JP6802650B2 - 配線回路基板の製造方法 - Google Patents
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Description
第1露光部分および前記第2露光部分に連続するような、平面視において一方向に曲がる曲り部を有し、前記第2露光部分は、平面視において、前記曲り部を回避する回避部と、前記斜面における前記曲り部以外の少なくとも一部と重複する重複部とを連続して有する、配線回路基板の製造方法を含む。
以下、本発明の第1実施形態である配線回路基板の製造方法およびそれにより得られる配線回路基板を各図を参照して説明する。
配線回路基板1は、長手方向に延びる略平板(シート)形状を有する。図2および図3に示すように、この配線回路基板1は、ベース絶縁層2と、ベース絶縁層2の上に設けられる下側導体パターン3と、ベース絶縁層2の上に設けられ、下側導体パターン3を被覆する絶縁層の一例としての中間絶縁層4と、中間絶縁層4の上に配置される上側導体パターン5と、中間絶縁層4の上に設けられ、上側導体パターン5を被覆するカバー絶縁層6とを備える。
ベース絶縁層2は、配線回路基板1の最下層である。ベース絶縁層2は、長手方向に延びる略平板(シート)形状を有する。ベース絶縁層2は、絶縁材料からなる。絶縁材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂が挙げられ、好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。ベース絶縁層2の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上、例えば、25μm以下、好ましくは、15μm以下である。
下側導体パターン3は、下側導体パターン3および上側導体パターン5のうち、下側に位置する導体パターンである。下側導体パターン3は、中間絶縁層4の下側に位置する導体パターンである。また、下側導体パターン3は、ベース絶縁層2の上面に位置する。下側導体パターン3は、下配線9と、下配線9の長手方向両端に連続する第1端子(図示せず)とを一体的に有する。
中間絶縁層4は、ベース絶縁層2、中間絶縁層4およびカバー絶縁層6のうち、中間に位置する層であって、ベース絶縁層2およびカバー絶縁層6に挟まれる層である。中間絶縁層4は、ベース絶縁層2の上面に、下側導体パターン3の側面および上面を被覆するように、配置されている。なお、図示しないが、中間絶縁層4は、下側導体パターン3の第1端子(図示せず)を露出している。
図2および図3に示すように、上側導体パターン5は、下側導体パターン3および上側導体パターン5のうち、上側に位置する導体パターンである。上側導体パターン5は、中間絶縁層4の上面に位置する。上側導体パターン5は、幅方向において互いに間隔を隔てて隣り合う第1配線21および第2配線22と、第1配線21および第2配線22のそれぞれの長手方向両端に連続する第2端子(図示せず)とを有する。
図1に示すように、第1配線21は、上側導体パターン5において、幅方向一方側に位置する配線である。第1配線21は、平面視において、下配線9の幅方向一方側に間隔を隔てて位置している。第1配線21は、その一部において、下配線9と同一の平面視略L字形状を有する。具体的には、下配線9は、第1配線曲り部37と、第1配線曲り部37の長手方向両端に連続する2つの第1配線直線部38とを一体的に有する。
第1配線21の幅W2は、特に限定されず、具体的には、例えば、5μm以上、好ましくは、8μm以上であり、例えば、200μm以下、好ましくは、100μm以下である。第1配線21と下配線9との幅方向における間隔(第1配線直線部38と直線部42との間隔S1、および、第1配線曲り部37と円弧部41との間隔S2)Sは、例えば、5μm以上、好ましくは、15μm以上であり、また、例えば、100μm以下、好ましくは、50μm以下である。
第2配線22は、上側導体パターン5において、幅方向他方側に位置する配線である。第2配線22は、平面視において、第1配線21の幅方向他方側に間隔を隔てて位置している(隣り合っている)。また、第2配線22は、第1配線21と独立している。第2配線22は、その一部において平面視略L字形状を有する。第2配線22は、平面視において、2つの絶縁斜面直線部39と重複する一方、絶縁斜面湾曲部13を回避している。以下、第2配線22を詳細に説明する。
図1および図3に示すように、2つの斜面重複部17のそれぞれは、2つの第1配線直線部38のそれぞれに対応する。また、2つの斜面重複部17のそれぞれは、下配線9の2つの直線部42のそれぞれに対応する。2つの斜面重複部17のそれぞれは、平面視において、下配線9の2つの直線部42のそれぞれに対して、幅方向一方側にずれて位置している。しかし、2つの斜面重複部17のそれぞれは、平面視において、2つの直線部42のそれれぞれの幅方向一端縁と重複する。また、2つの斜面重複部17のそれぞれは、平面視において、2つの絶縁斜面直線部39のそれぞれにも、重複する。
図1および図2に示すように、斜面重複回避部16は、第1配線曲り部37に対応する。また、斜面重複回避部16は、下配線9の円弧部41に対応する。斜面重複回避部16は、長手方向において、2つの斜面重複部17の間に位置する。具体的には、斜面重複回避部16は、長手方向一方側に位置する斜面重複部17の長手方向他端縁と、長手方向他方側に位置する斜面重複部17の長手方向一端縁とに連続しており、それらを長手方向において連結する。
図2および図3に示すように、カバー絶縁層6は、配線回路基板1の最上層である。カバー絶縁層6は、中間絶縁層4の上面に、上側導体パターン5の側面および上面を被覆するように、配置されている。なお、図示しないが、カバー絶縁層6は、上側導体パターン5の第2端子(図示せず)を露出している。カバー絶縁層6は、ベース絶縁層2で例示した絶縁材料からなる。カバー絶縁層6の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、40μm以下、好ましくは、10μm以下である。
配線回路基板1の製造方法は、ベース絶縁層2を用意する工程i(図4A参照)と、下側導体パターン3をベース絶縁層2の上面に設ける工程ii(図4B参照)と、中間絶縁層4を、下側導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上面に設ける工程1(図4C参照)と、金属薄膜7を中間絶縁層4の上面に設ける工程2(図4D参照)とを備える。
図4Aに示すように、工程iでは、ベース絶縁層2を用意する。
図4Bに示すように、工程iiでは、下側導体パターン3をベース絶縁層2の上面に、例えば、アディティブ法、サブトラクティブ法などによって、設ける。
図4Cに示すように、工程1では、中間絶縁層4を、下側導体パターン3を被覆するように、ベース絶縁層2の上面に設ける。
図4Dに示すように、工程2では、金属薄膜7を中間絶縁層4の上面に設ける。
図5Eに示すように、工程3では、フォトレジスト23を金属薄膜7の上面に設ける。
図5Fに示すように、工程4では、まず、フォトマスク28を配置し、次いで、フォトレジスト23を、フォトマスク28を介して露光する。
図5Gに示すように、工程5では、フォトレジスト23における第1露光部分24および第2露光部分25を除去する。
図6Hに示すように、工程6では、まず、上側導体パターン5を、フォトレジスト23の開口部8から露出する金属薄膜7の上面に設ける。
図6Iに示すように、工程iiiでは、フォトレジスト23を除去する。
図6Jに示すように、工程ivでは、フォトレジスト23(図6H)に対応する金属薄膜7を除去する。
図6Kに示すように、工程vでは、カバー絶縁層6を、上側導体パターン5の第1配線21および第2配線22を被覆し、第2端子(図示せず)を露出するパターンで、設ける。カバー絶縁層6を、中間絶縁層4と同様の方法により、設ける。
A.集光(仮定)
図15に示すように、第2配線22が斜面重複回避部16(図1参照)を有さない配線回路基板1を製造する仮定を検討する。この仮定では、第2配線22は、絶縁斜面湾曲部13および絶縁斜面直線部39の両方に対して、長手方向全体にわたって、重複する。この仮定においても、図16Aに示す工程4、図16Bに示す工程5、および、図16Cに示す工程6が順次実施される。
しかし、第1実施形態の製造方法によれば、図1および図5Fに示すように、第2露光部分25は、平面視において、絶縁斜面湾曲部13を回避する回避部26を有する。そして、工程4において、フォトレジスト23を、絶縁斜面湾曲部13に対応するフォトレジスト23を遮光するように、フォトマスク28を介して露光するので、絶縁斜面湾曲部13に対応する金属薄膜7において反射する反射光B’(図15および図16A参照)を生成しない。そのため、工程5では、上記した集光に起因する除去仮定部分31の生成を防止できる。その結果、工程6では、第1配線21および第2配線22の短絡を防止することができる。つまり、上側導体パターン5における欠陥パターンを防止することができる。
第1実施形態では、図1に示すように、2つの斜面重複部17のそれぞれは、2つの絶縁斜面直線部39のそれぞれに、平面視において、長手方向全体にわたって、重複している。
しかし、斜面重複回避部16は、絶縁斜面湾曲部13を回避していればよく、具体的には、斜面重複回避部16は、絶縁斜面湾曲部13の幅方向一方側に位置していればよく、例えば、平面視において、円弧部41の幅方向一端縁と重複することもできる(つまり、上記した間隔S5がゼロである。すなわち、上記した間隔S5がない。)。
第2実施形態において、第1実施形態と同様の部材および製造工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第3実施形態において、第1および第2実施形態と同様の部材および製造工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第4実施形態において、第1〜第3実施形態と同様の部材および製造工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第5実施形態において、第1〜第4実施形態と同様の部材および製造工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
第5実施形態では、図11Cおよび図11Dに示すように、工程1および工程2を順次実施する。あるいは、工程1および工程2を、例えば、同時に実施する。工程1および工程2を同時に実施する場合には、中間絶縁層4および導体層33が予め積層された2層基材14を、ベース絶縁層2の上面に、下側導体パターン3を被覆するように、設ける。
図12Fに示すように、工程4において、フォトマスク28を、フォトレジスト23の上側に配置する。
図12Gに示すように、工程5では、露光後のフォトレジスト23を、例えば、現像液によって現像して、第1露光部分24および第2露光部分25以外の部分を除去して、第1露光部分24および第2露光部分25を残す。
図13Hに示すように、工程6では、第1露光部分24および第2露光部分25(現像後のフォトレジスト23)から露出する導体層33を除去する。
図13Iに示すように、工程iiiでは、第1露光部分24および第2露光部分25を、例えば、剥離などによって、除去する。
第5実施形態の製造方法により得られた配線回路基板1は、図13Jに示すように、ベース絶縁層2と、下側導体パターン3と、中間絶縁層4と、上側導体パターン5と、カバー絶縁層6とを備える。また、第5実施形態の配線回路基板1は、第1〜4実施形態の配線回路基板1と異なり、金属薄膜33(図6K参照)を備えない。
A.集光(仮定)
図15に示すように、第2配線22が斜面重複回避部16(図1参照)を有さない配線回路基板1を製造する仮定を検討する。この仮定においても、図18Aに示す工程4、図18Bに示す工程5、および、図18Cに示す工程6が順次実施される。
しかし、この第5実施形態の製造方法によれば、図1および図12Fに示すように、第2露光部分25は、平面視において、絶縁斜面湾曲部13を回避する回避部26を有する。そして、工程4において、フォトレジスト23を、絶縁斜面湾曲部13に対応するフォトレジスト23を遮光するように、フォトマスク28を介して露光しても、絶縁斜面湾曲部13に対応する導体層33において反射する反射光B’(図15および図18A参照)を生成しない。そのため、図12Gに示すように、工程5では、上記した集光に起因する残存仮定部分46の生成を防止できる。その結果、図13Hに示すように、工程6では、短絡部分45の形成を防止できる。すなわち、第1配線21および第2配線22の短絡を防止することができる。つまり、上側導体パターン5における欠陥パターンを防止することができる。
上側導体パターン5(第1透光部分51および第2透光部分52)(第1露光部分24および第2露光部分25)の平面視形状は、第2〜4実施形態で例示した平面視形状を有することもできる。そのような変形例であっても、第5実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
第1〜第5実施形態では、図1が参照されるように、曲り部の一例としての絶縁斜面湾曲部13は、平面視円弧形状を有する。
2 ベース絶縁層
4 中間絶縁層
7 金属薄膜
12 斜面
13 絶縁斜面湾曲部
21 第1配線
22 第2配線
23 フォトレジスト
24 第1露光部分
25 第2露光部分
26 回避部
27 重複部
28 フォトマスク
31 除去仮定部分
33 導体層
46 残存仮定部分
Claims (1)
- 絶縁層と、互いに間隔を隔てて隣り合う第1配線および第2配線とを備える配線回路基板の製造方法であり、
斜面を有する前記絶縁層を設ける工程1と、
金属薄膜を、前記絶縁層の表面に設ける工程2と、
フォトレジストを前記金属薄膜の表面に設ける工程3と、
フォトマスクを、前記フォトレジストにおいて前記第1配線に対応する第1露光部分と、前記フォトレジストにおいて前記第2配線に対応する第2露光部分とが露光されるように配置して、前記フォトレジストを、前記フォトマスクを介して露光する工程4と、
前記フォトレジストの前記第1露光部分および前記第2露光部分を除去して、前記第1露光部分および前記第2露光部分に対応する前記金属薄膜を露出させる工程5と、
前記第1配線および前記第2配線を、前記金属薄膜の表面に設ける工程6とを備え、
前記工程4において、前記金属薄膜において反射した反射光が、前記フォトレジストにおける前記第1露光部分および前記第2露光部分の間に集光すると仮定する場合に、前記斜面は、前記フォトレジストにおける集光に起因して前記工程5において除去される部分が前記第1露光部分および前記第2露光部分に連続するような、平面視において一方向に曲がる曲り部を有し、
前記第2露光部分は、平面視において、
前記曲り部を回避する回避部と、
前記斜面における前記曲り部以外の少なくとも一部と重複する重複部と
を連続して有し、
前記第2配線は、前記回避部に対応する重複回避部を有し、
前記第1配線と、前記重複回避部との間隔が、100μm以下であり、
前記工程6で設けられる前記第1配線と前記第2配線との間の短絡が防止されることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。
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