CN113960888A - 一种用于滤波片的镀膜光刻方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及滤波片加工技术领域，具体为一种用于滤波片的镀膜光刻方法，包括对滤波片的清洁、镀膜、烘干和光刻加工处理，本发明是通过在机箱的左侧设置清洁仓，在将放料架推入机箱内部之前，利用清洁仓内部的离子束发生器对滤波片的表面进行清洁处理，保证滤波片在进入机箱内部后表面干净，接着将经过清洁处理后的滤波片送入机箱的内部，在机箱的内部对滤波片的表面依次进行光刻胶膜加工、光刻和滤波膜加工，完成滤波片的镀膜光刻处理，滤波片的整个加工过程均位于机箱的内部，利用机箱隔绝外界的污染，保证滤波片在进行镀膜光刻的加工过程中不会受到外界污染，进而有效提高对滤波片的加工成品质量，降低滤波片加工后的报废率。
Description
技术领域
本发明涉及滤波片加工技术领域，具体为一种用于滤波片的镀膜光刻方法。
背景技术
滤波片是一种用于对光谱波长进行针对性滤除的光学元件，其中吸收型滤光片采用不同参数的基片材料，并通过控制厚度来达到不同的光衰指标。这类滤光片表面反射低，在可见光范围内有平坦的光谱响应，可广泛应用于光谱测量，成像光学系统，机器视觉系统，以及低功率激光器的光输出衰减等应用。目前对于滤波片的表面镀膜光刻加工需要使用到多个设备进行操作，滤波片在加工设备之间进行输送的时候，滤波片的表面比较容易受到外界污染，导致滤波片在加工后的报废率提高，成品质量无法得到有效地保障；
为解决上述问题，本发明提供一种用于滤波片的镀膜光刻方法，能够有效避免滤波片在镀膜光刻加工的过程中受到外界污染，进而有效降低滤波片加工的报废率，在提高对滤波片镀膜光刻的加工效率同时，滤波片的成品质量也较为均一。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种用于滤波片的镀膜光刻方法，解决了现在技术滤波片在镀膜光刻加工的过程中容易受到外界污染，滤波片加工报废率高的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种用于滤波片的镀膜光刻方法，包括以下步骤：
第一步、在放料架中放入滤波片后放入限位架中，利用清洁仓内部的离子束发生器对滤波片的表面进行清洁处理，两个电推杆将放料架推入机箱的内部，闭合机箱两侧的挡板，使机箱内部的上方形成密闭腔体；
第二步、利用真空泵对机箱内部的密封腔体进行抽真空处理，将光刻胶投入机箱顶部左侧的熔料罐中，利用熔料罐中的电加热丝将光刻胶加热至蒸发，蒸发物料进入料腔的内部通过环形电热板进行进一步的加热处理，利用两个伺服电缸一将活动架的底部插入放料架的内部，蒸发物料通过出料板底部的喷头喷向滤波片的表面，根据镀膜的厚度控制镀膜的时长，接着利用吹风罩吹出气体对滤波片表面的光刻胶膜层进行快速干燥；
第三步、利用伺服电缸二推动遮光架与放料架的顶部接触，接着半导体激光器产生激光照射在滤波片的表面，利用掩膜版对激光进行遮挡，通过激光完成对滤波片表面的光刻加工处理；
第四步、将滤波胶投入机箱顶部右侧的熔料罐中，接着利用机箱内部右侧的镀膜组件完成对滤波片的表面进行镀膜加工，最后利用吹风罩吹出气体对滤波片表面的滤波膜层进行快速干燥，打开机箱右侧的挡板，利用顶料板将放料槽内部的滤波片顶出，完成对滤波片的镀膜光刻加工。
优选的，所述机箱内部的上方设置有加工腔体，且加工腔体的内部设置有若干个隔板，所述机箱内部的下方设置有真空泵，且真空泵通过导管与加工腔体的内部连通。
优选的，所述机箱内部的两侧均设置有镀膜组件，且镀膜组件包括活动架，所述机箱的顶部对称设置有两个伺服电缸一，且两个伺服电缸一驱动轴的一端分别与活动架顶部的两侧固定连接，所述活动架的内部对称设置有两个镀膜架，且两个镀膜架的内部均设置有出料板，所述活动架的内部对称开设有两个料腔，且两个料腔的内部均设置有环形电热板，两个所述料腔的内部分别与两个出料板的内部连通，且两个出料板的底部均设置有若干个喷头，所述活动架的顶部设置有导料管，且导料管底部的两端分别与两个料腔的内部连通，所述机箱的顶部设置有熔料罐，且熔料罐的底部连通有送料管，所述送料管的底端与导料管的顶端活动连接。
优选的，所述机箱的内部还设置有烘干组件，且烘干组件包括吹风罩，所述吹风罩的两侧分别与机箱内壁的两侧固定连接，且吹风罩的两侧均连通有导气管。
优选的，所述机箱的内部还设置有光刻机构，且光刻机构包括半导体激光器，所述机箱内壁的顶部设置有固定架，且半导体激光器位于固定架的内部，所述固定架的底部设置有安装架，且安装架的内部活动设置有连接架，所述连接架的内部对称开设有两个连接槽，且两个连接槽的内部均设置有掩膜版，所述安装架的内部开设有活动槽，且活动槽的表面与连接架的两侧滑动连接，所述活动槽的底部设置有导光架，且导光架的内部与活动槽的内部连通。
优选的，所述安装架的底部活动设置有遮光架，且遮光架的内部与导光架的表面滑动连接，所述安装架内部的两侧均设置有伺服电缸二，且两个伺服电缸二驱动轴的一端分别与遮光架顶部的两侧固定连接。
优选的，所述机箱的左侧设置有清洁仓，且清洁仓的左侧活动设置有密封门，所述清洁仓内壁的顶部设置有离子束发生器，且清洁仓内壁的底部设置有限位架，所述限位架的内部放置有放料架。
优选的，所述放料架内部的两侧对称开设有放料槽，且两个放料槽内部的下方均设置有顶料板。
优选的，所述放料架的两侧均设置有凸块，所述清洁仓内壁的一侧对称设置有两个电推杆，且两个电推杆驱动轴的一端均设置有推块，两个所述推块的一侧分别与两个凸块的一侧接触，所述清洁仓的右侧开设有通孔。
优选的，所述机箱的两侧均活动设置有挡板，且机箱内壁的底部设置有送料架，送料架内壁的底部设置有直线送料电机。
(三)有益效果
本发明提供了一种用于滤波片的镀膜光刻方法，与现有技术相比具备以下有益效果：
(1)通过在机箱的左侧设置清洁仓，在将放料架推入机箱内部之前，利用清洁仓内部的离子束发生器对滤波片的表面进行清洁处理，保证滤波片在进入机箱内部后表面干净，接着将经过清洁处理后的滤波片送入机箱的内部，在机箱的内部对滤波片的表面依次进行光刻胶膜加工、光刻和滤波膜加工，完成滤波片的镀膜光刻处理，滤波片的整个加工过程均位于机箱的内部，利用机箱隔绝外界的污染，保证滤波片在进行镀膜光刻的加工过程中不会受到外界污染，进而有效提高对滤波片的加工成品质量，降低滤波片加工后的报废率；
(2)通过在机箱的内部集成镀膜组件和光刻机构，在滤波片的表面完成光刻胶膜加工后，利用烘干组件吹风罩吹出气体对滤波片表面的光刻胶膜层进行快速干燥，接着利用光刻机构对滤波片进行光刻加工，通过半导体激光器发射激光，配合掩膜版对激光进行遮挡，实现滤波片的快速光刻处理，并且可以对连接架内部放置的掩膜版进行更换，实现在滤波片的表面进行不同类型的光刻加工，进而能够有效提高对滤波片的镀膜光刻加工效率；
(3)通过将胶料投入熔料罐中进行加热蒸发至气态，并且利用料腔内部的环形电热板对气态胶料进行进一步的加热，保证胶料能够正常地通过喷头喷向滤波片的表面，完成胶料的蒸发镀膜加工，根据镀膜的厚度控制镀膜的时长，进而进一步提高对滤波片的镀膜效果。
附图说明
图1为本发明一种用于滤波片的镀膜光刻方法的流程图；
图2为本发明用于滤波片镀膜光刻设备结构的示意图；
图3为本发明机箱内部结构的示意图；
图4为本发明清洁仓内部结构的示意图；
图5为本发明放料架结构的示意图；
图6为本发明活动架内部结构的示意图；
图7为本发明活动架与出料板结构的仰视图；
图8为本发明光刻机构结构的示意图；
图9为本发明连接架与掩膜版结构的示意图。
图中，10、机箱；20、隔板；30、清洁仓；40、送料架；101、离子束发生器；102、限位架；103、放料架；104、凸块；105、电推杆；106、推块；107、通孔；108、放料槽；109、顶料板；201、活动架；202、伺服电缸一；203、镀膜架；204、出料板；205、料腔；206、环形电热板；207、喷头；208、导料管；209、熔料罐；210、送料管；301、吹风罩；302、导气管；401、半导体激光器；402、固定架；403、安装架；404、连接架；405、连接槽；406、掩膜版；407、活动槽；408、导光架；409、遮光架；410、伺服电缸二。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
请参阅图1-9所示，一种用于滤波片的镀膜光刻方法，包括以下步骤：
第一步、打开密封门，将滤波片放在放料架103中的放料槽108内部，接着将放料架103放入限位架102中，闭合密封门，利用清洁仓30内部的离子束发生器101对滤波片的表面进行清洁处理，两个电推杆105驱动轴通过推块106和凸块104之间的接触，将放料架103从清洁仓30的内部推入机箱10的内部，闭合机箱10两侧的挡板，使机箱10内部的上方形成密闭腔体；
第二步、利用真空泵对机箱10内部的密封腔体进行抽真空处理，将光刻胶投入机箱10顶部左侧的熔料罐209中，利用熔料罐209中的电加热丝将光刻胶加热至蒸发，蒸发物料通过送料管210和导料管208进入料腔205的内部，在料腔205的内部通过环形电热板206进行进一步的加热处理，利用两个伺服电缸一202向下推动活动架201，使活动架201的底部插入放料架103的内部，此时镀膜架203位于放料槽108的正上方，蒸发物料通过出料板204底部的喷头207喷向滤波片的表面，根据镀膜的厚度控制镀膜的时长，接着利用吹风罩301吹出气体对滤波片表面的光刻胶膜层进行快速干燥；
第三步、利用伺服电缸二410推动遮光架409与放料架103的顶部接触，接着半导体激光器401产生激光照射在滤波片的表面，利用掩膜版406对激光进行遮挡，通过激光完成对滤波片表面的光刻加工处理；
第四步、将滤波胶投入机箱10顶部右侧的熔料罐209中，接着利用机箱10内部右侧的镀膜组件完成对滤波片的表面进行镀膜加工，最后利用吹风罩301吹出气体对滤波片表面的滤波膜层进行快速干燥，打开机箱10右侧的挡板，利用顶料板109将放料槽108内部的滤波片顶出，完成对滤波片的镀膜光刻加工。
实施例2：
请参阅图2-4所示，本发明中用于滤波片的镀膜光刻设备包括机箱10，机箱10的正面设置有观察窗，机箱10内部的上方设置有加工腔体，且加工腔体的内部设置有若干个隔板20，机箱10内部的下方设置有真空泵，且真空泵通过导管与加工腔体的内部连通，通过隔板20将加工腔体分为第一镀膜腔、第一烘干腔、光刻加工腔、第二镀膜腔和第二烘干腔，滤波片在机箱10的内部依次穿过第一镀膜腔、第一烘干腔、光刻加工腔、第二镀膜腔和第二烘干腔，完成滤波片的镀膜光刻加工。
机箱10的左侧设置有清洁仓30，且清洁仓30的左侧活动设置有密封门，清洁仓30内壁的顶部设置有离子束发生器101，且清洁仓30内壁的底部设置有限位架102，限位架102的内部放置有放料架103，且放料架103的两侧均设置有凸块104，清洁仓30内壁的一侧对称设置有两个电推杆105，且两个电推杆105驱动轴的一端均设置有推块106，两个推块106的一侧分别与两个凸块104的一侧接触，清洁仓30的右侧开设有通孔107，且通孔107与机箱10的内部连通，将滤波片放在放料架103的内部，接着将放料架103放入限位架102中，在将放料架103推入机箱10内部之前，利用清洁仓30内部的离子束发生器101对滤波片的表面进行清洁处理，保证滤波片在进入机箱10内部后表面干净。
实施例3：
请参阅图2-5所示，本发明中机箱10的两侧均活动设置有挡板，且机箱10内壁的底部设置有送料架40，送料架40内壁的底部设置有直线送料电机，在将放料架103推入送料架40内部后，利用直线送料电机对放料架103在机箱10的内部进行滑移，放料架103内部的两侧对称开设有放料槽108，且两个放料槽108内部的下方均设置有顶料板109，顶料板109的底部设置有微型推杆，在放料槽108内部的滤波片完成镀膜光刻加工后，微型推杆将顶料板109在放料槽108的内部向上顶出，使滤波片从放料槽108的内部脱离出来。
实施例4：
请参阅图2、图6和图7所示，本发明中机箱10内部的两侧均设置有镀膜组件，且镀膜组件包括活动架201，活动架201顶部的四周均活动设置有限位滑杆，机箱10的顶部对称设置有两个伺服电缸一202，且两个伺服电缸一202驱动轴的一端分别与活动架201顶部的两侧固定连接，活动架201的内部对称设置有两个镀膜架203，且两个镀膜架203的内部均设置有出料板204，利用两个伺服电缸一202向下推动活动架201，使活动架201的底部插入放料架103的内部，此时镀膜架203位于放料槽108的正上方，活动架201的内部对称开设有两个料腔205，且两个料腔205的内部均设置有环形电热板206，两个料腔205的内部分别与两个出料板204的内部连通，且两个出料板204的底部均设置有若干个喷头207，活动架201的顶部设置有导料管208，且导料管208底部的两端分别与两个料腔205的内部连通。
机箱10的顶部设置有熔料罐209，且熔料罐209的底部连通有送料管210，送料管210的底端与导料管208的顶端活动连接，位于熔料罐209的内部设置有电加热丝，利用熔料罐209对膜料加热蒸发，蒸发物料通过送料管210和导料管208进入料腔205的内部，在料腔205的内部通过环形电热板206进行进一步的加热处理，最后蒸发物料通过出料板204底部的喷头207喷向滤波片的表面，根据镀膜的厚度控制镀膜的时长。
实施例5：
请参阅图3所示，本发明中机箱10的内部还设置有烘干组件，且烘干组件包括吹风罩301，吹风罩301的两侧分别与机箱10内壁的两侧固定连接，且吹风罩301的两侧均连通有导气管302，位于机箱10内部的下方设置有风机，且风机的出风口与导气管302的底端连通，在滤波片表面完成镀膜加工后，利用吹风罩301吹出气体对滤波片表面的膜层进行快速干燥。
实施例6：
请参阅图8-9所示，本发明中机箱10的内部还设置有光刻机构，且光刻机构包括半导体激光器401，机箱10内壁的顶部设置有固定架402，且半导体激光器401位于固定架402的内部，固定架402的底部设置有安装架403，且安装架403的内部活动设置有连接架404，机箱10的背面开设有通槽，并且通槽的内部设置有活动板，通过将活动板打开后，将连接架404从安装架403的内部抽出，对连接架404内部的掩膜版406进行更换，实现对滤波片上进行不同类型的光刻加工处理，连接架404的内部对称开设有两个连接槽405，且两个连接槽405的内部均设置有掩膜版406，安装架403的内部开设有活动槽407，且活动槽407的表面与连接架404的两侧滑动连接，活动槽407的底部设置有导光架408，且导光架408的内部与活动槽407的内部连通，半导体激光器401产生激光照射在滤波片的表面，利用掩膜版406对激光进行遮挡，通过激光完成对滤波片表面的光刻加工处理。
安装架403的底部活动设置有遮光架409，且遮光架409的内部与导光架408的表面滑动连接，安装架403内部的两侧均设置有伺服电缸二410，且两个伺服电缸二410驱动轴的一端分别与遮光架409顶部的两侧固定连接，利用伺服电缸二410推动遮光架409与放料架103的顶部接触，保证滤波片在进行光刻加工的过程中，不会受到外界光线的影响，保证滤波片的光刻加工效果。
同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其他任何其他变体意在涵盖非排他性地包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：包括以下步骤：
第一步、在放料架(103)中放入滤波片后放入限位架(102)中，利用清洁仓(30)内部的离子束发生器(101)对滤波片的表面进行清洁处理，两个电推杆(105)将放料架(103)推入机箱(10)的内部，闭合机箱(10)两侧的挡板，使机箱(10)内部的上方形成密闭腔体；
第二步、利用真空泵对机箱(10)内部的密封腔体进行抽真空处理，将光刻胶投入机箱(10)顶部左侧的熔料罐(209)中，利用熔料罐(209)中的电加热丝将光刻胶加热至蒸发，蒸发物料进入料腔(205)的内部通过环形电热板(206)进行进一步的加热处理，利用两个伺服电缸一(202)将活动架(201)的底部插入放料架(103)的内部，蒸发物料通过出料板(204)底部的喷头(207)喷向滤波片的表面，根据镀膜的厚度控制镀膜的时长，接着利用吹风罩(301)吹出气体对滤波片表面的光刻胶膜层进行快速干燥；
第三步、利用伺服电缸二(410)推动遮光架(409)与放料架(103)的顶部接触，接着半导体激光器(401)产生激光照射在滤波片的表面，利用掩膜版(406)对激光进行遮挡，通过激光完成对滤波片表面的光刻加工处理；
第四步、将滤波胶投入机箱(10)顶部右侧的熔料罐(209)中，接着利用机箱(10)内部右侧的镀膜组件完成对滤波片的表面进行镀膜加工，最后利用吹风罩(301)吹出气体对滤波片表面的滤波膜层进行快速干燥，打开机箱(10)右侧的挡板，利用顶料板(109)将放料槽(108)内部的滤波片顶出，完成对滤波片的镀膜光刻加工。
2.根据权利要求1所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)内部的上方设置有加工腔体，且加工腔体的内部设置有若干个隔板(20)，所述机箱(10)内部的下方设置有真空泵，且真空泵通过导管与加工腔体的内部连通。
3.根据权利要求2所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)内部的两侧均设置有镀膜组件，且镀膜组件包括活动架(201)，所述机箱(10)的顶部对称设置有两个伺服电缸一(202)，且两个伺服电缸一(202)驱动轴的一端分别与活动架(201)顶部的两侧固定连接，所述活动架(201)的内部对称设置有两个镀膜架(203)，且两个镀膜架(203)的内部均设置有出料板(204)，所述活动架(201)的内部对称开设有两个料腔(205)，且两个料腔(205)的内部均设置有环形电热板(206)，两个所述料腔(205)的内部分别与两个出料板(204)的内部连通，且两个出料板(204)的底部均设置有若干个喷头(207)，所述活动架(201)的顶部设置有导料管(208)，且导料管(208)底部的两端分别与两个料腔(205)的内部连通，所述机箱(10)的顶部设置有熔料罐(209)，且熔料罐(209)的底部连通有送料管(210)，所述送料管(210)的底端与导料管(208)的顶端活动连接。
4.根据权利要求2所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)的内部还设置有烘干组件，且烘干组件包括吹风罩(301)，所述吹风罩(301)的两侧分别与机箱(10)内壁的两侧固定连接，且吹风罩(301)的两侧均连通有导气管(302)。
5.根据权利要求2所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)的内部还设置有光刻机构，且光刻机构包括半导体激光器(401)，所述机箱(10)内壁的顶部设置有固定架(402)，且半导体激光器(401)位于固定架(402)的内部，所述固定架(402)的底部设置有安装架(403)，且安装架(403)的内部活动设置有连接架(404)，所述连接架(404)的内部对称开设有两个连接槽(405)，且两个连接槽(405)的内部均设置有掩膜版(406)，所述安装架(403)的内部开设有活动槽(407)，且活动槽(407)的表面与连接架(404)的两侧滑动连接，所述活动槽(407)的底部设置有导光架(408)，且导光架(408)的内部与活动槽(407)的内部连通。
6.根据权利要求5所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述安装架(403)的底部活动设置有遮光架(409)，且遮光架(409)的内部与导光架(408)的表面滑动连接，所述安装架(403)内部的两侧均设置有伺服电缸二(410)，且两个伺服电缸二(410)驱动轴的一端分别与遮光架(409)顶部的两侧固定连接。
7.根据权利要求2所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)的左侧设置有清洁仓(30)，且清洁仓(30)的左侧活动设置有密封门，所述清洁仓(30)内壁的顶部设置有离子束发生器(101)，且清洁仓(30)内壁的底部设置有限位架(102)，所述限位架(102)的内部放置有放料架(103)。
8.根据权利要求7所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述放料架(103)内部的两侧对称开设有放料槽(108)，且两个放料槽(108)内部的下方均设置有顶料板(109)。
9.根据权利要求7所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述放料架(103)的两侧均设置有凸块(104)，所述清洁仓(30)内壁的一侧对称设置有两个电推杆(105)，且两个电推杆(105)驱动轴的一端均设置有推块(106)，两个所述推块(106)的一侧分别与两个凸块(104)的一侧接触，所述清洁仓(30)的右侧开设有通孔(107)。
10.根据权利要求2所述的一种用于滤波片的镀膜光刻方法，其特征在于：所述机箱(10)的两侧均活动设置有挡板，且机箱(10)内壁的底部设置有送料架(40)，送料架(40)内壁的底部设置有直线送料电机。
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