述した通りである。
第2の実施形態の電解装置1Xにおいて、電解装置1Xの立上げ工程S101およびCOの電解動作工程S102は、アノード溶液、カソード溶液、およびCOガスの供給形態が異なることを除いて、第1の実施形態の電解装置1と同様に実施される。セル性能の要求基準を満たしているかどうかの判定工程S103についても、第1の実施形態の電解装置1と同様に実施される。セル性能が要求基準を満たしていないと判定された場合、第1の実施形態の電解装置1の電解方法と同様にリフレッシュ動作工程S105を実施する。なお、第2の実施形態の電解装置の説明として第1の実施形態の電解装置の説明を適宜援用することができる。
第2の実施形態の電解装置1Xにおいても、電解セル2Xのセル性能が要求基準を満たしているかどうかに基づいて、CO電解動作を継続するか、もしくはリフレッシュ動作を実施するかが判定される。リフレッシュ動作工程でリンス液やガスを供給することによって、セル性能の低下要因となるアノード11およびカソード22付近におけるイオンや残存ガスの分布の偏りが解消され、アノード11およびカソード22における電解質の析出等が取り除かれる。従って、リフレッシュ動作工程後にCOの電解動作を再開することによって、電解セル2Xのセル性能を回復させることができる。COの電解動作およびリフレッシュ動作をセル性能の要求基準に基づいて繰り返すことによって、電解装置1XによるCOの電解性能を長時間にわたって維持することが可能になる。
(第3の実施形態)
図25は第3の実施形態による二酸化炭素の電解装置の構成を示す図であり、図26は図25に示す電解装置における電解セルの構成を示す断面図である。図26に示す二酸化炭素の電解装置1Yは、第1の実施形態による二酸化炭素の電解装置1と同様に、電解セル2Yと、電解セル2Yにアノード溶液を供給するアノード溶液供給系統100と、電解セル2Yに二酸化炭素(CO)ガスを供給するガス供給系統300と、電解セル2Yにおける還元反応により生成した生成物を収集する生成物収集系統400と、収集した生成物の種類や生成量を検出すると共に、生成物の制御やリフレッシュ動作の制御を行う制御系500と、アノード溶液の廃液を収集する廃液収集系統600と、電解セル2Yのアノードやカソード等を回復させるリフレッシュ材供給部700とを具備している。また、図25は、図1と同様にバルブ71ないしバルブ74と、タンク70と、を示している。
図25に示す二酸化炭素の電解装置1Yは、電解セル2Yの構成が相違すると共に、カソード溶液供給系統200を備えていないことを除いて、基本的には図1に示した電解装置1と同様な構成を具備している。電解セル2Yは、図26に示すように、アノード部10とカソード部20とセパレータ30とを具備している。アノード部10は、アノード11、アノード流路12、およびアノード集電板13を備えている。カソード部20は、カソード22、カソード流路23、およびカソード集電板24を備えている。電源制御部40は電流導入部材を介してアノード11およびカソード22と接続されている。
アノード11は、セパレータ30と接する第1の面11aと、アノード流路12に面する第2の面11bとを有することが好ましい。アノード11の第1の面11aは、セパレータ30と密着している。アノード流路12は、流路板14に設けられたピット(溝部/凹部)により構成されている。アノード溶液は、アノード11と接するようにアノード流路12内を流通する。アノード集電板13は、アノード流路12を構成する流路板14のアノード11とは反対側の面と電気的に接している。カソード22は、セパレータ30と接する第1の面22aと、カソード流路23に面する第2の面22bとを有する。カソード流路23は、流路板28に設けられたピット(溝部/凹部)により構成されている。カソード集電板24は、カソード流路23を構成する流路板28のカソード22とは反対側の面と電気的に接している。
リフレッシュ材供給部700のガス状物質供給系およびリンス液供給系は、配管を介してアノード流路12およびカソード流路23と接続されている。アノード流路12およびカソード流路23は、配管を介して廃液収集系統600と接続されている。アノード流路12およびCOガス流路から排出されたリンス液は、廃液収集系統600との廃液収集タンク601に回収される。アノード流路12およびCOガス流路から排出されたリフレッシュ用のガスは、廃液収集系統600を介して図示しない廃ガス収集タンクに回収されるか、もしくは大気中に放出される。各部の構成材料等は、第1の実施形態の電解装置1と同様であり、詳細は前述した通りである。
第3の実施形態の電解装置1Yにおいて、電解装置1Yの立上げ工程S101およびCOの電解動作工程S102は、カソード溶液の供給を実施しないことを除いて、第1の実施形態の電解装置1と同様に実施される。なお、カソード部20におけるCOの還元反応は、カソード流路23から供給されたCOとセパレータ30を介してカソード22に浸透したアノード溶液とにより行われる。セル性能の要求基準を満たしているかどうかの判定工程S103についても、第1の実施形態の電解装置1と同様に実施される。セル性能が要求基準を満たしていないと判定されたとき、第1の実施形態の電解装置と同様にリフレッシュ動作工程S105を実施する。なお、第3の実施形態の電解装置の説明として第1の実施形態の電解装置の説明を適宜援用することができる。
第3の実施形態の電解装置1Yにおいても、電解セル2Yのセル性能が要求基準を満たしているかどうかに基づいて、CO電解動作を継続するか、もしくはリフレッシュ動作を実施するかが判定される。リフレッシュ動作工程でリンス液やガスを供給することによって、セル性能の低下要因となるアノード11およびカソード22付近におけるイオンの分布の偏りが解消され、またカソード22における水分過剰やアノード11およびカソード22における電解質の析出、それによる流路閉塞等が取り除かれる。従って、リフレッシュ動作工程後にCOの電解動作を再開することによって、電解セル2Yのセル性能を回復させることができる。このようなCOの電解動作およびリフレッシュ動作をセル性能の要求基準に基づいて繰り返すことによって、電解装置1YによるCOの電解性能を長時間にわたって維持することが可能になる。
(実施例1)
図1に示した電解装置を組み立てて、二酸化炭素の電解性能を調べた。まず、多孔質層が設けられたカーボンペーパ上に、金ナノ粒子が担持されたカーボン粒子を塗布したカソードを、以下の手順により作製した。金ナノ粒子が担持されたカーボン粒子と純水、ナフィオン溶液、エチレングリコールとを混合した塗布溶液を作製した。金ナノ粒子の平均粒径は8.7nmであり、担持量は18.9質量%であった。この塗布溶液をエアーブラシに充填し、Arガスを用いて多孔質層が設けられたカーボンペーパ上にスプレー塗布した。塗布後に純水で30分間流水洗浄し、その後に過酸化水素水に浸漬してエチレングリコール等の有機物を酸化除去した。これを2×2cmの大きさに切り出してカソードとした。なお、Auの塗布量は塗布溶液の金ナノ粒子とカーボン粒子の混合量から約0.4mg/cmと見積もられた。アノードには、Tiメッシュに触媒となるIrOナノ粒子を塗布した電極を用いた。アノードとしてIrO/Tiメッシュを2×2cmに切り出したものを使用した。本例では、カーボン粒子により水の酸化反応が生じる場合がある。
電解セル2は、図2に示したように、上からカソード集電板24、カソード流路23(第3の流路板28)、カソード22、カソード溶液流路21(第2の流路板25)、セパレータ30、アノード11、アノード流路12(アノード集電板13)の順で積層し、図示しない支持板により挟み込み、さらにボルトで締め付けて作製した。セパレータ30には、親水処理されたPTFE多孔体(商品名:ポアフロン、住友電気工業社製)を用いた。アノード11のIrO/Tiメッシュは、PTFE多孔体に密着させた。カソード溶液流路21の厚さは1mmとした。なお、評価温度は室温とした。
上記した電解セル2を用いて図25に示した電解装置1を組み立て、電解装置を以下の条件で運転した。電解セルのカソード流路にCOガスを20sccmで供給し、カソード溶液流路に水酸化カリウム水溶液(濃度1M KOH)を5mL/minの流量で導入し、アノード流路に水酸化カリウム水溶液(濃度1M KOH)を20mL/minの流量で導入した。次に、電源制御部により電圧を制御することにより、アノードとカソードの間に2.2Vの電圧を印加して電流を流し、COの電解反応を行い、その際のセル電圧を計測してデータ収集・制御部で収集した。さらに、COガス流路から出力されるガスの一部を収集し、COの還元反応により生成されるCOガス、および水の還元反応により生成されるHガスの生成量をガスクロマトグラフにより分析した。データ収集・制御部でガス生成量からCOもしくはHの部分電流密度、および全電流密度と部分電流密度の比であるファラデー効率を算出して収集した。
12時間ごとに電解装置の運転と停止を繰り返した。12時間運転後に、セルへの電解電圧の印加を停止し、カソード流路23へのCOガスの供給を停止し、バルブ71、72を閉じた。セルや配管内に残存したCOガスをタンク70のリンス液に吸収させてセル内を減圧しリンス液をカソード流路23に供給した。24時間経過の3分前にバルブを再び開け、COガスを供給し、リンス液を排出した。24時間後に運転再開した。再び12時間運転し、合計36時間後にCOとHの部分電流密度および全電流密度と部分電流密度の比であるファラデー効率を収集した。その後、上記と同じ方式でリンス液をカソード流路23に供給し、12時間後、合計48時間経過の3分前にバルブを再び開け、リンス液を排出し、再び運転を再開した。合計48時間後にCOとHの部分電流密度および全電流密度と部分電流密度の比であるファラデー効率を収集した。さらに、504時間まで運転し、COとHの部分電流密度および全電流密度と部分電流密度の比であるファラデー効率を収集した。表1に各時間毎のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を示す。インピーダンス測定の結果から504時間後のセル抵抗は100mΩであった。このことから、停止直後の値から、長期で運転すると性能の低下を抑制するという効果が大きいことがわかる。
(比較例1)
比較例1では、実施例1と同様に運転し、運転開始から12時間後、36時間後のリフレッシュ動作を行わず、カソード流路にCOを供給したまま、セルに電圧を与えず反応を停止して運転を行った。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後、504時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。
比較例1と実施例1とを比較すると、比較例1では504時間後に性能が大きく低下した。これはセル抵抗が運転開始直後は95mΩであったが、504時間後には150mΩになった影響があると考えられる。セル抵抗の上昇は、セパレータ30が電解液成分のイオンや、不純物などによって、劣化したため等が考えられる。
(実施例2)
実施例2では、図25に示す二酸化炭素電解セルおよび二酸化炭素電解装置を組み立て、二酸化炭素電解性能を調べた。電解セル2は、図26に示したように、上からカソード集電板24、カソード流路23(第3の流路板28)、カソード22、セパレータ30、アノード11、アノード流路12(アノード集電板13)の順で積層し、図示しない支持板により挟み込み、さらにボルトで締め付けて作製した。アノード11とカソード22は実施例1と同様に作製した。セパレータ30には、親水処理されたPTFE多孔体(商品名:ポアフロン、住友電気工業社製)を用いた。なお、評価温度は室温とした。
実施例1と同様に12時間後と36時間後にバルブ71、72を閉じてカソード流路23へのCOガスの供給を停止した。一方アノード流路12にもCOガスを供給し、1分後にバルブ73、74を閉じてアノード流路12へのCOガスの供給を停止した。セルや流路内に残存したCOガスをタンク70のリンス液に吸収させてセル内を減圧しリンス液をアノード流路12およびカソード流路23に供給した。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。
実施例2は、実施例1よりも性能低下が抑制されていることがわかる。これは、アノードの性能低下が少ないことによるものであり、標準電極との電位差によって確認できた。このことからアノードに付着した不純物などが排出されてセル性能が回復したことがわかる。
(実施例3)
実施例3では、実施例1と同じ装置で、リンス液がカソード流路23に存在する状態で、参照極の電位に対するカソードの電位を2.5Vから−2Vまで50mv/秒の速度で変化させた後に−2Vから2.5Vまで50mv/秒の速度で変化させる掃引を5回繰り返した。それ以外は実施例1と同様の条件でリフレッシュ動作を行った。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後、504時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。結果から、リフレッシュ動作によりセル性能が回復したことがわかる。
(実施例4)
実施例4では、実施例1と同じ装置構成に加え、アノード流路12とカソード流路23に酸素ガスを導入する装置を用いた。実施例1と同様に12時間後と36時間後にカソードのCOガスの供給を停止し、まず、カソード流路23に酸素を導入した。そこで、参照極の電位に対するカソードの電位を2.5Vとし、アノードで水を酸化した。一方カソードではアノードから移動したプロトンと酸素が触媒によって反応し水を生成した、この動作によって、カソード極の流路の内部を減圧し、生成した水とリンス液をカソード流路23に供給した。その後、アノード流路12に酸素を導入した。そこで、参照極の電位に対するカソードの電位を−2.5Vとした。アノード流路で水を生成し、内部を減圧し、生成した水とリンス液をアノード流路12に供給した。それ以外は実施例1と同様にリフレッシュ動作を行った。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。結果から、リフレッシュ動作によりセル性能が回復したことがわかる。
(実施例5)
実施例5では、セパレータにナフィオン115を用いた以外は実施例1の同様に行った。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後、504時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。結果から、リフレッシュ動作によりセル性能が回復したことがわかる。
(比較例2)
比較例2では、セパレータにナフィオン115を用いた以外は比較例1と同様に行った。実施例1と同様に開始直後、12時間後、24時間後、36時間後、48時間後、504時間後のセル電流とCOのファラデー効率、Hのファラデー効率を表1に示す。結果からセル性能が低いことがわかる。
Figure 0006818711
表1からわかるとおり、リフレッシュ動作を行うことにより、電流密度、COのファラデー効率、およびHのファラデー効率の少なくとも一つを改善させることができることがわかる。このことは、従来よりも長時間にわたってセル性能を維持できることを示している。
なお、上述した各実施形態の構成は、それぞれ組合せて適用することができ、また一部置き換えることも可能である。ここでは、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図するものではない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施し得るものであり、発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々の省略、置き換え、変更等を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同時に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1…電解装置、1X…電解装置、1Y…電解装置、2…電解セル、2X…電解セル、2Y…電解セル、10…アノード部、11…アノード、11a…面、11b…面、12…アノード流路、13…アノード集電板、14…流路板、15…ランド、20…カソード部、21…カソード溶液流路、22…カソード、22A…ガス拡散層、22B…カソード触媒層、22C…多孔質層、22a…面、22b…面、23…カソード流路、24…カソード集電板、25…流路板、26…ランド、27…ブリッジ部、28…流路板、29…ランド、30…セパレータ、40…電源制御部、51…アノード溶液槽、52…カソード溶液槽、53…反応槽、54A…溶液導入口、54B…溶液導入口、55A…溶液排出口、55B…溶液排出口、56A…ガス導入口、56B…ガス導入口、57A…ガス排出口、57B…ガス排出口、58A…電流導入部、58B…電流導入部、70…タンク、70a…リンス液、71…バルブ、72…バルブ、73…バルブ、74…バルブ、75…バルブ、76…バルブ、100…アノード溶液供給系統、101…圧力制御部、102…アノード溶液タンク、103…流量制御部、104…基準電極、105…圧力計、115…ナフィオン、200…カソード溶液供給系統、201…圧力制御部、202…カソード溶液タンク、203…流量制御部、204…基準電極、205…圧力計、206…ガス成分収集部、300…ガス供給系統、301…ガスボンベ、302…流量制御部、303…圧力計、304…圧力制御部、400…生成物収集系統、401…気液分離部、402…生成物収集部、500…制御系、501…還元性能検出部、502…データ収集・制御部、503…リフレッシュ制御部、504…解析部、600…廃液収集系統、601…廃液収集タンク、700…リフレッシュ材供給部、701…流路、702…流路、703…流路、704…流路、705…流路、706…流路、711…ガスタンク、712…制御部。

Claims (15)

  1. 二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成するための第1の触媒を含む第1の電極と、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成するための第2の触媒を含む第2の電極と、前記第1の電極に面する第1の電極流路と、前記第2の電極に面する第2の電極流路と、前記第1の電極と前記第2の電極とを分離するセパレータと、を備える電解セルと、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源制御部と、
    前記二酸化炭素が流れる第1の流路と、
    前記炭素化合物が流れる第2の流路と、
    前記水を含む電解溶液が流れる第3の流路と、
    前記酸素が流れる第4の流路と、
    前記第1の電極流路と前記第1の流路とを接続するための第1のバルブと、
    前記第1の電極流路と前記第2の流路とを接続するための第2のバルブと、
    前記第1の電極流路に接続され、前記第2のバルブにより前記第2の流路との接続が制御される、リンス液を収容するためのタンクと、
    前記電解セルの性能の要求基準に基づいて前記第1のバルブおよび前記第2のバルブの開閉を制御する制御部と、を具備する、二酸化炭素電解装置。
  2. 前記第2の電極流路と前記第3の流路とを接続するための第3のバルブと、
    前記第2の電極流路と前記第4の流路とを接続するための第4のバルブと、
    二酸化炭素が流れる第5の流路と、
    前記第2の電極流路と前記第5の流路とを接続するための第5のバルブと、
    をさらに具備し、
    前記制御部は、前記要求基準に基づいて前記第3のバルブないし前記第5のバルブの開閉をさらに制御する、請求項1に記載の二酸化炭素電解装置。
  3. 前記第2の電極流路と前記第3の流路とを接続するための第3のバルブと、
    前記第2の電極流路と前記第4の流路とを接続するための第4のバルブと、
    酸素が流れる第5の流路と、
    前記第1の電極流路または前記第2の電極流路と前記第5の流路とを接続するための第5のバルブと、
    をさらに具備し、
    前記制御部は、前記要求基準に基づいて前記第3のバルブないし前記第5のバルブの開閉をさらに制御する、請求項1に記載の二酸化炭素電解装置。
  4. 前記リンス液は、酸性リンス液および前記水からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む、請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  5. 前記制御部により制御され、露出された前記第1の電極流路および前記第2の電極流路の少なくとも一方にガス状物質を供給するガス供給部をさらに具備する、請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  6. 前記制御部により制御され、前記ガス状物質の流量を調整する流量制御部をさらに具備する、請求項5に記載の二酸化炭素電解装置。
  7. 前記ガス状物質は、空気、二酸化炭素、酸素、窒素、およびアルゴンからなる群より選ばれる少なくとも1つを含む、請求項5または請求項6に記載の二酸化炭素電解装置。
  8. 前記電解セルは、前記第1の電極が浸漬される第2の電解溶液を収容するための第1の溶液槽と、前記第2の電極が浸漬される前記電解溶液を収容するための第2の溶液槽と、をさらに備える、請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  9. 前記第1の電極および前記第2の電極のそれぞれは、前記セパレータと接している、請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  10. 前記電解セルは、前記第1の電極と前記セパレータとの間に設けられ、前記電解溶液または第2の電解溶液が流れる第3の電極流路をさらに備える、請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  11. 前記性能は、前記電解セルのセル電圧、セル電流、および前記炭素化合物のファラデー効率の少なくとも一つを含むパラメータにより定義される、請求項1ないし請求項10のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解装置。
  12. 二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成するための第1の触媒を含む第1の電極に面する第1の電極流路と前記二酸化炭素が流れる第1の流路とを接続するための第1のバルブと、前記第1の電極流路と前記炭素化合物が流れる第2の流路とを接続するための第2のバルブと、を開けることにより、前記第1の流路から第1の電極流路に前記二酸化炭素を供給すると共に、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成するための第2の触媒を含む第2の電極に面する第2の電極流路に水を含む電解溶液を供給するステップと、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加し、前記第1の電極付近で前記二酸化炭素を還元して前記炭素化合物を生成すると共に、前記第2の電極付近で前記水または水酸化物イオンを酸化して前記酸素を生成するステップと、
    前記第1の電極と、前記第2の電極と、前記第1の電極流路と、前記第2の電極流路と、前記第1の電極と前記第2の電極とを分離するセパレータと、を具備する電解セルの性能の要求基準に基づいて前記第1の電極流路に接続されたタンクに収容されるリンス液の少なくとも一部を前記第1の電極流路に供給するために、前記第1のバルブと前記第2のバルブとを閉じて前記第1の電極流路の内部に残存する前記二酸化炭素の少なくとも一部を前記リンス液に吸収させることにより前記第1の電極流路の内部を減圧するステップと、
    を具備する二酸化炭素電解方法。
  13. 二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成するための第1の触媒を含む第1の電極に面する第1の電極流路と前記二酸化炭素が流れる第1の流路とを接続するための第1のバルブと、前記第1の電極流路と前記炭素化合物が流れる第2の流路とを接続するための第2のバルブと、を開けて前記第1の流路から第1の電極流路に前記二酸化炭素を供給し、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成するための第2の触媒を含む第2の電極に面する第2の電極流路と前記水を含む電解溶液が流れる第3の流路とを接続するための第3のバルブと、前記第2の電極流路と前記酸素が流れる第4の流路とを接続するための第4のバルブと、を開けて前記第3の流路から前記第2の電極流路に水を含む電解溶液を供給し、前記第2の電極流路と二酸化炭素が流れる第5の流路とを接続するための第5のバルブを閉じるステップと、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加し、前記第1の電極付近で前記二酸化炭素を還元して前記炭素化合物を生成すると共に、前記第2の電極付近で前記水または水酸化物イオンを酸化して前記酸素を生成するステップと、
    前記第1の電極と、前記第2の電極と、前記第1の電極流路と、前記第2の電極流路と、前記第1の電極と前記第2の電極とを分離するセパレータと、を具備する電解セルの性能の要求基準に基づいて前記第1の電極流路に接続されたタンクに収容されるリンス液の少なくとも一部を前記第1の電極流路および前記第2の電極流路に供給するために、前記第1のバルブと前記第2のバルブと前記第5のバルブとを閉じ、前記第3のバルブを閉じると共に前記第5のバルブを開けて前記第5の流路から前記第2の電極流路に前記二酸化炭素を供給し、前記第4のバルブと前記第5のバルブとを閉じて残存する前記二酸化炭素の少なくとも一部を前記第1の電極流路に接続されたタンクに収容されるリンス液に吸収させることにより前記第1の電極流路の内部および前記第2の電極流路の内部を減圧するステップと、
    を具備する、二酸化炭素電解方法。
  14. 二酸化炭素を還元して炭素化合物を生成し、酸素を還元して水を生成し、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成するための第1の触媒を含む第1の電極に面する第1の電極流路と前記二酸化炭素が流れる第1の流路とを接続する第1のバルブと、前記第1の電極流路と前記炭素化合物が流れる第2の流路とを接続する第2のバルブと、を開けて前記第1の流路から前記第1の電極流路に前記二酸化炭素を供給すると共に、水または水酸化物イオンを酸化して酸素を生成し、酸素を還元して水を生成するための第2の触媒を含む第2の電極に面する第2の電極流路と前記水を含む電解溶液が流れる第3の流路とを接続する第3のバルブと、前記第2の電極流路と前記酸素が流れる第4の流路とを接続する第4のバルブと、を開けて前記第3の流路から前記第2の電極流路に前記電解溶液を供給し、前記第1の電極流路または前記第2の電極流路と前記酸素が流れる第5の流路とを接続するための第5のバルブを閉じるステップと、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に第1の電圧を印加し、前記第1の電極付近で前記二酸化炭素を還元して前記炭素化合物を生成すると共に、前記第2の電極付近で前記水または水酸化物イオンを酸化して前記酸素を生成するステップと、
    前記第1の電極と、前記第2の電極と、前記第1の電極流路と、前記第2の電極流路と、前記第1の電極と前記第2の電極とを分離するセパレータと、を具備する電解セルの性能の要求基準に基づいて水を含むリンス液を前記第1の電極流路、前記第2の電極流路、および前記第1の電極流路に接続されたタンクに供給するために、前記第1のバルブを閉じ、前記第2のバルブを閉じると共に前記第5のバルブを開けて前記第1の電極流路と前記第5の流路とを接続して前記酸素を前記第1の電極流路に供給し、前記第3のバルブと前記第5のバルブとを閉じると共に前記第1の電極と前記第2の電極との間に第2の電圧を印加して前記第1の電極付近で前記酸素を還元して前記水を生成すると共に前記第2の電極付近で前記水または水酸化物イオンを酸化して前記酸素を生成し、前記第2の電圧の印加を停止すると共に前記第5のバルブを開けて前記第2の電極流路と前記第5の流路とを接続して前記第2の電極流路に前記酸素を供給し、前記第5のバルブを閉じて前記第2のバルブを開けると共に前記第1の電極と前記第2の電極との間に第3の電圧を印加して前記第1の電極付近で前記水を酸化して酸素を生成すると共に前記第2の電極付近で前記酸素を還元して前記水を生成する、ステップと、
    を具備する、二酸化炭素電解方法。
  15. 前記性能は、前記電解セルのセル電圧、セル電流、および前記炭素化合物のファラデー効率の少なくとも一つを含むパラメータにより定義される、請求項12ないし請求項14のいずれか一項に記載の二酸化炭素電解方法。
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