JP6778651B2 - 窒化鉄系ボンド磁石 - Google Patents

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Description

本発明は、窒化鉄系ボンド磁石に関する。
近年、電気自動車やハイブリッド自動車などのモーター用磁石として、Nd−Fe−B系の磁石が広く使われている。しかしながら、Ndに代表されるレアアースは、産業分野を支える高付加価値な部材の原料であり、近年需要が拡大しているため、資源の枯渇や原料価格の不安定化が懸念されている。さらには、途上国においても著しく需要が拡大していることや、その偏在性ゆえに特定の産出国への依存度が高いことから、安定供給確保に対する問題が生じている。
上記の問題を回避するため、レアアースを使用せず自然界に無尽蔵に存在する元素(鉄、窒素)から高性能磁石を開発することが求められている。
Fe−N系の化合物、特にFe16は、Feよりも巨大な飽和磁化を示す材料のひとつとして注目されている。
しかしながら、Fe16は200℃以上の温度にある程度の時間、さらされることで分解し、巨大な飽和磁化が消失する。したがって、通常の焼結等のプロセスを経ることができない。したがって、Fe16を用いた焼結磁石を得ることができない。すなわち、焼結により緻密化したバルク磁石を作製することができない。このような問題があるため、通常の焼結等のプロセスを経ないで作成可能な磁石にFe16を用いることが検討されてきた。例えば、特許文献1には、Fe16を用いたボンド磁石が記載されている。しかし、ボンド磁石では、磁気特性と機械強度とを両立することができないという問題があり、高性能なモーターに用いることができない。
特開2009−84115号公報
本発明は、上記を鑑みたものであり、高い残留磁化、高い保磁力、かつ、高い機械強度を有する窒化鉄系ボンド磁石の提供を目的とする。
本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は、
窒化鉄系磁性粉末および樹脂で構成される窒化鉄系ボンド磁石であり、
前記窒化鉄系磁性粉末は窒化鉄相を含む粒子からなり、
前記窒化鉄系ボンド磁石の断面構造が、前記窒化鉄系磁性粉末を含む窒化鉄系磁性粉末層と前記樹脂からなる樹脂有機物層とが交互に複数積層された構造であり、
(窒化鉄系磁性粉末層の断面積 / 樹脂有機物層の断面積)で表される比が3.0以上10.0以下であり、
前記有機物樹脂層の一層あたりの厚みが1.0μm以上5.0μm以下であることを特徴とする。
本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は従来の窒化鉄系ボンド磁石に比べて、高い残留磁化、かつ、高い機械強度を有する。
本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は、前記(窒化鉄系磁性粉末層の断面積 / 樹脂有機物層の断面積)で表される比が4.0以上7.0以下であってもよい。
本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は、前記樹脂有機物層の厚みが2.0μm以上4.0μm以下であってもよい。
本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は、前記窒化鉄相を含む粒子の円相当径の平均が30nm以上150nm以下であってもよい。
図1は、本発明の一実施形態に係る窒化鉄系ボンド磁石を積層面に対して垂直な面に削り出した断面の概略図である。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面に示す実施形態に基づき説明する。なお、本発明は以下に記載の実施形態に限定されるものではない。また、以下に記載の実施形態および実施例にて示された構成要素は適宜組み合わせても良く、適宜選択しても良い。
図1に示すように、本発明に記載の窒化鉄系ボンド磁石1は窒化鉄相を含む粒子2aからなる窒化鉄系磁性粉末および樹脂有機物4aからなる窒化鉄系磁性粉末層2と樹脂有機物4aからなる樹脂有機物層4とが交互に積層された構造を有する。
窒化鉄相とは、窒化鉄を主成分とする強磁性相である。窒化鉄としてはFe16化合物が代表的であるが、Fe16化合物に限定されず、FeN化合物など、FeおよびNのみからなる化合物であればよい。窒化鉄相を含む粒子2aは、窒化鉄相以外の窒化物相を含んでいてもよい。窒化鉄相を含む粒子2aにおける窒化鉄相の割合には特に限定はないが95重量%以上であることが好ましい。また、粒子が窒化鉄相を含むことはXRDを用いて確認することができる。
さらに、前記窒化鉄相を含む粒子2aにおける窒化鉄相はMn、Ni、Co、Ti、Zn等の遷移金属を含んでいてもよい。また、前記窒化鉄相を含む粒子2aはFe、FeおよびFeO等の酸化物や微量のSi化合物等を含んでいてもよく、本願発明の効果を妨げる範囲外であればその他の成分を含んでいてもよい。これらの成分の含有量には特に制限はない。例えば、前記窒化鉄相を含む粒子2a全体を100重量%として、前記Mn、Ni、Co、Ti、Zn等の遷移金属は1重量%以下、前記Si化合物は3重量%以下、前記その他の成分は1重量%以下、含んでいてもよい。
また、前記窒化鉄相を含む粒子2aは表面に非磁性相を有していてもよい。非磁性相の種類には特に限定はない。例えば窒化鉄の酸化物相が例示される。また、本実施形態では、図1に示すように、窒化鉄系磁性粉末層2における前記窒化鉄相を含む粒子2a以外の部分には樹脂有機物4aが充填されているが、窒化鉄相を含む粒子2a以外の部分は空隙であってもよい。
前記樹脂有機物層4は、分子量10000以上である樹脂有機物4aを主成分とするが、分子量の小さい有機物を含んでいてもよい。そして、前記樹脂有機物層4は前記窒化鉄相を含む粒子2aを実質的に含まない。樹脂有機物4aを主成分とするとは、樹脂有機物層4に占める分子量10000以上である樹脂有機物4aの割合が99重量%以上であることを指す。また、前記窒化鉄相を含む粒子2aを実質的に含まないことは、後述する元素マッピングにおいて前記窒化鉄相を含む粒子2a由来の成分が検出されないことにより確認できる。
本実施形態に係る窒化鉄系ボンド磁石は、前記窒化鉄相を含む粒子2aを実質的に含まない樹脂有機物層4が存在することにより、前記窒化鉄系磁性粉末層2同士の接着性が向上し、機械強度(特に曲げ強度)が向上する。
前記窒化鉄系磁石1の断面において、(窒化鉄系磁性粉末層の断面積/樹脂有機物層の断面積)で表される比(以下、単に「断面積比」と呼ぶことがある)が3.0以上10.0以下である。断面積比が3.0未満の場合には、窒化鉄系ボンド磁石1中の樹脂有機物層4の割合が少なくなるため、十分な機械強度(特に曲げ強度)が得られなくなりやすい。また、断面積比が10.0より大きい場合には、窒化鉄系ボンド磁石1中の窒化鉄系磁性粉末層2の割合が少なくなるため、十分な残留磁化が得られなくなりやすい。より好ましくは断面積比が4.0以上7.0以下である。
なお、窒化鉄系磁性粉末層2の一層当りの厚みには特に制限はない。例えば、3.0μm以上50μm以下とすることができる。また、4.0μm以上35μm以下としてもよく、8.0μm以上24μm以下としてもよい。
前記窒化鉄系ボンド磁石1の断面において、樹脂有機物層4の一層当りの厚みは1.0μm以上5.0μm以下である。前記樹脂有機物層4の一層当りの厚みが1.0μm未満の場合には、窒化鉄系磁性粉末層2同士を樹脂有機物層4により十分に接着することが難しくなり、十分な機械強度(特に曲げ強度)が得られなくなりやすい。また、樹脂有機物層4の一層当りの厚みが5.0μmより大きい場合は、相対的に前記窒化鉄系磁性粉末層2の一層当りの厚みが厚くなりすぎ、前記窒化鉄系磁性粉末層2内部にてクラックが発生しやすくなり、十分な機械強度(特に曲げ強度)が得られなくなりやすい。より好ましくは樹脂有機物層の一層当りの厚みが2.0μm以上4.0μm以下である。
ここで、窒化鉄系磁性粉末層および樹脂有機物層を同定する方法を説明し、断面積比の同定方法および各層の厚みを同定する方法を説明する。
窒化鉄系磁性粉末層および樹脂有機物層は窒化鉄系ボンド磁石1の断面を観察することによって同定できる。例えば、透過型電子顕微鏡によって1.0μm×1.0μmの測定領域について倍率20万倍で断面観察を行い、さらにEDSにより元素分布マッピングを行い、元素マッピング像において窒化鉄相を含む粒子2a由来の元素および樹脂有機物4a由来の元素が含まれる層を窒化鉄系磁性粉末層2とした。具体的には、Fe、NおよびCが元素マッピングにより検出された層を窒化鉄系磁性粉末層とした。これに対し、樹脂有機物4a由来の元素のみが含まれ、窒化鉄相を含む粒子2a由来の元素が実質的に含まれない層を樹脂有機物層4とした。具体的には、Feが元素マッピングにより検出されず、Cが元素マッピングにより検出された層を樹脂有機物層として同定する。なお、樹脂有機物4aとしてNを含有しない化合物を用いる場合には、Feと共にNも元素マッピングにより検出されないことになる。
断面積比については、まず、窒化鉄系ボンド磁石の断面に対して、それぞれ異なる500個の測定領域で断面観察を行い、それぞれの測定領域における断面積比を算出する。そして、500個の領域での断面積比を平均することにより、当該窒化鉄系ボンド磁石の断面積比を算出できる。
また、有機物層の一層当たりの厚みは、各構成層の断面積比、有機物樹脂層の長さおよび有機物樹脂層の数より算出できる。
前記窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均が30nm以上150nm以下であることが好ましい。前記窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均が上記の範囲内である場合には、特に保磁力が増加する傾向がある。窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均は、各構成層の断面積比、各測定領域全体の面積および各測定領域における窒化鉄相を含む粒子の数より算出できる。
以下、本実施形態に係る窒化鉄系ボンド磁石1の好適な製造方法について述べるが、本実施形態に係る窒化鉄系ボンド磁石1の製造方法は以下の方法に限定されない。
まず、窒化鉄相を含む粒子2aの原料となる酸化鉄粒子を準備する。前記酸化鉄粒子は、鉄(II)塩および/または鉄(III)塩(以下、単に「鉄塩」と呼ぶことがある)を含む鉄塩水溶液と、アルカリ水溶液と、を混合させた後に、熟成反応を進行させることにより製造することができる。
前期鉄塩の種類には特に限定はなく、例えば、硫酸塩、塩化物、硝酸塩等を使用することができ、これらを適宜組み合わせて使用してもよい。また、それらの水和物を使用することができる。
前記アルカリ水溶液の種類には特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水、アンモニア塩水溶液、および尿素水溶液からなる群から選択される1つ以上を用いることができるが、その他のアルカリ水溶液を用いてもよい。
前記熟成反応の条件に特に制限はなく、前記鉄塩の種類および前記アルカリ水溶液の種類により適宜選択することができる。
また、熟成反応後に得られる酸化鉄の結晶性改良、粒子サイズの制御、および、粒子形状の制御を容易にする観点からは、オートクレーブによる水熱処理などの液中熟成反応により熟成反応を行うことが好ましい。
熟成反応後の水溶液をろ過することで熟成反応により得られた酸化鉄粒子を回収することができる。また、熟成反応後の水溶液に対して遠心分離機等を用いて水洗等の洗浄処理を施すことで、酸化鉄粒子を含む酸化鉄スラリーを得てもよい。
前記酸化鉄粒子は、後述する還元処理によって酸化鉄粒子同士が焼結することを抑制するために、粒子表面の一部をSi化合物で被覆してもよい。Si化合物としては、コロイダルシリカ、シランカップリング剤、シラノール化合物等が使用できるが、これらに限定されない。
Si化合物で被覆する場合には、Si化合物の被覆量は酸化鉄粒子に対してSi換算で0.1重量%以上20重量%以下であることが好ましい。0.1重量%以上とすることで、熱処理時に酸化鉄粒子間の焼結を抑制する効果が十分に得られやすくなり、最終的に得られる窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均を150nm以下に制御しやすくなる。20重量%以下とすることで熱処理時に酸化鉄粒子間の焼結を適度に抑制しやすくなり、最終的に得られる窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均を30nm以上に制御しやすくなる。
また、Si化合物で被覆する工程は、ろ過により得られた酸化鉄粒子に対して行ってもよく、上述した酸化鉄スラリーに対して行ってもよい。また、酸化鉄スラリーに対してSi化合物で被覆する工程を行った後には、酸化鉄スラリーをろ過することで酸化鉄粒子を回収することができる。
前記酸化鉄粒子の平均粒子径には特に制限はないが、10nm以上150nm以下であることが好ましい。平均粒子径を10nm以上150nm以下とすることで、最終的に得られる窒化鉄相を含む粒子2aの円相当径の平均を30nm以上150nm以下に制御しやすくなる。
前記酸化鉄粒子の種類としては、マグネタイト、γ−Fe、α−Fe、α−FeOOH、β−FeOOH、γ−FeOOH、FeOなどが例示されるが、その他の種類の酸化鉄粒子を用いてもよい。
前記酸化鉄粒子の粒子形状には特に制限はなく、球状、針状、粒状、紡錘状、直方体状などのいずれでもよい。また、得られた酸化鉄粒子に対して後述する還元処理を行う前に、必要に応じて酸化鉄粒子を乾燥させてもよい。乾燥条件には特に制限はない。
本実施形態に係る窒化鉄相を含む粒子2aは、前記酸化鉄粒子に還元処理を行い、得られた鉄粒子に窒化処理を施すことにより得ることができる。さらに、得られた窒化鉄相を含む粒子2aに対して、低温かつ低酸素分圧下にて徐酸化処理を施し、窒化鉄相を含む粒子2aの表面に酸化物相を形成させてもよい。
以下、還元処理、窒化処理および徐酸化処理について説明する。
還元処理の温度は特に限定されないが、200℃以上400℃以下とすることが好ましい。還元処理の温度を200℃以上とすることで酸化鉄粒子を十分に還元しやすくなる。還元処理の温度を400℃以下とすることで酸化鉄粒子を十分に還元しつつ、粒子間の焼結は適度に抑制しやすくなる。還元処理の温度は、より好ましくは230℃以上350℃以下である。
還元処理の時間は特に限定されないが、1時間以上96時間以下とすることが好ましい。還元処理の時間が96時間以下であると、還元処理の温度を上昇させても粒子間の焼結を適度に進みにくくなる。その結果、後段の窒化処理が進みやすくなる。還元処理の時間が1時間以上であると十分に還元が進行しやすくなる。還元処理の時間は、より好ましくは2時間以上72時間以下である。
還元処理の雰囲気は、例えばH雰囲気である。
次に、還元処理によって得られた鉄粒子の窒化処理を行い、窒化鉄相を含む粒子2aを得る。なお、窒化鉄相としては、例えばFe16相が挙げられるが特に限定されない。
窒化処理の温度は100℃以上200℃以下であることが好ましい。窒化処理の温度が100℃以上の場合には窒化が十分に進行しやすくなる。窒化処理の温度が200℃以下の場合には、窒化が過剰に進行しにくくなり、磁気特性の低下を抑制しやすくなる。窒化処理の温度は、より好ましくは120℃以上180℃以下である。
窒化処理の時間は特に限定されないが、1時間以上48時間以下とすることが好ましい。窒化処理の時間が48時間以下であると、窒化処理の温度を高くしても磁気特性が低下しにくくなる。窒化処理の時間が1時間以上であると、窒化が十分に進行しやすくなる。窒化処理の時間は、より好ましくは3時間以上24時間以下である。
窒化処理の雰囲気は、NH雰囲気が好ましい。また、NHの他にNおよび/またはHなどを混合させた雰囲気で窒化処理を行ってもよい。
また、得られた窒化鉄相を含む粒子2aの徐酸化処理を行うことで、窒化鉄相を含む粒子の表面に酸化物相を形成させることができる。徐酸化処理の温度は40℃以上100℃以下であることが好ましい。徐酸化処理の温度を40℃以上とすることで、粒子表面に酸化物相が十分に形成されやすくなり、磁気特性が低下しにくくなる。また、徐酸化処理の温度が100℃以下の場合には、酸化物相の割合が過剰にならないように制御しやすくなり、磁気特性が低下しにくくなる。徐酸化処理の温度は、より好ましくは50℃以上80℃以下である。
徐酸化処理の時間は特に限定されないが、1時間以上96時間以下が好ましい。徐酸化処理の時間が96時間以下であると徐酸化温度が高い場合や徐酸化雰囲気中の酸素濃度が高い場合であっても酸化物相の割合が過剰になりにくく磁気特性が低下しにくくなる。徐酸化処理の時間が1時間以上未満であると酸化物相を十分に形成しやすくなり磁気特性が低下しにくくなる。徐酸化処理の時間は、より好ましくは2時間以上72時間以下である。
徐酸化処理の雰囲気は、Oを10ppm以上500ppm以下含むN雰囲気が好ましく、Nの他にHeやArなどの不活性ガスを混合させても良い。Oが10ppm以上であると、酸化物相を十分に形成しやすく磁気特性が低下しにくくなる。また、Oが500ppm以下であると、徐酸化温度が高くても酸化物相の割合が過剰になりにくく磁気特性が低下しにくくなる。Oの含有量は、より好ましくは30ppm以上100ppm以下である。
得られた窒化鉄相を含む粒子2aからなる窒化鉄系磁性粉末と、樹脂と、溶剤と、必要に応じて、各種分散剤、可塑剤などから選択される添加物と、をボールミルなどで混練し、窒化鉄系磁性粉末スラリーを得る。
また、樹脂と、溶剤と、必要に応じて、各種分散剤、可塑剤などから選択される添加物と、をボールミルなどで混練し、樹脂有機物スラリーを得る。
上述の工程により得られた窒化鉄系磁性粉末スラリーと樹脂有機物スラリーとをそれぞれ塗布し、乾燥することにより、窒化鉄系磁性粉末シートと樹脂有機物シートをそれぞれ得る。窒化鉄磁性粉末シートを作製する際には、窒化鉄系磁性粉末スラリーの塗布後、乾燥するまでの間に、磁石等を用いて磁気的な配向処理を施してもよい。各スラリーの塗布の方法には特に制限はない。代表的な方法としては、ドクターブレード法があげられる。
次いで、上述の工程により得られた窒化鉄系磁性粉末シートと、樹脂有機物シートと、を交互に積層して積層体を得る。続いて、得られた積層体に対し、積層方向の両側から緩やかに加圧して窒化鉄系ボンド磁石1を得る。加圧時の圧力には特に制限はなく、窒化鉄系磁性粉末シートにおける磁気的な配向が崩れない程度に緩やかな圧力であればよい。例えば1.0MPa以上100MPa以下とすることができる。
本実施形態に係る窒化鉄系ボンド磁石の磁気特性が著しく向上するのは、窒化鉄系磁性粉末シートを磁気的に配向させ、その後の工程で配向が崩れないように加圧するために、得られる窒化鉄系ボンド磁石1の配向度が非常に高くなると考えられる。
前記積層体を加圧する際に、磁場を印加しながら加圧しても良い。磁場を印加しながら加圧することにより、最終的に得られる窒化鉄系ボンド磁石1に含まれる窒化鉄系磁性粉末がさらに特定の方向に配向するので、より磁気特性に優れた窒化鉄系ボンド磁石1を得ることができる。
得られた窒化鉄系ボンド磁石1は、酸化層や樹脂等の劣化を防止するために、表面にめっきや塗装を施しても良い。
次に、本発明の窒化鉄系ボンド磁石について、実施例・比較例を用いてさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
(実施例1)硫酸鉄七水和物(FeSO・7HO)167gと塩化鉄六水和物(FeCl・6HO)85gとをイオン交換水248mLに溶解し、鉄塩水溶液を作製した。前記鉄塩水溶液とは別に準備した2.5mol/Lアンモニア水溶液600gを30℃に保持し、前記アンモニア水溶液600gに対して、先に調整した鉄塩水溶液を500g添加した。その後、70℃で一定となるように前記アンモニア水溶液の温度を制御して30分撹拌することで液中熟成反応を進行させ、酸化鉄を生成させた。その後、遠心分離機を用いて2Lのイオン交換水で3回洗浄を行うことにより酸化鉄スラリーを作製した。
前記酸化鉄スラリー1000gに、テトラエトキシシラン5.0g、エタノール21g、ジエチレングリコールモノブチルエーテル78gを添加し、Si被着処理を施した。Si被着処理を施した酸化鉄スラリーをろ過した後に85℃で24時間乾燥し、Feを含む酸化鉄粒子を作製した。
前記酸化鉄粒子2gを焼成ボートに入れ、熱処理炉に静置した。炉内に窒素ガスを充填した後、水素ガスを1L/minの流量で流しながら、5℃/minの昇温速度で250℃まで昇温し、250℃で48時間保持して還元処理を行った。250℃で48時間保持後、水素ガスの供給を止めて窒素ガスを2L/minの流量で流しながら140℃まで降温した。続いて、アンモニアガスを0.2L/minの流量で流しながら、140℃で24時間保持して窒化処理を行った。140℃で24時間保持後、窒素ガスを2L/minの流量で流しながら、50℃まで降温した。
次に、得られた窒化鉄系磁性粉末と混練させる樹脂と溶剤とを準備した。樹脂としてはウレタン樹脂を、溶剤としてはキシレン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを準備した。ウレタン樹脂は分子量23000のものを用いた。溶剤はキシレン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを重量比4:4:2で混合したものを用いた。
前記窒化鉄系磁性粉末10g、前記ウレタン樹脂4.7gおよび前記溶剤30gをそれぞれ秤量し、直径2mmのジルコニアボールとともにボールミルで20時間混練し、窒化鉄系磁性粉末スラリーを得た。
また、前記ウレタン樹脂4.7gと前記溶剤30gとをそれぞれ秤量し、直径2mmのジルコニアボールとともにボールミルで20時間混練し、樹脂有機物スラリーを得た。
PETフィルム上に前記窒化鉄系磁性粉末スラリーをドクターブレード法にて塗布して、窒化鉄系磁性粉末シートを得た。また、PETフィルム上に樹脂有機物スラリーをドクターブレード法にて塗布して、樹脂有機物シートを得た。
最終的に得られる窒化鉄系ボンド磁石における窒化鉄系磁性粉末層の厚みが15μmとなるようにブレードのギャップを調整した。また、最終的に得られる窒化鉄系ボンド磁石における樹脂有機物層の厚みが3μmとなるようにブレードのギャップを調整した。
作製した窒化鉄系磁性粉末シートと樹脂有機物シートとをPETフィルムから剥離し、それぞれ交互に積層し、積層方向の両側から20MPaの圧力をかけて成形することにより、積層構造を有する窒化鉄系ボンド磁石を得た。
(実施例2)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を4.0gとした点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例3)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとした点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例4)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが9μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例5)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが12μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例6)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが21μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例7)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが30μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例8)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが5μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが1μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例9)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが10μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが2μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例10)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが20μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが4μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例11)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが25μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが5μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例12)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を1.8gとした点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例13)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を0.8gとした点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(実施例14)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を0.6gとした点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(比較例1)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが7.5μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(比較例2)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが31.5μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(比較例3)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが2.5μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが0.5μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(比較例4)酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとし、最終的に得られる窒化鉄系磁性粉末層の厚みが27.5μmとなるようにブレードギャップを調整し、最終的に得られる樹脂有機物層の厚みが5.5μmとなるようにブレードギャップを調整した点以外は、実施例1と同様にして窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
(比較例5)まず、酸化鉄スラリーに添加するテトラエトキシシランの量を2.5gとした点以外は実施例1と同様にして、窒化鉄系磁性粉末スラリーと樹脂有機物スラリーとを得た。次に前記窒化鉄系磁性粉末スラリーと前記樹脂有機物スラリーとを重量比5:1で混合して混合スラリーを得た。さらに、前記混合スラリーを熱風乾燥機内にて24時間乾燥して窒化鉄磁性粉末と有機物粉末の混合紛体を得た。そして、前記混合紛体を金型に充填し、3kgf/cmの荷重をかけて圧縮成形を行い、積層構造を有さない窒化鉄系ボンド磁石を作製した。
<窒化鉄系磁性粉末が窒化鉄相を含むことの確認>
作製した窒化鉄系磁性粉末について、粉末XRD(リガク製RINT−2500)によりX線回折プロファイルを得た。当該X線回折プロファイルにより、窒化鉄系磁性粉末が窒化鉄相を含む粒子であることを確認した。当該X線回折プロファイルにより同定される窒化鉄相としては、例えばFe16化合物相が例示されるが、特に限定はない。
<窒化鉄系ボンド磁石の断面中の構成層の同定>
得られた窒化鉄系ボンド磁石を積層方向に対して垂直な方向に断面が出るように削り出した。透過型電子顕微鏡(TEM、日本電子製JEM−2100FCS)によって1.0μm×1.0μmの測定領域について倍率20万倍で断面観察を行い、さらにEDSにより元素分布マッピングを行った。元素マッピング像より、Fe、NおよびCを含む層を窒化鉄系磁性粉末層とし、Cのみを含む層(FeおよびNが検出されなかった層)を樹脂有機物層として同定した。
<各構成層の断面積比の同定>
窒化鉄系ボンド磁石の断面に対して、それぞれ異なる500個の50μm×50μmの測定領域で断面観察を行い、それぞれの領域における断面積比を算出し、平均することにより、当該窒化鉄系ボンド磁石の断面積比を算出した。
<有機物樹脂層の一層あたりの厚み>
各構成層の断面積比、有機物樹脂層の長さおよび有機物樹脂層の数より、有機物樹脂層の一層あたりの厚みを算出した。
<窒化鉄相を含む粒子の円相当径>
各構成層の断面積比、各測定領域全体の面積および各測定領域における窒化鉄相を含む粒子の数より、窒化鉄相を含む粒子の円相当径を算出した。
<残留磁化Brおよび保磁力Hcの測定>
得られた窒化鉄系ボンド磁石の残留磁化Brと保磁力Hcの測定にはB−Hトレーサー(東英工業製TRF−5BH)を用いた。外部印加磁場を25kOeから−25kOeまで変化させて得られた減磁曲線から残留磁化Brおよび保磁力Hcを求めた。本実施例では、残留磁化Brが3.0kG以上であり、かつ、保磁力Hcが2.0kOe以上である窒化鉄系ボンド磁石を磁気特性が良好とした。また、残留磁化Brが4.0kG以上であり、かつ、保磁力Hcが2.5kOe以上である窒化鉄系ボンド磁石を磁気特性がさらに良好とした。
<曲げ強度の測定>
曲げ強度は、得られた窒化鉄系ボンド磁石を80mm×10mm×4mmのサイズに加工し、JIS K7171規格に準じて曲げ強度試験機(インストロンジャパンカンパニーリミテド製INSTRON5543)を用いて測定した。一水準につき5個の試験サンプルを作製して曲げ強度を測定し、その平均値を各水準の曲げ強度とした。曲げ強度が25MPa以上である場合を良好とした。また、曲げ強度が35MPa以上である場合をさらに良好とした。
Figure 0006778651
全ての実施例と比較例において、窒化鉄系磁性粉末がFe16化合物相にて構成されていることが確認された。
実施例1〜14より、断面積比および樹脂有機物層の一層当たりの厚みが所定の範囲内である場合には、Br、Hcおよび曲げ強度が全て良好であった。
実施例1〜3および12〜14より、窒化鉄相を含む粒子の円相当径が30nm以上150nm以下である場合(実施例2,3,12および13)には、Hcがさらに良好であった。
実施例3〜7より、断面積比が4.0以上7.0以下である場合(実施例4〜6)には、Brおよび曲げ強度がさらに良好であった。これに対し、断面積比が2.5である比較例1はBrが著しく低下した。また、断面積比が10.5である比較例2は曲げ強度が著しく低下した。
比較例1でBrが著しく低下した理由は、窒化鉄系ボンド磁石中に含まれる強磁性相の割合が小さくなりすぎたためであると考えらえる。また、比較例2で曲げ強度が著しく低下した理由は、窒化鉄系ボンド磁石中に含まれる樹脂の割合が小さくなり、窒化鉄系磁性粉末層同士を樹脂有機物層により十分に接着できていないためであると考えられる。
実施例3および8〜11より、樹脂有機物層の一層当たりの厚みが2.0μm以上4.0μm以下である場合(実施例3、9および10)には、曲げ強度がさらに良好であった。これに対し、樹脂有機物層の一層当たりの厚みが0.5μmである比較例3、および、5.5μmである比較例4は、いずれも曲げ強度が著しく低下した。
比較例3で曲げ強度が著しく低下した理由は、樹脂有機物層の厚みが薄すぎるために、窒化鉄系磁性粉末層同士を樹脂有機物層により十分に接着できていないためであると考えられる。
比較例4で曲げ強度が著しく低下した理由は、窒化鉄系磁性粉末層が相対的に厚くなりすぎることにより、窒化鉄系磁性粉末層内部にてクラックが発生しやすくなったためであると考えられる。
比較例5に示したように本願発明の積層構造を有していない窒化鉄系ボンド磁石の場合にも、曲げ強度が著しく低い結果となった。これは、窒化鉄相を含む粒子と樹脂とが均一に混ざったことにより、本願発明の積層構造に起因する曲げ強度が得られなかったためであると考えられる。
以上のように、本発明に係る窒化鉄系ボンド磁石は、高い残留磁化、高い保磁力、かつ、高い機械強度(特に曲げ強度)を有することから、レアアースを使用しない磁石として有用である。
1 窒化鉄系ボンド磁石
2 窒化鉄系磁性粉末層
2a 窒化鉄相を含む粒子
4 樹脂有機物層
4a 樹脂有機物

Claims (4)

  1. 窒化鉄系磁性粉末および樹脂を含む窒化鉄系ボンド磁石であり、
    前記窒化鉄系磁性粉末は窒化鉄相を含む粒子からなり、
    前記窒化鉄系ボンド磁石の断面構造が、前記窒化鉄系磁性粉末を含む窒化鉄系磁性粉末層と前記樹脂からなる樹脂有機物層とが交互に複数積層された構造であり、
    (窒化鉄系磁性粉末層の断面積 / 樹脂有機物層の断面積)で表される比が3.0以上10.0以下であり、
    前記有機物樹脂層の一層あたりの厚みが1.0μm以上5.0μm以下である窒化鉄系ボンド磁石。
  2. 前記(窒化鉄系磁性粉末層の断面積 / 樹脂有機物層の断面積)で表される比が4.0以上7.0以下である請求項1に記載の窒化鉄系ボンド磁石。
  3. 前記樹脂有機物層の厚みが2.0μm以上4.0μm以下である請求項1または2に記載の窒化鉄系ボンド磁石。
  4. 前記窒化鉄相を含む粒子の円相当径の平均が30nm以上150nm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の窒化鉄系ボンド磁石。


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