JP6813099B2 - ガラス基板および光学部品 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板およびこれを用いた光学部品に関する。

ウェアラブル機器、例えばプロジェクター付きメガネ、眼鏡型やゴーグル型ディスプレイ、仮想現実拡張現実表示装置、虚像表示装置などに用いられるガラスとしては、画像の広角化、高輝度・高コントラスト化、導光特性向上、回折格子の加工容易性などの面から高屈折率（例えば、屈折率ｎ_ｄが１．６８以上）が求められ、また、軽量化のためにガラスの薄板化が求められる。また、従来、車載用カメラ、ロボット用視覚センサーなどの用途に、小型で撮像画角の広い撮像ガラスレンズが用いられており、このような撮像ガラスレンズに対しては、より小型で広い範囲を撮影するために、高屈折率が求められる。

また、上記ウェアラブル機器において、人間の目に仮想イメージを知覚させる際に、快適で自然に感じるようにさせるには、一般に導波路となるガラス基板を積層して構成される（例えば、特許文献１参照）。

日本国特表２０１７−５３１８４０号公報

このような用途に使用されるガラス基板は、透明性を長期間、良好に保持することが求められるが、ガラス基板が空気等に触れてしまうと、基板自体が白曇りするヤケと呼ばれる現象が発生する場合がある。

これは、積層されるガラス基板間を封止する際、樹脂封止では気密性が低下し易く、また、完全に気密にすることがそもそも難しい等により、ガラス基板の表面を空気と接触させないようにすることが困難であり、上記ウェアラブル機器でも発生する可能性が高い。
また、場合によっては、部分的にガラス基板が露出してしまうこともあり、その場合には上記現象が顕著なものとなる。

さらに、ガラス基板上には、その求める機能に応じて、硬化性樹脂により回折格子等を形成することがあり、その場合、樹脂がガラス基板表面の近傍に存在するため、この樹脂が汚染源となってガラス基板の表面が変質する可能性もある。

本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、ヤケ等によるガラス基板表面の変質を抑制し、光学特性を維持し得るガラス基板およびこれを用いた光学部品を提供することを目的とする。

本発明者らは、ガラス基板の表層における反応因子成分の存在量を所定の範囲まで低減させることで、ヤケ等による表面の変質を抑制し、透明性等の特性を維持し得ることを見出し、本発明を完成させた。

本発明のガラス基板は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種を反応因子成分として含有し、ガラス基板の表面側において前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が内部に対して低下している表面欠乏層を有し、表面欠乏層における前記反応因子成分の合計欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）が、１．００×１０^−８以上であり、かつ屈折率（ｎ_ｄ）が１．６８以上であることを特徴とする。なお、内部とは、前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が深さ方向で一定となる深さ領域のことである。

本発明の他のガラス基板は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種を反応因子成分として含有し、内部における前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する最表層０〜１０ｎｍ領域における前記反応因子成分の合計モル濃度の平均値が、低下率として３５．０％以上１００．０％以下であり、かつ屈折率（ｎ_ｄ）が１．６８以上であることを特徴とする。なお、内部とは、前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が深さ方向で一定となる深さ領域のことである。

本発明の光学部品は、本発明のガラス基板を有することを特徴とする。

本発明のガラス基板および光学部品によれば、ヤケ等による表面の変質を抑制し、透明性等の特性を長時間維持し得ることができる。このガラス基板を屈折率の高いガラスで形成した場合には、信頼性の高いウェアラブル機器を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態である光学部品の概略構成を示した図である。 図２は、本発明の一実施形態である光学部品をヘッドマウントディスプレイに適用したときの構成および機能を説明するための図である。 図３は、本発明の第３の実施形態におけるガラス基板の色度について、色度図における色度範囲を示した図である。 図４は、本発明の例４で得られたガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋおよび合計アルカリ金属（Ｔｏｔａｌ）の深さ方向プロファイルを示した図である。

以下、本発明のガラス基板および光学部品について、実施形態を参照しながら詳細に説明する。

（第１の実施形態）
［ガラス基板］
本実施形態のガラス基板は、公知のガラス基板を特に限定せずに用いることができ、そのようなガラス基板において、ガラス基板内部よりも表層における、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の反応因子成分の存在量を低減させたものである。

例えば、本実施形態のガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の成分の表層における欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）が、１．００×１０^−８以上１．２０×１０^−７以下であることが好ましい。

また、本実施形態のガラス基板の内部のＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の成分モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する最表層０〜１０ｎｍ領域における前記成分のモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値が、低下率として３５．０％以上１００．０％以下であることが好ましい。

本明細書では、特に断りがない限り、ガラス基板の「内部」とは前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が深さ方向で一定となる深さ領域のことである。「表層」とはガラス基板の表面側において前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が内部に対して低下している深さ領域のことである。「最表層」とは０〜１０ｎｍの深さ領域のことである。表層は表面欠乏層とも呼称する。

ガラス中に反応因子成分（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するときでは、ガラス基板の表層の反応因子成分の合計欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）を１．００×１０^−８以上とすることで、表面性状の変化を抑制できる。これは表層の合計欠乏量を１．００×１０^−８以上とすることで、最表層まで反応因子成分が拡散することなく、カルボン酸や有機エステル等の有機物により影響を受け、ガラス基板表面において透明性を阻害する物質が形成することを有効に抑制できるためである。この合計欠乏量は、１．５０×１０^−８以上がより好ましく、１．６０×１０^−８以上がさらに好ましく、２．５０×１０^−８以上が特に好ましい。一方、この合計欠乏量は表層の屈折率変化を抑えるために１．２０×１０^−７以下が好ましく、１．１０×１０^−７以下がより好ましく、２．６×１０^−８以下がさらに好ましい。
なお、本明細書で表層における反応因子成分の欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）は、ガラス基板の内部における反応因子成分のモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）と表面欠乏層が十分に含まれる領域（深さ領域ｂ）の幅（ｃｍ）との積と、ガラス基板の表層における反応因子成分のモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値と上記の深さ領域ｂの幅（ｃｍ）との積と、の差をいう。

また、ガラス中に反応因子成分を含有するときでは、本発明のガラス基板は、内部の反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する最表層０〜１０ｎｍ領域における反応因子成分の合計モル濃度の平均値が、低下率として３５．０％以上１００．０％以下であることが好ましい。

上記の低下率を３５．０％以上とすることで、表面性状の変化を抑制できる。これは表層の低下率を３５．０％以上とすることで、内部から再表層に反応因子成分が拡散することなく、カルボン酸や有機エステル等の有機物により影響を受け、ガラス基板表面に透明性を阻害する物質を形成することを有効に抑制できるためである。この低下率は、４５．０％以上がより好ましく、５０．０％以上がさらに好ましく、７９．０％以上が特に好ましい。一方、この低下率は、表層の屈折率変化を抑えるために１００．０％以下が好ましく、９５．０％以下がより好ましく、９０．０％以下がさらに好ましい。
なお、本明細書で反応因子成分の低下率（％）は、ガラス基板の内部における反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する、ガラス基板の内部における反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）とガラス基板の最表層０〜１０ｎｍ領域における反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値の差の割合を、百分率で表したものをいう。

反応因子成分は、空気中のカルボン酸やエステル等の有機物と反応して塩となり、これに起因してガラス基板表面に透明性を阻害する物質が形成され、ガラス基板の性状が変化すると考えられる。

なお、ここでガラス基板の表層における反応因子成分の合計欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）およびガラス基板の内部に対する最表層０〜１０ｎｍ領域の反応因子成分の低下率（％）は、横軸を深さ、縦軸をモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）としたガラス基板における反応因子成分の深さ方向濃度プロファイルから算出することができる。この深さ方向濃度プロファイルの取得方法としては、例えば、以下の方法がある。

初めに、ガラス基板の反応因子成分の含有量（原子換算の質量％）を、原子吸光分析法やＩＣＰ発光分光分析法により測定する。また、ガラスの密度（ｇ／ｃｍ^３）を、ＪＩＳ Ｚ ８８０７（１９７６、液中で秤量する測定方法）に準じて、測定する。Ｌｉの原子量を６．９４１（ｇ／ｍｏｌ）、Ｎａの原子量を２２．９９（ｇ／ｍｏｌ）、Ｋの原子量を３９．１０（ｇ／ｍｏｌ）、Ｍｇの原子量を２４．３１（ｇ／ｍｏｌ）、Ｃａの原子量を４０．０８（ｇ／ｍｏｌ）、Ｓｒの原子量を８７．６２（ｇ／ｍｏｌ）、Ｂａの原子量を１３７．３（ｇ／ｍｏｌ）、Ｚｎの原子量を６５．３９（ｇ／ｍｏｌ）とし、上記の方法で測定した反応因子成分の含有量（原子基準の質量％）と密度（ｇ／ｃｍ^３）から、ガラス基板の反応因子成分の含有モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）をそれぞれ求める。ここで、ガラス基板全体の反応因子成分の存在量に対して、ガラス基板の表層における反応因子成分の欠乏量はわずかであるため、ガラス基板の反応因子成分の含有モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）を、ガラス基板の内部における反応因子成分のモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）とみなすことができる。

次に、Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いた飛行時間型二次イオン質量分析法（Ｔｉｍｅ−ｏｆ−ｆｌｉｇｈｔ ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を用いて、横軸をスパッタ時間、縦軸を二次イオン強度とした反応因子成分とガラス形成成分（Ｓｉ，Ｂ，Ｐの内のいずれか一つ）の二次イオン強度の深さ方向プロファイルを取得する。その後、反応因子成分の二次イオン強度の深さ方向プロファイルから、ガラス形成成分の二次イオン強度の深さ方向プロファイルを除して、横軸をスパッタ時間、縦軸を二次イオン強度比（反応因子成分の二次イオン強度／ガラス形成成分の二次イオン強度）とした二次イオン強度比の深さ方向プロファイルを作成する。ＴＯＦ−ＳＩＭＳにより形成された分析クレーターの深さを、Ｖｅｅｃｏ社製 Ｄｅｋｔａｋ１５０などの触針式表面形状測定器を用いて測定し、この測定結果を基に、二次イオン強度比の深さ方向プロファイルの横軸をスパッタ時間から深さへ変換する。また、二次イオン強度比の深さ方向プロファイルから、反応因子成分の欠乏が起きていない領域を内部とし、上記の方法で求めたガラス基板の内部における反応因子成分のモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）を基に、各反応因子成分の二次イオン強度比の深さ方向プロファイルの縦軸を二次イオン強度比から濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）へそれぞれ変換する。これより、横軸を深さ、縦軸をモル濃度としたガラス基板における反応因子成分の深さ方向濃度プロファイルを得ることができる。この深さ方向濃度プロファイルから、表面欠乏層または最表層０〜１０ｎｍ領域におけるモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）を算出できる。このとき、本実施形態のガラス基板における表層または最表層の領域においては、通常、反応因子成分の濃度が深さ方向に対して変動しているため、このとき得られるモル濃度は、その領域における平均値である。

上記した反応因子成分の中でも、表面性状に与える影響の大きいのがアルカリ金属である。さらに、その影響の大きい順に、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋであり、表層のＬｉの存在量を低減させることが変質を抑制する観点で好ましい。
すなわち、表面性状の変化を抑制するには、表層のＬｉの欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）が８．００×１０^−９以上であることが好ましく、１．００×１０^−８以上がより好ましく、１．０５×１０^−８以上がさらに好ましく、１．６０×１０^−８以上が特に好ましい。また、Ｌｉの欠乏量は、７．００×１０^−８以下であることが好ましい。
また、Ｎａの欠乏量は、１．２０×１０^−９以上であることが好ましく、３．００×１０^−９以上がより好ましく、３．３０×１０^−９以上がさらに好ましく、６．１０×１０^−９以上が特に好ましい。また、Ｎａの欠乏量は、３．００×１０^−８以下であることが好ましい。
さらに、Ｋの欠乏量は、９．００×１０^−１０以上であることが好ましく、１．０７×１０^−９以上がより好ましく、１．９０×１０^−９以上がさらに好ましく、２．７０×１０^−９以上が特に好ましい。Ｋの欠乏量は、１．６０×１０^−８以下であることが好ましい。

また、ガラス基板の内部のＬｉのモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する最表層０〜１０ｎｍ領域におけるＬｉのモル濃度の平均値が、低下率として５０．０％以上であることが好ましく、６０．０％以上がより好ましく、６５．０％以上がさらに好ましく、９２．０％以上が特に好ましい。Ｌｉの低下率は１００．０％以下であることが好ましい。また、Ｎａの低下率は、３０．０％以上が好ましく、３７．０％以上がより好ましく、４１．０％以上がさらに好ましく、７５．０％以上が特に好ましい。Ｎａの低下率は１００．０％以下であることが好ましい。さらに、Ｋの低下率は、２０．０％以上が好ましく、２７．０％以上がより好ましく、３０．０％以上がさらに好ましく、５６．０％以上が特に好ましい。Ｋの低下率は１００．０％以下であることが好ましい。

さらに、本発明のガラス基板は、反応因子成分の含有量が酸化物基準で好ましくは０．１〜７５質量％、さらに好ましくは０．５〜６０質量％、さらに好ましくは１．０〜５０質量％、さらに好ましくは５．０〜４０質量％、さらに好ましくは１１．０〜３０質量％、特に好ましくは１５〜２５質量％である。反応因子成分の含有量がかかる範囲であることで、ガラス基板の表層において反応因子成分の存在量を所定の範囲まで低減させることで、ヤケ等による表面の変質を抑制することが可能になる。
特に、表面性状に与える影響の大きい反応因子成分であるＬｉ、ＮａおよびＫからなる群から選ばれる少なくとも１種の含有量は、好ましくは酸化物基準で０〜２０質量％、さらに好ましくは０．１〜１８質量％、さらに好ましくは０．５〜１５質量％、さらに好ましくは１．０〜１３質量％、さらに好ましくは３．０〜１１質量％、特に好ましくは５．０〜１０質量％である。アルカリ金属の含有量がかかる範囲であることで、ガラス基板の表層において反応因子成分の存在量を所定の範囲まで低減させることで、ヤケ等による表面の変質を抑制することが容易になる。

また、本実施形態のガラス基板は、表面粗さＲａが０．７ｎｍ以下と非常に平滑な基板が好ましい。本明細書における表面粗さＲａは、算術平均粗さ（Ｒａ）であり、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて２μｍ×２μｍ角の範囲で５１２ピクセル×５１２ピクセルの解像度でガラス基板の表面の凹凸を測定し、算出される値である。

この表面粗さＲａを０．７ｎｍ以下とすることで、表面性状の変化を抑制できる。この表面粗さＲａは０．５ｎｍ以下がより好ましく、０．４ｎｍ以下がさらに好ましく、０．３ｎｍ以下が特に好ましい。また、表面粗さＲａは０．０７ｎｍ以上が好ましい。

表面粗さＲａにより、ＳＰＩＰ（Ｓｃａｎｉｎｉｇ Ｐｒｏｂｅ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）などによる処理によって算出されるガラス基板の比表面積（Ｓｄｒ）が変動し、比表面積が大きくなるほど空気中のカルボン酸やエステル等の有機物により影響を受け、ガラス基板表面に透明性を阻害する物質が形成され、ガラス基板の性状が変化すると考えられる。

また、上記範囲の表面粗さＲａを有することで、一方の主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性を得ることもできる。特に、導光体では界面での乱反射が抑制されてゴースト現象や歪を防止できる。ここで、表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年）で定義された算術平均粗さである。

本実施形態のガラス基板は、厚さが特に制限されず、０．０１〜３．０ｍｍが好ましく、０．０１〜２．０ｍｍがより好ましい。厚さが０．０１ｍｍ以上であれば、ガラス基板ないしガラス基板の取り扱い時や加工時の破損が抑制される。また、ガラス基板の自重によるたわみを抑えられる。この厚さは、より好ましくは０．１ｍｍ以上であり、さらに好ましくは０．３ｍｍ以上であり、よりさらに好ましくは０．５ｍｍ以上である。一方で厚さが３．０ｍｍ以下であれば、ガラス基板を不必要に重くすることがなく、取り扱いが良好であり、２．０ｍｍ以下とすると、このガラス基板を用いた光学素子が軽量でありウェアラブル機器への使用にも好適である。この厚さは、より好ましくは１．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｍ以下であり、よりさらに好ましくは０．８ｍｍ以下である。

本実施形態のガラス基板は、さらに、以下の特性を有するガラスから形成されることが好ましい。
本実施形態のガラス基板を形成するガラスは、その屈折率（ｎ_ｄ）は特に制限されずに用いることができる。なお、光学素子用として用いる場合には屈折率（ｎ_ｄ）が１．６８以上であることが好ましい。ガラスの屈折率（ｎ_ｄ）を１．６８以上とすると、本実施形態のガラス基板をウェアラブル機器に用いたとき、画像の広角化、高輝度・高コントラスト化、導光特性向上、回折格子の加工容易性などを実現でき好適である。また車載用カメラ、ロボット用視覚センサーなどの用途に用いられる小型で撮像画角の広い撮像レンズとしては、より小型で広い範囲を撮影するために好適である。この屈折率（ｎ_ｄ）は好ましくは、１．７１以上であり、より好ましくは１．７３以上、さらに好ましくは１．７４以上、よりさらに好ましくは１．７５以上である。

一方で屈折率（ｎ_ｄ）が２．１０を超えるガラスは密度が高くなりやすく、また失透温度が高くなりやすい傾向がある。そのため、この屈折率（ｎ_ｄ）は２．１０以下が好ましく、２．０１以下がより好ましく、１．９７以下がさらに好ましく、１．９２以下がよりさらに好ましく、１．８８以下が特に好ましく、１．８４以下が最も好ましい。

ガラスの屈折率は、測定対象のガラスを、例えば一辺が３０ｍｍ、厚さが１０ｍｍの三角形状プリズムに加工し、屈折率計（Ｋａｌｎｅｗ社製、機器名：ＫＰＲ−２０００等）により測定することができる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスの密度（ｄ）は、５．５ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。これにより、本実施形態のガラス基板は、ウェアラブル機器に用いられた場合にユーザーの装着感を好ましいものにでき、車載用カメラ、ロボット用視覚センサーなどに用いられた場合に、装置全体の質量を減量できる。この密度（ｄ）は好ましくは５．１ｇ／ｃｍ^３以下であり、より好ましくは４．８ｇ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは４．４ｇ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは４．０ｇ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは３．７ｇ／ｃｍ^３以下、よりさらに好ましくは３．４ｇ／ｃｍ^３以下である。

一方で、ガラス基板表面に傷を付けにくくするためには、ガラスの密度（ｄ）は、２．０ｇ／ｃｍ^３以上が好ましい。より好ましくは２．２ｇ／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは２．３ｇ／ｃｍ^３以上であり、よりさらに好ましくは２．４ｇ／ｃｍ^３以上である。ガラスの密度（ｄ）はＪＩＳ Ｚ ８８０７（１９７６、液中で秤量する測定方法）に準じて測定することができる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスは、ｌｏｇη＝２となる温度Ｔ_２が７００〜１２００℃の範囲となるガラスの粘性を有することが好ましい。ここで、ｌｏｇは常用対数（ｌｏｇ_１０）を表し、ηはずり応力が０のときの粘度である。Ｔ_２は溶解性の基準温度であり、ガラスのＴ_２が高すぎると、高温で溶解する必要が生じるため、高屈折率ガラスの場合、特に短波長側の可視光透過率が低下するおそれがある。このＴ_２は好ましくは１１８０℃以下であり、より好ましくは１１５０℃以下、さらに好ましくは１１３０℃以下、よりさらに好ましくは１１１０℃以下である。

一方でＴ_２が低すぎると、粘性カーブが急峻になり、製造するにあたり粘性の制御が困難になる問題がある。本実施形態のガラス基板に用いられるガラスは、上記した範囲のＴ_２を有することで、製造特性を良好にできる。このＴ_２は好ましくは８００℃以上であり、より好ましくは９００℃以上、さらに好ましくは９５０℃以上、よりさらに好ましくは１０００℃以上、特に好ましくは１０３０℃以上である。

粘度ηがｌｏｇη＝２となる温度Ｔ_２は、サンプルを加熱して、回転粘度計を用いて粘度を測定し、その粘度の測定結果を用いて求めることができる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスの失透温度は１３００℃以下が好ましい。このような特性を有すると、成形時におけるガラスの失透を抑制でき、成形性が良好である。この失透温度は、より好ましくは１２００℃以下、さらに好ましくは１１５０℃以下、さらにより好ましくは１１２５℃以下、特に好ましくは１１００℃以下である。

ここで、失透温度とは、加熱、溶融したガラスを自然放冷により冷却する際に、ガラス表面および内部に長辺または長径で１μｍ以上の結晶が認められない最も低い温度である。失透温度の測定は、具体的には、白金皿にサンプル約５ｇを入れ、１０００℃〜１４００℃まで１０℃刻みにてそれぞれ１時間保持したものを自然放冷により冷却した後、結晶析出の有無を顕微鏡により観察して、長辺または長径で１μｍ以上の結晶の認められない最低温度を測定して失透温度と判断することができる。

また、ウェアラブル機器では、可視光線の透過率の低下を抑えることが求められるが、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスは高温で溶解することによって４００ｎｍより短波長側で透過率が低下することがある。また、車載用カメラやロボットの視覚センサーでは、可視光では判別しにくい対象物を認識するために近紫外線画像を用いることがあり、その光学系に用いられるガラスには近紫外域での透過率が高いことが求められる。

そのため、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスの、厚さ１ｍｍのガラス板にしたときの、波長３６０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_３６０）は３０％以上が好ましい。このような特性を有すると、ウェアラブル機器や車載カメラに用いるガラスとして好適である。特に、ウェアラブル機器の中で画像や映像を表示させる導光体では、導波する光路長が長くなるため短波長側の光量ロスが大きくなってしまう。本実施形態では、用いられるガラスの短波長側の透過率が３０％以上と高いため、上記のような短波長側での光量ロスが抑制されるので、可視域全体の透過率を低下させることなく所望とする色を再現しやすくなる。また、映像や画像の輝度が低下することが無い。このＴ_３６０は、より好ましくは４０％以上であり、さらに好ましくは５０％以上であり、さらにより好ましくは６０％以上、特に好ましくは６５％以上、もっとも好ましくは７０％以上である。Ｔ_３６０は、例えば、厚さ１ｍｍの両表面を鏡面研磨したガラス板について、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００等）を用いて測定できる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスのヤング率（Ｅ）は６０ＧＰａ以上が好ましい。このような特性を有すると、薄いガラス基板としてウェアラブル機器に用いた際や、レンズとして車載用カメラ、ロボット用視覚センサーなどに用いられた場合に、たわみが少ないという利点がある。特に、導光体ではメガネのフレームや表示装置に取り付けたときに、画像や映像のゴースト現象や歪みを防止できる。このＥは、より好ましくは７０ＧＰａ以上であり、さらに好ましくは８０ＧＰａ以上、よりさらに好ましくは８５ＧＰａ以上、特に好ましくは９０ＧＰａ以上である。ガラスのヤング率は、例えば、２０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍの板状のサンプルを用い、超音波精密板厚計（ＯＬＹＭＰＡＳ社製、ＭＯＤＥＬ ３８ＤＬ ＰＬＵＳ等）を用いて測定することができる（単位：ＧＰａ）。

本実施形態のガラス基板に用いられるガラスにおいて、日本光学硝子工業会規格であるＪＯＧＩＳ０６−２００８光学ガラスの化学的耐久性の測定方法（粉末法）に準拠して測定される耐水性（ＲＷ）は等級２以上が好ましい。ＲＷは、具体的には、次のように測定される。粒径が４２０〜６００μｍのガラス粉末について、１００℃の純水８０ｍＬ中に１時間浸漬したときの質量減少割合（％）を測定する。質量減少割合に応じて、所定の等級が付される。具体的には、質量減少割合が０．０５％未満では等級１、０．０５％以上０．１０％未満では等級２、０．１０％以上０．２５％未満では等級３、０．２５％以上０．６０％未満では等級４、０．６０％以上１．１０％未満では等級５、１．１０％以上では等級６とする。等級は数値の小さい方が、ＲＷが良好であることを示す。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスにおいて、ＪＯＧＩＳ０６−２００８光学ガラスの化学的耐久性の測定方法（粉末法）に準拠して測定される耐酸性（ＲＡ）は等級１以上が好ましい。ＲＡは、具体的には、次のように測定される。粒径が４２０〜６００μｍのガラス粉末について、１００℃の０．０１規定の硝酸水溶液８０ｍＬ中に１時間浸漬した時の質量減少割合（％）を測定する。質量減少割合に応じて、所定の等級が付される。具体的には、質量減少割合が０．２０％未満では等級１、０．２０％以上０．３５％未満では等級２、０．３５％以上０．６５％未満では等級３、０．６５％以上１．２０％未満では等級４、１．２０％以上２．２０％未満では等級５、２．２０％以上では等級６とする。等級は数値の小さい方が、ＲＡが良好であることを示す。

なお、耐水性（ＲＷ）および耐酸性（ＲＡ）において所定の等級「以上」とは、当該等級より優れたことを表し、当該等級より小さい値の等級を表す。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスのガラス転移点（Ｔｇ）は５００〜７００℃の範囲が好ましい。本実施形態のガラス基板に用いられるガラスは、上記した範囲のＴｇを有することで、プレス成型およびリドロー成形における成形性が良好である。このＴｇは、より好ましくは５２０℃〜６８０℃であり、さらに好ましくは５４０℃〜６６０℃、さらにより好ましくは５６０℃〜６４０℃、特に好ましくは５７０℃〜６２０℃である。Ｔｇは、例えば示差熱膨張計（ＴＭＡ）を用いて、ＪＩＳ Ｒ３１０３−３（２００１年）により測定できる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスのアッベ数（ｖ_ｄ）は、５０以下であることが好ましい。具体的には、本実施形態のガラス基板を導光板のような用途に適用する場合は、上記した範囲の低いｖ_ｄを有することで、ウェアラブル機器の光学設計が容易になり、色収差の改善もしやすくなるので、きれいな画像や映像を再現できる。ｖ_ｄは、より好ましくは４６以下であり、さらに好ましくは４２以下、よりさらに好ましくは３８以下、特に好ましくは３４以下である。ガラスのアッベ数の下限は特に限定しないが、概ね１０以上、具体的には１５以上、より具体的には２０以上であることが多い。

ガラスのアッベ数は例えば、上記屈折率測定に使用したサンプルを用いて、ｖ_ｄ＝（ｎ_ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ）により算出する。ｎ_ｄはヘリウムｄ線、ｎ_Ｆは水素Ｆ線、およびｎ_Ｃは水素Ｃ線に対する屈折率である。これらの屈折率も上記した屈折率計を使用して測定することができる。

また、本実施形態のガラス基板に用いられるガラスの、５０〜３５０℃における熱膨張係数（α）は５０〜１５０（×１０^−７／Ｋ）の範囲が好ましい。本実施形態のガラス基板に用いられるガラスは、上記した範囲のαを有することで、周辺部材との膨張マッチングが良好である。このαは、より好ましくは６０〜１３５（×１０^−７／Ｋ）であり、さらに好ましくは７０〜１２０（×１０^−７／Ｋ）、さらにより好ましくは８０〜１０５（×１０^−７／Ｋ）、特に好ましくは９０〜１００（×１０^−７／Ｋ）である。

熱膨張係数（α）は、示差熱膨張計（ＴＭＡ）を用いて３０〜３５０℃の範囲における線熱膨張係数を測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年）により３０〜３５０℃の範囲における平均線熱膨張係数を求めることができる。

〈ガラス成分〉
次に、本実施形態のガラス基板を形成するガラスが含有し得る各成分の組成範囲の一実施形態について詳細に説明する。本明細書において、各成分の含有量は、特に断りのない限り、酸化物基準のガラス母組成の全質量に対する質量％で示す。本実施形態で使用されるガラスにおいて、「実質的に含有しない」とは、不可避不純物を除き含有しないことを意味する。不可避不純物の含有量は、本実施形態において０．１質量％以下である。

本実施形態で使用されるガラスにおける母組成としては、例えば、酸化物基準の質量％表示で、ガラス形成成分として、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３およびＰ_２Ｏ_５からなる群から選ばれる少なくとも１種を５〜８０質量％、修飾酸化物としてＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｃｓ_２Ｏ、Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１種である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化物を合計で５〜７０質量％、中間酸化物としてＡｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＷＯ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化物を合計で０〜５０質量％、を含有する組成が挙げられる。この組成のガラスは、高屈折率を有し、光透過率が良好であって、さらに溶解性が高いという特性を満たす。

このようなガラスの組成としては、具体的には、（１）Ｌａ−Ｂ系、（２）ＳｉＯ_２系、（３）Ｐ_２Ｏ_５系のガラスが挙げられる。なお、ガラス組成における含有量の説明で、単に「％」との表記は、特に説明をしている場合を除き「質量％」を意味する。

（１）Ｌａ−Ｂ系としては、例えば、母組成の合計を１００％としたとき、Ｌａ_２Ｏ_３を５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜７０％含有するガラスが例示できる。

Ｌａ_２Ｏ_３成分を５％以上含有することで、所望の高屈折率にでき、且つ分散を小さく（アッベ数を大きく）できる。従って、Ｌａ_２Ｏ_３成分の含有量は、好ましくは１０％、より好ましくは１５％、さらに好ましくは２０％、さらに好ましくは２５％を下限とする。
他方で、Ｌａ_２Ｏ_３成分の含有量を７０％以下にすることで、ガラスの溶融性の低下を抑えられ、ガラスの耐失透性を高められる。従って、Ｌａ_２Ｏ_３成分の含有量は、好ましくは６０％、より好ましくは５０％、さらに好ましくは４０％、さらに好ましくは３０％を上限とする。

Ｂ_２Ｏ_３は、ガラス形成成分であり、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、５〜７０％が好ましい。
Ｂ_２Ｏ_３成分を５％以上含有することで、ガラスの耐失透性を高められ、且つガラスの分散を小さくできる。従って、Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量は、好ましくは１０％、より好ましくは１５％、さらに好ましくは２０％を下限とする。
他方で、Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量を７０％以下にすることで、より大きな屈折率を得易くでき、化学的耐久性の悪化を抑えられる。従って、Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量は、好ましくは５０％、より好ましくは４０％、さらに好ましくは３０％、さらに好ましくは２５％を上限とする。

ＳｉＯ_２は、ガラス形成成分である。ＳｉＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２５％である。ＳｉＯ_２を含有することで、ガラスに高い強度とクラック耐性を付与し、ガラスの安定性および化学的耐久性を向上できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは２％以上であり、より好ましくは４％以上であり、さらに好ましくは６％以上である。一方、ＳｉＯ_２の含有量が２５％以下で、高い屈折率を得るための成分を含有できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下、よりさらに好ましくは８％以下である。

ＭｇＯは任意成分である。ＭｇＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％が好ましい。ＭｇＯ成分を含有することで、ガラスの機械的強度を向上できる。ＭｇＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。ＭｇＯの含有量が２０％以下であれば失透温度を低くし、好ましい製造特性が得られる。ＭｇＯの含有量は、より好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは５％以下である。

ＣａＯは任意成分である。ＣａＯの含有量は、母組成の合計１００％としたとき、０〜３０％が好ましい。ＣａＯ成分を含有することで、ガラスの化学的耐久性を向上できる。ＣａＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。ＣａＯの含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＣａＯの含有量は、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＳｒＯは任意成分である。ＳｒＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％が好ましい。ＳｒＯ成分を含有することで、ガラスの屈折率を向上できる。ＳｒＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。ＳｒＯの含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＳｒＯの含有量は、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下であり、特に好ましくは５％以下である。

ＢａＯは任意成分である。ＢａＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜４０％が好ましい。ＢａＯ成分を含有することで、ガラスの屈折率を向上できる。ＢａＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上である。ＢａＯの含有量が４０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＢａＯの含有量は、より好ましくは３０％以下であり、さらに好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。

ＺｎＯは任意成分である。ＺｎＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％が好ましい。ＺｎＯ成分を含有することで、ガラスの屈折率を向上できる。ＺｎＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。ＺｎＯの含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＺｎＯの含有量は、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下であり、特に好ましくは５％以下である。

Ｌｉ_２Ｏは任意成分である。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜１５％が好ましい。Ｌｉ_２Ｏを含有させると、強度（Ｋｃ）およびクラック耐性（ＣＩＬ）を向上できる。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、より好ましくは０．５％以上であり、さらに好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。一方、Ｌｉ_２Ｏの含有量が１５％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。Ｌｉ_２Ｏの含有量は好ましくは１０％以下であり、より好ましくは７％以下であり、さらに好ましくは５％以下であり、特に好ましくは４％以下である。

Ｎａ_２Ｏは任意成分である。Ｎａ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％である。Ｎａ_２Ｏの含有量が２０％以下であれば良好なクラック耐性が得られる。Ｎａ_２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは７％以下であり、特に好ましくは５％以下である。本実施形態のガラスがＮａ_２Ｏを含有する場合、失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られ、その含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは２％以上であり、特に好ましくは３％以上である。

Ｋ_２Ｏは任意成分である。Ｋ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％である。Ｋ_２Ｏの含有量が２０％以下であれば良好なクラック耐性が得られる。
Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは７％以下である。本実施形態のガラスがＫ_２Ｏを含有する場合、失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。その含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは２％以上であり、特に好ましくは３％以上である。

また、本実施形態のガラスにおいては、任意成分としてアルカリ金属成分（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を含有できる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％である。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが２％以上であれば、Ｔ_２が低くなり易く、溶解温度が低くなり着色を抑えられる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏは、好ましくは４％以上であり、より好ましくは６％以上である。また、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量を２０％以下にすることで失透温度を下げ好ましい製造特性が得られる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは８％以下である。「Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ」はＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属酸化物成分の合量を示すものである。

本実施形態のガラスにおいて、アルカリ金属成分（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ）のなかでも、Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの強度を向上させる成分であるが、その量が多いとＴ_２が低くなり易く失透し易くなる。そこで、本実施形態のガラスでは、酸化物基準の質量％による比の値で、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は０．４５以下が好ましい。Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０．４５以下とすることで、Ｔ_２が高くなりやすく、失透し難くなりガラスの易成形性が向上する。Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は、より好ましくは０．４以下であり、さらに好ましくは０．３５以下であり、特に好ましくは０．３以下である。

なお、上記のように本実施形態のガラス基板において、表層のアルカリ金属成分の濃度は低いことが求められ、ここで記載するガラス組成で作製した板状ガラスの表層のアルカリ金属成分の濃度が高い場合は、板状ガラスとした後、その表層におけるアルカリ金属成分の濃度を低減させる処理を行うことが好ましい。この処理については、ガラス基板の製造方法の説明において後述する。

Ｃｓ_２Ｏは任意成分である。Ｃｓ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％である。Ｃｓ_２Ｏの含有量が０％超であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。本実施形態のガラスがＣｓ_２Ｏを含有する場合、その含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは２％以上であり、特に好ましくは３％以上である。一方、Ｃｓ_２Ｏの含有量が２０％以下であれば良好なクラック耐性が得られる。Ｃｓ_２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは７％以下である。

Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１種である。）は任意成分である。Ｌｎ_２Ｏ_３の合量としての含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、５〜５５％である。Ｌｎ_２Ｏ_３を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。Ｌｎ_２Ｏ_３の合量としての含有量は、好ましくは１０％以上であり、より好ましくは１５％以上であり、さらに好ましくは２０％以上であり、特に好ましくは２５％以上である。
また、Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量が５５％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。そのため、合量としての含有量は、好ましくは５５％以下であり、より好ましくは４５％以下であり、さらに好ましくは３５％以下であり、特に好ましくは３０％以下である。

Ａｌ_２Ｏ_３は任意成分である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３５％である。Ａｌ_２Ｏ_３を含有させると、ガラスの強度を高めるとともにガラスの安定性を向上できる。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上である。
また、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が３５％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは２０％以下であり、よりＡｌ_２Ｏ_３の含有量１０％以下であり、さらにＡｌ_２Ｏ_３の含有量８％以下である。

ＴｉＯ_２は任意成分である。ＴｉＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３５％である。ＴｉＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を高めるとともにガラスの安定性を向上できる。ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは７％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
また、ＴｉＯ_２の含有量が３５％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＺｒＯ_２は任意成分である。ＺｒＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＺｒＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を高めるとともに化学耐久性を向上できる。ＺｒＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは１０％以上であり、特に好ましくは１５％以上である。
また、ＺｒＯ_２の含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＺｒＯ_２の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下である。

ＷＯ_３は任意成分である。ＷＯ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＷＯ_３を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。ＷＯ_３の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
また、ＷＯ_３の含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。ＷＯ_３の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下である。

Ｂｉ_２Ｏ_３は任意成分である。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜５５％である。Ｂｉ_２Ｏ_３を含有させる、ガラスの屈折率を向上できる。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。 また、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量が５５％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは３５％以下であり、より好ましくは２５％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＴｅＯ_２は任意成分である。ＴｅＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＴｅＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。ＴｅＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上である。
また、ＴｅＯ_２の含有量が３０％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。ＴｅＯ_２の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１０％以下である。

Ｔａ_２Ｏ_５は任意成分である。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。Ｔａ_２Ｏ_５を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上である。
また、Ｔａ_２Ｏ_５の含有量が３０％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは１０％以下である。

Ｎｂ_２Ｏ_５は任意成分である。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３５％である。Ｎｂ_２Ｏ_５を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは５％以上であり、より好ましくは１０％以上であり、さらに好ましくは１５％以上である。
また、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量が３５％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは３０％以下であり、より好ましくは２５％以下である。
Ｌａ−Ｂ系の好ましい組成としては、酸化物基準の質量％表示で、Ｌａ_２Ｏ_３：２０〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３：１０〜２０％、ＳｉＯ_２：０〜１０％、ＣａＯ：５〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ：０〜２０％、ＺｎＯ：０〜５％、ＴｉＯ_２：５〜１５％、ＺｒＯ_２：５〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：１５〜２５％、Ａｓ_２Ｏ_３：０〜２％、Ｓｂ_２Ｏ_３：０〜２％を含有する高屈折率ガラス組成物が例示できる。

（２）ＳｉＯ_２系としては、例えば、ＳｉＯ_２を１０〜５０％含有し、高屈折率成分としてＮｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＷＯ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２およびＬｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１種である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種を３０％以上含有するガラスが例示できる。

ＳｉＯ_２は、ガラス形成成分である。ＳｉＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、１０〜５０％である。ＳｉＯ_２の含有量が１０％以上で、ガラスの粘性がｌｏｇη＝２となる温度Ｔ_２を好ましい範囲にし、ガラスに高い強度とクラック耐性を付与し、ガラスの安定性および化学的耐久性を向上できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは１５％以上であり、より好ましくは２０％以上であり、さらに好ましくは２５％以上であり、よりさらに好ましくは２９％以上である。一方、ＳｉＯ_２の含有量が４５％以下で、高い屈折率を得るための成分を含有できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは４０％以下であり、より好ましくは３５％以下であり、さらに好ましくは３０％以下である。

Ｎｂ_２Ｏ_５は、任意成分である。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、５％以上とすることでガラスの屈折率を高めるとともに、アッベ数（ｖ_ｄ）を小さくできる。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは１５％以上、より好ましくは２０％以上であり、さらに好ましくは２５％以上であり、特に好ましくは３０％以上である。

また、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量が７０％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは６５％以下であり、より好ましくは６０％以下であり、さらに好ましくは５５％以下であり、さらにより好ましくは５０％以下である。

Ｔａ_２Ｏ_５は任意成分である。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、１％以上とすることで屈折率を向上できる。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、より好ましくは５％以上である。
また、Ｔａ_２Ｏ_５の含有量が３０％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは１０％以下である。

また、本実施形態のガラスにおいては、任意成分としてアルカリ金属成分（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を含有できる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２０％である。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが２％以上であれば、Ｔ_２が低くなり易く、溶解温度が低くなり着色を抑えられる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは４％以上であり、より好ましくは６％以上である。また、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量を２０％以下にすることで失透温度を下げ、好ましい製造特性が得られる。Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは８％以下である。

本実施形態のガラスにおいて、アルカリ金属成分（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ）のなかでも、Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの強度を向上させる成分であるが、その量が多いとＴ_２が低くなり易く失透し易くなる。そこで、本実施形態のガラスでは、酸化物基準の質量％による比の値で、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は０．４５以下が好ましい。Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０．４５以下とすることで、Ｔ_２が高くなりやすく、失透し難くなりガラスの易成形性が向上する。Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は、より好ましくは０．４以下であり、さらに好ましくは０．３５以下であり、特に好ましくは０．３以下である。

以下に示すアルカリ土類金属成分（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ）の合量（ＲＯ）とアルカリ金属成分（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ）の合量（Ｒ’_２Ｏ）との関係が、ＲＯ＞２×Ｒ’_２Ｏを満たす場合には、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は０．７５以上でもよい。

また、本実施形態のガラスでＬｉ_２ＯやＮａ_２Ｏのアルカリ金属酸化物を含有するものは、ＬｉイオンをＮａイオンまたはＫイオンに、ＮａイオンをＫイオンに置換することで、化学的に強化できる。すなわち、化学強化処理すれば、ガラス基板の強度を向上させることができる。

Ｌｉ_２Ｏは任意成分である。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜１５％が好ましい。Ｌｉ_２Ｏを含有させると、強度（Ｋｃ）およびクラック耐性（ＣＩＬ）を向上できる。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、より好ましくは０．５％以上であり、さらに好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。一方、Ｌｉ_２Ｏの含有量が１５％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、好ましくは１０％以下であり、より好ましくは９％以下であり、さらに好ましくは７％以下であり、よりさらに好ましくは５％以下であり、特に好ましくは４％以下である。
本実施形態のガラスを化学強化する場合には、Ｌｉ_２Ｏの含有割合は、１．０％以上が好ましく、１．５％以上がより好ましく、２．５％以上がさらに好ましく、３．５％以上が特に好ましい。

Ｎａ_２Ｏは、任意成分であり、失透を抑制し、Ｔｇを低くする成分である。Ｎａ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０％以上１０％以下である。Ｎａ_２Ｏを含有させると、優れた失透抑制効果が得られる。一方、Ｎａ_２Ｏは、多すぎると、強度およびクラック耐性が低下し易い。本実施形態のガラスがＮａ_２Ｏを含有する場合、その含有量は、０．５％以上が好ましく、１％以上がより好ましく、２％以上がさらに好ましく、３％以上が特に好ましい。また、Ｎａ_２Ｏの含有量は、９％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、７％以下がさらに好ましい。
本実施形態のガラスを化学強化する場合には、Ｎａ_２Ｏの含有割合は、１．０％以上が好ましく、１．５％以上がより好ましく、２．５％以上がさらに好ましく、３．５％以上が特に好ましい。

Ｋ_２Ｏは、任意成分であり、ガラスの溶融性を向上させる成分であるとともに、失透を抑制する成分である。Ｋ_２Ｏの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０％以上１０％以下である。Ｋ_２Ｏを含有させると、失透抑制効果が向上される。一方、Ｋ_２Ｏは、多すぎると、密度が増加し易い。Ｋ_２Ｏの含有量は、０．３％以上が好ましく、０．５％以上がより好ましく、１％以上がさらに好ましい。また、Ｋ_２Ｏの含有量は、１０％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、６％以下がさらに好ましい。

ＭｇＯは、任意成分である。ＭｇＯは、ガラスの溶融性を向上させ、失透を抑制し、ガラスのアッベ数や屈折率等の光学恒数を調整する成分である。一方、ＭｇＯの量が多くなると、かえって失透を促進してしまう。そのため、ＭｇＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０％以上１０％以下が好ましい。ＭｇＯの含有量は、８％以下がより好ましく、６％以下が特に好ましい。また、ＭｇＯの含有割合は、０．３％以上が好ましく、０．５％以上がより好ましく、１％以上がさらに好ましい。

ＣａＯは、任意成分である。ＣａＯは、失透を抑制する成分であるが、ＣａＯの量が多いと、クラック耐性が低下し易い。そのため、ＣａＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０％以上１５％以下が好ましい。ＣａＯの含有量は、１２％以下がより好ましく、１０％以下が特に好ましい。また、ＣａＯの含有量は、０．３％以上がより好ましく、０．５％以上がさらに好ましく、１％以上が特に好ましい。

ＳｒＯは任意成分である。ＳｒＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％が好ましい。ＳｒＯ成分を含有することで、ガラスの屈折率を向上させることができる。ＳｒＯの含有量は、より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上である。この含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＳｒＯの含有量は、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下であり、特に好ましくは５％以下である。

ＢａＯは任意成分である。ＢａＯの含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜５０％が好ましい。ＢａＯ成分を含有することで、ガラスの屈折率を向上させることができる。より好ましくは１％以上であり、さらに好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上である。この含有量が５０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＢａＯの含有量は、より好ましくは３５％以下であり、さらに好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。

ＴｉＯ_２は任意成分である。ＴｉＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３５％である。ＴｉＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を向上させ、ガラスの安定性を向上できる。ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは７％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
また、ＴｉＯ_２の含有量が３５％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは２５％以下であり、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＺｒＯ_２は任意成分である。ＺｒＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＺｒＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を向上させ、化学耐久性を向上できる。ＺｒＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは１０％以上である。
また、ＺｒＯ_２の含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。ＺｒＯ_２の含有量は、好ましくは３０％以下であり、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＷＯ_３は任意成分である。ＷＯ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＷＯ_３を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。ＷＯ_３の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
また、ＷＯ_３の含有量が３０％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。ＷＯ_３の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下である。

Ｂｉ_２Ｏ_３は任意成分である。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜５５％である。Ｂｉ_２Ｏ_３を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
また、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量が５５％以下であれば失透温度が低くなり、ガラスの着色を抑えられる。Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは３５％以下であり、より好ましくは２５％以下であり、さらに好ましくは１５％以下である。

ＴｅＯ_２は任意成分である。ＴｅＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜３０％である。ＴｅＯ_２を含有させると、ガラスの屈折率を向上できる。ＴｅＯ_２の含有量は、好ましくは１％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは１０％以上であり、特に好ましくは１５％以上である。
また、ＴｅＯ_２の含有量が３０％以下であれば失透温度を低くできる上、原料コストを下げられる。ＴｅＯ_２の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１０％以下である。

Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙｂ、およびＬｕからなる群から選ばれる１種以上である。）を含有することで、ガラスの屈折率を向上できる。Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、好ましくは１％以上であり、より好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。一方、Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量が、母組成の合計を１００％としたとき、５５％以下であれば失透温度が低くなり、好ましい製造特性が得られる。Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量は、合計で、好ましくは３５％以下であり、さらに好ましくは２０％以下であり、特に好ましくは１５％以下である。

Ｂ_２Ｏ_３は、任意成分である。Ｂ_２Ｏ_３は、Ｔｇを低くし、ガラスの強度やクラック耐性などの機械的特性を向上させる成分であるが、Ｂ_２Ｏ_３の量が多いと屈折率が低下し易い。そのため、Ｂ_２Ｏ_３の含有割合は、０％以上１０％以下が好ましい。Ｂ_２Ｏ_３の含有割合は、８．５％以下がより好ましく、６．５％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。また、Ｂ_２Ｏ_３の含有割合は、０．３％以上がより好ましく、０．５％以上がさらに好ましく、１％以上が特に好ましい。

Ａｌ_２Ｏ_３は、任意成分である。Ａｌ_２Ｏ_３は、化学的耐久性を向上させる成分であるが、Ａｌ_２Ｏ_３が多くなると、ガラスが失透し易くなる。そのため、Ａｌ_２Ｏ_３の含有割合は０％以上５％以下が好ましい。Ａｌ_２Ｏ_３の含有割合は３％以下がより好ましく、２％以下が特に好ましい。またＡｌ_２Ｏ_３の含有割合は０．３％以上がより好ましく、０．５％以上がさらに好ましく、１％以上が特に好ましい。

ＺｎＯは、任意成分であり、ガラスの強度やクラック耐性などの機械的特性を向上させる成分である。一方、ＺｎＯの量が多いと失透し易くなるため、その含有割合は０％以上１５％以下が好ましい。ＺｎＯの含有割合は、１３％以下がより好ましく、１２％以下がさらに好ましく、１０％以下が特に好ましい。また、ＺｎＯの含有割合は、０．３％以上がより好ましく、０．５％以上がさらに好ましく、１％以上が特に好ましい。

Ｌａ_２Ｏ_３は、任意成分である。Ｌａ_２Ｏ_３は、ガラスの屈折率を向上させる成分であるが、Ｌａ_２Ｏ_３の量が多すぎると機械的特性が低下する。そのため、Ｌａ_２Ｏ_３の含有割合は、０％以上１２％以下が好ましい。Ｌａ_２Ｏ_３の含有割合は、１０％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましい。Ｌａ_２Ｏ_３は、実質的に含有しないことが好ましい。

Ａｓ_２Ｏ_３は、有害な化学物質であるため、近年使用を控える傾向にあり、環境対策上の措置が必要とされる。従って、環境上の影響を重視する場合には、不可避な混入を除き、実質的に含有しないことが好ましい。

さらに本実施形態のガラスには、Ｓｂ_２Ｏ_３およびＳｎＯ_２のうちの少なくとも一種が含有されることが好ましい。これらは必須の成分ではないが、屈折率特性の調整、溶融性の向上、着色の抑制、透過率の向上、清澄、化学的耐久性の向上などの目的で添加できる。これらの成分を含有させる場合、合計で、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましく、１％以下が特に好ましい。

さらに本実施形態のガラスには、Ｆが含有されることが好ましい。Ｆは必須ではないが、溶解性の向上、透過率の向上、清澄性向上などの目的で添加できる。Ｆを含有させる場合は、５％以下が好ましく、３％以下がより好ましい。

ＳｉＯ_２系の好ましい組成（ＳｉＯ_２系組成Ａ）としては、酸化物基準の質量％表示で、Ｎｂ_２Ｏ_５：５％〜６５％、ＢａＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＷＯ_３、およびＬｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１種である）からなる群から選ばれる少なくとも１種を０％〜３０％、ＳｉＯ_２：１５％〜５０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが２％〜２０％であり、Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）が０．４５以下を含有する高屈折率ガラス組成物が例示できる。当該高屈折率ガラスの具体的な組成としては、Ｂ_２Ｏ_３：０％〜１０％、ＭｇＯ：０％〜１０％、ＣａＯ：０％〜１５％、ＳｒＯ：０％〜１５％、ＢａＯ：０％〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ：０％〜９％、Ｎａ_２Ｏ：０％〜１０％、Ｋ_２Ｏ：０％〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３：０％〜５％、ＴｉＯ_２：０％〜１５％、ＷＯ_３：０％〜１５％、ＺｒＯ_２：０％〜１５％、ＺｎＯ：０％〜１５％である。

また、ＳｉＯ_２系の別の好ましい他の組成（ＳｉＯ_２系組成Ｂ）としては、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２：２５〜４０％、ＲＯ：０〜１０％、Ｒ’_２Ｏ：０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ’_２Ｏ≦０．４５、Ｌｎ_２Ｏ_３：０〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：２０〜５５％を含有する高屈折率ガラス組成物が例示できる。また、ＳｉＯ_２系の別の好ましい組成（ＳｉＯ_２組成Ｃ）としては、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２：１５〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：４０〜６５％、ＲＯ：０〜１０％、Ｒ’_２Ｏ：０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ’_２Ｏ≦０．４５である高屈折率ガラス組成物が例示できる。別の好ましい組成（ＳｉＯ_２系組成Ｄ）としては、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２：２５〜４０％、ＣａＯ：０〜５％、ＳｒＯ：３〜１０％、ＢａＯ：５〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ：４〜８％、Ｎａ_２Ｏ：０．３〜３％、ＲＯ＞２×Ｒ’_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ’_２Ｏ：０．６５〜０．９５、ＴｉＯ_２：３〜１５％、ＺｒＯ_２：３〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５：１０〜３０％を含有する高屈折率ガラス組成物が例示できる。

（３）Ｐ_２Ｏ_５系としては、例えば、Ｐ_２Ｏ_５を１０〜７０質量％含有し、高屈折率成分としてＮｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＷＯ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２およびＬｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、ＹｂおよびＬｕからなる群から選ばれる少なくとも１種である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種を１％以上含有するガラスが例示できる。

Ｐ_２Ｏ_５はガラスを構成するガラス形成成分であり、ガラスに製造可能な安定性を持たせ、ガラス転移点と液相温度を小さくする作用が大きい。しかし、Ｐ_２Ｏ_５の含有量が、母組成の合計を１００％としたとき、１０％未満であると十分な効果が得られない。Ｐ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは１５％以上、より好ましくは２０％以上、さらに好ましくは３０％以上、特に好ましくは４０％以上である。また、Ｐ_２Ｏ_５の含有量が７０％以下であれば、良好な化学的耐久性が得られる。Ｐ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは６５％以下、より好ましくは６０％以下、さらに好ましくは５５％以下、特に好ましくは５０％以下である。

ＳｉＯ_２は、ガラス形成成分である。ＳｉＯ_２の含有量は、母組成の合計を１００％としたとき、０〜２５％である。ＳｉＯ_２を含有することで、ガラスに高い強度とクラック耐性を付与し、ガラスの安定性および化学的耐久性を向上できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは２％以上であり、より好ましくは４％以上であり、さらに好ましくは６％以上である。一方、ＳｉＯ_２の含有量が２５％以下で、高い屈折率を得るための成分を含有できる。ＳｉＯ_２の含有量は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下、よりさらに好ましくは８％以下である。

なお、高屈折率成分については、上記（２）ＳｉＯ_２と同一であるため、重複する説明は省略する。

なお、（１）Ｌａ−Ｂ系もしくは（３）Ｐ_２Ｏ_５系のガラス基板について、二次イオン質量分析法（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＳＩＭＳ）を用いて水素濃度を求める際や、Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いた飛行時間型二次イオン質量分析法（Ｔｉｍｅ−ｏｆ−ｆｌｉｇｈｔ ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を用いて反応因子成分の欠乏量および反応因子成分の低下率を求める際は、Ｓｉに関係した二次イオンの代わりに、ＢまたはＰに関係した二次イオンを用いてもよい。ＢまたはＰに関係した二次イオンの強度がＳｉに関係した二次イオンの強度よりも高い場合は、ＢまたはＰに関係した二次イオンを選択する方が好ましい。

本実施形態のガラス基板は、ガラス基板の少なくとも一方の主表面上に、反射防止膜、反射膜、紫外線吸収膜、赤外線吸収膜等の膜を設けてもよい。これらの膜は、ガラス基板の一方の主表面上のみに備えられてよいし、両方の主表面上に備えられてもよい。

これらの膜はいずれも公知の膜とすればよく、例えば、反射防止膜は、ガラス基板よりも屈折率の低い材料を単層で成膜したものや、高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した構成としたもの等が挙げられる。なお、ここでいう高屈折率膜とは、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の膜であり、低屈折率層膜とは、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６以下の膜である。

［ガラス基板の製造方法］
本実施形態のガラス基板は、例えば以下のように製造される。すなわち、まず、上記所定のガラス組成となるように原料を秤量し、均一に混合する。作製した混合物を白金坩堝、石英坩堝またはアルミナ坩堝に投入して粗溶融する。その後、金坩堝、白金坩堝、白金合金坩堝、強化白金坩堝またはイリジウム坩堝に入れて１２００〜１４００℃の温度範囲で２〜１０時間溶融し、脱泡、撹拌などにより均質化して泡切れ等を行った後、金型に鋳込んで徐冷する。これによりガラスが得られる。

さらに、このガラスを溶融し、溶融ガラスをフロート法、フュージョン法、ロールアウト法といった成型方法によって板状に成形することで板状ガラスが得られる。

上記のように製造されるガラスの残留泡は、１ｋｇ当たり１０個（１０個／ｋｇ）以下が好ましく、７個／ｋｇ以下がより好ましく、５個／ｋｇ以下がさらに好ましく、３個／ｋｇ以下が特に好ましい。上記した方法で板状ガラスを成形する場合、残留泡が１０個／ｋｇ以下であれば、泡の含まれない板状ガラスを効率よく成形できる。また、残留泡が内部に包まれる最小サイズの円の直径を残留泡の個々の大きさとしたとき、残留泡の個々の大きさは８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下がさらに好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。

また、前記直径を残留泡の縦方向の長さＬ_１とし、この直径と垂直に交わる直線で残留泡の最大長さとなる直線の長さを残留泡の横方向の長さＬ_２としたとき、残留泡の形状を縦横比で表すとＬ_２／Ｌ_１は０．９０以上が好ましく、０．９２以上がより好ましく、０．９５以上がさらに好ましい。このようにＬ_２／Ｌ_１が０．９０以上であれば、残留泡は真円（真球）に近い状態となり、例え残留泡が含まれていたとしても、楕円の残留泡と比べるとガラスの強度低下が抑えられ、板状ガラスを作成するときに、残留泡が起点となる割れの発生を抑制できる。また、板状ガラスに残留泡が存在しても、楕円の残留泡と比べると板状ガラスに入射する光の異方散乱が抑えられる効果も有する。残留泡の大きさや形状は、レーザ顕微鏡（キーエンス社製：ＶＫ−Ｘ１００）によって測定された値から得られる。

次いで、上記で得られた板状ガラスの少なくとも一方の主表面を、研磨する研磨工程（ポリッシング工程）を行うことが好ましい。研磨は、公知の研磨方法を採用すればよく、例えば、研磨スラリーを供給しながら研磨パッドでガラスを研磨する工程が挙げられる。研磨条件は、所望の表面粗さとなる条件で行うものであれば特に制限されずに行うことができる。板状ガラスの表面を研磨することで、その表面のマクロな傷が除去され、例えば、このとき板状ガラスの表面粗さ（Ｒａ）が０．７ｎｍ以下となるようにする。

この研磨工程の操作は公知の方法により行えばよく、例えば、平均粒径約０．７μｍの酸化セリウムを水に分散させて比重０．９のスラリーを作製し、不織布タイプ、またはスウェードタイプの研磨パッドを用いて、研磨圧５０〜１００ｇ／ｃｍ^２の条件で、片面あたり０．５μｍ以上表面を研磨する等の一般的な方法で行うことができる。

酸化セリウムの平均粒子直径（ｄ_５０）が通常０．５〜１．５μｍの研磨砥粒を用いて板状ガラスの表面を研磨するとよく、その研磨による研磨傷がガラス表面に残ると板状ガラスの強度が低下するおそれがあるが、研磨工程後に後述する表面処理工程を行うことにより、該研磨傷を薄くして強度を向上することができる。

さらに、得られた板状ガラスに対し、酸洗浄処理を行い、ガラス基板の表層における反応因子成分の存在量を低減させる。

ここで行う酸洗浄処理は、研磨処理された板状ガラスの表面を酸により洗浄し、表層から反応因子成分を脱離するものである。この表層から反応因子成分が脱離する際に、電荷補償のため水素イオンまたはオキソニウムイオンが導入されることが多い。ここで用いる酸としては、酸性の溶液であればよく、酸としては有機酸および無機酸が挙げられる。有機酸としては、酢酸、クエン酸、シュウ酸、コハク酸、リンゴ酸、マレイン酸等が挙げられ、無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、炭酸等が挙げられ、水溶液であることが好ましい。この酸としては、無機酸が好ましく、中でも塩酸、硝酸が好ましい。また、これらの酸を２種類以上混ぜて使用することも可能である。また、水溶液ではなく酸性ガスを用いて反応因子成分を脱離することも可能である。

水素イオンやオキソニウムイオンのガラス表層への導入量は、表層０〜１００ｎｍ領域の平均水素濃度Ｈｓと内部１００〜５００ｎｍ領域の平均水素濃度Ｈｂとの関係が、１．０１≦Ｈｓ／Ｈｂ＜５０を満たす範囲内となることが好ましい。

ここで、本実施形態における表層の平均水素濃度Ｈｓと内部の平均水素濃度Ｈｂは以下のようにして求められる。

〔水素濃度測定方法〕
以下の手順に従って、二次イオン質量分析法（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＳＩＭＳ）にてガラスの水素濃度を測定し、表層および内部の平均水素濃度を求める。なお、水素濃度測定においては、ガラス基板の表層とは０〜１００ｎｍの深さ領域のことであり、内部とは１００〜５００ｎｍの深さ領域のことである。

測定対象のガラスをＳＩＭＳ装置内へ搬送し、順番に測定を行い、^１Ｈ⁻および^３０Ｓｉ⁻の強度の深さ方向プロファイルを取得する。その後、^１Ｈ⁻プロファイルから^３０Ｓｉ⁻プロファイルを除して、^１Ｈ⁻／^３０Ｓｉ⁻強度比の深さ方向プロファイルを得る。ここで、各試料の^１Ｈ⁻／^３０Ｓｉ⁻強度比の深さ方向プロファイルより、深さ０ｎｍから１００ｎｍまでの領域における平均^１Ｈ⁻／^３０Ｓｉ⁻強度比を表層の平均水素濃度Ｈｓとする。同様に、各試料の^１Ｈ⁻／^３０Ｓｉ⁻強度比の深さ方向プロファイルより、深さ１００ｎｍから５００ｎｍまでの領域における平均^１Ｈ⁻／^３０Ｓｉ⁻強度比を内部の平均水素濃度Ｈｂとする。求めた表層の平均水素濃度Ｈｓと内部の平均水素濃度Ｈｂを除して、Ｈｓ／Ｈｂを求める。なお、ＳＩＭＳの測定条件は以下の通りである。

（ＳＩＭＳの測定条件）
装置：アルバック・ファイ社製 ＡＤＥＰＴ１０１０
一次イオン種：Ｃｓ^＋
一次イオンの加速電圧：５ｋＶ
一次イオンの電流値：２００ｎＡ一次イオンの入射角：試料面の法線に対して６０°
一次イオンのラスターサイズ：３００×３００μｍ^２
二次イオンの極性：マイナス
二次イオンの検出領域：６０×６０μｍ^２（一次イオンのラスターサイズの４％）
ＥＳＡ Ｉｎｐｕｔ Ｌｅｎｓ：０
中和銃の使用：有
横軸をスパッタ時間から深さへ変換する方法：分析クレーターの深さを触針式表面形状測定器（Ｖｅｅｃｏ社製Ｄｅｋｔａｋ１５０）によって測定し、一次イオンのスパッタレートを求める。このスパッタレートを用いて、横軸をスパッタ時間から深さへ変換する。
^１Ｈ⁻検出時のＦｉｅｌｄ Ａｘｉｓ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ：装置ごとに最適値が変化する可能性がある。バックグラウンドが充分にカットされるように測定者が注意しながら値を設定する。測定開始前のメインチャンバーの真空度：測定精度を確保するために、３．０×１０^−９Ｔｏｒｒよりも高真空にする必要がある。

こうして求めた表層の平均水素濃度Ｈｓと内部の平均水素濃度Ｈｂとの関係が、１．０１≦Ｈｓ／Ｈｂを満たす範囲内とすることでヤケ等による表面の変質を抑制することができる。Ｈｓ／Ｈｂは、より好ましくは１．１≦Ｈｓ／Ｈｂであり、さらに好ましくは１．５≦Ｈｓ／Ｈｂであり、さらに好ましくは５．０≦Ｈｓ／Ｈｂであり、さらに好ましくは１０．０≦Ｈｓ／Ｈｂであり、特に好ましくは１５．０≦Ｈｓ／Ｈｂである。ＨｓとＨｂの関係がＨｓ／Ｈｂ＜５０を満たす範囲内とすることで、ガラスの化学的耐久性が向上する。Ｈｓ／Ｈｂは、より好ましくはＨｓ／Ｈｂ＜４５であり、さらに好ましくはＨｓ／Ｈｂ＜４０あり、さらに好ましくはＨｓ／Ｈｂ＜３５であり、さらに好ましくはＨｓ／Ｈｂ＜２５であり、特に好ましくはＨｓ／Ｈｂ＜２０である。

なお、この酸洗浄に用いる酸としては、フッ酸等のフッ素化合物は含まない。一般に、フッ素化合物はガラスの溶解性に富むため、本実施形態のように、ガラス基板の表面粗さＲａを上記した範囲とすることが難しい。

ここで用いる酸性の溶液としては、ｐＨが４以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましく、２以下であることがさらに好ましい。

また、この酸洗浄工程では、板状ガラスの表面に対して、ガラス基板のガラス組成、表面処理に用いる溶液の温度または濃度等を適宜調整することにより調整することができ、ガラス基板の表層における反応因子成分濃度を所望の範囲とすることができる。

上記のような酸洗浄を行うためには、酸溶液を貯留した酸洗浄槽を用意し、該酸洗浄槽に洗浄対象の板状ガラスを浸漬させればよい。

このとき、所望の性状のガラス基板が得られるように、酸溶液の濃度や温度、浸漬時間等を適宜調整すればよい。酸溶液の濃度は、例えば、ｐＨが０．１〜４が好ましく、０．５〜３がより好ましく、０．５〜１がさらに好ましい。酸溶液ｐＨを４以下とすることで効果的に表面の反応因子成分を低減させることができ、ｐＨ０．５以上とすることで表面粗さの悪化を抑制できる。また、酸溶液の温度は、２０〜９０℃が好ましく、３０〜８０℃がより好ましく、３０〜５０℃が特に好ましい。２０℃以上とすることで効果的に表面の反応因子成分を低減させることができ、９０℃以下とすることで蒸発により濃縮することによって、表面の反応因子成分の低減量または低減率が経時的に変化するのを抑制することができる。また、酸溶液への浸漬時間は、１〜１４４０分が好ましく、１〜６０分がより好ましく、１〜１０分がさらに好ましい。浸漬時間を１分以上とすることで効果的に表面の反応因子成分を低減させることができ、１４４０分以下とすることでガラス成分の溶出による酸溶液のｐＨ変化を小さくし、表面の反応因子成分の低減量または低減率が経時的に変化するのを抑制することができる。

また、硝酸水溶液を用いる場合、例えば、ｐＨ ０．５〜２．５、３０〜８０℃とし、板状ガラスの浸漬時間を３〜３０分とすることが好ましく、ｐＨ ０．５〜１、３０〜５０℃とし、板状ガラスの浸漬時間を３〜１０分とすることがより好ましく、ｐＨ ０．５〜１、３０〜５０℃とし、板状ガラスの浸漬時間を３〜５分とすることがさらに好ましい。

なお、この酸洗浄工程を行うにあたっては、酸洗浄工程の前に、上記研磨工程で研磨された表面に残留するスラリーを除去するために、水またはアルカリ溶液で板状ガラスの表面を洗浄することが好ましい。

また、この酸洗浄工程を行った後においても、表面に残留する酸溶液を除去するために、水またはアルカリ溶液でガラス基板を洗浄することが好ましい。

なお、特に、酸洗浄後の洗浄における、これらの水またはアルカリ溶液での洗浄は、ガラス基板の表面の性状がなるべく変化しないように注意する。例えば、水洗浄の場合には、ガラス基板表面での水分の増加量が不必要に大きくならないように、室温で、洗浄時間が３０分以下となるように、またアルカリ溶液洗浄の場合には、ガラス基板表面のエッチング量が不必要に大きくならないように、室温で、ｐＨが９〜１３程度のアルカリ水溶液を用い、洗浄時間を１５分以下となるようにする。

なお、ここで用いるアルカリ（塩基）としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニアまたは有機アミン等の塩基が挙げられ、これらの塩基は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。また、キレート剤として、有機酸塩などを添加してもよい。また、界面活性剤としてポリアクリル酸塩などのアニオン系界面活性剤、アルキルアミン塩酸塩などのカチオン系界面活性剤、アルキルフェニルポリオキシエチレンエーテルなどのノニオン系界面活性剤を添加してもよい。また、ビルダーとして、ゼオライトなどを添加してもよい。

このようにして得られたガラス基板は、さらに表面処理、例えば、印刷、反射防止コーティング、機能性フイルムの貼り合わせなどが行なわれ、所定の機能を有するガラス基板とできる。

以上説明した本実施形態のガラス基板は、表面のヤケ等による劣化を抑制し、ガラス特性を長期間維持し得るガラス基板であり、特に、屈折率の高いガラスにより形成したガラス基板は、ウェアラブル機器、車載用、ロボット搭載用の導光板や光学フィルタ等の光学部品として好適である。

（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態であるガラス基板は、第１の実施形態のガラス基板と同一の特性を有し、その色度に関する特性が以下に説明するように限定されたものである。
本実施形態のガラス基板は、ＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度ｂ＊がｂ＊≧４．８を満たすことが好ましい。このように該ガラス基板の色度ｂ＊が上記関係を満たすことで、後述する調光部材と重ねた際に、観察される色味を改善することができる。すなわち、ガラス基板と調光部材を重ねた構成である光学部品は、その調光部材の遮光時におけるＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度ａ_Ｃ＊、ｂ_Ｃ＊がともに０に近づき、この光学部品を通して映像等を見たときの色味が自然な色味となる。

なお、本明細書におけるＣＩＥＬａｂ表示は、国際照明委員会（ＣＩＥ）で規格化されたＣＩＥ １９７６（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）色空間（ＣＩＥＬＡＢ）である。本願においては、Ａ光源における明度（Ｌ＊）、Ａ光源における反射光の色度（ａ＊、ｂ＊）をいう。

このガラス基板の色度ｂ＊がｂ＊≧４．８を満たすことで、調光部材を遮光（着色）状態としたとき、ガラス基板と調光部材とを重ねた構成である光学部品を通して映像等を見たときの色味が自然な色味に近づく。好ましくはｂ＊≧５であり、より好ましくはｂ＊≧５．５であり、さらに好ましくはｂ＊≧６であり、さらに好ましくはｂ＊≧７であり、さらに好ましくはｂ＊≧８であり、特に好ましくはｂ＊≧１０である。

また、このガラス基板の色度ｂ＊はｂ＊≦１５が好ましい。この色度ｂ＊がｂ＊≦１５を満たすことで、調光部材を遮光（着色）状態としたとき、ガラス基板と調光部材とを重ねた構成である光学部品を通して映像等を見たときの色味が自然な色味に近づく。このガラス基板の色度ｂ＊は、好ましくはｂ＊≦１４であり、より好ましくはｂ＊≦１３であり、さらに好ましくはｂ＊≦１２であり、特に好ましくはｂ＊≦１１である。

（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態であるガラス基板は、第１および第２の実施形態のガラス基板と同一の特性を有し、その色度に関する特性が以下に説明する点で若干異なる。なお、色度に関して第２の実施形態とは異なる観点で規定しているが、これらの実施形態においては重複するガラスが多く含まれる。

そして、ガラス基板の色度ａ＊、ｂ＊がこのような特性を満たすことで、調光部材と重ねた際に、観察される色味を改善することができる。すなわち、後述する、ガラス基板と調光部材を重ねた構成である光学部品は、その調光部材の遮光時におけるＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度ａ_Ｃ＊、ｂ_Ｃ＊がともに０に近づき、この光学部品を通して映像等を見たときの色味が自然な色味となる。

本実施形態における色度は、ガラス基板の色度ａ＊の絶対値に対するｂ＊の比（ｂ＊／｜ａ＊｜）が、ｂ＊／｜ａ＊｜≧０．５５を満たすものである。この比が、ｂ＊／｜ａ＊｜≧０．５５を満たすことで、調光部材を遮光（着色）状態としたとき、ガラス基板と調光部材とを重ねた構成である光学部品を通して映像等を見たときの色味が自然な色味に近づく。この比は、好ましくはｂ＊／｜ａ＊｜≧０．６０であり、より好ましくはｂ＊／｜ａ＊｜≧０．７０であり、さらに好ましくはｂ＊／｜ａ＊｜≧０．８０であり、特に好ましくはｂ＊／｜ａ＊｜≧１．００である。また、上記関係に加えて、ｂ＊≧０．１を満たすことが好ましい。

なお、ガラス基板の色度に関し、上記関係を満たす領域を示す色度図を図３に示した。
上記説明した色度図における領域を満たすことで、調光部材を遮光（着色）状態としたとき、ガラス基板と調光部材とを重ねた構成である光学部品を通して映像等を見たときの色味が特定の色味に偏ることなく、また周囲の景色等を見た時の明度の減少を抑えることができる。

この第３の実施形態においては、その他の物性や形状特性やガラス組成については、第１および第２の実施形態と同様に説明できる。なお、上記色度特性を満たすために、Ｆｅ、ＮｉまたはＰｔを含むことが好ましい。このＦｅ、Ｎｉ、Ｐｔの含有量の合計は、好ましくは０．３質量ｐｐｍ以上、より好ましくは０．５質量ｐｐｍ以上、さらに好ましくは１質量ｐｐｍ以上、さらに好ましくは３質量ｐｐｍ以上、特に好ましくは５質量ｐｐｍ以上である。一方でＦｅ、Ｎｉ、Ｐｔの含有量の合計を１０質量ｐｐｍ以下とすることで、ウェアラブル機器の使用時に可視光の吸収が抑えられ、内部透過率が向上する。

（第４の実施形態）
［光学部品］
本実施形態の光学部品は、上記説明した本実施形態のガラス基板を用いたものである。その際、他の部材と組合わせて用いられるが、例えば、調光部材を重ねた構成として得られる光学部品が例示できる。このようにして得られる光学部品は、例えば、図１に示したように、ガラス基板１１に調光部材１２を積層した光学部品１０が挙げられる。このようにガラス基板１１と調光部材１２とを重ねることで、この光学部品１０における光の透過率を任意に調節することができる。すなわち、調光部材１２の光の透過率を調節することにより、光学部品全体の透過率を任意に変動できる。なお、図１は積層した構成を示しているが、ガラス基板１１と調光部材１２とを離間させて配置することもできる。

以下、ここで用いられる調光部材１２について説明する。なお、ガラス基板１１は既に上記で説明しているため省略する。

〈調光部材〉
本実施形態の調光部材１２は、遮光時にＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度ｂ＊がｂ＊＜０を満たすガラスである。遮光時のｂ＊がこの関係を満たすことで、調光部材１２と上記ガラス基板１１とを重ねて得られる光学部品１０は、その遮光時でのＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度ａ_Ｃ＊、ｂ_Ｃ＊が、調光部材１２単独の場合よりも、ともに０に近づくものとなる。そのため、この光学部品１０により映像を見たときの色味が自然な色味となる。この調光部材１２の色度ｂ＊は、好ましくはｂ＊＜−１であり、より好ましくはｂ＊＜−２であり、さらに好ましくはｂ＊＜−４であり、特に好ましくはｂ＊＜−６である。

また、この調光部材１２の色度ｂ＊はｂ＊＞−１５が好ましい。この色度ｂ＊がｂ＊＞−１５を満たすことで、調光部材１２を遮光（着色）状態としたとき、上記ガラス基板１１と調光部材１２とを重ねた構成である光学部品１０により映像等を見たときの色味が自然な色味に近づく。この調光部材１２の色度ｂ＊は、好ましくはｂ＊＞−１０であり、より好ましくはｂ＊＞−８．０であり、さらに好ましくはｂ＊＞−７．０であり、特に好ましくはｂ＊＞−６．０である。

また、本実施形態における調光部材は、第１基板、および、第１基板と対向する第２基板、第１基板および第２基板のそれぞれに設けられた第１電極および第２電極、並びに、第１基板と第２基板との間に封止された光透過制御材料層、から成る形態とすることができる。

このような調光部材１２としては、遮光時に上記色度ｂ＊に関する関係を満たす公知の調光部材１２が好ましい。
この公知の調光部材は、例えば、第１の基板と、この第１の基板と対向する第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に封止された光透過制御材料層を備えて構成されるものが例示できる。
調光部材は、光透過制御材料層として（１）液晶材料層、（２）無機エレクトロルミネッセンス材料層、（３）帯電した多数の電気泳動粒子および電気泳動粒子とは異なる色の分散媒から構成された電気泳動分散液層、（４）金属（例えば、銀粒子）の可逆的な酸化還元反応によって発生する電着・解離現象を応用した電着方式（エレクトロデポジション・電界析出）材料層、（５）酸化還元反応によって発生する物質の色変化を応用したエレクトロクロミック材料層、（６）エレクトロウェッティング現象によって光透過率を制御するエレクトロウェッティング材料層、等が例示できる。
ここで、（２）無機エレクトロルミネッセンス材料層を用いる場合、光透過制御材料層を構成する材料として、有機系、タングステン系等が挙げられる。このような調光部材は遮光時に青みがかった色調となる。このような調光部材１２としては、例えば、Ｇｅｎｔｅｘ社Ａｕｔｏｍａｔｉｃ−ｄｉｍｍｉｎｇ ｍｉｒｒｏｒ、ＭａｇｎａＭｉｒｒｏｒ社ＥＣ Ｇｌａｓｓ （ａｕｔｏ−ｄｉｍｍｉｎｇ）、ＳＡＧＥ社ＳａｇｅＧｌａｓｓ、 Ｋｉｎｅｓｔｒａｌ社Ｈａｉｌｏが挙げられる。
ここで、上記光学部品にあっては、観察者側から、ガラス基板、調光部材の順に配することが好ましいが、調光部材、ガラス基板の順に配してもよい。

本実施形態の光学部品１０は、上記のガラス基板１１と調光部材１２と重ねて用いられるものであり、このように重ねて用いることで、遮光（着色）状態としたときの観察される映像等の色味が自然な色味として認識できる。

本実施形態の光学部品１０は、ガラス基板１１と調光部材１２とを重ねた構成（光学部品１０）の色度をａ_Ｃ＊、ｂ_Ｃ＊としたとき、｜ａ_Ｃ＊｜≦３．１であることが好ましい。この範囲とすることで、光学部品１０により観察される映像等の色味が自然に近い色となる。この色度ａ_Ｃ＊構造の色度は、好ましくは｜ａ_Ｃ＊｜≦２．９であり、より好ましくは｜ａ_Ｃ＊｜≦２．７であり、さらに好ましくは｜ａ_Ｃ＊｜≦２．５であり、特に好ましくは｜ａ_Ｃ＊｜≦２．４である。

本実施形態の光学部品１０は、｜ｂ_Ｃ＊｜≦４．９であることが好ましい。この範囲とすることで、光学部品１０により観察される映像等の色味が自然に近い色となる。この光学部品１０の色度は、好ましくは｜ｂ_Ｃ＊｜≦４．６であり、より好ましくは｜ｂ_Ｃ＊｜≦４．３であり、さらに好ましくは｜ｂ_Ｃ＊｜≦４であり、特に好ましくは｜ｂ_Ｃ＊｜≦３．５である。

また、本実施形態の光学部品１０は、その色度ａ_Ｃ＊、ｂ_Ｃ＊が、次の関係式（１）

を満たすことが好ましい。この範囲とすることで、この構造を通して外界を見たときの外界の色が自然な色となる。この色度の関係式（１）は、好ましくは５．７以下であり、より好ましくは５．５以下であり、さらに好ましくは５以下であり、特に好ましくは４以下である。

また、この色度の関係式（１）は、０．１以上が好ましい。色度の関係式（１）を０．１以上とすることで、紫外線が目に与える影響を低減することができる。この色度の関係式（１）は、好ましくは０．３以上であり、より好ましくは０．５以上であり、特に好ましくは１．０以上である。

本実施形態の光学部品は、調光部材の遮光時にＣＩＥＬａｂ表示におけるＡ光源下での色度が、ａ_Ｃ＊＝１０，ｂ_Ｃ＊＝１０である点１、ａ_Ｃ＊＝１０，ｂ_Ｃ＊＝−１０である点２、ａ_Ｃ＊＝−１０，ｂ_Ｃ＊＝−１０である点３、ａ_Ｃ＊＝−１０，ｂ_Ｃ＊＝１０である点４、で囲まれる領域に含まれることが好ましい。光学部品の色度をこの４点で囲まれる領域とすることにより、上記ガラス基板１１と調光部材１２とを重ねた構成である光学部品１０により映像等を見たときの色味が自然な色味に近づく。点１は（ａ_Ｃ＊＝５，ｂ_Ｃ＊＝５）がより好ましく、（ａ_Ｃ＊＝５，ｂ_Ｃ＊＝２．５）がさらに好ましい。点２は（ａ_Ｃ＊＝５，ｂ_Ｃ＊＝−５）がより好ましい。点３は（ａ_Ｃ＊＝−５，ｂ_Ｃ＊＝−５）がより好ましく、（ａ_Ｃ＊＝−２．５，ｂ_Ｃ＊＝−５）がさらに好ましい。点４は（ａ_Ｃ＊＝−５，ｂ_Ｃ＊＝５）がより好ましく、（ａ_Ｃ＊＝−２．５，ｂ_Ｃ＊＝−２．５）がさらに好ましい。

なお、図１においては、ガラス基板１１と調光部材１２とは、同一の大きさのものをそれぞれ積層した例を示しているが、ガラス基板１１に対して、その一部に調光部材１２を設けたり、調光部材１２に対して、その一部にガラス基板１２を設けたりしてもよい。

本実施形態の調光部材に使用する第１基板と第２基板を構成する材料として、具体的には、ソーダライムガラス、白板ガラス等の透明なガラス基板や、プラスチック基板、プラスチック・シート、プラスチック・フィルムを挙げることができる。ここで、プラスチックとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース等のセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデンあるいはポリテトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体等のフッ素ポリマー、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー等のポリオレフィン、ポリアミドイミドあるいはポリエーテルイミド等のポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフッ化ビニリデン、テトラアセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、ポリアリレート、ポリスルフォン等を挙げることができる。プラスチック・シート、プラスチック・フィルムは、容易に曲がらない剛性を有していてもよいし、可撓性を有していてもよい。第１基板および第２基板を透明なプラスチック基板から構成する場合、基板内面に無機材料あるいは有機材料から成るバリア層を形成しておいてもよい。

本実施形態の調光部材の第１基板と第２基板は、厚さが０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。厚さが０．０１ｍｍ以上であれば、調光部材の取り扱い時や加工時の破損を抑制できる。また、光学ガラスの自重によるたわみを抑えられる。この厚さは、より好ましくは０．１ｍｍ以上であり、さらに好ましくは０．３ｍｍ以上であり、よりさらに好ましくは０．５ｍｍ以上、特に好ましくは０．７ｍｍ以上である。一方で厚さが２．０ｍｍ以下であれば、調光により透過状態と着色状態とをそれぞれ良好に変動させることができる。この厚さは、より好ましくは１．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｍ以下であり、よりさらに好ましくは０．８ｍｍ以下、特に好ましくは０．６ｍｍ以下である。

（第５の実施形態）
［光学機器］
本実施形態の光学機器は、本実施形態の光学部品を用いたものである。
この光学機器としては、上記した（１）ウェアラブル機器、例えばプロジェクター付きメガネ、眼鏡型やゴーグル型ディスプレイ、仮想現実拡張現実表示装置、虚像表示装置、に使用されるディスプレイ、フィルタやレンズ等、（２）車載用カメラ、ロボット用視覚センサー等に使用されるレンズやカバーガラス等が挙げられる。

ウェアラブル機器の１例として、図２には光学部品１０をヘッドマウントディスプレイやゴーグル型ディスプレイに適用し得る光学機器２０の概略構成を示した。この光学機器２０は、ガラス基板１１と調光部材１２とを重ね合わせている点は図１に示した光学部品１０と同様であるが、ここでは映像を表示するための表示素子２１と、表示素子２１に表示された映像を、調光部材１２を経由してガラス基板１１に入射させ、ガラス基板１１内部において上記入射された映像を全反射させ、光学機器２０を装着した者の瞳にまで伝搬させる伝搬手段２２と、を有する。

表示素子２１は、映像を表示するための素子であって、ここで表示される映像は、調光部材１２を経由してガラス基板１１に入射させる。このとき、表示素子２１はバックライトを有していてもよい。

ガラス基板１１に入射した映像は、伝搬手段２２によりガラス基板１１内を全反射させながら所定の位置まで伝搬させるように回折させ、さらに、所定の位置にまで伝搬された映像を、光学機器２０を装着した者の瞳に向かって回折させるように配置される。

このとき、屋外等の明るい環境の場合、外光が強いため、映像が見にくくなる場合がある。その場合、本実施形態の光学機器２０においては、調光部材１２を遮光状態として外光の影響を抑制し、画像を見やすくできる。その際、さらに、上記説明したようにガラス基板１１と調光部材１２とを通して感じる色味が改善されているので、本来の色味に近い映像を見ることができる。

なお、調光部材１２の光の透過状態は、使用者が任意に調整してもよいし、センサー等により外光の強さを感知して自動で調整してもよいし、それらを組み合わせてもよい。

本実施形態のガラス基板は、クラック発生荷重Ｌが３００ｍＮ以上であることが好ましい。ガラス基板の表層の反応因子成分の合計欠乏量が多い（すなわち、表層の平均水素濃度Ｈｓと内部の平均水素濃度Ｈｂとの関係が１．０１≦Ｈｓ／Ｈｂ＜５０を満たす）と、ガラスの構造がより疎な層が表層に形成され、鋭利な異物等が光学ガラスに接触した際にガラスの構造が緻密化することでその衝撃を吸収しやすくする効果によりガラスの強度を向上させる。この効果により、このガラス基板を製品としたときに、落下等による破損を抑制できる光学ガラスが得られる。クラック発生荷重は、より好ましくは３５０ｍＮ以上、さらに好ましくは４００ｍＮ以上、さらに好ましくは４５０ｍＮ以上、さらに好ましくは５００ｍＮ以上、特に好ましくは５５０ｍＮ以上である。

ここで、本実施形態におけるクラック発生荷重は次の方法によって得ることができる。湿度３０％、温度２５℃に保持された恒温恒湿槽内において、荷重１０、２５、５０、１００、２００ｇに設定したビッカース圧子をガラス表面（光学研磨面）に１５秒間打ち込み、その１５秒後に圧痕の４隅から発生するクラックの数をカウント（１つの圧痕につき最大４とする）する。これを各荷重にて２０回繰り返し（すなわち、圧子を２０回打ち込み）、総クラック数を計数した後、総クラック発生数／８０にてクラック発生率を求める。得られたクラック発生を荷重に対してプロットし，シグモイド関数を最小二乗法によりフィッティングした際のクラック発生率が５０％となる荷重をクラック発生荷重Ｌとする。

以下、本発明を、具体的な実施例および比較例を参照してさらに説明する。例１〜例５が実施例であり、例６が比較例である。

（例１〜６）
まず、酸化セリウム砥粒と硬質ウレタンパッドを用いた同一の加工条件で作製した縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの反応因子成分としてＬｉ，Ｎａ，Ｋを酸化物基準の質量％表示で、合計１２．１％含む板状のＳｉＯ_２系ガラス（屈折率１．７８）を用意した。板状ガラスの表面は予め研磨などで付着した汚れを除去するためにアルカリ溶液で浸漬して洗浄した後、純水に浸漬して洗浄した。用意した各板状のガラスの主表面の表面粗さＲａは０．７ｎｍであった。
例１はこの板状のガラスをさらに研磨処理はせずにそのまま、例２〜例６では、各板状のガラスを研磨機（Ｓｐｅｅｄ Ｆａｒｍ社製、商品名：Ｆａｍ１２ＢＳ）の回転定盤に固定し、回転定盤を回転数４０ｒｐｍで回転させながら、表面粗さＲａが０．７ｎｍであった主表面を研磨スラリーと研磨パッドで研磨した。この研磨において、研磨圧は５．３ｋＰａ、研磨パッドとしてウレタンパッドを用い、表１に示すように、所定の表面粗さＲａを有するガラス基板を得た。

この研磨の際、例２〜６では、砥粒としてショウロックスＡ２０（昭和電工社製、平均粒径：２μｍ）を１０質量％、分散媒として水を９０質量％含む研磨スラリーを用い、片面につき研磨時間は２０分とし、計４０分の研磨をした。例５では、前記ショウロックスＡ２０による研磨に次いで、砥粒としてコンポール８０（フジミインコーポレーテッド社製）を１０質量％、分散媒として水を９０質量％含む研磨スラリーを用い、片面につき研磨時間は２０分とし、計４０分の研磨をした。

次いで、例１〜例５では研磨処理後の各ガラス基板（例１では研磨処理はしていない）を、酸処理液としてｐＨ２に調整した硝酸水溶液を用いて、１０分間、６０分間、１０８０分間のいずれかの時間浸漬し酸処理を施した。表１に示したように、酸処理溶液は、２５℃、８０℃のいずれかに温度調節した。いずれのサンプルも酸処理後に１０分間純水流水にさらし、酸処理液を洗い流して、ガラス基板を得た。
なお、上記酸処理後の各ガラス基板の表面粗さＲａは、酸処理前の表面粗さＲａと同等であったことを確認した。また、例６は、上記酸処理工程は行わず、研磨処理後のものをサンプルとした。

＜表面粗さＲａ＞
例１〜例６の研磨処理後、酸処理前の板状ガラスの表面粗さを、原子間力顕微鏡（Ａｓｙｌｕｍ社製、型式：ＣｙｐｈｅｒＳ）を用いて測定した。測定条件を以下に示す。
測定モード：Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｏｄｅ
スキャンスピード：２．４４Ｈｚ
カンチレバー：Ｏｌｙｍｐｕｓ社製カンチレバーＡＣ５５
評価領域：２μｍ×２μｍ角
解像度：５１２ピクセル×５１２ピクセル
画像解析ソフト：Ｉｍａｇｅ Ｍｅｔｒｏｌｏｇｙ社製ＳＰＩＰ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｐｒｏｂｅ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）

＜反応因子成分の欠乏量および反応因子成分の低下率＞
初めに、上記例におけるＳｉＯ_２系のガラス基板には反応因子成分としてＬｉ、Ｎａ、Ｋのアルカリ金属を含んでおり、以下、ガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋの含有量（原子換算の質量％）を次のように測定した。ガラス基板から小片を切り出し、電子天秤などを用いてガラス小片の重量（ｍｇ）を測定した。その後、フッ酸と硫酸の混酸などを用いてガラス小片を溶解し、一定体積に定容する。原子吸光分析法により溶液中のＬｉ、Ｎａ、Ｋの濃度（ｍｇ／Ｌ）を測定する。ガラス小片の重量をＷ（ｍｇ）、溶解体積をＶ（Ｌ）、溶液中のアルカリ金属Ｒの濃度をＹ_Ｒ（ｍｇ／Ｌ）とし、関係式（２）から、ガラス基板のアルカリ金属Ｒの含有量Ｚ_Ｒ（原子基準の質量％）を算出した。
Ｚ_Ｒ＝（Ｙ_Ｒ×Ｖ）／Ｗ×１００ ・・・（２）
［Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ］

次に、ガラスの密度（ｇ／ｃｍ^３）をＪＩＳ Ｚ ８８０７（１９７６、液中で秤量する測定方法）に準じて測定した。Ｌｉの原子量を６．９４１（ｇ／ｍｏｌ）、Ｎａの原子量を２２．９９（ｇ／ｍｏｌ）、Ｋの原子量を３９．１０（ｇ／ｍｏｌ）とし、上記の方法で測定したＬｉ、Ｎａ、Ｋの含有量（原子基準の質量％）と密度（ｇ／ｃｍ^３）から、ガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋの含有モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）をそれぞれ算出した。ガラス基板の内部におけるＬｉ、Ｎａ、Ｋのモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）は、このガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋの含有モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に等しい。ここで、ガラス基板の内部のアルカリ金属Ｒのモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）をＢ_Ｒとする。なお、例１〜６に用いたガラス基板の組成は同一であり、ガラス基板内部のＬｉ、Ｎａ、Ｋのモル濃度、すなわちＢ_Ｌｉ、Ｂ_Ｎａ、Ｂ_Ｋは、それぞれ０．００６９、０．００４８、０．００３２であった。

例２〜４、６で得られたガラス基板について、Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いた飛行時間型二次イオン質量分析法（Ｔｉｍｅ−ｏｆ−ｆｌｉｇｈｔ ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）により、^７Ｌｉ^＋、^２３Ｎａ^＋、^４１Ｋ^＋、^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度の深さ方向プロファイルを取得した。その後、ガラス基板をＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置から取り出し、Ｖｅｅｃｏ社製Ｄｅｋｔａｋ１５０などの触針式表面形状測定器を用いて、ＴＯＦ−ＳＩＭＳにより形成された分析クレーターの深さを測定した。この分析クレーターの深さを基に、二次イオン強度の深さ方向プロファイルの横軸をスパッタ時間から深さへ変換した。次に、^７Ｌｉ^＋の二次イオン強度を^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度で除したものを縦軸にしたＬｉ／Ｓｉ強度比の深さ方向プロファイル、^２３Ｎａ^＋の二次イオン強度を^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度で除したものを縦軸にしたＮａ／Ｓｉ強度比の深さ方向プロファイル、^４１Ｋ^＋の二次イオン強度を^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度で除したものを縦軸にしたＫ／Ｓｉ強度比の深さ方向プロファイルを作成した。Ｌｉ／Ｓｉ、Ｎａ／Ｓｉ、Ｋ／Ｓｉ強度比の深さ方向プロファイルについて、強度比が深さ方向で一定となる深さ領域ａを決定し、深さ領域ａ内における平均強度比をそれぞれ算出した。このとき、深さ領域ａの幅は約５０ｎｍとした。この深さ領域a内における平均強度は、内部の平均強度を意味する。なお、例２，６の深さ領域ａは１００〜１５０ｎｍ、例３，４の深さ領域ａは２００〜２５０ｎｍとした。引き続き、深さ領域ａ内のＬｉ／Ｓｉ、Ｎａ／Ｓｉ、Ｋ／Ｓｉの平均強度比と上記の方法で算出したＢ_Ｌｉ、Ｂ_Ｎａ、Ｂ_Ｋ（ｍｏｌ／ｃｍ^３）を用いて、アルカリ金属毎に原点を通る検量線を作成する。この検量線を基に、Ｌｉ／Ｓｉ、Ｎａ／Ｓｉ、Ｋ／Ｓｉ強度比の深さ方向プロファイルの縦軸を強度比からモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に変換した。これら一連の手順により、例２〜４、６で得られたガラス基板について、横軸を深さ、縦軸をモル濃度としたＬｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルを得た。例として、図４に例４の深さ方向プロファイルを示す。なお、例１，５で得られたガラス基板については、Ｃ_６０イオンスパッタリングを用いたＴＯＦ−ＳＩＭＳを実施していないが、これらは例２と同一の条件で酸処理されていることから、例２と同一のＬｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルを有するものと判断できる。

例２〜４、６で得られたガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルより、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの表面欠乏層が十分含まれる領域（深さ領域ｂ）をガラス基板毎に決定した。深さ領域ｂの幅は、表面欠乏層の厚みに応じて適宜調整する。なお、例２，６の深さ領域ｂは０〜１００ｎｍ、例３，４の深さ領域ｂは０〜２００ｎｍとした。ここで、アルカリ金属Ｒの欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）をＣ_Ｒ、深さ領域ｂの幅をｂ（ｃｍ）、深さ領域ｂ内におけるアルカリ金属Ｒの平均モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）をＳ_Ｒとすれば、Ｃ_Ｒは関係式（３）によって見積もられる。また、表層のアルカリ金属の合計欠乏量Ｃ_{Ｔｏｔａｌ}は、関係式（４）によって見積もられる。
Ｃ_Ｒ＝（Ｂ_Ｒ×ｂ）−（Ｓ_Ｒ×ｂ） ・・・（３）
Ｃ_{Ｔｏｔａｌ}＝Ｃ_Ｌｉ＋Ｃ_Ｎａ＋Ｃ_Ｋ ・・・（４）

例２〜４、６で得られたガラス基板のＬｉ、Ｎａ、Ｋの深さ方向プロファイルより、０〜１０ｎｍの深さ領域をｃとし、深さ領域ｃ内におけるＬｉ、Ｎａ、Ｋのモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値を求めた。この深さ領域ｃは最表層を意味する。ここで、深さ領域ｃ内におけるアルカリ金属Ｒのモル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値をＯＳ_Ｒとし、関係式（５）によって見積もられるＲ_Ｒを最表面のアルカリ金属Ｒの低下率（％）と定義する。また、ＯＳ_Ｌｉ、ＯＳ_Ｎａ、ＯＳ_Ｋの和を最表面のアルカリ金属の合計モル濃度の平均値（ＯＳ_{Ｔｏｔａｌ}）、Ｂ_Ｌｉ、Ｂ_Ｎａ、Ｂ_Ｋの和を内部のアルカリ金属の合計モル濃度（Ｂ_{Ｔｏｔａｌ}）とし、関係式（６）によって見積もられるＲ_{Ｔｏｔａｌ}を最表層のアルカリ金属の低下率（％）と定義する。
Ｒ_Ｒ＝｛（Ｂ_Ｒ−ＯＳ_Ｒ）／Ｂ_Ｒ｝×１００ ・・・（５）
Ｒ_{Ｔｏｔａｌ}＝｛（Ｂ_{Ｔｏｔａｌ}−ＯＳ_{Ｔｏｔａｌ}）／Ｂ_{Ｔｏｔａｌ}｝×１００ ・・・（６）

例２〜４、６で得られたガラス基板のＴＯＦ−ＳＩＭＳの分析条件を以下に示す。なお、ＴＯＦ−ＳＩＭＳにてスパッタイオン種にＣ_６０ ^＋あるいはＣ_６０ ^＋＋選択することは必須であり、それ以外の分析条件は、モニターする^７Ｌｉ^＋、^２３Ｎａ^＋、^４１Ｋ^＋、^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度や表層におけるアルカリ金属の表面欠乏層の厚みに応じて適宜変更してもよい。また、^７Ｌｉ^＋の二次イオン強度が強い場合には同位体である^６Ｌｉ^＋を、^４１Ｋ^＋の二次イオン強度が弱い場合には同位体である^３９Ｋ^＋をモニターしてもよい。同一分析条件下において、適切な^７Ｌｉ^＋、^２３Ｎａ^＋、^４１Ｋ^＋、^２８Ｓｉ^＋の二次イオン強度が得られない場合は、異なる分析条件下で再度ＴＯＦ−ＳＩＭＳを行ってもよい。
装置：ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５
一次イオン種：Ｂｉ_５ ^＋＋
一次イオンのカレント：０．０５ｐＡ＠１０ｋＨｚ
一次イオンのラスターサイズ：２０×２０μｍ^２
スパッタイオン種：Ｃ_６０ ^＋＋
スパッタイオンのカレント：０．４ｎＡ＠１０ｋＨｚ
スパッタイオンのラスターサイズ：１５０×１５０μｍ^２
スパッタモード：ｎｏｎ−ｉｎｔｅｒｌａｃｅｄ ｍｏｄｅ
サイクルタイム：１００μｓ

＜透過率の変化量＞
例１〜６で得られたガラス基板について、恒温恒湿試験器（エスペック株式会社製小型超低温恒温器ミニサブゼロＭＣ−８１２）を用いて、８５℃、相対湿度８５％に設定した試験槽内に１００時間静置し、高温高湿試験を行った。この高温高湿試験前後の、ガラス基板について透過率を測定し、その変化量を算出した。ここで、変化量は次の基準により評価し、表２に示した。
小…１％未満、中…１％以上１．５％未満、大…１．５％以上

例１〜５のガラス基板では、透過率の変化量が小さいことから、ヤケ等の変質による透明性の悪化が小さいことが分かる。
例１は透過率の変化量は小さいため実施例としているが、追加研磨を施しておらずＲａが０．７ｎｍであるため、表面に微細なキズがあり強度が低いなどの課題を有しており、光学機器を構成するには適していない。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１８年５月１８日出願の日本特許出願（特願２０１８−０９６３４１）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

１０…光学部品、１１…ガラス基板、１２…調光部材、２０…光学機器、２１…表示素子、２２…伝搬手段

Claims (8)

1. Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種を反応因子成分として含有し、前記反応因子成分の含有量が酸化物基準で０．１〜３０質量％であり、ガラス基板の表面側において前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）が内部に対して低下している表面欠乏層を有し、表面欠乏層における前記反応因子成分の合計欠乏量（ｍｏｌ／ｃｍ^２）が、１．００×１０^−８以上であり、屈折率（ｎ_ｄ）が１．６８以上であり、かつ原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角の範囲で５１２ピクセル×５１２ピクセルの解像度で測定した表面粗さＲａが０．７ｎｍ以下であることを特徴とするガラス基板。
2. Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＺｎからなる群から選ばれる少なくとも１種を反応因子成分として含有し、前記反応因子成分の含有量が酸化物基準で０．１〜３０質量％であり、内部における前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）に対する最表層０〜１０ｎｍ領域における前記反応因子成分の合計モル濃度（ｍｏｌ／ｃｍ^３）の平均値が、低下率として３５．０％以上１００．０％以下であり、屈折率（ｎ_ｄ）が１．６８以上であり、かつ原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角の範囲で５１２ピクセル×５１２ピクセルの解像度で測定した表面粗さＲａが０．７ｎｍ以下であることを特徴とするガラス基板。
3. 前記表面粗さＲａが０．５ｎｍ以下である請求項１または２に記載のガラス基板。
4. 前記ガラス基板の板厚が０．０１〜２．０ｍｍである請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス基板。
5. ＣＩＥＬａｂ表示における、Ａ光源下での色度ｂ＊がｂ＊≧４．８を満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス基板。
6. ＣＩＥＬａｂ表示における、Ａ光源下での色度ａ＊の絶対値に対するｂ＊の比（ｂ＊／｜ａ＊｜）が、ｂ＊／｜ａ＊｜≧０．５５であり、かつ、ｂ＊≧０．１を満たす請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス基板。
7. クラック発生荷重が３００ｍＮ以上である請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス基板。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス基板を有することを特徴とする光学部品。

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