JP2024044428A - エッチング方法およびエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】モリブデン膜またはタングステン膜を、簡易に、良好な表面性状でコンフォーマルかつ均一にドライエッチングすることができるエッチング方法およびエッチング装置を提供する。【解決手段】エッチング方法は、モリブデン膜またはタングステン膜を含む構造部を有する基板を準備することと、基板にOラジカルを含む酸化剤を供給してモリブデン膜またはタングステン膜に対して自己制御的な酸化処理を行うことと、基板にエッチャントを供給して酸化処理により形成されたモリブデン酸化物またはタングステン酸化物をエッチングすることとを有する。【選択図】図1
Description
本開示は、エッチング方法およびエッチング装置に関する。
従来から半導体記憶装置には、導電体膜としてタングステン(W)膜が用いられており、最近では、モリブデン(Mo)膜も用いられている。W膜またはMo膜をエッチングする技術として、特許文献1には、酸化ガスと、エッチングガスとしての六フッ化物ガスを供給して、酸化ガスにより基板上のW膜またはMo膜を酸化し、形成された酸化物を六フッ化物ガスによりエッチングする技術が記載されている。また、特許文献2には、酸化ガスとMoF6ガスまたはWF6ガスにより第1のエッチングを行い、空孔が露出した段階で第1のエッチングを停止して、空孔の埋め込みを行い、その後、酸化ガスとMoF6ガスまたはWF6ガスにより第2のエッチングを行うことが記載されている。
本開示は、モリブデン膜またはタングステン膜を、簡易に、良好な表面性状でコンフォーマルかつ均一にドライエッチングすることができるエッチング方法およびエッチング装置を提供する。
本開示の一態様に係るエッチング方法は、モリブデン膜またはタングステン膜を含む構造部を有する基板を準備することと、前記基板にOラジカルを含む酸化剤を供給してモリブデン膜またはタングステン膜に対して自己制御的な酸化処理を行うことと、前記基板にエッチャントを供給して前記酸化処理により形成されたMo酸化物またはW酸化物をエッチングすることと、を有する。
本開示によれば、モリブデン膜またはタングステン膜を、簡易に、良好な表面性状でコンフォーマルかつ均一にドライエッチングすることができるエッチング方法およびエッチング装置が提供される。
以下、添付図面を参照して、実施形態について説明する。
<エッチング方法>
図1は、一実施形態に係るエッチング方法の一例を示すフローチャートである。一実施形態に係るエッチング方法は、モリブデン(Mo)膜またはタングステン(W)膜をエッチングするものであり、以下に説明するように、エッチング対象であるMo膜またはW膜を一度酸化させ、その酸化物をエッチングする犠牲酸化法によりエッチングを行う。
図1は、一実施形態に係るエッチング方法の一例を示すフローチャートである。一実施形態に係るエッチング方法は、モリブデン(Mo)膜またはタングステン(W)膜をエッチングするものであり、以下に説明するように、エッチング対象であるMo膜またはW膜を一度酸化させ、その酸化物をエッチングする犠牲酸化法によりエッチングを行う。
本実施形態のエッチング方法は、図1に示すように、ST1~ST3のステップを有する。
ステップST1は、Mo膜またはW膜を含む構造部を有する基板を準備する工程である。Mo膜またはW膜を含む構造部を有する基板は特に限定されないが、シリコンウエハに代表される半導体ウエハが例示される。
図2は、基板の一例を示す断面図であり、基板Wはシリコンウエハとして構成され、シリコン基体100上にMo膜を含む三次元の構造部130が形成されている。
構造部130は、SiO2膜101とMo膜102とが交互に積層され、積層方向に凹部(スリットまたはホール)120が設けられている。また、凹部120の内壁にもMo膜102が形成されている。SiO2膜101およびMo膜102の膜厚は、10~100nm程度であり、これらの積層数は実際には数十層程度であって、トータルの高さは数μm~10μm程度である。Mo膜102の代わりにW膜を用いてもよいが、その場合はSiO2膜とW膜との間にTiN膜等のバリア膜が必要である。なお、Mo膜の場合にも、SiO2膜との間にAl2O3膜等のバリア膜を設けてもよい。また、SiO2の代わりに、Si、SiNのような他のシリコン含有物膜を用いてもよく、また、シリコン含有物膜以外の膜であってもよい。
このような構造の基板Wでは、凹部120を介してMo膜102のエッチングが行われる。
ステップST2は、基板にOラジカルを含む酸化剤を供給してMo膜またはW膜に対して自己制御的な酸化処理を行う工程である。
Oラジカルは、酸素含有ガスをプラズマ化することにより生成することができる。酸素含有ガスは、Oラジカルを生成できるものであればよく、特に限定されない。例えば、O2ガス、O3ガス、NOガス、N2Oガスのいずれかを挙げることができる。酸素含有ガスの他、プラズマ生成ガス等としてArガスやN2ガス等の不活性ガスを供給してもよい。また、Oラジカルを生成する際のプラズマも特に限定されず、誘導結合プラズマ、容量結合プラズマ、マイクロ波プラズマ等の種々のプラズマを用いることができる。酸化剤としては、Oラジカル以外の他のラジカルを含むものであってもよい。
Oラジカルは、酸化力が高く寿命が短い。このため、基板にOラジカルが供給されると、Oラジカルは、寿命に至るまでの短時間の間、高い酸化力を保ったままMo膜またはW膜を酸化する。このため、Mo膜またはW膜の酸化は、一定の深さまで酸化された後はそれ以上酸化されない自己制御的な酸化となり、均一な深さの酸化物が形成される。
例えば、図2に示す基板Wの場合は、図3に示すように、積層されたMo膜102が一定の深さまで酸化され、Mo酸化物103となる。Mo酸化物は種々の酸化数のものが存在するが、Oラジカルは酸化力が高いため、最も酸化数が大きいMoO3が均一に形成される。W膜の場合も同様に、一定の深さまで酸化されて最も酸化数が大きいWO3が均一に形成される。
ステップST2においては、圧力を13Pa~13kPa(ほぼ0.1~100Torr)の範囲、温度を0~400℃の範囲とすることができる。
ステップST3は、基板にエッチャントを供給して酸化処理により形成されたMo酸化物またはW酸化物をエッチングにより除去する工程である。
MoやWは酸化されにくい物質であるが、Mo酸化物(MoO3)やW酸化物(WO3)は反応により揮発性の高い物質を生成することができ、エッチングすることが可能である。エッチャントは、Mo酸化物(MoO3)やW酸化物(WO3)をエッチングすることができれば特に限定されないが、フッ素含有ガスを好適に用いることができる。フッ素含有ガスとしては、MoF6ガス、WF6ガス、SF6ガス、ClF3ガス、F2ガス、HFガス等を挙げることができる。エッチャントとしてフッ素含有ガスを用いることにより、酸化物と反応してMoOF4やWOF4のような揮発性の高い酸フッ化物を生成させることができ、エッチングが進行する。エッチャントとしては、F含有ラジカルを用いることもできる。また、エッチャントにArガスやN2ガス等の不活性ガスを添加してもよい。
ステップST3のエッチングにより、例えば、基板WにMo酸化物103が形成された図3の状態から、図4に示すように、Mo酸化物103が除去され、積層されたMo膜102の一部がエッチングされた状態となる。
エッチャントとしてフッ素含有ガスを用いることによりW膜をSiO2膜のようなSi含有物に対して高選択比でエッチングすることができる。特に、MoF6ガスおよびWF6ガスはSi含有物とほとんど反応しないため、これらのガスの少なくとも1種をエッチャントとして用いることにより、Mo膜またはW膜をSiO2膜のようなSi含有物に対して極めて高い選択比でエッチングすることができる。
ステップST3においては、圧力を13Pa~13kPa(ほぼ0.1~100Pa)の範囲、温度を0~400℃の範囲とすることができる。
ステップST2とステップST3とは、図1に示すように、必要に応じて繰り返してもよい。また、ステップST2とステップST3とは、図5のタイミングチャートに示すように、非同時でシーケンシャルに実施してよく、図6のタイミングチャートに示すように、少なくとも一部の期間同時に実施してもよい。いずれの場合にも、ステップST2はステップST3よりも先に開始してよい。
ステップST2とステップST3とは、同一の処理容器内で行うことができる。同一の処理容器内で行うことにより、スループットを高くすることができる。また、これらを同一の処理容器内で行う場合には、スループットを高く維持できるように、基板温度を同一温度にすることが好ましい。
ステップST2とステップST3とは、別個の処理容器内で行ってもよい。この場合は、それぞれの処理を行うユニットを真空搬送室に接続して、ステップST2とステップST3とをin-situで行うようにすることが好ましい。
Mo膜やW膜は、図2に示すような積層構造として、例えば3DNANDのメタルゲートとして適用される場合、微細化および高積層化にともなって、そのエッチングに際しては、良好な表面性状でコンフォーマルかつ均一にドライエッチングすることが求められる。
より具体的には、以下の点が求められる。
1.ピッティングや表面荒れを発生させずにエッチングを行う
2.残渣を発生させずにエッチングを行う
3.高アスペクト比構造において、上下に均一にエッチングする
4.高アスペクト比構造において、不規則な変動性なくエッチングする
1.ピッティングや表面荒れを発生させずにエッチングを行う
2.残渣を発生させずにエッチングを行う
3.高アスペクト比構造において、上下に均一にエッチングする
4.高アスペクト比構造において、不規則な変動性なくエッチングする
上記「1.」は、表面性状に関するものである。例えば、Mo膜やW膜を成膜する際に、シームの発生等により膜質の差異が生じることがあり、図7(a)に示すように、Mo膜102の中央部にシーム等に起因した異膜質部105が形成される。この状態で、上記特許文献1および2に記載されたようなエッチングプロセスを実施すると、異膜質部105が優先的にエッチングされ、図7(b)に示すようなピッティング106や表面荒れが発生して表面性状が悪いものとなる。
これに対し、本実施形態では、Mo膜またはW膜に対して酸化力の強いOラジカルによる自己制御的な酸化処理により犠牲酸化を行うので、一定の深さで酸化することができ、エッチャントを用いたエッチングの際に膜質差に依存しない平坦なエッチングを行うことができる。例えば、図8(a)に示すように、異膜質部105を含むMo膜102の表面部分に、Oラジカルによる自己制御的な酸化処理により均一な深さでMo酸化物103が形成される。そして、図8(b)に示すように、エッチャントによりエッチングする際には均一な深さのMo酸化物103がエッチングされるので、異膜質部105が優先的にエッチングされることによるピッティングや表面荒れが生じず、良好な表面性状が得られる。
上記特許文献2には、エッチングの途中で生じたピッティングを別途の工程で埋め込むことが記載されているが、本実施形態では、このような付加工程を用いることなく、簡易にピッティングの発生を防止することができる。
上記「2.」は均一性に関するものである。上記特許文献1、2に記載されたような酸化ガスによりMoやWを酸化する場合、酸化が十分ではないため、エッチングが困難な低酸化数の酸化物が生成される。例えば、図9(a)に示すように、Mo膜102を上記特許文献1、2に記載されたような酸化ガスにより酸化すると、酸化不足により、MoO3のみならずMoO2のような低酸化数酸化物部分103aが発生する。この状態でエッチャントによりエッチングすると、MoO3はエッチング除去しやすいが、MoO2のような低酸化数酸化物はエッチングが困難であるため、図9(b)に示すように、低酸化数酸化物部分103aが残渣107として残存する。そして、この残渣107を除去しようとするとエッチングの均一性が保てなくなる。
これに対し、本実施形態では、Mo膜またはW膜に対して酸化力が高いOラジカルによる自己制御的な酸化処理により犠牲酸化を行うので、エッチングが困難な低酸化数の酸化物はほとんど生成されない。このため、エッチャントによるエッチングの際にエッチング残渣が発生せず、均一なエッチングが可能である。例えば、図10(a)に示すように、Mo膜102を酸化力が高いOラジカルでエッチングする場合には、Mo酸化物103として、最も酸化数が大きいMoO3が均一に生成され、MoO2等の酸化数が小さい酸化物はほとんど生成されない。このため、図10(b)に示すように、エッチャントによるエッチング後には、Mo膜102の上に残渣が発生せず、均一なエッチングが実現される。
上記「3.」、「4.」はコンフォーマル性および均一性に関するものである。
図2に示すような積層構造において数十層に高積層化された場合、スリットやホールの深さが数μm~数十μmとなって高アスペクト比構造になる。このような高アスペクト比構造においては、酸化剤やエッチャントは、まずトップ部に到達して反応が開始され、その時点ではボトム部には酸化剤やエッチャントは到達していない。このため、トップ部のほうがボトム部よりも酸化反応やエッチング反応がより進行しやすく、上記特許文献1や特許文献2のように酸化剤として酸素含有ガスを用いて等方性エッチングプロセスを行う場合は、ボトム部とトップ部のエッチング量が揃わないローディング効果が生じることがある。この場合には、上記「3.」を満たすことができない。例えば図11に示すように、SiO2膜101とMo膜102との積層構造において、Mo膜102のエッチングを行う場合に、エッチング量はボトム部よりもトップ部のほうが多くなる。
図2に示すような積層構造において数十層に高積層化された場合、スリットやホールの深さが数μm~数十μmとなって高アスペクト比構造になる。このような高アスペクト比構造においては、酸化剤やエッチャントは、まずトップ部に到達して反応が開始され、その時点ではボトム部には酸化剤やエッチャントは到達していない。このため、トップ部のほうがボトム部よりも酸化反応やエッチング反応がより進行しやすく、上記特許文献1や特許文献2のように酸化剤として酸素含有ガスを用いて等方性エッチングプロセスを行う場合は、ボトム部とトップ部のエッチング量が揃わないローディング効果が生じることがある。この場合には、上記「3.」を満たすことができない。例えば図11に示すように、SiO2膜101とMo膜102との積層構造において、Mo膜102のエッチングを行う場合に、エッチング量はボトム部よりもトップ部のほうが多くなる。
一方、同様に、数十層に高積層化された積層構造で、スリットの深さが数μm~数十μmの高アスペクト比構造の場合、上記特許文献1や特許文献2のように酸化剤として酸素含有ガスを用いて等方性エッチングプロセスを行うと、エッチング結果が規則性なく不均一になる場合がある。この場合には、上記「4.」を満たすことができない。これは、バイプロダクトのようなエッチャントに影響する要因が、スリット内部に不規則に存在することに起因する。その例を図12に示す。図12の例では、SiO2膜101とMo膜102との積層構造において、Mo膜102のエッチングにより、エッチング量が規則性なく不均一になっている状態を示すものである。
これに対し、本実施形態では、酸化剤として酸化力が高く寿命が短いOラジカルを用いるので、一定の深さまで酸化された後はそれ以上酸化されない自己制御的な酸化となり、酸化物を一定の深さに揃えることができる。例えば、図13(a)に示すように、SiO2膜101とMo膜102との積層構造において、Oラジカルにより酸化処理を行うと、ローディング効果や規則性のないエッチングの不均一を生じることなく均一な深さのMo酸化物103が形成される。この状態でエッチャントによるエッチングを行うと、図13(b)に示すように、コンフォーマルかつ均一にエッチングすることができ、上記「3.」、「4.」に示すように、高アスペクト比構造において、上下に均一に、かつ、不規則な変動性なくエッチングを実現することができる。
上記特許文献2には、Mo膜またはW膜とSi含有膜との積層膜を酸化ガスとMoF6ガスまたはWF6ガスとを用いてエッチングする際に、スリットの壁部に保護膜を形成してローディング効果を低減することが記載されている。これに対して、本実施形態では、保護膜の形成のような付加的な工程を用いることなく、簡易に、ローディング効果を抑制することができる。
以上のように、本実施形態によれば、酸化剤として酸化力が高く寿命が短いOラジカルを用いるため、高い酸化力を保ったままMo膜またはW膜を酸化する。このため、Mo膜またはW膜の酸化は、一定の深さまで酸化された後はそれ以上酸化されない自己制御的な酸化となり、均一な深さの酸化物が形成される。また、酸化力の高いOラジカルを用いるため、酸化物として最も酸化数が大きくエッチングが容易なMoO3またはWO3が均一に形成される。このため、エッチャントによるエッチングを行った際に、ピッティングや表面荒れや、残渣が生じ難く、コンフォーマルにかつ均一にMo膜またはW膜をドライエッチングすることができる。また、このようなコンフォーマルでかつ均一なエッチングを付加的な工程を用いることなく、簡易に行うことができる。
<エッチング方法に用いるエッチング装置の一例>
次に、以上のようなエッチング方法の実施に用いられるエッチン装置の一例について説明する。
図14は、一実施形態に係るエッチング方法を実施するためのエッチング装置の一例を示す断面図である。本例のエッチング装置は、2枚の基板を同時に処理する2枚葉のエッチング装置である。
次に、以上のようなエッチング方法の実施に用いられるエッチン装置の一例について説明する。
図14は、一実施形態に係るエッチング方法を実施するためのエッチング装置の一例を示す断面図である。本例のエッチング装置は、2枚の基板を同時に処理する2枚葉のエッチング装置である。
図14に示すように、本例のエッチング装置200は、基板Wを収容する密閉構造の処理容器28を備える。処理容器28は、例えば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなり、上端が開放され、処理容器28の上端は天井部となる蓋体29で閉塞されている。処理容器28の側壁部28aには基板Wの搬出入口30が設けられ、当該搬出入口30はゲートバルブ26によって開閉可能とされる。
また、処理容器28の内部の底部には、基板Wをそれぞれ1枚ずつ水平状態で載置する2つのステージ15(一方のみ図示されている)が配置されている。板Wを水平状態で載置するステージ15が配置されている。ステージ15は、基板Wを直接載置する載置プレート34と、載置プレート34を支持するベースブロック35とを有する。載置プレート34の内部には、基板Wを温調する温調機構36が設けられている。温調機構36は、例えば、温調媒体が循環する管路(図示せず)を有し、当該管路内を流れる温調媒体と基板Wの熱交換を行うことによって基板Wの温調を行う。制御温度が高温の場合は、温調機構36はヒーターであってもよく、温調媒体が循環する管路とヒーターの両方を設けてもよい。また、ステージ15には基板Wを処理容器28の内部へ搬出入する際に用いる複数の昇降ピン(図示せず)が載置プレート34の上面に対して突没可能に設けられている。
処理容器28の内部は仕切板37によって上方のプラズマ生成空間Pと、下方の処理空間Sに仕切られる。プラズマ生成空間Pはプラズマが生成される空間であり、処理空間Sは基板Wにラジカル処理によるエッチングが施される空間である。仕切板37は、プラズマ生成空間Pにおいてプラズマが生成される際にプラズマ中のイオンのプラズマ生成空間Pから処理空間Sへの透過を抑制する、いわゆるイオントラップとして機能する。
第1のガス供給部61は、O2ガス、O3ガス、NOガス、N2Oガスのような酸素含有ガスや、不活性ガス(例えばArガスやN2ガス)をプラズマ生成空間Pに供給する。プラズマ生成空間Pでは、これらのガスのプラズマが生成される。そして、プラズマ中のイオンは仕切板37によりトラップされ、プラズマ中のOラジカルを含む酸化剤が仕切板37を透過して処理空間Sへ供給される。なお、不活性ガスは、プラズマ生成ガス、圧力調整ガス、パージガス等として機能する。
第2のガス供給部62は、酸化物のエッチングに用いられるエッチャントや、不活性ガス(例えばArガスやN2ガス)を処理空間Sに供給する。エッチャントとしてはMoO3やWO3をエッチングすることができるもの、例えば、フッ素含有ガスを用いる。フッ素含有ガスとしては、MoF6ガス、WF6ガス、SF6ガス、ClF3ガス、F2ガス、HFガス等を挙げることができる。
処理容器28の底部には排気機構39が接続されている。排気機構39は真空ポンプを有し、処理空間Sの内部の排気を行う。
仕切板37の下には、基板Wに対向するように遮熱板48が設けられている。遮熱板48は、プラズマ生成空間Pでのプラズマ生成を繰り返すことにより仕切板37に熱が蓄積されるため、その熱が処理空間Sにおけるラジカル分布に影響を与えることを抑制するためのものである。遮熱板48は、仕切板37よりも大きく形成され、周縁部を構成するフランジ部48aは処理容器28の側壁部28aに埋設されている。なお、フランジ部48aには冷却機構50、例えば、冷媒流路、チラーやペルチェ素子が埋設されている。
処理容器28の天井部となる蓋体29は、例えば、円形の石英板から形成され、誘電体窓として構成される。蓋体29の上には、処理容器28のプラズマ生成空間Pに誘導結合プラズマを生成するための環状のRFアンテナ40が形成され、RFアンテナ40は整合器41を介して高周波電源42に接続されている。高周波電源42は、誘導結合の高周波放電によるプラズマの生成に適した所定の周波数(例えば13.56MHz以上)の高周波電力を所定の出力値で出力する。整合器41は、高周波電源42側のインピーダンスと負荷(RFアンテナ40やプラズマ)側のインピーダンスの整合をとるためのリアクタンス可変の整合回路(図示せず)を有する。
エッチング装置200は、さらに制御部70を有している。制御部70はコンピュータで構成されており、CPUを備えた主制御部と、入力装置、出力装置、表示装置、記憶装置(記憶媒体)を有している。主制御部は、エッチング装置200の各構成部の動作を制御する。主制御部による各構成部の制御は、記憶装置に内蔵された記憶媒体(ハードディスク、光デスク、半導体メモリ等)に記憶された制御プログラムに基づいてなされる。記憶媒体には、制御プログラムとして処理レシピが記憶されており、処理レシピに基づいてエッチング装置200の処理が実行される。
<上記エッチング装置におけるエッチング動作>
このように構成されるエッチング装置200においては、ゲートバルブ26を開け、処理容器28に隣接した真空搬送室(図せず)に設けられた搬送アーム(図示せず)により、基板Wを処理容器28内に搬入し、ステージ15上に載置する。
このように構成されるエッチング装置200においては、ゲートバルブ26を開け、処理容器28に隣接した真空搬送室(図せず)に設けられた搬送アーム(図示せず)により、基板Wを処理容器28内に搬入し、ステージ15上に載置する。
次に、第2のガス供給部62から、調圧ガスとして例えばN2ガスを処理容器28内に導入し、処理容器28内の圧力を調圧しつつ、温調機構36により設定温度である0~400℃に温調されたステージ15上で、基板Wを所定時間保持し、基板Wの温度を安定化させる。
次に、処理容器28内をパージした後、処理容器28内の圧力を、例えば、13Pa~13kPa(ほぼ0.1~100Torr)の範囲とし、基板WのMo膜またはW膜に対してOラジカルを含む酸化剤により自己制御的な酸化処理を行う。
酸化処理を行うに際しては、まず、第1のガス供給部61からプラズマ生成空間Pへ酸素含有ガスを供給するとともに、RFアンテナ40に高周波電力を供給して誘導結合プラズマである酸素含有プラズマを生成する。このとき、酸素含有ガスの他、Arガス等の不活性ガスを供給してもよい。
プラズマ生成空間Pで生成された酸素含有ガスのプラズマは、仕切り板37を介して処理空間Sに搬送され、この際に、仕切板37でO2イオンが失活し、プラズマの中の主にOラジカルが酸化剤として選択的に処理空間Sに導入される。この酸化剤中のOラジカルにより、自己制御的な酸化処理により基板WのMo膜またはW膜が酸化され、Mo酸化物(MoO3)またはW酸化物(WO3)が生成される。
このとき、ガス流量については、例えば、酸素含有ガス(O2ガス)の流量を1~2000sccmとすることができる。また、プラズマ生成パワーについては10~2000Wとすることができる。
以上のようなOラジカルを含む酸化剤による酸化処理の後、処理容器28内をパージし、引き続き、基板Wの酸化膜に対しエッチャントによるエッチング処理を行う。このとき、処理容器28内の圧力を、例えば13Pa~13kPa(ほぼ0.1~100Torr)の範囲とし、温調機構36によりステージ15(基板W)の温度を酸化処理の際と同様、0~400℃の温度に保持した状態で、第2のガス供給部62からエッチャントとして例えばフッ素含有ガスを処理容器28の処理空間Sに供給する。これにより、基板Wに形成されたMo酸化物(MoO3)やW酸化物(WO3)をエッチングする。フッ素含有ガスとしては、上述したように、MoF6ガス、WF6ガス、SF6ガス、ClF3ガス、F2ガス、HFガス等を挙げることができる。エッチャントの他にArガスやN2ガス等の不活性ガスを用いてもよい。エッチャントとしてのフッ素含有ガスの流量は例えば、1~2000sccm、不活性ガスの流量は1~2000sccmとすることができる。
エッチャントとしてはフッ素含有ラジカルを用いることもでき、その場合には、第2のガス供給部62からフッ素含有ガスをプラズマ生成空間Pに供給するとともに、RFアンテナ40に高周波電力を供給して誘導結合プラズマであるフッ素含有プラズマを生成する。このとき、フッ素含有ガスの他、Arガス等の不活性ガスを供給してもよい。プラズマ生成空間Pで生成されたフッ素ガスのプラズマは、仕切り板37を介して処理空間Sに搬送され、この際に、仕切板37でイオンが失活し、プラズマの中の主にフッ素含有ラジカルが選択的に処理空間Sに導入される。
以上のOラジカルを含む酸化剤による酸化処理、エッチャントによる酸化物のエッチングを1回または複数回行って、所望の深さでMo膜またはW膜をエッチングする。
このようなエッチング処理においては、酸化剤として酸化力が高く寿命が短いOラジカルを用いるため、高い酸化力を保ったままMo膜またはW膜を酸化する。このため、Mo膜またはW膜の酸化は、一定の深さまで酸化された後はそれ以上酸化されない自己制御的な酸化となり、また、酸化物として最も酸化数が大きくエッチングが容易なMoO3またはWO3が均一に形成される。このため、エッチャントによるエッチング処理により、ピッティングや表面荒れや残渣が生じ難く、コンフォーマルにかつ均一にMo膜またはW膜をドライエッチングすることができる。また、このようなエッチングを、付加的な工程を用いることなく、簡易に行うことができる。
また、以上のようなエッチング装置は、一つの処理容器により酸化処理とエッチング処理を行うため、基板Wを入れ替えずに酸化処理とエッチング処理を連続的に行うことができる。このため、両者の基板温度が近い場合には、高スループットでMo膜またはW膜のエッチングを行うことができる。
実際に、図14のエッチング装置で、SiO2膜とMo膜とが数十層交互に積層され、10μm程度の深さのスリットが形成された構造部を有する基板に対し、OラジカルによりMo膜に酸化処理を行い、引き続きWF6ガスを用いてエッチング処理を行った。
その結果、本例のエッチングによりピッティングや表面荒れが生じず、また、残渣物がなく均一にエッチングできることが確認された。
また、スリットの上部、中央、下部のMo膜のエッチング量(リセス量)は、それぞれ、25.6nm、25.3nm、25.1mmであった。これに対して、従来のように酸化剤としてO2ガスを用いた等方性エッチングの場合、スリットの上部、中央、下部のMo膜のエッチング量(リセス量)は、それぞれ、50nm、25nm、0nmであった。このことから、本例のエッチングにより、高アスペクト比構造において従来生じていた上下方向のエッチング量のばらつき(ローディング効果)が抑制されることが確認された。
さらに、スリットの上部、中央、下部におけるMo膜のエッチング量(リセス量)の変動(3σ)は、それぞれ、4.7nm、3.5nm、4.5nmであった。これに対して、従来のように酸化剤としてO2ガスを用いた等方性エッチングの場合、スリットの上部、中央、下部におけるMo膜のエッチング量(リセス量)の変動(3σ)は、それぞれ、16.3nm、21.3nm、17.7nmであった。このことから、本例のエッチングにより、高アスペクト比構造において従来生じていた不規則なエッチング結果の変動が抑制されることが確認された。
なお、エッチング装置200を2枚葉の装置として示したが、1枚の基板を処理する枚葉装置であってもよい。
<エッチング方法に用いるエッチング装置の他の例>
以上のエッチング装置は、一つの処理容器により、Oラジカルによる酸化処理と、エッチャントによるエッチング処理を行う例であるが、酸化処理とエッチング処理とを別個の処理容器内で行うようにすることもできる。
以上のエッチング装置は、一つの処理容器により、Oラジカルによる酸化処理と、エッチャントによるエッチング処理を行う例であるが、酸化処理とエッチング処理とを別個の処理容器内で行うようにすることもできる。
図16は、酸化処理とエッチング処理とを別個の処理容器で行うタイプのエッチング装置の一例を示す模式図である。
本例では、エッチング装置300は、2枚の基板を同時に処理する2枚葉のクラスターツール型の処理システムとして構成されている。エッチング装置300は、搬入出部210と、トランスファモジュール220と、酸化モジュール230と、エッチングモジュール240とを有している。トランスファモジュール220、酸化モジュール230、エッチングモジュール240は内部が真空雰囲気に維持される。
搬出入部210は、複数の基板Wを保管し基板Wの搬入出を行うものであり、複数のロードポート211と、ローダーモジュール212と、2つのロードロックモジュール213とを有する。
ロードポート211は基板Wを収容する容器であるFOUP270の載置台として機能し、ローダーモジュール212の一方の側面に接続されている。ローダーモジュール212は、ロードポート211上のFOUP270とロードロックモジュール213との間で基板Wの受け渡しを行うためのものであり、内部が大気雰囲気の筐体と、筐体の内部に設けられた搬送機構(図示せず)とを有する。
ロードロックモジュール213は、大気圧のローダーモジュール212と真空雰囲気のトランスファモジュール220の間で基板Wを搬送する際に2枚の基板を一時的に保持するものであり、内部が大気圧雰囲気と真空雰囲気とで切り替え可能となっている。ロードロックモジュール213は、2枚の基板Wを保持するバッファプレート214を有する。各ロードロックモジュール213とローダーモジュール212との間、および各ロードロックモジュール213とトランスファモジュール220との間には、気密性を確保するためのゲートバルブ213aおよび213bとが設けられている。
トランスファモジュール220は、2枚の基板Wを同時に搬送する搬送室として構成され、真空雰囲気に保持される矩形の筐体からなり、酸化モジュール230、エッチングモジュール240、およびロードロックモジュール213が接続される。トランスファモジュール220の内部には、搬送機構250が設けられている。搬送機構250は、2枚の基板Wを保持して移動する2つの搬送アーム251と、搬送アームを回転可能に支持する回転台253と、回転台253を搭載する回転載置台254と、回転載置台254を案内する案内レール255とを有する。搬送機構250は、ロードロックモジュール213、酸化モジュール230、および、エッチングモジュール240に対する基板Wの受け渡しを行うためのものである。
酸化モジュール230は、基板Wを載置する2つの載置台232を有しており、Oラジカルを含む酸化剤により載置台232上の基板WのMo膜またはW膜に対して酸化処理を行うものである。酸化モジュール230は、図14のエッチング装置200から第2のガス供給部62を除いた構成を有する。
エッチングモジュール240は、基板Wを載置する2つの載置台242を有しており、酸化処理後の基板Wに対しエッチング処理を行うものである。エッチングモジュール240は、図14のエッチング装置200からプラズマ生成空間P、RFアンテナ40、高周波電源41、第1のガス供給部61等を除いた構成を有する。
トランスファモジュール220と酸化モジュール230との間、およびトランスファモジュール220とエッチングモジュール240との間には、これらの間を開閉するためのゲートバルブ231および241が設けられている。
エッチング装置300は、さらに制御部260を有している。制御部260はコンピュータで構成されており、制御部70と同様、CPUを備えた主制御部と、入力装置、出力装置、表示装置、記憶装置(記憶媒体)を有している。主制御部は、エッチング装置300の各構成部の動作を制御する。主制御部による各構成部の制御は、記憶装置に内蔵された記憶媒体に記憶された制御プログラムに基づいてなされる。記憶媒体には、制御プログラムとして処理レシピが記憶されており、処理レシピに基づいてエッチング装置300の処理が実行される。
このように構成されるエッチング装置300においては、酸化処理とエッチング処理とを別個の処理容器内でin-situで行うことができる。これにより、例えば、酸化処理とエッチング処理とで温度が大きく異なる場合に、エッチング装置200よりも高スループットで酸化処理とエッチング処理を実施することが可能となる。なお、エッチング装置300を2枚葉の装置として示したが、1枚の基板を処理する枚葉装置であってもよい。
<他の適用>
以上、実施形態について説明したが、今回開示された実施形態は、全ての点において例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
以上、実施形態について説明したが、今回開示された実施形態は、全ての点において例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
例えば、図2に示す基板の構造例はあくまで例示であり、SiO2膜とMo膜の積層構造に限定されるものではない。また、上記エッチング装置の構造についても例示に過ぎず、Oラジカルを含む酸化剤によりMo膜またはWO膜を酸化し、その後エッチャントによりエッチングを行うものであれば特に限定されない。
さらに、基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、半導体ウエハに限らず、ガラス基板や、セラミックス基板等の他の基板であってもよい。
15;ステージ
28;処理容器
37;仕切り板
39;排気機構
40;RFアンテナ
42;高周波電源
61;第1のガス供給部
62;第2のガス供給部
70,260;制御部
100;シリコン基体
101;SiO2膜
102;Mo膜
120;スリット
130;構造部
200,300;エッチング装置
210;搬入出部
220;トランスファモジュール
230;酸化モジュール
240;エッチングモジュール
250;搬送機構
W;基板
28;処理容器
37;仕切り板
39;排気機構
40;RFアンテナ
42;高周波電源
61;第1のガス供給部
62;第2のガス供給部
70,260;制御部
100;シリコン基体
101;SiO2膜
102;Mo膜
120;スリット
130;構造部
200,300;エッチング装置
210;搬入出部
220;トランスファモジュール
230;酸化モジュール
240;エッチングモジュール
250;搬送機構
W;基板
Claims (17)
- モリブデン膜またはタングステン膜を含む構造部を有する基板を準備することと、
前記基板にOラジカルを含む酸化剤を供給してモリブデン膜またはタングステン膜に対して自己制御的な酸化処理を行うことと、
前記基板にエッチャントを供給して前記酸化処理により形成されたモリブデン酸化物またはタングステン酸化物のエッチングを行うことと、
を有するエッチング方法。 - 前記構造部は、前記モリブデン膜または前記タングステン膜と他の膜とを積層して構成され、積層方向に凹部が形成されており、前記凹部を介して前記モリブデン膜または前記タングステン膜が酸化処理される、請求項1に記載のエッチング方法。
- 前記他の膜は、シリコン含有物膜である、請求項2に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理は、酸素含有ガスをプラズマ化することにより生成する、請求項1に記載のエッチング方法。
- 前記酸素含有ガスは、O2ガス、O3ガス、NOガス、N2Oガスのいずれかである、請求項4に記載のエッチング方法。
- 前記エッチャントは、フッ素含有ガスまたはフッ素含有ラジカルである、請求項1に記載のエッチング方法。
- 前記フッ素含有ガスは、MoF6ガス、WF6ガス、SF6ガス、ClF3ガス、F2ガス、HFガスから選択される、請求項6に記載のエッチング方法。
- 前記フッ素含有ガスは、MoF6ガスおよびWF6ガスの少なくとも1種である、請求項7に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理は、温度が0~400℃の範囲、圧力が13Pa~13kPaの範囲で行う、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記エッチングは、基板温度が0~400℃の範囲、圧力が13Pa~13kPaの範囲で行う、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理と前記エッチングとは、非同時でシーケンシャルに実施する、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理と前記エッチングとは、少なくとも一部の期間同時に実施する、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理と前記エッチングとは、同じ処理容器内で実施する、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理と前記エッチングとは、基板温度を同一温度にして実施する、請求項13に記載のエッチング方法。
- 前記酸化処理と前記エッチングとを繰り返し行う、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- モリブデン膜またはタングステン膜を含む構造部を有する基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内に設けられた前記基板を載置する載置台と、
前記載置台を温調する温調機構と、
前記基板にOラジカルを含む酸化剤を供給する機構と、
前記基板にエッチャントを供給する機構と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記基板に前記酸化剤を供給して前記モリブデン膜または前記タングステン膜に対して自己制御的な酸化処理を行うことと、
前記基板にエッチャントを供給して前記酸化処理により形成されたモリブデン酸化物またはタングステン酸化物のエッチングを行うことと、
が実施されるように制御する、エッチング装置。 - モリブデン膜またはタングステン膜を含む構造部を有する基板を収容し、前記モリブデン膜または前記タングステン膜に対して自己制御的な酸化処理を行うモジュールと、
前記基板にエッチャントを供給して前記酸化処理により形成されたモリブデン酸化物またはタングステン酸化物のエッチングを行うモジュールと、
を有する、エッチング装置。
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