JP6752693B2 - 水処理方法および装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 223
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 93
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 78
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 78
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 47
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 30
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 24
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 21
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 33
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 33
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 21
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 16
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 5
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 5
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 5
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 101100435119 Arabidopsis thaliana APRR1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100481792 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) toc1 gene Proteins 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000004653 carbonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/02—Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/02—Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
- B01D61/025—Reverse osmosis; Hyperfiltration
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
有効圧力1MPaあたりの透過流束は、膜メーカーのカタログに記載の情報、例えば、透過水量、膜面積、評価時の回収率、NaCl濃度等から計算することができる。また、1つまたは複数の圧力容器に同一の透過流束である膜が複数本装填されている場合、圧力容器の平均操作圧/2次側圧力、原水水質、透過水量、膜本数等の情報より、装填された膜の透過流束を計算することができる。
図7に示す構成の装置を組み立てた。この装置は、純水に対して膜脱気による脱酸素処理を行ったのちに、イソプロピルアルコール(CH3CH(OH)CH3;IPA)を添加し、さらにH2O2を添加し、IPAとH2O2が添加された水に対して紫外線酸化処理を行うようにしたものである。ここで用いる純水の水質は、抵抗率が1MΩ・cm以上、TOCが3μg/L以下、溶存酸素濃度が7.8mg/L、H2O2濃度が1μg/L以下であった。この装置は、IPAを有機物(TOC成分)として含む純水を被処理水として、この被処理水に含まれる有機物を分解処理する装置であり、IPAを添加する前の膜脱気による脱酸素処理は被処理水の溶存酸素濃度を低減するための処理であると言える。膜脱気によっては水中のIPAは一般に除去されないことを考えれば、図9に示す装置により、IPAを含む被処理水を脱酸素処理に供給して脱酸素処理を行い、その後H2O2を添加して紫外線酸化処理を行う場合と同じ結果が得られることになる。
TOC除去率(%)=((TOC0−TOC1)/TOC0)×100
上述のように、TOC0は、被処理水のTOC濃度、すなわちTOC計57で測定されたTOC濃度であり、TOC1は、イオン交換装置35からの処理水のTOC濃度、すなわちTOC計58によって測定されたTOC濃度である。
被処理水のTOC濃度(紫外線酸化装置31の入口でのTOC濃度)を1000μg/Lとし、さらにH2O2添加量として20.0mg/Lの場合を追加したこと以外は実験例1と同条件で実験を行った。結果を表2に示す。これらからも、被処理水中の溶存酸素濃度を低減し、H2O2を添加することでTOC除去率が向上する結果が得られた。
紫外線酸化装置31の入口での溶存酸素濃度を500μg/L、H2O2添加量を0mg/L、1.5mg/L、2.5mg/L、5.0mg/Lとした以外は、実験例1と同様の条件で実験を行った。結果を表3に示す。
紫外線酸化装置31の入口での溶存酸素濃度を1000μg/L、H2O2添加量を0mg/L、1.5mg/L、2.0mg/L、2.5mg/Lとした以外は、実験例1と同様の条件で実験を行った。結果を表4に示す。
膜脱気モジュール11によって紫外線酸化装置31の入口の溶存酸素濃度を50μg/Lとなるように調整し、IPAの添加量を調整して被処理水のTOC濃度(紫外線酸化装置31の入口でのTOC濃度)が100μg/Lとなるようにした。この状態で、H2O2の添加量を0mg/L、0.2mg/L、0.4mg/Lに調整して、それぞれの場合についてTOC除去率を測定した。紫外線酸化装置31への供給水量は2000L/時間であった。なおそれ以外については実験例1と同様の条件で実験を行った。結果を表5に示す。
15 逆浸透膜装置
20 過酸化水素添加装置
30 紫外線照射装置
31 紫外線酸化装置
40 制御装置
41,56 溶存酸素(DO)計
Claims (14)
- 被処理水に含まれる有機物を分解処理する水処理方法であって、
前記被処理水に過酸化水素を添加する過酸化水素添加段階と、
過酸化水素を添加された前記被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射段階と、
前記紫外線照射段階からの出口水の溶存酸素濃度を測定する段階と、
を有し、前記測定された溶存酸素濃度に基づいて前記過酸化水素添加段階における過酸化水素の添加量を制御する水処理方法。 - 前記紫外線照射段階からの出口水の溶存酸素濃度が0.1mg/L以下となるように前記過酸化水素の添加量を制御する、請求項1に記載の水処理方法。
- 前記紫外線照射段階において、波長が185nm以下である成分を含む紫外線を照射する、請求項1または2に記載の水処理方法。
- 前記過酸化水素添加段階の前に、前記被処理水に含まれる有機物を逆浸透処理によって低減する段階をさらに有する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記逆浸透処理で用いる逆浸透膜は、有効圧力1MPaあたりの透過流束が0.5m3/m2/d以下である、請求項4に記載の水処理方法。
- 前記水処理方法による処理が行われる前の前記被処理水は、全有機炭素濃度が0.1mg/L以上であり、溶存酸素濃度が1mg/Lを超える、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記被処理水が工程排水に由来する、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の水処理方法。
- 前記工程排水は超純水を使用する工程からの排出される水であり、前記水処理方法により処理された水が、前記工程で使用する超純水を生成するための原水として用いられる、請求項7に記載の水処理方法。
- 被処理水に含まれる有機物を分解処理する水処理装置であって、
前記被処理水に過酸化水素を添加する過酸化水素添加装置と、
前記過酸化水素が添加された被処理水に対し紫外線を照射する紫外線照射装置と、
前記紫外線照射装置の出口水の溶存酸素濃度を測定する溶存酸素測定手段と、
前記溶存酸素測定手段で測定された溶存酸素濃度に基づいて前記過酸化水素添加装置における過酸化水素の添加量を制御する制御手段と、
を有する水処理装置。 - 前記制御手段は、前記紫外線照射段階からの出口水の溶存酸素濃度が0.1mg/L以下となるように前記過酸化水素の添加量を制御する、請求項9に記載の水処理装置。
- 前記紫外線照射装置は、波長が185nm以下である成分を含む紫外線を照射する紫外線酸化装置である、請求項9または10に記載の水処理装置。
- 逆浸透膜を有し前記被処理水に含まれる有機物を低減する逆浸透膜装置を前記過酸化水素添加装置の入口側に備える、請求項9乃至11のいずれか1項に記載の水処理装置。
- 前記逆浸透膜は、有効圧力1MPaあたりの透過流束が0.5m3/m2/d以下である、請求項12に記載の水処理装置。
- 前記水処理装置に供給される前記被処理水は、全有機炭素濃度が0.1mg/L以上であり、溶存酸素濃度が1mg/Lを超える請求項9乃至13のいずれか1項に記載の水処理装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016224969A JP6752693B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 水処理方法および装置 |
TW106139248A TWI732970B (zh) | 2016-11-18 | 2017-11-14 | 水處理方法及水處理裝置 |
KR1020197014291A KR102233505B1 (ko) | 2016-11-18 | 2017-11-16 | 수처리 방법 및 장치 |
CN201780067211.9A CN109906206B (zh) | 2016-11-18 | 2017-11-16 | 水处理方法及装置 |
PCT/JP2017/041215 WO2018092832A1 (ja) | 2016-11-18 | 2017-11-16 | 水処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016224969A JP6752693B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 水処理方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018079448A JP2018079448A (ja) | 2018-05-24 |
JP6752693B2 true JP6752693B2 (ja) | 2020-09-09 |
Family
ID=62145567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016224969A Active JP6752693B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | 水処理方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6752693B2 (ja) |
KR (1) | KR102233505B1 (ja) |
CN (1) | CN109906206B (ja) |
TW (1) | TWI732970B (ja) |
WO (1) | WO2018092832A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111454851A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-07-28 | 苏州禾优泰源农业科技有限公司 | 一种微生物有氧发酵系统 |
JP2022138429A (ja) * | 2021-03-10 | 2022-09-26 | オルガノ株式会社 | 水処理方法及び装置 |
JP2022174865A (ja) * | 2021-05-12 | 2022-11-25 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
CN113779504A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-12-10 | 天津大学 | 一种基于初级自由基计算紫外高级氧化工艺氧化剂最佳投加浓度的方法 |
CN113860553B (zh) * | 2021-10-12 | 2022-07-19 | 江苏中电创新环境科技有限公司 | 一种再生水中痕量小分子有机物的去除方法 |
JP2024042977A (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-29 | オルガノ株式会社 | 水処理システムおよび水処理方法 |
KR102553948B1 (ko) | 2023-02-14 | 2023-07-10 | 김기수 | Toc저감 수처리장치 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4012321A (en) * | 1975-03-25 | 1977-03-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Oxidation of refractory organics in aqueous waste streams by hydrogen peroxide and ultraviolet light |
CA1138529A (en) * | 1978-11-24 | 1982-12-28 | Patrick E. Fowles | Method and apparatus for measuring hydrogen peroxide concentration in a solution |
JPH05305297A (ja) * | 1992-04-30 | 1993-11-19 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有酸性排水の処理装置 |
JP4294731B2 (ja) * | 1996-02-20 | 2009-07-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造方法および超純水製造装置 |
JPH10277572A (ja) * | 1997-04-03 | 1998-10-20 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
US6372699B1 (en) * | 1997-12-22 | 2002-04-16 | Kurita Water Industries Ltd. | Cleaning solution for electronic materials and method for using same |
JP3803590B2 (ja) * | 2002-02-19 | 2006-08-02 | 株式会社東芝 | 過酸化水素の残留濃度制御装置 |
JP5280038B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2013-09-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造装置 |
KR101390441B1 (ko) * | 2008-03-31 | 2014-04-30 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 순수 제조 방법 및 순수 제조 장치 |
CN101423310A (zh) * | 2008-11-14 | 2009-05-06 | 钱志刚 | 电子超纯水的循环回用处理方法 |
JP5430983B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-03-05 | オルガノ株式会社 | 白金族金属担持触媒、過酸化水素の分解処理水の製造方法、溶存酸素の除去処理水の製造方法及び電子部品の洗浄方法 |
JP5499753B2 (ja) | 2010-02-18 | 2014-05-21 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び装置 |
JP5512357B2 (ja) | 2010-04-05 | 2014-06-04 | オルガノ株式会社 | 純水製造方法及び装置 |
JP5647842B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2015-01-07 | オルガノ株式会社 | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
JP2014168743A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造方法 |
JP6228531B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2017-11-08 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
CN105461128B (zh) * | 2015-12-18 | 2018-01-05 | 碳氢技术工程管理(武汉)有限公司 | 一种组合处理高cod污水的装置及处理方法 |
-
2016
- 2016-11-18 JP JP2016224969A patent/JP6752693B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-14 TW TW106139248A patent/TWI732970B/zh active
- 2017-11-16 CN CN201780067211.9A patent/CN109906206B/zh active Active
- 2017-11-16 KR KR1020197014291A patent/KR102233505B1/ko active IP Right Grant
- 2017-11-16 WO PCT/JP2017/041215 patent/WO2018092832A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018092832A1 (ja) | 2018-05-24 |
CN109906206B (zh) | 2022-03-04 |
TWI732970B (zh) | 2021-07-11 |
JP2018079448A (ja) | 2018-05-24 |
CN109906206A (zh) | 2019-06-18 |
KR102233505B1 (ko) | 2021-03-29 |
TW201821371A (zh) | 2018-06-16 |
KR20190066059A (ko) | 2019-06-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190717 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200526 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200811 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200819 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6752693 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |