JP6783704B2 - 陰イオン選択性電極及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、一実施例のフロー型陰イオン選択性電極の正面図である。図2は図1のA−A’断面の模式図、図3は図2のB−B’断面の模式図である。
本実施例は、実施例1で説明したものと同様の図1〜3に示すフロー型陰イオン選択性電極である。図5は図3のC部分を拡大した模式図であり、本実施例に特徴的なイオン感応膜の層構造を示している。
本実施例は、実施例1で説明したものと同様の図1〜3に示すフロー型陰イオン選択性電極である。図5は図3のC部分を拡大した模式図であり、本実施例に特徴的なイオン感応膜の層構造を示している。
図9は、本実施例のスティック型陰イオン選択性電極の断面の模式図である。スティック型陰イオン選択性電極は、電極筐体22を備える。電極筐体22は開口部を有する。陰イオン交換膜21は、電極筐体22の下側の開口部を塞ぐように配置されている。陰イオン交換膜21は、第1面21aと、第1面21aに対して反対側に位置する第2面21bとを有する。スティック型陰イオン選択性電極の外側に位置する陰イオン交換膜21の第2面21bは、エポキシ主剤とアミン系硬化剤との硬化物からなるエポキシアミン樹脂層26で被覆されている。電極筐体22の開口部は、内部液23を入れる内部液空間27を構成しており、内部液空間27には、電解質を含んだ内部液23が配置されている。陰イオン交換膜21の第1面21aの少なくとも一部は、内部液23に接する。また、電極筐体22は、その内部液23と接するように内部電極24を備える。内部電極24は、内部液23を電極筐体22内に閉じ込めるためのフタ25に接着されている。
比較例1は、図1〜3で示した構成と同様の構成を有し、イオン感応膜の構成のみ異なる。したがって、以下では、実施例1と異なる部分のみ説明する。図6は、図3のC部分を拡大した模式図であり、比較例1のイオン感応膜の層構造を示している。
比較例2は、図1〜3で示した構成と同様の構成を有し、イオン感応膜の構成のみ異なる。したがって、以下では、実施例2と異なる部分のみ説明する。図7は、図3のC部分を拡大した模式図であり、比較例2のイオン感応膜の層構造を示している。
比較例3は、図1〜3で示した構成と同様の構成を有し、イオン感応膜の構成のみ異なる。したがって、以下では、実施例1と異なる部分のみ説明する。図8は、図3のC部分を拡大した模式図であり、比較例3のイオン感応膜の層構造を示している。
SL=(EMFH−EMFL)/(LogCH−LogCL) ・・・・式(1)
SL:スロープ感度
EMFH:既知高濃度標準液の測定起電力
EMFL:既知低濃度標準液の測定起電力
CH:高濃度標準液の既知濃度値
CL:低濃度標準液の既知濃度値
E = E0 + 2.303×(RT/zF)×Log(f×C)
(E0:測定系により定まる一定電位、z:測定対象イオンの価数、F:ファラデー定数、R:気体定数、T:絶対温度、f:活量係数、C:イオン濃度)
2 …MPDA縮合層
5 …エポキシアミン樹脂層
10 …電極筐体
11 …内部液空間
12 …流路
13 …内部電極
15 …パッキン
16 …内部ゲル
17 …イオン感応膜
18 …フタ
21 …陰イオン交換膜
22 …電極筐体
23 …内部液
24 …内部電極
25 …フタ
26 …エポキシアミン樹脂層
27 …内部液空間
Claims (15)
- 内部液を入れる空間を有する電極筐体と、
前記内部液に接する内部電極と、
第1面と、前記第1面に対して反対側に位置する第2面とを有し、前記内部液と試料液との間に配置された陰イオン交換膜と、
を有し、
前記内部液は、前記陰イオン交換膜の前記第1面の一部に接し、
前記陰イオン交換膜の前記第2面の一部は、前記試料液と接することができるように露出しており、
前記陰イオン交換膜は、陰イオン交換樹脂膜を有し、
前記陰イオン交換膜の前記第2面の少なくとも一部がエポキシアミン樹脂で被覆されている、陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記エポキシアミン樹脂は、エポキシ主剤とアミン系硬化剤とを含む重合反応生成物であることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記電極筐体と前記陰イオン交換膜との接着部分に前記エポキシアミン樹脂が配置されていることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記陰イオン交換樹脂膜に固定化された陽イオンが4級アンモニウムイオンであることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記陰イオン交換膜と前記エポキシアミン樹脂との間に、メタフェニレンジアミンとホルムアルデヒドとの縮合物が配置されていることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記陰イオン交換樹脂膜が、ベンジルトリメチルアンモニウム基を有する強塩基性陰イオン交換膜であり、補強材としてPVC系合成繊維布を含むことを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記陰イオン交換膜の前記第1面の少なくとも一部がエポキシアミン樹脂で被覆されていることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 請求項1に記載の陰イオン選択性電極において、
前記エポキシアミン樹脂の膜厚が1mm未満であることを特徴とする陰イオン選択性電極。 - 電極筐体に設けられた開口部を塞ぎ、かつ、試料液に接することができるように陰イオン交換膜を前記電極筐体に配置する工程であって、前記陰イオン交換膜は、陰イオン交換樹脂膜を有する、配置する工程と、
前記電極筐体の内部を内部液で充填する工程と、
前記内部液に接するように内部電極を前記電極筐体に取付ける工程とを含み、
前記配置する工程の前、又は、前記配置する工程の後において、
前記陰イオン交換樹脂膜の前記試料液に接触する側の表面にエポキシアミン樹脂を塗布するステップと、
前記エポキシアミン樹脂を硬化させるステップと
を含む陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記エポキシアミン樹脂は、エポキシ主剤とアミン系硬化剤とを含む重合反応生成物であることを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記エポキシアミン樹脂の粘度は30Pa・s(25℃)以下であることを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記硬化させるステップの硬化温度が80℃以下であることを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記配置する工程は、前記陰イオン交換樹脂膜と前記電極筐体との間に前記エポキシアミン樹脂を配置して、前記陰イオン交換樹脂膜と前記電極筐体とを接着するステップを含むことを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記エポキシアミン樹脂を塗布するステップの前に、前記陰イオン交換樹脂膜の表面をメタフェニレンジアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で被覆するステップをさらに含むことを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。 - 請求項9に記載の陰イオン選択性電極の製造方法において、
前記陰イオン交換樹脂膜が、ベンジルトリメチルアンモニウム基を有する強塩基性陰イオン交換膜であり、補強材としてPVC系合成繊維布を含むことを特徴とする陰イオン選択性電極の製造方法。
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