JP6749275B2 - アウターマスク、プラズマ処理装置、およびフォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、プラズマ処理装置の処理容器の内部に処理物と対峙するシャッタを設け、シャッタの開口の大きさを変化させることで、所望の領域における層を除去する技術が提案されている(例えば、特許文献1を参照)。
クロムを含む残渣を除去する際にこの技術を用いれば、フォトレジストの再度の塗布やパターニングを行う必要がなくなる。
そこで、フォトマスクの機能の低下を抑制することができ、且つ、生産性を向上させることができる技術の開発が望まれていた。
まず、本発明の実施形態に係るプラズマ処理装置1について説明する。
図1は、プラズマ処理装置1を例示するためのレイアウト図である。
図1に示すように、プラズマ処理装置1には、集積部10、搬送部20、ロードロック部30、受け渡し部40、処理部50、および制御部60が設けられている。
収納部11は、処理物200を収納する。
収納部11の数には、特に限定はないが、複数の収納部11を設ける様にすれば、生産性を向上させることができる。収納部11は、例えば、処理物200を積層状(多段状)に収納可能なキャリアなどとすることができる。例えば、収納部11は、ミニエンバイロメント方式の半導体工場で使われている基板の搬送と保管を目的とした正面開口式キャリアであるFOUP(Front-Opening Unified Pod)などとすることができる。
ただし、収納部11は、FOUPなどに限定されるわけではなく、処理物200を収納することができるものであればよい。
搬送部20は、プラズマ処理を施す際の圧力よりも高い圧力(例えば、大気圧)の環境において、処理物200およびアウターマスク100を搬送する。
搬送部20には、筐体21、移載部22、アウターマスク収納部23、および載置部24が設けられている。
筐体21は、箱状を呈し、その内部には移載部22、アウターマスク収納部23、および載置部24が設けられている。筐体21は、例えば、外部からパーティクルなどが侵入できない程度の気密構造を有するものとすることができる。筐体21の内部の雰囲気は、例えば、大気圧となっている。
なお、アウターマスク100に関する詳細は後述する。
ロードロック部30は、例えば、雰囲気が大気圧の筐体21と、雰囲気がプラズマ処理を施す際の圧力の筐体41との間で、アウターマスク100が載置された処理物200の受け渡しができるようにする。
ロードロック室31は、箱状を呈し、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持できるようになっている。
開閉扉32は、ロードロック室31の筐体21側、および筐体41側にそれぞれ設けられている。また、図示しない駆動部により開閉扉32を移動させることで、ロードロック室31の開口部を開閉できるようになっている。
圧力制御部34は、減圧部とガス供給部を有する。
減圧部は、ロードロック室31の内部にある気体を排気して、ロードロック室31の内部の雰囲気を大気圧よりも低い所定の圧力まで減圧する。例えば、圧力制御部34は、ロードロック室31の内部の雰囲気の圧力が、筐体41の内部の雰囲気の圧力(プラズマ処理を施す際の圧力)とほぼ同等となるようにする。
受け渡し部40には、筐体41、移載部42、および減圧部43が設けられている。
筐体41は、箱状を呈し、その内部が開閉扉32を介してロードロック室31の内部と繋がっている。筐体41は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持できるようになっている。
処理部50は、例えば、プラズマエッチング装置とすることができる。
この場合、プラズマの発生方法には特に限定はなく、例えば、高周波やマイクロ波などを用いてプラズマを発生させるものとすることができる。また、処理部50の数にも特に限定はない。
図2に示すように、処理部50には、処理容器51、載置部52、電源部53、電源部54、減圧部55、およびガス供給部56が設けられている。
本体部51aは、略円筒形状を呈している。本体部51aは、例えば、アルミニウム合金などの金属から形成することができる。また、本体部51aは、接地されている。
本体部51aの内部には、アウターマスク100が載置された処理物200をプラズマエッチング処理するための空間であるプラズマ処理空間51cが設けられている。
本体部51aには、アウターマスク100が載置された処理物200を搬入搬出するための搬入搬出口51dが設けられている。
搬入搬出口51dは、ゲートバルブ51eにより気密に閉鎖できるようになっている。
載置部52は、電極52a、台座52b、および絶縁リング52cを有する。
電極52aは、プラズマ処理空間51cの下方に設けられている。電極52aの上面はアウターマスク100が載置された処理物200を載置するための載置面となっている。電極52aは、金属などの導電性材料から形成することができる。
電源部53は、いわゆるバイアス制御用の高周波電源である。すなわち、電源部53は、載置部52上の、アウターマスク100が載置された処理物200に引き込むイオンのエネルギーを制御するために設けられている。電極52aと電源53aは、整合器53bを介して電気的に接続されている。
整合器53bは、電極52aと電源53aの間に設けられている。整合器53bは、電源53a側のインピーダンスと、プラズマP側のインピーダンスとの間で整合をとるための整合回路などを備えている。
電源部54は、プラズマPを発生させるための高周波電源である。すなわち、電源部54は、プラズマ処理空間51cにおいて高周波放電を生じさせてプラズマPを発生させるために設けられている。
本実施の形態においては、電源部54が、処理容器51の内部にプラズマPを発生させるプラズマ発生部となる。
電極54a、電源54b、および整合器54cは、配線により電気的に接続されている。
電極54aは、電磁場を発生させる複数の導体部と複数の容量部(コンデンサ)とを有したものとすることができる。
また、電源54bは、出力する高周波電力の周波数を変化させるものとすることもできる。
ただし、プラズマの発生方法は例示をしたものに限定されるわけではない。
プラズマ処理装置1は、例えば、誘導結合型プラズマ(ICP:Inductively Coupled Plasma)を用いたプラズマ処理装置や、容量結合プラズマ(CCP:Capacitively Coupled Plasma)を用いたプラズマ処理装置などであってもよい。
減圧部55は、処理容器51の内部が所定の圧力となるように減圧する。ポンプ55aは、例えば、ターボ分子ポンプ(TMP:Turbo Molecular Pump)などとすることができる。ポンプ55aと圧力制御部55bは、配管を介して接続されている。
圧力制御部55bは、例えば、APC(Auto Pressure Controller)などとすることができる。圧力制御部55bは、配管を介して、本体部51aに設けられた排気口51fに接続されている。
ガス供給部56は、ガス収納部56a、ガス制御部56b、および開閉弁56cを有する。
ガス収納部56aは、ガスGを収納し、収納したガスGを処理容器51の内部に供給する。ガス収納部56aは、例えば、ガスGを収納した高圧ボンベなどとすることができる。ガス収納部56aとガス制御部56bは、配管を介して接続されている。
制御部60は、記憶部に格納されている制御プログラムに基づいて、プラズマ処理装置1に設けられた各要素の動作を制御する。なお、各要素の動作を制御する制御プログラムには既知の技術を適用することができるので、詳細な説明は省略する。
まず、移載部22は、収納部11から残渣205aを有する処理物200を取り出し載置部24の上に載置する。次に、移載部22は、アウターマスク収納部23からアウターマスク100を取り出し、載置部24に支持された処理物200の上にアウターマスク100を載置する。
次に、移載部42は、アウターマスク100が載置された処理物200を載置部33から処理容器51の内部の載置部52の上に移載する。
次に、電源部54は、プラズマ処理空間51cにおいて高周波放電を生じさせてプラズマPを発生させる。また、ガス供給部56は、処理容器51の内部のプラズマ処理空間51cにガスGを供給する。
プラズマPにより、ガスGが励起、活性化されてラジカル、イオン、電子などの反応生成物が生成される。生成された反応生成物は、アウターマスク100の開口100a1を介して残渣205aに到達し、残渣205aが除去される。
なお、エッチングに関するプロセス条件には既知の技術を適用することができるので詳細な説明は省略する。
次に、アウターマスク100についてさらに説明する。
アウターマスク100は、フォトマスクの製造、すなわち、処理物200のプラズマエッチング処理に用いる。アウターマスク100は、処理物200の周縁部においてエッチングを行わない領域を遮蔽する機能を有する部材である。
まず、処理物200について説明する。
処理物200は、例えば、位相シフトマスクの製造に用いられるマスクブランクや、反射型マスクの製造に用いられるマスクブランクとすることができる。
以下においては一例として、処理物200が位相シフトマスクの製造に用いられるマスクブランクである場合を説明する。また、後述する図3(b)の状態、すなわち、クロムを含む層202bを有するパターン部202と、クロムを含む層203bを有する遮光部203とが形成された状態の処理物200を説明する。
基体201は、板状を呈している。基体201の平面形状は、例えば、四角形とすることができる。基体201は、透光性を有し、エッチングされにくい材料から形成されている。基体201は、例えば、石英から形成することができる。
図3(a)は、処理物200の上に載置されたアウターマスク100を例示するための模式斜視図である。
図3(b)は、アウターマスク100と、処理物200のパターン部202との位置関係を例示するための模式断面図である。
図3(c)は、図3(a)におけるA部の模式断面図である。なお、図3(c)においては、パターン部202および遮光部203を省いて描いている。
図3(d)は、図3(a)におけるB部の模式拡大図である。
図3(e)は、図3(a)におけるC部の模式拡大図である。
図3(f)は、図3(a)を下面側(処理物200に載置する側)から見た模式断面図である。なお、図3(f)においては、被処理物200を省いて描いている。
またさらに、原則的には、基体201の面201bと、枠部100bの下端100b2とは接触しないので、位相シフトマスクの基体201に接触することによる傷などのダメージが発生するのを抑制することができる。
図4に示すように、処理物200の基体201の面201bの周縁には面取り部201cが設けられている。また、アウターマスク100の枠部100bの内周端100b1は傾斜面となっている。そして、内周端100b1は、面取り部201cと接している。
この様にすれば、遮光部203が設けられた領域に気流が発生するのをさらに抑制することができる。そのため、クロムを含む層203bにダメージが発生するのをさらに抑制することができ、ひいては、位相シフトマスクの機能の低下をさらに抑制することができる。なお、図4に示すように、内周端100b1の傾斜角α、面取り部201cとの傾斜角βを同じとすることもできる。この様にすれば、アウターマスク100を処理物200に載置したときにずれを抑止することができる。
次に、本発明の実施形態に係るフォトマスクの製造方法について説明する。
図5(a)〜(k)は、比較例に係る位相シフトマスクの製造方法を例示するための模式工程断面図である。
まず、図5(a)に示すように、基体201の一方の面に、モリブデンシリコンを含む膜204、クロムを含む膜205を順次成膜し、クロムを含む膜205の上にレジストを塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングマスク206を形成する。
次に、図5(c)に示すように、レジスト207を塗布する。
次に、図5(e)に示すように、エッチングマスク207aから露出したクロムを含む膜205をエッチングして、複数の凸部202aを露出させる。
次に、図5(f)に示すように、エッチングマスク207aを除去する。
以上の様にして、基体201、複数の凸部202a、および遮光部203を有する位相シフトマスクを製造することができる。
そのため、残渣205aが検出された場合には、以下の様にして残渣205aを除去する。
まず、図5(h)に示すように、レジスト207を再度塗布する。
次に、図5(i)に示すように、フォトリソグラフィ法などを用いてエッチングマスク207aを再度形成する。
次に、図5(j)に示すように、エッチングマスク207aから露出した残渣205aをエッチングする。
次に、図5(k)に示すように、エッチングマスク207aを再度除去する。
しかしながら、残渣205aを除去するためには、フォトレジスト207の再度の塗布、フォトリソグラフィ法などを用いたエッチングマスク207aの再度の形成、およびエッチングマスク207aの再度の除去が必要となる。この様な工程を行うためには比較的長い時間を要する。そのため、生産性が低下する要因となる。
本実施の形態に係る位相シフトマスクの製造方法においては、残渣205aを除去する際にアウターマスク100を用いる。
まず、図6(a)に示すように、基体201の上にアウターマスク100を載置する。 次に、図6(b)に示すように、アウターマスク100の開口100a1の内部に露出した残渣205aをエッチングする。
そして、アウターマスク100を基体201から取り外すことで、残渣205aが除去された位相シフトマスクを得ることができる。
この様にすれば、残渣205aの除去のために、前述したフォトレジスト207の再度の塗布、エッチングマスク207aの再度の形成、およびエッチングマスク207aの再度の除去を行わなくて済むので、生産性を大幅に向上させることができる。また、前述したように、クロムを含む層203bにダメージが発生するのを抑制することができる。
この様にすれば、フォトレジスト207の塗布、エッチングマスク207aの形成、およびエッチングマスク207aの除去を行わなくて済むので、生産性をさらに向上させることができる。
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
例えば、プラズマ処理装置1が備える各要素の形状、寸法、材質、配置、数などは、例示をしたものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
Claims (8)
- 処理物をエッチングしてフォトマスクを製造する際に用いられるアウターマスクであって、
板状を呈し、中央領域に開口を有する基部と、
枠状を呈し、前記基部の一方の面の周縁に沿って、前記基部の厚み方向に突出して設けられた枠部と、
を有し、
前記枠部は、前記処理物のパターン部が設けられる面の四隅において、前記面と接触する面を有するアウターマスク。 - 前記パターン部が設けられる面の周縁には面取り部が設けられ、
前記枠部は、前記面取り部にさらに接触可能となっている請求項1記載のアウターマスク。 - 前記基部の厚みは、1mm以上である請求項1または2に記載のアウターマスク。
- 前記枠部が前記面と接触した際に、前記基部の前記処理物側の面と、前記処理物との間の距離が1mm以上となる請求項1〜3のいずれか1つに記載のアウターマスク。
- 処理物を収納する収納部と、
請求項1〜4のいずれか1つに記載のアウターマスクを収納するアウターマスク収納部と、
前記収納部から取り出された前記処理物の上に、前記アウターマスク収納部から取り出された前記アウターマスクを載置する移載部と、
前記アウターマスクが載置された処理物に対してプラズマ処理を施す処理部と、
を備えたプラズマ処理装置。 - 処理物をエッチングしてフォトマスクを製造する方法であって、
前記処理物の上に、請求項1〜4のいずれか1つに記載のアウターマスクを載置する工程と、
前記アウターマスクが載置された前記処理物に対してプラズマ処理を施す工程と、
を備えたフォトマスクの製造方法。 - 前記プラズマ処理を施す工程において、前記処理物の表面にある残渣を除去する請求項6記載のフォトマスクの製造方法。
- 前記プラズマ処理を施す工程において、前記処理物の表面にあるクロムを含む層を除去する請求項6記載のフォトマスクの製造方法。
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