JP6782400B2 - 加熱調理器 - Google Patents

Description

本開示は、被加熱物に対するマイクロ波照射によるマイクロ波加熱を行う加熱調理器に
関し、特にコンビニエンス店およびファーストフード店などの店舗等の商業施設における加熱調理器具として使用される業務用の加熱調理器に関する。

コンビニエンス店およびファーストフード店などの店舗等で用いられる業務用加熱調理器においては、各種メニューに対応できるように、マイクロ波照射により被加熱物を加熱調理するマイクロ波加熱モードの他に、ヒータを用いた輻射加熱により被加熱物を加熱調理するグリルモード、およびヒータにより熱せられた空気をファンを用いて加熱室内を対流させて被加熱物を加熱調理するコンベクションモードを有する構成が用いられている。また、店舗等において用いられる業務用加熱調理器においては、各種加熱調理のそれぞれの加熱工程を予め決められた正確な温度および時間で確実に実行する必要がある。更に、業務用加熱調理器においては、お客様の注文に素早く対応できるように、調理時間の短縮を図ることが重要である。そのため、業務用加熱調理器においては、マイクロ波加熱のための高周波出力、およびグリルモードやコンベクションモードにおける加熱源であるヒータには消費電力が大きなものが用いられている。

上記のように、業務用加熱調理器においては、調理時間を短縮するために大出力の各種デバイスが用いられている。特に、マイクロ波照射によるマイクロ波加熱モードと共に、グリルモードおよびコンベクションモードの少なくとも一つを同時に行うことができる業務用加熱調理器においては、大出力のデバイスを効率高く使用して、調理時間の短縮を図る必要がある。

また、被加熱物の種類や加熱方法に応じて、循環ファンの回転数を制御することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００６−２７５３９０号公報

本開示は、少なくともマイクロ波加熱モードとコンベクションモードを有する加熱調理器において、コンベクションモードを実行する機構におけるマイクロ波漏洩を抑制することで、マイクロ波加熱モードの加熱調理を効率高く行い、マイクロ波加熱モードにおける調理時間の短縮を図ることができる加熱調理器の提供を目的とする。

本開示における一態様の加熱調理器は、被加熱物を収容して加熱するための加熱室と、マイクロ波加熱モードにおいて被加熱物を加熱するために、マイクロ波を形成して加熱室にマイクロ波を放射するマイクロ波加熱機構と、コンベクションモードにおいて被加熱物を加熱するコンベクション加熱機構と、マイクロ波の漏洩を抑制するマイクロ波漏洩抑制機構と、を備えている。コンベクション加熱機構は、加熱室から空気を取り込み、加熱室へ空気を送り出すための循環ファンと、循環ファンにより加熱室から取り込まれた空気を加熱するための対流ヒータと、循環ファンにより加熱室から取り込まれた空気を、対流ヒータに案内し、循環ファンにより加熱室に送り出される熱風の方向を加熱室における所望の位置に案内するための熱風ガイドと、循環ファンを回転する循環ファン軸を駆動するファン駆動部と、を備えている。対流ヒータおよび循環ファンは加熱室と連通する対流形成空間の内部に配置され、対流形成空間の外部にファン駆動部が配置されている。マイクロ波漏洩抑制機構は、対流形成空間を形成する第１の壁を貫通する循環ファン軸と第１の壁との間に隙間を形成し、当該隙間の対向面間を所定距離以下に設定する同軸シール機構を有し、対流形成空間からのマイクロ波の漏洩を抑制する。マイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン軸に対して循環ファンを所定位置に固定するファン支持部と、第１の壁において
循環ファン軸に貫通される貫通孔の内面を覆うように固定された環状の第１ブッシングと、を有しており、ファン支持部は、循環ファンを所定位置に固定するための平面を有する平面部と、平面部の平面に直交する循環ファン軸の外周面を覆う筒状部と、を有しており、第１ブッシングと平面部との対向面間が３．０ｍｍ以下である。

本開示によれば、マイクロ波加熱モードの加熱調理において加熱室内に放射されたマイクロ波が、コンベクションモードの加熱調理を行う機構において漏洩することが大幅に抑制される。これにより、マイクロ波加熱モードの効率の高い加熱調理を行う加熱調理器を提供することができる。

図１は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器の扉が閉じた状態を示す斜視図である。 図２は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器の扉が開いた状態を示す斜視図である。 図３は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器の扉が開いた状態を示す正面図である。 図４は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器の縦断面図である。 図５は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における加熱室の背面壁を示す正面図である。 図６は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における加熱室後方の対流装置を示す正面図である。 図７は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における対流装置の分解斜視図である。 図８は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器において、筐体を取り除いた状態で対流装置の配置を示す斜視図である。 図９は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における対流装置を循環ファンの回転中心軸に沿って切断した断面図である。 図１０は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における対流装置の構成を示す拡大断面図である。 図１１は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器における循環ファンが固定された循環ファン軸の前方端側近傍を示した断面図である。 図１２は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器を用いて行った実験結果に基づくグラフである。 図１３は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器におけるマイクロ波漏洩抑制機構の金属メッシュシール機構などを示す断面図である。

本開示に係る第１の態様の加熱調理器は、被加熱物を収容して加熱するための加熱室と、マイクロ波加熱モードにおいて被加熱物を加熱するために、マイクロ波を形成して加熱室にマイクロ波を放射するマイクロ波加熱機構と、コンベクションモードにおいて被加熱物を加熱するコンベクション加熱機構と、マイクロ波の漏洩を抑制するマイクロ波漏洩抑制機構と、を備えている。コンベクション加熱機構は、加熱室から空気を取り込み、加熱室へ空気を送り出すための循環ファンと、循環ファンにより加熱室から取り込まれた空気を加熱するための対流ヒータと、循環ファンにより加熱室から取り込まれた空気を、対流ヒータに案内し、循環ファンにより加熱室に送り出される熱風の方向を加熱室における所望の位置に案内するための熱風ガイドと、循環ファンを回転する循環ファン軸を駆動するファン駆動部と、を備えている。対流ヒータおよび循環ファンは加熱室と連通する対流形成空間の内部に配置され、対流形成空間の外部にファン駆動部が配置されている。マイクロ波漏洩抑制機構は、対流形成空間を形成する第１の壁を貫通する循環ファン軸と第１の
壁との間に隙間を形成し、当該隙間の対向面間を所定距離以下に設定する同軸シール機構を有し、対流形成空間からのマイクロ波の漏洩を抑制する。マイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン軸に対して循環ファンを所定位置に固定するファン支持部と、第１の壁において循環ファン軸に貫通される貫通孔の内面を覆うように固定された環状の第１ブッシングと、を有しており、ファン支持部は、循環ファンを所定位置に固定するための平面を有する平面部と、平面部の平面に直交する循環ファン軸の外周面を覆う筒状部と、を有しており、第１ブッシングと平面部との対向面間が３．０ｍｍ以下である。

このように構成された本開示に係る第１の態様の加熱調理器は、マイクロ波加熱モードとコンベクションモードを有する加熱調理器において、コンベクションモードを実行するコンベクション加熱機構におけるマイクロ波漏洩を抑制することができる。これにより、マイクロ波加熱モードの加熱調理を効率高く行い、マイクロ波加熱モードにおける調理時間の短縮を図ることができる。

本開示に係る第２の態様の加熱調理器は、第１の態様において、循環ファン軸と第１の壁との間の隙間の対向面間が３．０ｍｍ以下であってもよい。

本開示に係る第３の態様の加熱調理器は、第２の態様におけるファン支持部が、循環ファンを所定位置に固定するための平面を有する平面部と、平面部の平面に直交する循環ファン軸の外周面を覆う筒状部と、を有していてもよい。そして、第１ブッシングの内周面と筒状部の外周面との対向面間が３．０ｍｍ以下であり、且つ第１ブッシングと平面部との対向面間が３．０ｍｍ以下であってもよい。

本開示に係る第４の態様の加熱調理器は、第３の態様における対流形成空間を形成する第１の壁を空間を挟んで覆う第２の壁を備えていてもよい。さらに、循環ファン軸が第１の壁と第２の壁を貫通し、ファン駆動部が第２の壁を貫通した循環ファン軸に結合されて、対流形成空間における加熱室に対向する面以外を二重壁構造で構成してもよい。

本開示に係る第５の態様の加熱調理器は、第４の態様におけるマイクロ波漏洩抑制機構として、第１の壁と第２の壁とを結合するように設けた漏洩抑制壁により循環ファン軸を取り囲む漏洩抑制空間を形成してもよい。

本開示に係る第６の態様の加熱調理器は、第４の態様におけるマイクロ波漏洩抑制機構として、第２の壁を貫通した循環ファン軸を中心として環状に配設され、第２の壁におけるファン駆動部の配設側に金属メッシュシール部を設けてもよい。

本開示に係る第７の態様の加熱調理器は、第６の態様における金属メッシュシール部が、循環ファン軸に貫通されたシール部圧接板により第２の壁に押圧されて固定され、シール部圧接板により金属メッシュシール部の内側にマイクロ波封止空間を形成してもよい。

本開示に係る第８の態様の加熱調理器は、第７の態様におけるマイクロ波漏洩抑制機構として、シール部圧接板に固定され、循環ファン軸の外周面に対して所定間隔を有して配置された同軸シール機能を有する第２ブッシングを設けてもよい。

本開示に係る第９の態様の加熱調理器は、第８の態様において、第２ブッシングの内周面と循環ファン軸の外周面との対向面間が１．０ｍｍ以下でもよい。

本開示に係る第１０の態様の加熱調理器は、第１の態様において、加熱室の後方壁を構成する背面壁をさらに備え、背面壁に複数の開口が形成され、複数の開口の直径は、８ｍｍから１０ｍｍの範囲内であってもよい。

本開示に係る第１１の態様の加熱調理器は、第１の態様において、循環ファン軸が第１の壁と第２の壁を貫通し、マイクロ波漏洩抑制機構として、第２の壁を貫通した循環ファン軸を中心として環状に配設され、第２の壁におけるファン駆動部の配設側に金属メッシュシール部が設けられ、金属メッシュシール部は、循環ファン軸に貫通されたシール部圧接板により前記第２の壁に押圧されて固定され、シール部圧接板により金属メッシュシール部の内側にマイクロ波封止空間が形成されてもよい。

以下、本開示の加熱調理器に係る実施の形態として、マイクロ波加熱モード、グリルモードおよびコンベクションモードを実行することができる加熱調理器を用いて説明する。特に、以下の実施の形態においては、コンビニエンス店およびファーストフード店等の店舗で使用される業務用の電子レンジである加熱調理器について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、本開示の加熱調理器は、以下の実施の形態に記載した業務用の電子レンジの構成に限定されるものではなく、以下の実施の形態において説明する技術的思想と同等の技術的思想に基づく加熱調理器の構成を含むものである。

以下、本開示の業務用の加熱調理器の実施の形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。なお、図面の一部又は全部は、図示を目的とした概要的表現により描かれており、必ずしもそこに示された要素の実際の相対的大きさや位置を忠実に描写しているとは限らない。

図１は、本開示の実施の形態に係る加熱調理器１０の外観を示す斜視図であり、加熱調理器１０の前面に形成された扉が閉じられた状態を示している。図２は、図１に示した加熱調理器１０における扉が開かれており、加熱調理器１０の内部に形成された加熱室が開放された状態を示す。

本実施の形態の加熱調理器１０は、特にコンビニエンス店およびファーストフード店などの店舗等において使用される業務用の電子レンジであり、最大出力２０００Ｗ程度までで、複数段の出力切換が可能な構成を有する。

図１および図２に示すように、加熱調理器１０は、加熱室４の外箱を構成する本体１と、本体１の下方に設けられて本体１を支持するように設けられた機械室２と、本体１の前面側に取り付けられた扉３とを備える。また、機械室２の前面側には脱着可能なフロントグリルパネル１２が設けられている。

本体１の内側には、図２に示すように、加熱室４が形成されている。加熱室４は、その内部に被加熱物を収容するために、前面側（扉側）に開口を有する略直方体形状の空間である。以後の説明では、加熱室４の開口が形成された側を加熱調理器１０の前方側とし、加熱室４の奥側を加熱調理器１０の後方側としてそれぞれ定義する。そして、加熱調理器１０を前方から見た加熱調理器１０の右側を単に右側と称し、加熱調理器１０を前方から見た加熱調理器１０の左側を単に左側と称する。

扉３は、加熱室４の前方の開口を塞ぐように本体１の前面側に縦開きで開閉可能に取り付けられている。扉３に設けられた把手５を使用者が把持して、扉３を開閉操作できるよう構成されている。図１に示した扉３が閉じた状態では、加熱室４の内部は収容された被加熱物に対してマイクロ波などによる加熱処理が行われる密閉空間となっている。図２に示した扉３が開いた状態において、使用者が被加熱物を加熱室４に出し入れする状態である。

本実施の形態の加熱調理器１０においては、本体１の前面右側に操作部６が設けられて
おり、操作部６には当該加熱調理器１０に対する加熱調理の処理条件を設定操作するための操作ボタンおよび表示画面が設けられている。

図２に示すように、加熱室４の内部には、セラミックス製（具体的には、コージライト製（２ＭｇＯ・２Ａｌ２Ｏ３・５ＳｉＯ２組成からなるセラミックス製））のトレイ７とステンレス製のワイヤラック８が収容可能に配置されている。ワイヤラック８は被加熱物を載置するために、網状の部材で構成された載置部であり、被加熱物の下面にも効率よく熱風を循環させることができる。トレイ７は、ワイヤラック８の下方に設けられ、ワイヤラック８上の被加熱物から滴り落ちる脂分等を受け取るよう配置される。

本実施の形態の加熱調理器１０において、加熱室４の下方にある機械室２には、マイクロ波生成部であるマグネトロン３５（後述の図４参照）が設けられている。このマグネトロン３５からのマイクロ波が導波管を介して、導波管に形成されたマイクロ波放射孔および加熱室４の底面側に形成された開口から放射されるよう構成されている。なお、導波管のマイクロ波放射孔および加熱室４の底面に形成された開口から加熱室４の内部に放射されたマイクロ波は、スタラ（攪拌器）により攪拌される。このように構成された加熱調理器により加熱室４の内部に収容された被加熱物がマイクロ波加熱される。

また、本実施の形態の加熱調理器１０においては、加熱室４の天井側にはシーズヒータで構成されたグリルヒータが設けられており、グリルヒータからの輻射熱により加熱室４の内部の被加熱物が直接加熱されてグリルモードが実行される。

さらに、加熱室４の背面壁の後方には加熱室４の内部に熱風を供給するための後述する対流装置３０（図４の断面図参照）が設けられている。対流装置３０は、加熱室４の内部の空気を中央部より吸い込み、吸い込んだ空気を加熱して熱風として加熱室４の内部へ吹き出す機能を有する。このように、対流装置３０により加熱室４内に熱風が供給され、熱風による循環流が加熱室４の内部に生じる。例えば、対流装置３０が加熱室４の中央領域から空気を吸い込み、吸い込んだ空気を加熱し熱風となったものを底面の前方側および天井の前方側から加熱室４の内部に吹き出して、熱風を循環させている。

図３は、本実施の形態の加熱調理器１０において、扉３が開いた状態を示す正面図であり、加熱室４の背面壁３１の後方に対流装置３０が設けられていることが示されている。

上記のように、本実施の形態の加熱調理器１０においては、マイクロ波生成部であるマグネトロン３５からのマイクロ波による加熱と、加熱室４の上側（天井壁側）に設けたグリルヒータを用いた輻射による加熱と、対流装置３０を用いた熱風の循環流による加熱とを別々に、若しくは同時に行うことが可能な構成である。

本実施の形態の加熱調理器１０においては、加熱室４内に収容された被加熱物の下方には大きな発熱源であるヒータが配置されていない構成である。このため、被加熱物から滴り落ちる脂分等の液体がヒータに接触することがなく、発煙や発火が起こることがない安全性の高い加熱調理器となる。

機械室２の内部には、マイクロ波を発生させるマイクロ波生成部としてのマグネトロン３５、マグネトロン３５を駆動するインバータ装置３６（図４参照）、およびマグネトロン３５とインバータ装置３６等を冷却する冷却ファン３７（図４参照）等が設けられている。

本実施の形態では、２つのマグネトロン３５が用いられており、その合計出力が１２００Ｗ〜１３００Ｗである。また、２つのマグネトロンから出力されたマイクロ波は、２つ
の導波管のそれぞれを伝送して、各導波管に形成されたマイクロ波放射開口部および加熱室４の底面に形成された開口を介して、加熱室４に放射される。マイクロ波は、スタラ３２によって撹拌されて加熱室４の内部に放射される。

インバータ装置３６は、マグネトロン３５を駆動しており、２つのマグネトロン３５を駆動するため２つのインバータ装置３６が機械室２内に設けられている。また、機械室２内にはマグネトロン３５およびインバータ装置３６のそれぞれを冷却するための複数の冷却ファン３７が配置されている。本実施の形態においては、４つの冷却ファン３７が設けられ、２つで一組になっている。そして、それぞれの冷却ファン３７が、機械室２の前面に設けられたフロントグリルパネル１２から外気を吸い込み、それぞれの組の冷却ファン３７が吸い込んだ外気を後方に送ることにより、機械室２の内部に設けられたマイクロ波加熱機構として縦列に並んだ二組のインバータ装置３６およびマグネトロン３５などを順に冷却する。

また、機械室２には、電源回路基板が配設されており、この電源回路基板を冷却するための冷却ファンが更に設けられている。この冷却ファンが起動することにより、機械室２の前面に設けられたフロントグリルパネル１２から外気が吸い込まれて、機械室２の内部にある電源回路基板などの各種デバイスが冷却される。

なお、本実施の形態においては、インバータ装置３６およびマグネトロン３５等の発熱部分を冷却する並設された４つの冷却ファン３７、および電源回路基板を冷却する１つの冷却ファンは、多翼ファン等で構成され、それぞれの回転軸が直線状に並ぶように設置されている。冷却ファンは、回転軸の軸方向から空気を取り込み、外周方向における機械室２の後方に向けて空気を送り出す構成である。機械室２において後方に流れた空気は、本体１の背面に配置された排気ダクトを通り、加熱室４の天井壁と本体１の上面壁との間を通り、本体１の前面側から排出される。このように、冷却ファンからの空気が流れることにより、本体１の背面壁の上面壁が高熱となることが防止される。

［加熱調理器の内部構造］
加熱調理器１０の内部構造について、図４を用いて説明する。図４は、加熱調理器１０の前後方向の縦断面図であり、図４の右側が前方側（正面）である。

図４に示すように、トレイ７は、トレイ受け台２２上に載置される。トレイ受け台２２は、加熱室４の底面上に設けられ、トレイ７を支持する。本実施の形態では、トレイ受け台２２はマイクロ波が透過可能なセラミック製の板材で構成されている。

加熱室４の内部に放射されるマイクロ波を攪拌するスタラ（攪拌器）３２は、トレイ受け台２２と加熱室４の底面との間に設けられている。スタラ３２は、マイクロ波を撹拌するために、スタラ軸３３を中心に回転する回転翼である。モータ３４は、機械室２の内部に設けられ、スタラ３２を回転駆動する。

機械室２の内部には、マイクロ波を生成するマイクロ波発生部であるマグネトロン３５、マグネトロン３５を駆動するインバータ装置３６、およびマグネトロン３５とインバータ装置３６を冷却する冷却ファン３７などのマイクロ波加熱機構が設けられている。

本実施の形態においては、高出力を発生させるために、前述のように２組のマグネトロン３５およびインバータ装置３６が設けられており、これらのマグネトロン３５およびインバータ装置３６が４つの冷却ファン３７により冷却される。

機械室２の内部に設けられた複数の冷却ファン３７（本実施の形態においては４つの冷
却ファン３７）でマグネトロン３５およびインバータ装置３６を冷却し、１つの冷却ファン３７により機械室２の内部に配置された電源回路基板などを冷却している。冷却ファン３７の起動により、外気が機械室２の前面に装着されているフロントグリルパネル１２から吸入されて機械室２の前面に形成された外気吸込口を通り、機械室２の内部に吸い込まれる。機械室２に吸い込まれた空気は、機械室２の内部の部材を冷却した後、本体１の背面に配置された排気ダクトを通り、加熱室４の天井壁と本体１の上面壁との間を通り、本体１の前面側から排出される。

加熱室４の後方壁を構成する背面壁３１（後述の図５参照）には、複数の開口３８が形成されている。本実施の形態における背面壁３１における開口３８は、板材で構成された背面壁３１にパンチング加工により形成された複数のパンチング孔である。背面壁３１の後方には、加熱室４内の空気を取り込み、加熱して熱風を生成し、加熱室４内に熱風を送り出す対流装置３０が設けられている。対流装置３０の配置空間は、背面壁３１によって加熱室４の内部空間と区分けされており、背面壁３１に形成された複数の開口３８を通して加熱室４の内部空間と連通している。本実施の形態においては、対流装置３０がコンベクション加熱機構となる。

図５は、背面壁３１の正面図である。図５に示すように、背面壁３１は略長方形形状の金属板により形成されている。背面壁３１に形成された複数の開口３８は、背面壁３１の中央部分（加熱室４の中央部分）に略円形状に一群に形成されたパンチング孔である第１の孔３８ａと、第１の孔３８ａの下側に横長状に一群に形成されたパンチング孔である第２の孔３８ｂとにより構成される。背面壁３１の平面（正面）において、一群の第２の孔３８ｂは、加熱室４の下方において一群の第１の孔３８ａよりも左右方向に広く分布するように形成されている。

後述するように、背面壁３１に形成された一群の第１の孔３８ａが対流装置３０への空気取り込み口として機能し、一群の第１の孔３８ａの下側に形成された一群の第２の孔３８ｂが対流装置３０からの熱風送り出し口として機能する。

一般的なコンベクションオーブンにおいて加熱室に形成されたパンチング孔の径は、４〜５ｍｍである。本実施の形態においては、対流装置３０に対する空気取り込み口および熱風送り出し口として機能する開口３８の第１の孔３８ａおよび第２の孔３８ｂの直径が、いずれも１０ｍｍであり、一般的なコンベクションオーブンにおけるパンチング孔の約２倍の直径を有している。このように、開口３８の直径を大きくすることにより、開口３８を通過する際の空気の圧力損失を大幅に低減することが可能となり、コンベクションモードにおいて効率の高い熱風の循環機構を構築することができる。

図６に示したように、対流装置３０には、熱風を生成するための複数の部材で構成された熱風生成機構３９が設けられている。熱風生成機構３９は、加熱室４内の空気を取り込むとともに、取り込んだ空気を加熱して熱風を生成し、加熱室４内に送り出す機能を有する。このように、熱風生成機構３９が加熱室４内に熱風を供給することにより、熱風の循環流が加熱室４内に生じる。

本実施の形態の加熱調理器１０の加熱構成によれば、加熱室４の天井壁側に設けたグリルヒータを用いた輻射による加熱と、マイクロ波生成部であるマグネトロン３５を用いたマイクロ波による加熱と、対流装置３０の熱風生成機構３９を用いた熱風の循環流による加熱とを別々に、または同時に行うことが可能である。本実施の形態の構成においては、被加熱物の下方にはヒータが配置されていないため、被加熱物から滴り落ちる脂などの液体が発熱源であるヒータに接触することがなく、発煙や発火が起こることがない。

［対流装置］
次に、本実施の形態の加熱調理器１０におけるコンベクション加熱機構である対流装置３０の構成について説明する。

図６は、加熱室４の背面壁３１の後方に設けられた対流装置３０を示す正面図である。図７は、対流装置３０における熱風生成機構３９を分解して示す斜視図である。図８は、本実施の形態の加熱調理器において、本体１のカバーである筐体を取り除いて、加熱室４の後方に設けられた対流装置３０の配置を一部破断して示す斜視図である。図８においては、対流装置３０の構成を示すために、対流装置３０の一部を断面で示しており、対流装置３０以外の構成については省略している。

熱風生成機構３９は、加熱室４の背面壁３１の後方直後に設けられた対流ヒータ４０と、循環ファン４１と、循環ファン４１を回転駆動するファン駆動部４２と、熱風生成機構３９における熱風を案内する第１及び第２の熱風ガイド４３、４４とを備える。

対流ヒータ４０は、シーズヒータを用いて構成されており、対流装置３０の内部の空気を加熱する。対流ヒータ４０は、空気との接触面積を増加させるために、対流装置３０の中心部分（加熱室の中央部分に対応）において渦巻き状に形成されている。

循環ファン４１は、その中央部分において空気を取り込み、取り込んだ空気を遠心方向に送り出す遠心ファンである。本実施の形態における加熱調理器においては、コンベクションモードにおいては、循環ファン４１が、加熱室４の内部の空気を背面壁３１の開口３８を通して対流装置３０の内部に取り込み、対流装置３０の内部の空気を加熱室４に送り出す構成である。循環ファン４１は、対流ヒータ４０の後方に配置されており、循環ファン４１の後方に設けられたファン駆動部４２により駆動される。なお、本実施の形態においては、循環ファン４１が矢印Ｒ（図７参照）の方向へ回転する場合について説明するが、逆方向の回転であっても同様の機能を有する。

図７において、第１の熱風ガイド４３は、循環ファン４１によって対流装置３０の内部に取り込まれた空気が対流ヒータ４０の領域を通過するように導くガイド部材であり、対流ヒータ４０を取り囲むように配置されている。本実施の形態では、第１の熱風ガイド４３が略円筒形状に形成されている。第１の熱風ガイド４３には、内側にある対流ヒータ４０の導出部分を外側に延出させるための切り欠け４３ａが形成されている。

第２の熱風ガイド４４は、循環ファン４１によって遠心方向に送り出された熱風を所望の方向に導くための部材であり、循環ファン４１および第１の熱風ガイド４３の外側を取り囲むように配置されている。本実施の形態では、第２の熱風ガイド４４は、第１の熱風ガイド４３の外側において第１の熱風ガイド４３と部分的に接している。

上記のように構成された本実施の形態の加熱調理器１０において、コンベクションモードが起動すると、ファン駆動部４２が循環ファン４１を駆動させて、加熱室４の内部の空気が背面壁３１の開口３８（第１の孔３８ａ）を通して対流装置３０の内部に吸い込まれる。吸い込まれた空気は、第１の熱風ガイド４３によって対流ヒータ４０の領域に案内されて、対流ヒータ４０により加熱される。

循環ファン４１は、対流ヒータ４０により加熱された空気（熱風）を取り込んで、循環ファン４１の外周に向かって渦巻き状に送り出す。循環ファン４１によって外周に送り出された空気は、第２の熱風ガイド４４により導かれて、第１の熱風ガイド４３と第２の熱風ガイド４４との間の下側に形成された下方空間へと案内される。対流装置３０において第１の熱風ガイド４３と第２の熱風ガイド４４により案内された熱風は、背面壁３１の開
口３８（第２の孔３８ｂ）を経由して、加熱室４の内部の下側に送り出される。

上記のように、第１の熱風ガイド４３により取り囲まれた空間の内部には、背面壁３１における開口３８の第１の孔３８ａから循環ファン４１への空気の取り込み経路が形成されている。また、第１の熱風ガイド４３と第２の熱風ガイド４４との間の空間には、循環ファン４１から背面壁３１における開口３８の第２の孔３８ｂへの熱風の送り出し経路が形成されている。このように、第１の熱風ガイド４３は、対流装置３０における空気の取り込みと送り出しの各経路を分離する案内板として機能する。

図８に示すように、上記のように構成された本実施の形態における対流装置３０は、加熱室４の後方の壁面を構成する背面壁３１に取り付けられている。対流装置３０における対流ヒータ４０と循環ファン４１は、背面壁３１に固定された対流装置ケース４５に覆われている。

［対流装置におけるマイクロ波漏洩抑制機構］
本実施の形態の加熱調理器１０においては、加熱室４の背面壁３１に直径が１０ｍｍの複数の開口３８（第１の孔３８ａおよび第２の孔３８ｂ）が形成されており、コンベクションモードにおいて背面壁３１の開口３８を通過する際の空気の圧力損失を大幅に低減している。従来のコンベクションオーブンにおける加熱室に形成されたパンチング孔の直径は４〜５ｍｍであり、本実施の形態における背面壁３１に形成された開口３８は、従来のコンベクションオーブンにおけるパンチング孔の約２倍の直径となっている。このため、本実施の形態の加熱調理器は、従来のコンベクションオーブンに比べて熱風循環において圧力損失が大幅に低減されている。

上記のように、本実施の形態の加熱調理器１０においては、加熱室４の背面壁３１に形成された複数の開口３８（第１の孔３８ａおよび第２の孔３８ｂ）のそれぞれを大きく形成しているため、マイクロ波加熱モードを実行した場合、加熱室４の内部に放射されたマイクロ波の約２．５％〜３％パーセント（３０Ｗ前後）が背面壁３１の開口３８を通過する。背面壁３１の開口３８を通過したマイクロ波が、対流装置ケース４５の外部に漏洩した場合には、マイクロ波加熱モードの加熱処理における加熱効率を大幅に低下させる原因となる。

本実施の形態の加熱調理器１０においては、対流装置３０を介して調理器外部に漏洩するマイクロ波を大幅に低減してマイクロ波加熱モードにおける加熱処理を効率高く行うことができるように、以下に説明する複数のマイクロ波漏洩抑制機構を有している。

以下、本実施の形態における対流装置３０のマイクロ波漏洩抑制機構について説明する。図９は、加熱室４の後方に配設された対流装置３０を循環ファン４１の回転中心軸に沿って切断した断面図であり、加熱室４を覆う外側筐体を取り除いた状態を示している。図１０は、対流装置３０における循環ファン４１、ファン駆動部４２、循環ファン軸４６等のコンベクション加熱機構の構成を示す拡大断面図である。

図９に示すように、加熱室４の背面壁３１の後方には対流ヒータ４０が配設されている。渦巻き状の対流ヒータ４０の後方には、対流ヒータ４０の略中心を回転中心とする循環ファン４１が設けられている。循環ファン４１の回転中心である循環ファン軸４６は、電動機であるファン駆動部４２により回転駆動される。本実施の形態においては、循環ファン軸４６の前方端側に循環ファン４１が固定され、循環ファン軸４６の後方端側には電動機であるファン駆動部４２が設けられて、循環ファン軸４６がファン駆動部４２により回転駆動される。循環ファン軸４６においては、ファン駆動部４２が設けられている後方側において、２つの軸受け５５により回転可能に保持されている。即ち、本実施の形態にお
いては、循環ファン軸４６が片持ち状態で軸受け５５により保持されている。これは、循環ファン軸４６の前方側（先端側）が加熱室４からの熱およびマイクロ波により高温度となるため、軸受けが設けられないためである。

背面壁３１の後方には、循環ファン４１の後方の直後に設けられた壁面である対流空間形成壁５０が設けられており、この対流空間形成壁５０と背面壁３１とにより対流形成空間Ａが形成されている。対流空間形成壁５０の一部は、前述の第２の熱風ガイド４４となっている。対流ヒータ４０および循環ファン４１は、この対流形成空間Ａの内部に設けられている。したがって、対流形成空間Ａの空間内部において、加熱室４の内部から取り込まれた空気が加熱されて、加熱された空気（熱風）が加熱室４の内部（本実施の形態においては加熱室４の下方）へ送り出されている。

第１の壁である対流空間形成壁５０（第２の熱風ガイド４４を含む）により形成された対流形成空間Ａは、第２の壁である対流装置ケース４５により覆われており、ファン駆動部４２を覆うファン駆動部ケース５４は、第２の壁である対流装置ケース４５に固定されている。したがって、本実施の形態における対流形成空間Ａにおける加熱室４に対向する面（背面壁３１）以外が二重壁構造で構成されている。

上記のように構成された対流装置３０におけるマイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン４１を回転する循環ファン軸４６の周りに複数設けられている。以下、複数のマイクロ波漏洩抑制機構について説明する。

第１のマイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン４１の後方に配設された第１の壁である対流空間形成壁５０と循環ファン軸４６との間に形成された隙間による同軸シール機構である。第２のマイクロ波漏洩抑制機構は、第１のマイクロ波漏洩抑制機構の後段に設けられており、対流空間形成壁５０の後方に形成された漏洩抑制空間Ｂで構成されている（図１０参照）。第３のマイクロ波漏洩抑制機構は、第２のマイクロ波漏洩抑制機構の後段に設けられており、マイクロ波封止空間Ｃにより構成されている。さらに、第４のマイクロ波漏洩抑制機構は、第３のマイクロ波漏洩抑制機構の後段に設けられており、循環ファン軸４６の周りの隙間による同軸シール機構である。

上記のように、本実施の形態の加熱調理器においては、複数段のマイクロ波漏洩抑制機構が対流装置３０に設けられており、対流装置３０から当該調理器の外部へのマイクロ波の漏洩が大幅に抑制されている。本開示の発明者の実験および計算によれば、１３００Ｗのマイクロ波出力の加熱調理器において、加熱室４の背面壁３１の複数の開口３８を通して３０Ｗのマイクロ波出力が対流装置３０に進入したとしても、対流装置３０に設けた複数段のマイクロ波漏洩抑制機構により約９７ｄＢのマイクロ波出力が低減されて、約０．４ｍＷという極小のマイクロ波出力しか漏洩していなかった。

［第１のマイクロ波漏洩抑制機構］
先ず、第１のマイクロ波漏洩抑制機構（同軸シール機構）について図１１を用いて説明する。図１１は、循環ファン４１が固定された循環ファン軸４６の先端側近傍（前方端側近傍）を示した断面図である。

図１１において、循環ファン軸４６の先端には、循環ファン４１を循環ファン軸４６に固定するためのファン留め具４７がねじ込まれている。ファン留め具４７が循環ファン軸４６の先端にねじ込まれることにより、循環ファン軸４６の先端側近傍に固着されたファン支持部４８と押え板５７とにより循環ファン４１の中央部分が挟着される構成である。

ファン支持部４８は、循環ファン軸４６に貫通されて固定されており、断面がＴ字形状
を有している。ファン支持部４８は、循環ファン軸４６の回転中心軸に直交する平面を有する平面部４８ａと、この平面部４８ａの中央から後方に突出して一体的に形成され、循環ファン軸４６の外周に密着して形成された筒状部４８ｂとにより構成されている。したがって、循環ファン軸４６の先端部分が挿入された循環ファン４１は、ファン留め具４７が循環ファン軸４６の先端部分にねじ込まれることにより、押え板５７とファン支持部４８の平面部４８ａとにより挟着されて、循環ファン軸４６に確実に固定される。

図１１に示すように、循環ファン軸４６が貫通する第１の壁である対流空間形成壁５０の貫通孔には第１ブッシング４９が設けられている。第１ブッシング４９は、循環ファン軸４６が貫通する対流空間形成壁５０の貫通孔の内周面を覆うように装着されており、中心に貫通孔を有して環状に形成されている。第１ブッシング４９には、ファン支持部４８の外面と所定距離を有して対向する対向面を有している。第１ブッシング４９は、その前方端部（循環ファン４１が設けられている方向の端部）が平坦面に形成されており、その平坦面を以下の説明において対向Ｙ平面４９ｙと称する。第１ブッシング４９は、循環ファン軸４６の外周面に密着したファン支持部４８の筒状部４８ｂに貫通される貫通孔を有している。第１ブッシング４９の貫通孔の内周面が、ファン支持部４８の筒状部４８ｂの外周面に対向する対向Ｘ平面４９ｘとなる。

一方、ファン支持部４８においては、第１ブッシング４９の対向Ｙ平面４９ｙに対向する平面部４８ａにおける後方端面が対向Ｙ平面４８ｙとなる。また、ファン支持部４８における筒状部４８ｂの外周面が対向Ｘ平面４８ｘとなる。

上記のように、ファン支持部４８と第１ブッシング４９は、対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙ、および対向Ｘ平面４８ｘと４９ｘがそれぞれ所定間隔の隙間を有して対向している配置されている。したがって、ファン支持部４８と第１ブッシング４９は、循環ファン軸４６の回転中心軸を同軸として配設されており、対向面間に所定距離を有する同軸シール機構の構成となる。なお、本開示において、対向面間の距離とは、対向する面の間の最短距離をいう。図１１に示した本実施の形態においては、対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の上下に延びる隙間における左右方向の最短距離が対向面間の距離であり、対向Ｘ平面４８ｘと４９ｘの間の左右に延びる隙間における上下方向の最短距離が対向面間の距離である。

本実施の形態の構成においては、対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の隙間（対向面間）は１．５ｍｍに設定されており、また対向Ｘ平面４８ｘと４９ｘの間の隙間（対向面間）も１．５ｍｍに設定されている。

本実施の形態においては、上記のように対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の隙間（対向面間）、および対向Ｘ平面４８ｘと４９ｘの間の隙間（対向面間）を１．５ｍｍに設定した例で説明するが、その距離としては短いほど好ましい。しかし、前述したように、本実施の形態においては循環ファン軸４６がその後方に設けた軸受け５５により片持ち状態で保持されているため、軸回転時の振動を考慮して１．０ｍｍ以上のギャップがあることが好ましく、現実には０．８ｍｍ〜１．２ｍｍのばらつきの範囲で製作可能である。なお、対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の隙間、および対向Ｘ平面４８ｘと４９ｘの間の隙間に関しては、本開示の発明者の実験によれば、最悪でも３．０ｍｍ以下であれば基準性能が確保できることが分かった。例えば、対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の隙間とマイクロ波漏れ電力との間に関して、ある複数サンプルの結果では次のような実験結果が得られた。

隙間（対向面間の距離）１．５ｍｍの場合−マイクロ波漏れ電力０．６８Ｗ
隙間（対向面間の距離）２．０ｍｍの場合−マイクロ波漏れ電力０．９４Ｗ
隙間（対向面間の距離）２．２ｍｍの場合−マイクロ波漏れ電力１．２０Ｗ
隙間（対向面間の距離）３．０ｍｍの場合−マイクロ波漏れ電力２．４９Ｗ
隙間（対向面間の距離）３．２ｍｍの場合−マイクロ波漏れ電力７．８５Ｗ
上記の実験および計算においては、１３００Ｗのマイクロ波出力の加熱調理器を使用し、対流装置３０の対流形成空間Ａの内部に３０Ｗのマイクロ波電力が漏洩していた。

図１２は、上記のような隙間（対向面間の距離）とマイクロ波漏れ電力に関する実験結果を示したグラフであり、縦軸がマイクロ波漏れ電力［Ｗ］を示し、横軸が対向Ｙ平面４８ｙと４９ｙの間の隙間（対向面間の距離）［ｍｍ］を示している。図１２においては、対向面間の距離が異なる各種サンプルによる実験結果を示している。図１２に示すグラフからも明らかなように、マイクロ波漏れ電力はギャップが３．０ｍｍを超えると急激に大きくなることが理解できる。したがって、マイクロ波の漏洩を確実に抑制するための対向面間の距離としては、３．０ｍｍ以下にすることが好ましい。対向面間の距離を２．０ｍｍ以下とするのがより好ましい。更に好ましくは、１．０ｍｍ以下の対向面間の距離であれば、マイクロ波の漏れは０．５Ｗ未満となり特に優れた効果を奏する。

［第２のマイクロ波漏洩抑制機構］
第２のマイクロ波漏洩抑制機構は、前述の第１のマイクロ波漏洩抑制機構の後段に設けられており、第１のマイクロ波漏洩抑制機構から漏洩したマイクロ波電力を対流空間形成壁５０の後方に形成された漏洩抑制空間Ｂ（図９および図１０参照）によりマイクロ波の漏れを抑制する。漏洩抑制空間Ｂは、第１の壁である対流空間形成壁５０と、第２の壁である対流装置ケース４５とを結合するように配設された漏洩抑制壁５１により循環ファン軸４６の周りを取り囲むように形成された空間である。漏洩抑制空間Ｂは、その外周方向が漏洩抑制壁５１により閉塞されており、対流空間形成壁５０が前方壁面となり、対流装置ケース４５が後方壁面となる。上記のように構成された第２のマイクロ波漏洩抑制機構においては、第１のマイクロ波漏洩抑制機構から漏洩したマイクロ波が干渉し、マイクロ波電力が低減される。

［第３のマイクロ波漏洩抑制機構］
第３のマイクロ波漏洩抑制機構は、第２のマイクロ波漏洩抑制機構を構成する漏洩抑制空間Ｂの後方に形成されており、金属メッシュシール機構により構成されている。図１３は、漏洩抑制空間Ｂの後方に形成された第３のマイクロ波漏洩抑制機構の金属メッシュシール機構を示す断面図である。

図１３に示すように、漏洩抑制空間Ｂの後方壁となる対流装置ケース４５に密接して金属メッシュシール部５２が設けられている。本実施の形態において、金属メッシュシール部５２は、ステンレスのメッシュワイヤーを集合させて形成されたものであり、循環ファン軸４６を中心として円環状に配置されている。なお、図１３等においては、金属メッシュシール部５２を簡略化して示している。

金属メッシュシール部５２は、メッシュワイヤーを集合して形成されているため、全体としては弾力を有する弾性体である。したがって、金属メッシュシール部５２は、対流装置ケース４５に対して固着手段、例えばネジ止めにより固定されたシール部圧接板５３により押圧されて確実に固定されている。ただし、この金属メッシュシール部５２のシールは金属メッシュに限るものではなく、金属の接触シールを採用しても同等の性能が確保できる。

上記のように設けられた第３のマイクロ波漏洩抑制機構は、第２のマイクロ波漏洩抑制機構の漏洩抑制空間Ｂから循環ファン軸４６が挿通する対流装置ケース４５の貫通孔を介して漏れたマイクロ波を金属メッシュシール部５２においてシールしている。金属メッシュシール部５２は、循環ファン軸４６に貫通されたシール部圧接板５３により第２の壁である対流装置ケース４５に押圧されて固定されており、シール部圧接板５３により金属メ
ッシュシール部５２の内側に実質的なマイクロ波封止空間Ｃが形成されている。即ち、マイクロ波封止空間Ｃは、対流装置ケース４５、金属メッシュシール部５２、およびシール部圧接板５３により形成されている。

［第４のマイクロ波漏洩抑制機構］
第４のマイクロ波漏洩抑制機構は、第３のマイクロ波漏洩抑制機構である金属メッシュシール機構の後段に設けられている。第４のマイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン軸４６の外周面に対して所定間隔を有して配設された第２ブッシング５６により構成された同軸シール機構である。

図１３に示すように、金属メッシュシール部５２を対流装置ケース４５の背面（後方面）に圧接して固定させるためのシール部圧接板５３は、循環ファン軸４６の周りが前方側に突出した山形形状の突出部５３ａを有している。したがって、循環ファン軸４６を中心として環状に配置された金属メッシュシール部５２の中央部分にシール部圧接板５３の突出部５３ａが配置される。第４のマイクロ波漏洩抑制機構は、シール部圧接板５３の突出部５３ａを貫通する循環ファン軸４６の外周面に対向するように設けられた金属製の第２ブッシング５６により構成されている。

本実施の形態においては、第２ブッシング５６としてはアルミニウム金属を用いて構成したが、導電体金属であればよい。また、本実施の形態において、循環ファン軸４６の外周面と第２ブッシング５６の内周面との間の隙間（対向面間の距離）は０．５ｍｍとして構成した。前述の第１のマイクロ波漏洩抑制機構（同軸シール機構）において説明したように、対向面間の距離としては短いほど好ましく、循環ファン軸４６の外周面と第２ブッシング５６の内周面との間における対向面間の０．５ｍｍの距離は、マイクロ波の漏洩を大幅に低減する距離である。循環ファン軸４６の外周面と第２ブッシング５６の内周面との間の対向面間の距離としては、マイクロ波漏洩を抑制するためには前述のように、１．０ｍｍ以下にすることが好ましい。また、第４のマイクロ波漏洩抑制機構は、循環ファン軸４６と第２ブッシング５６により構成された同軸シール機構における対向面の軸方向の長さを１０ｍｍで構成したが、この軸方向の長さは長いほど好ましい。

前述のように、本実施の形態の構成では、１３００Ｗのマイクロ波出力の加熱調理器を使用した実験および計算によれば、対流装置３０の対流形成空間Ａの内部に３０Ｗのマイクロ波電力が漏洩した状態において、第１のマイクロ波漏洩抑制機構から第４のマイクロ波漏洩抑制機構の複数段のマイクロ波漏洩抑制機構を用いた場合、最終段において０．４ｍＷ以下に抑制することが可能であることが確認された。勿論、第１のマイクロ波漏洩抑制機構から第４のマイクロ波漏洩抑制機構におけるそれぞれのマイクロ波漏洩抑制機構を単独で用いても、対流装置３０から調理器外部へのマイクロ波の漏洩を確実に抑制できることを確認している。

なお、上記の実施の形態の加熱調理器においては、対流装置３０において形成された熱風を加熱室４の下方に送出する構成で説明したが、本開示はそのような構成に限定されるものではなく、加熱室４の上方（天井側）に熱風を送出する構成でもよい。このように構成された加熱調理器は、コンベクションモードにおいて対流装置３０の対流ヒータ４０および加熱室４の天井側にあるグリルヒータの少なくとも一方により加熱された熱風が循環するように構成することができる。

本開示をある程度の詳細さをもって実施の形態において説明したが、実施の形態における開示内容は構成の細部において変化してしかるべきものであり、実施の形態における要素の組合せや順序の変化は請求された本開示の範囲及び思想を逸脱することなく実現し得るものである。

本開示は、被加熱物を加熱して調理する加熱調理器に適用可能な構成であり、特にコンビニエンス店やファーストフード店の店舗等で使用されるマイクロ波加熱モードとコンベクションモードを有する業務用の電子レンジ等の高速加熱調理器において有用である。

１ 本体
２ 機械室
３ 扉
４ 加熱室
５ 把手
６操作部
７ トレイ
８ ワイヤラック
１０ 加熱調理器
１２ フロントグリルパネル
３０ 対流装置
３１ 背面壁
３５ マグネトロン
３６ インバータ装置
３７ 冷却ファン
３８ 開口
３９ 熱風生成機構
４０ 対流ヒータ
４１ 循環ファン
４２ ファン駆動部
４３ 第１の熱風ガイド
４４ 第２の熱風ガイド
４５ 対流装置ケース
４６ 循環ファン軸
４７ ファン留め具
４８ ファン支持部
４９ 第１ブッシング
５０ 対流空間形成壁
５１ 漏洩抑制壁
５２ 金属メッシュシール部
５３ シール部圧接板
５４ ファン駆動部ケース
５５ 軸受け
５６ 第２ブッシング

Claims (11)

1. 被加熱物を収容して加熱するための加熱室と、
   マイクロ波加熱モードにおいて前記被加熱物を加熱するために、マイクロ波を形成して前記加熱室に前記マイクロ波を放射するマイクロ波加熱機構と、
   コンベクションモードにおいて前記被加熱物を加熱するコンベクション加熱機構と、
   マイクロ波の漏洩を抑制するマイクロ波漏洩抑制機構と、を備えた加熱調理器において、
   前記コンベクション加熱機構は、
   前記加熱室から空気を取り込み、前記加熱室へ空気を送り出すための循環ファンと、
   前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を加熱するための対流ヒータと、
   前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を、前記対流ヒータに案内し、前記循環ファンにより前記加熱室に送り出される熱風の方向を前記加熱室における所望の位置に案内するための熱風ガイドと、
   前記循環ファンを回転する循環ファン軸を駆動するファン駆動部と、を備え、
   前記対流ヒータおよび前記循環ファンは前記加熱室と連通する対流形成空間の内部に配置され、前記対流形成空間の外部に前記ファン駆動部が配置され、
   前記マイクロ波漏洩抑制機構は、前記対流形成空間を形成する第１の壁を貫通する前記循環ファン軸と前記第１の壁との間に隙間を形成し、当該隙間の対向面間を所定距離以下に設定する同軸シール機構を有し、
   前記マイクロ波漏洩抑制機構は、前記循環ファン軸に対して前記循環ファンを所定位置に固定するファン支持部と、前記第１の壁において前記循環ファン軸に貫通される貫通孔の内面を覆うように固定された環状の第１ブッシングと、を有しており、
   前記ファン支持部は、前記循環ファンを所定位置に固定するための平面を有する平面部と、前記平面部の平面に直交する前記循環ファン軸の外周面を覆う筒状部と、を有しており、
   前記第１ブッシングと前記平面部との対向面間が３．０ｍｍ以下である加熱調理器。
2. 前記循環ファン軸と前記第１の壁との間の隙間の対向面間が３．０ｍｍ以下である請求
   項１に記載の加熱調理器。
3. 被加熱物を収容して加熱するための加熱室と、
   マイクロ波加熱モードにおいて前記被加熱物を加熱するために、マイクロ波を形成して前記加熱室に前記マイクロ波を放射するマイクロ波加熱機構と、
   コンベクションモードにおいて前記被加熱物を加熱するコンベクション加熱機構と、
   マイクロ波の漏洩を抑制するマイクロ波漏洩抑制機構と、を備えた加熱調理器において、
   前記コンベクション加熱機構は、
   前記加熱室から空気を取り込み、前記加熱室へ空気を送り出すための循環ファンと、
   前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を加熱するための対流ヒータと、
   前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を、前記対流ヒータに案内し、前記循環ファンにより前記加熱室に送り出される熱風の方向を前記加熱室における所望の位置に案内するための熱風ガイドと、
   前記循環ファンを回転する循環ファン軸を駆動するファン駆動部と、を備え、
   前記対流ヒータおよび前記循環ファンは前記加熱室と連通する対流形成空間の内部に配置され、前記対流形成空間の外部に前記ファン駆動部が配置され、
   前記マイクロ波漏洩抑制機構は、前記対流形成空間を形成する第１の壁を貫通する前記循環ファン軸と前記第１の壁との間に隙間を形成し、当該隙間の対向面間を所定距離以下に設定する同軸シール機構を有し、前記対流形成空間からのマイクロ波の漏洩を抑制し、
   前記循環ファン軸と前記第１の壁との間の隙間の対向面間が３．０ｍｍ以下であり、
   前記マイクロ波漏洩抑制機構は、前記循環ファン軸に対して前記循環ファンを所定位置に固定するファン支持部と、前記第１の壁において前記循環ファン軸に貫通される貫通孔の内面を覆うように固定された環状の第１ブッシングと、を有しており、
   前記ファン支持部が前記第１ブッシングを貫通した状態において、前記ファン支持部と前記第１ブッシングとの対向面間が３．０ｍｍ以下であり、
   前記ファン支持部は、前記循環ファンを所定位置に固定するための平面を有する平面部と、前記平面部の平面に直交する前記循環ファン軸の外周面を覆う筒状部と、を有しており、
   前記第１ブッシングの内周面と前記筒状部の外周面との対向面間が３．０ｍｍ以下であり、且つ前記第１ブッシングと前記平面部との対向面間が３．０ｍｍ以下である加熱調理器。
4. 前記対流形成空間を形成する前記第１の壁を空間を挟んで覆う第２の壁を備え、
   前記循環ファン軸が前記第１の壁と前記第２の壁を貫通し、前記ファン駆動部が前記第２の壁を貫通した前記循環ファン軸に結合されて、前記対流形成空間における前記加熱室に対向する面以外が二重壁構造で構成された請求項３に記載の加熱調理器。
5. 前記マイクロ波漏洩抑制機構として、前記第１の壁と前記第２の壁とを結合するように設けた漏洩抑制壁により前記循環ファン軸を取り囲む漏洩抑制空間が形成された請求項４に記載の加熱調理器。
6. 前記マイクロ波漏洩抑制機構として、前記第２の壁を貫通した前記循環ファン軸を中心として環状に配設され、前記第２の壁における前記ファン駆動部の配設側に金属メッシュシール部が設けられた請求項４に記載の加熱調理器。
7. 前記金属メッシュシール部は、前記循環ファン軸に貫通されたシール部圧接板により前記第２の壁に押圧されて固定され、前記シール部圧接板により前記金属メッシュシール部の内側にマイクロ波封止空間が形成された請求項６に記載の加熱調理器。
8. 前記マイクロ波漏洩抑制機構として、前記シール部圧接板に固定され、前記循環ファン軸の外周面に対して所定間隔を有して配置された同軸シール機能を有する第２ブッシングが設けられた請求項７に記載の加熱調理器。
9. 前記第２ブッシングの内周面と前記循環ファン軸の外周面との対向面間が１．０ｍｍ以下である請求項８に記載の加熱調理器。
10. 前記加熱室の後方壁を構成する背面壁をさらに備え、
    前記背面壁に複数の開口が形成され、前記複数の開口の直径は、８ｍｍから１０ｍｍの範囲内である請求項１に記載の加熱調理器。
11. 被加熱物を収容して加熱するための加熱室と、
    マイクロ波加熱モードにおいて前記被加熱物を加熱するために、マイクロ波を形成して前記加熱室に前記マイクロ波を放射するマイクロ波加熱機構と、
    コンベクションモードにおいて前記被加熱物を加熱するコンベクション加熱機構と、
    マイクロ波の漏洩を抑制するマイクロ波漏洩抑制機構と、を備えた加熱調理器において、
    前記コンベクション加熱機構は、
    前記加熱室から空気を取り込み、前記加熱室へ空気を送り出すための循環ファンと、
    前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を加熱するための対流ヒータと、
    前記循環ファンにより前記加熱室から取り込まれた空気を、前記対流ヒータに案内し、前記循環ファンにより前記加熱室に送り出される熱風の方向を前記加熱室における所望の位置に案内するための熱風ガイドと、
    前記循環ファンを回転する循環ファン軸を駆動するファン駆動部と、を備え、
    前記対流ヒータおよび前記循環ファンは前記加熱室と連通する対流形成空間の内部に配置され、前記対流形成空間の外部に前記ファン駆動部が配置され、
    前記マイクロ波漏洩抑制機構は、前記対流形成空間を形成する第１の壁を貫通する前記循環ファン軸と前記第１の壁との間に隙間を形成し、当該隙間の対向面間を所定距離以下に設定する同軸シール機構を有し、前記対流形成空間を形成する前記第１の壁を空間を挟んで覆う第２の壁をさらに備え、
    前記循環ファン軸が前記第１の壁と前記第２の壁を貫通し、
    前記マイクロ波漏洩抑制機構として、前記第２の壁を貫通した前記循環ファン軸を中心として環状に配設され、前記第２の壁における前記ファン駆動部の配設側に金属メッシュシール部が設けられ、
    前記金属メッシュシール部は、前記循環ファン軸に貫通されたシール部圧接板により前記第２の壁に押圧されて固定され、前記シール部圧接板により前記金属メッシュシール部の内側にマイクロ波封止空間が形成された加熱調理器。
    

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