JP6747627B1 - 方向性電磁鋼板およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

極めて低い鉄損の方向性電磁鋼板を、磁区細分化技術によって提供する。局所歪み導入部を介して細分化された複数の磁区を有する方向性電磁鋼板について、該鋼板に、直流外部磁場を圧延方向に印加した際に、前記鋼板の局所歪み導入部側の表面から1.0mm離間する位置で、前記局所歪み導入部から漏洩する磁束において、全漏洩磁束強度レベルを歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルで除した値を1.2超とする。

Description

本発明は、変圧器などの鉄心材料に好適な方向性電磁鋼板およびその製造方法に関するものである。
方向性電磁鋼板は、主にトランスの鉄心として利用され、その磁化特性が優れていること、特に鉄損が低いことが求められている。そのためには、鋼板中の二次再結晶粒を（１１０）［００１］方位、いわゆるゴス方位に高度に揃えること、製品中の不純物を低減することが重要である。さらに、結晶方位制御及び不純物低減には限界があることから、鋼板の表面に対して物理的な手法で磁束の不均一性を導入し、磁区の幅を細分化して鉄損を更に低減する技術、すなわち磁区細分化技術が開発されている。
例えば、特許文献１には、0.23mm厚の鋼板の片側表面に線状の溝を、溝巾：300μm以下、溝深さ：100μm以下として形成することによって、溝形成前には0.80W/kg以上であった鉄損Ｗ17/50を、0.70W/kg以下に低減する技術が示されている。
また、特許文献２には、0.20mm厚の二次再結晶後の鋼板にプラズマアークを照射することにより、照射前には0.80W/kg以上であった鉄損Ｗ17/50を0.65W/kg以下に低減する技術が示されている。
さらに、特許文献３には、被膜厚と、電子ビーム照射によって鋼板面に形成された磁区不連続部の平均幅とを適正化して、鉄損が低く騒音の小さい変圧器用素材を得る技術が示されている。
上記した磁区細分化技術は、歪み導入部近傍に生成する磁極による反磁界効果を利用しているため、この磁極量増大を目的として、局所歪みの板厚方向深さを増大させることが、特許文献４に示されている。ここで、板厚方向の深さを増大させる手段は、種々提案されているが、鋼板片面からの導入ではその深さに限界があることから、例えば、特許文献５では、鋼板の両面から歪みを導入する技術が提案されている。
特公平06−22179号公報 特開2011−246782号公報 特開2012−52230号公報 特開平11−279645号公報 特公平04−202627号公報 特公昭62−49322号公報 国際公開WO2013−0099160号 特開2015−4090号公報 特開平5−43944号公報
上記の特許文献５の技術を適用すれば、歪みの導入深さは大幅に増大し、鉄損改善効果が期待できるが、鋼板の両面間で同一位置に照射するために複雑な制御が必要になる。また、１度の通板で鋼板の裏表面の照射を同時に完了させるためには、電子ビームの照射設備が２セット必要になるため、コストの増大を招くことになる。一方、コスト面から照射設備を１セットとすると、同一ラインを２度通板させる必要があり、大幅な生産性の低下を招くという問題が生じる。これらの問題は、鋼板の片側より歪みを導入する場合は当然生じないが、特許文献４に記載のような、鋼板の片側より歪みを導入して磁極発生面積を増大させる技術による鉄損の改善には限界がある。そして、今後も強化されると予測される変圧器の効率規制をクリアすること、或いは、顧客から要求される特性レベルを満足すること、が厳しくなってきているのが現実である。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、極めて低い鉄損の方向性電磁鋼板を、磁区細分化技術によって提供することを目的とする。
発明者らは、従来の「磁極発生面積を増大させて磁区細分化効果を増大させる」という考え方ではなく、「同一面積における磁極発生割合の増大」により、磁区細分化効果を増大させることができないかの検討を行った。その結果、磁極発生割合を変化させる手法として、ビーム径が最小となる位置をフォーカスの調整により鋼板の板厚方向に変化させることに着想した。すなわち、最もエネルギーが集中する場所を板厚方向に変化させることによって、鋼板内部の歪み分布を変化させ、その際の鉄損との関係を調査した。具体的には、0.23mm厚の方向性電磁鋼板（供試材）に、電子ビーム照射によって磁区細分化処理を施す際に、ビーム径が最小となる位置を板厚方向へ変位させ、変位に伴う各位置での電子ビーム照射後の鉄損を調査した。各供試材における鉄損改善量とビーム径が最小となる位置との関係を図１に示す。
なお、電子ビーム照射領域内において、照射装置の収束コイルから鋼板までの距離は電子ビームの偏向方向に対応する鋼板内位置によって異なる。このため、収束電流値一定でビームを偏向させると、ビーム径が最小となる、鋼板の板厚方向での位置は前記した鋼板内位置によって変動する。ここでは、収束電流値を動的に変化させるダイナミックフォーカス機能を照射装置に導入して、ビームを偏向させる範囲内にてビーム径が最小となる鋼板の板厚方向の位置（焦点位置）が同一になるように調整した。このビーム径が最小となる鋼板の板厚方向の位置の調整は、収束電流値を変化させることで行った。フォーカス制御パラメータ（ここでは収束電流値）以外の照射条件は変化させず、加速電圧40kV、偏向速度24m/ｓ、照射線間隔10mmおよび停留点間隔0.32mmとした。ビームの偏向パターンは、一定速度での均一移動ではなく、移動・停留・移動・停留を繰り返すパターンとした。よって、前述した偏向速度は、ビームを移動させた距離を移動に要した合計の時間で除した平均値である。ビーム電流は、鋼板の表面上でジャストフォーカスになる条件（焦点位置0mm）で最も鉄損改善効果が高かった、8mAとした。また、ジャストフォーカス時のビーム径は300μmであった。
なお、本明細書において、「ビーム径が最も小さくなる」とは、ビーム径が楕円である場合は、その長軸が最も小さくなることを指す。
従来、電子ビームは鋼板の表面上でジャストフォーカスになる（ビーム径が最小となる）ように調整するのが一般的である。ここで、図１に示すように、ビーム径が最小となる、鋼板の板厚方向における位置が鋼板表面から離れた上方にある（以下、アッパーフォーカスともいう、図１におけるマイナス側の位置に相当）場合は、鋼板表面上でジャストフォーカスになる（図１における位置0mmに相当）場合と比較して、鉄損改善量が減少している。一方で、ビーム径が最小となる位置が鋼板表面よりも内側にある（以下、アンダーフォーカスともいう、図１におけるプラス側の位置に相当）場合は、その位置が板厚内部、つまり、図１の場合の0mm超0.23mm未満にあれば、鉄損改善量が増大することが明らかになった。ちなみに、電子ビームを板厚以上のプラス側の位置に更にデフォーカスすると、鉄損改善量は低下した。
さらに、鉄損改善量が、鋼板の表面上をジャストフォーカスとした場合よりも増大したサンプルについて、電子ビーム照射に沿って主磁区を分断して線状に延びる還流磁区を観察した。すなわち、断面還流磁区の形状を、カー効果顕微鏡を用いて観察し、還流磁区の深さおよび幅を測定した。その際、結晶の(100)面が観察面になるようにした。これは、観察面が(100)面からずれると、観察面に生じる表面磁極によって、別の磁区構造が出現しやすくなり、所望の還流磁区が観察しにくくなるためである。
観察の結果、還流磁区の深さおよび幅については、鋼板の表面上をジャストフォーカスとしたサンプルの場合とほぼ同じであった。この結果は、導入された歪み体積がほぼ同じであることを意味している。上記範囲内でアンダーフォーカスしたサンプルにおいて鉄損改善量が増大した原因は、明確にはなっていないが、本発明者らは、エネルギーが集中される位置を鋼板の表面より内側に変更したことにより、鋼板における同一体積内の歪み分布が変化したためではないかと考えている。
従来の還流磁区を用いた技術からでは、上記したビーム径最小位置によって鉄損が改善された鋼板を判定できなかったことから、鉄損が改善された鋼板について、新たな判定手法として、漏洩磁束を用いた歪み分布の解析を行った。すなわち、「局所歪み導入部のない領域にある磁区の磁壁は移動するが、局所歪み導入部のある領域にある磁区の磁化方向が磁化容易軸方向に対して平行にならない程度の大きさの直流外部磁場」を印加した際に、前記局所歪み導入部から漏洩する磁束について調査した。
ここで、歪み分布の解析を漏洩磁束にて行うのは以下の理由による。すなわち、歪み導入部を局所的な磁性の不連続部と捉えると、この歪み導入に起因して漏洩する磁束が存在するはずであるから、漏洩磁束を測定することにより、局所歪み導入部の歪み分布が評価可能になると考えるからである。
この歪み導入に起因して漏洩する磁束の測定条件としては、磁化容易軸方向への外部磁場レベルを、磁化方向が磁化容易軸方向に平行な磁区の磁壁は移動させつつ、局所歪み導入部における磁区の磁化方向は磁化容易軸方向に平行とはさせない程度の外部磁場レベルであることが好適である。なお、磁化容易軸方向は、通常、鋼板の圧延方向である。このような条件にすれば、局所歪み導入部において、歪みが原因で発生した漏洩磁束量とそれ以外の原因で発生した漏洩磁束量との差（又は、局所歪み導入部で発生した全漏洩磁束に対する歪み起因で発生した漏洩磁束の割合）が大きくなり、漏洩磁束を用いた歪み分布状態の評価が精度よく実施可能になる。
一方、上記条件よりも大きい外部磁場レベルとすると、局所歪み導入部の磁区も含め、ほぼ全ての磁区が磁化容易軸方向に揃ってしまう。すなわち、歪みによる不連続性が解消されてしまい、歪みに起因した漏洩磁束の量又は割合が大幅に減少するので、歪み導入に起因した漏洩磁束量の信号を精度よく評価することが困難になる。逆に、外部磁場レベルを過度に低めると、歪み以外に起因した漏洩磁束量がより小さくなるものの、歪み導入に起因した漏洩磁束量まで小さくなってしまうため、やはり精度のよい評価が困難である。
上記の理由から、「磁化方向が磁化容易軸方向に平行な磁区の磁壁は移動するが、局所歪み導入部における磁区の磁化方向が磁化容易軸方向に平行とはならない程度の外部磁場レベルであり、それ故に、局所歪み導入部において、歪みが原因で発生した漏洩磁束の比率が最も大きくなる条件」で、漏洩磁束の測定を行うこととした。そして、「歪みが原因で発生した漏洩磁束の比率が最も大きくなる条件」について種々の検討を行ったところ、以下のことが確認された。すなわち、まず、直流磁場を変化させながら、歪み導入部の磁束信号（全漏洩磁束の強度レベル）を計測する；次に、歪取り焼鈍を行って導入歪みを除去した状態で、再度直流磁場を変化させながら歪みが除去された領域の磁束信号（歪み以外の原因で発生した漏洩磁束の強度レベル）を測定する；そして、歪み除去前後の磁束の信号強度比（除去前／除去後）を計算する。この磁束信号比（信号強度比）が最も大きくなる条件が、局所歪み導入部において全漏洩磁束の強度レベルに対する歪みが原因で発生した漏洩磁束の強度レベルの比率が最も大きくなる条件であり、歪み起因で漏洩した磁束を最も高精度で評価可能であることが確認された。
上記条件は、換言すれば、局所歪み導入部において、歪み以外の原因で発生した漏洩磁束の強度レベルに対する全漏洩磁束の強度レベルの比率が最も大きくなる条件ということもできる。
その結果、鋼板の局所歪み導入部側の表面から1.0mm離間する位置で、局所歪み導入部で発生した全漏洩磁束レベルに対する歪み起因で発生した漏洩磁束レベルの割合が最も大きくなる条件における信号強度比を指標とすることに想到した。
また、上記の信号強度レベルを求めるための一具体例を以下に示す。
すなわち、局所歪みが導入された方向性電磁鋼板に10〜1000ATの外部磁場を鋼板の圧延方向に印加し、磁気抵抗型高感度センサ（Micro Magnetics STJ-240IC）を鋼板の表面から1.0mm離れた位置に配置し、磁化器と磁気センサとを方向性電磁鋼板に対して相対的に10mm/s、サンプリング周波数100Hzで移動・走査させながら漏洩磁束の測定を実施した。
ここでの測定エリアは、圧延方向（RD）に200mm×圧延直角方向（TD）に80mmであった。サンプリングピッチは、圧延方向に0.1mmで2000点、圧延直交方向に１mmピッチで81点であった。１Hzのハイパスフィルター、10Hzのローパスフィルターを使用し、アンプを使用して信号を1000倍に増幅した。
得られた漏洩磁束の測定結果を、磁化容易軸方向にＦＦＴ演算し、このＦＦＴ演算結果における複素数を絶対値とし、この絶対値を1024で除した値を信号強度レベルとした。
なお、2000点しかデータがないので、ＦＦＴ演算するに当たって足りない48点については0を入力した。TD方向に81ライン測定しているため、全てのラインの測定結果から求めた平均値を最終的な漏洩磁束の信号強度レベルとした。横軸の周波数は、波長(スキャン速度／FFT周波数：mm)に変換した。
すなわち、ＦＦＴの信号強度レベルは波長に対して変化する形で表されるが、ビーム照射の線間隔に対応した波長においてピークとなる信号強度レベルを、本発明で規定する「漏洩磁束の強度レベル」とする。電子ビーム照射部（局所歪み導入部）では、歪みの影響で磁束が通りにくくなっているため、局所歪み導入部において漏洩磁束の信号強度レベルが増加する。
電子ビームを線間隔5mmで照射したサンプルについて、漏洩磁束強度レベルの測定結果を図２Ａに示す。図２Ａより、線間隔（波長）5mm付近にピークＡが出ていることが分かる。局所歪みが導入された範囲における漏洩磁束には、歪みに起因した漏洩磁束とそれ以外に起因した漏洩磁束との両方が含まれている。上述のとおり、データが不足した48点に0を入れた場合、正確に5mmの位置にピークが出ないので、5mm付近のピークＡを局所歪み導入部によるピークと判断すればよい。最終的には、歪取り焼鈍後に同じ測定を行い、5mm付近のピークが消滅していれば、このピークＡが局所歪み導入部によるピークであると確認することが可能である。歪取り焼鈍後の漏洩磁束強度の測定結果を図２Ｂに示す。図２Ｂの波長5mm付近からはピークが消滅していることから、図２Ａの波長5mm付近で確認されたピークＡが、歪み起因の漏洩磁束を示すものであったと判断できる。なお、歪取り焼鈍前にピークＡが確認された波長位置における、歪取り焼鈍後の信号強度レベルＢは、歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルである。
外部磁場と、漏洩磁束の強度レベル比Ａ／Ｂ（歪取り焼鈍前における全漏洩磁束の信号強度レベルＡ／歪取り焼鈍後における歪み以外の原因で漏洩した磁束の信号強度レベルＢ、以下、単に「信号強度比」ということがある。）との関係の一例を図３に示す。図３より、全てのサンプルで、外部磁場が200ATとなる付近で、信号強度比Ａ／Ｂが最大となることが確認された。よって、ここでは200ATの外部磁場を印加したデータを用いて、鋼板に導入された歪み状態と鉄損との関係を評価した。
更に、電子ビーム径が最小となる位置に対する、鉄損改善量と、図３に示した信号強度比Ａ／Ｂとの関係を図４に示す。歪み以外が原因で漏洩した磁束の強度レベルとしては、800℃×3Hr、Ar雰囲気で焼鈍して歪みを除去した状態で再度信号測定・解析を行い、ビーム照射の線間隔に対応した波長における信号強度レベルを採用した。図４に示すように、照射線間隔に対応した波長における歪取り焼鈍前後の信号強度比Ａ／Ｂ（図中の三角プロット）と鉄損改善量（図中の丸プロット）との間には、非常に良好な相関が確認された。特に、電子ビーム径が最小となる位置0mm付近における信号強度比Ａ／Ｂおよび鉄損改善量の詳細を図５に示すように、信号強度比が１．２超となる位置で処理することによって、従前のジャッストフォーカス（ビーム径が最小となる位置が0mm）で処理した場合の鉄損改善量を超える鉄損の改善が可能になることが明らかになった。
本発明では、信号強度比Ａ／Ｂによって歪み分布を規定しているので、測定に際しては、例えば以下の手順を順守することができ、細かな測定条件は任意である。
i）直流磁場を印加して、磁気抵抗型センサを用いて漏洩磁束を測定する
ii）漏洩磁束の測定結果を、磁化容易軸方向にＦＦＴ演算し、振幅を求める
iii）周波数を波長に変換する
iv）照射線間隔に対応した波長においてピークとなる信号強度レベル（振幅）を評価に使用する。
鋼板表面から離間した位置に関しては、1.0mmでなくても評価可能であるが、鋼板表面からの距離が大きくなるにつれセンサの感度が低下し、鋼板表面からの距離が狭くなるにつれ距離制御が困難になるので、1.0mmの離間距離で評価することとした。また、歪み導入状態が反映された磁束信号分と反映されていない磁束ノイズ分との比率が最も大きくなる条件でなくても評価可能ではあるが、測定精度が低下してしまうので、測定精度を高める観点から、比率が最も大きくなる条件を選定した。
次いで、磁区細分化処理をレーザビーム照射で実施した際の、上記した図１と同様の結果について図６に示す。なお、レーザビームの焦点の位置は、レーザ集光レンズと鋼板との距離を調整することによって変化させた。レーザはシングルモードファイバーレーザを使用し、走査速度10m／ｓ、照射線間隔10mmとした。ジャストフォーカス時のビーム径は50μmであった。レーザビーム出力は種々変化させ、鋼板の表面上でジャストフォーカスになる条件で最も鉄損改善効果が高かった100Ｗを用いた。
レーザビーム照射により局所歪み導入部を形成した場合も、電子ビーム照射による場合と同様の傾向を示した。つまり、ビーム径が最小となる位置が鋼板表面よりも上方にずれた（アッパーフォーカス）場合は、鋼板表面上でジャストフォーカスになるように調整した位置0mmの場合と比較して、鉄損改善量が減少した。一方で、ビーム径が最小となる位置が鋼板表面よりも内側にある（アンダーフォーカス）場合は、その位置が板厚内部、つまり、図６の場合の0mm超0.23mm未満にあれば鉄損改善量が増大し、レーザビームを板厚以上のプラス側の位置に更にデフォーカスした場合は鉄損改善量が低下した。ただし、レーザビーム径が最小となる位置が0mm超0.23mm未満の範囲内で確認された鉄損改善量の絶対値は、電子ビーム照射を用いた場合よりも小さかった。この原因は明確になっていない。しかし、本発明者らは、電子ビームとレーザビームとでは鋼板内部への侵入能が大きく異なり、電子ビームの方が侵入能は高いという特徴があり、それ故電子ビーム照射の方が歪み分布をより大きく変更できたのではないか、と考えている。
本発明は上記知見に立脚するものであり、本発明の要旨構成は次のとおりである。
１．局所歪み導入部を介して細分化された複数の磁区を有する方向性電磁鋼板であって、
該鋼板に、直流外部磁場を圧延方向に印加した際に、前記鋼板の局所歪み導入部側の表面から1.0mm離間する位置で、前記局所歪み導入部から漏洩する磁束において、全漏洩磁束の強度レベルを歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルで除した値が1.2超である方向性電磁鋼板。
２．磁束密度Ｂ8が1.94Ｔ以上である前記１に記載の方向性電磁鋼板。
３．前記１または２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法であって、仕上げ焼鈍を経た方向性電磁鋼板の表面に、電子ビームの照射による磁区細分化処理を施すに当たり、前記電子ビームのビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を前記鋼板の表面より内側とする、前記電子ビームのフォーカス調整を行う、方向性電磁鋼板の製造方法。
４．前記１または２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法であって、仕上げ焼鈍を経た方向性電磁鋼板の表面に、レーザビームの照射による磁区細分化処理を施すに当たり、前記レーザビームのビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を前記鋼板の表面より内側とする、前記レーザビームのフォーカス調整を行う、方向性電磁鋼板の製造方法。
５．前記ビーム径が最も小さくなる位置を、前記鋼板の局所歪み導入部側の表面より内側から板厚中心までの領域に設定する前記３または４に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
本発明によれば、漏洩磁束の測定により得られる信号強度比を適正に制御することによって、より高い磁区細分化効果が得られ、より低鉄損の方向性電磁鋼板を得ることが可能になる。従って、当該方向性電磁鋼板を鉄心として用いた変圧器は高いエネルギー使用効率の実現が可能になるため、産業上有用である。
鉄損改善量と電子ビーム径が最小となる位置との関係を示すグラフである。 歪取り焼鈍前における漏洩磁束の測定結果の一例を示すグラフである。 歪取り焼鈍後における漏洩磁束の測定結果の一例を示すグラフである。 外部磁場と漏洩磁束の強度レベル比との関係の一例を示すグラフである。 電子ビーム径が最小となる位置に対する、鉄損改善量と漏洩磁束の強度レベル比との関係を示すグラフである。 電子ビーム径が最小となる位置0mm付近における漏洩磁束の強度レベル比および鉄損改善量の詳細を示すグラフである。 鉄損改善量とレーザビーム径が最小となる位置との関係を示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。 焦点位置の幅方向位置パターンを示すグラフである。
以下、本発明の方向性電磁鋼板及びその製造方法について具体的に説明する。
［方向性電磁鋼板］
本発明の方向性電磁鋼板は、局所歪み導入部を介して細分化された複数の磁区を有する。ここで、本発明の方向性電磁鋼板の圧延方向に直流外部磁場を印加した場合、局所歪み導入部から磁束が漏洩する。そして、この漏洩磁束においては、鋼板の局所歪み導入部側の表面から1.0mm離間する位置で、全漏洩磁束の強度レベルを歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルで除した値が1.2超であることを特徴とする。
本発明の方向性電磁鋼板は、例えば、本発明の方向性電磁鋼板の製造方法に従って得ることができる。
磁区細分化処理を施す方向性電磁鋼板としては、特に限定されない。従来既知の方向性電磁鋼板であれば、例えば、インヒビター成分の使用または不使用等にかかわらず、そのいずれもが好適に使用することができる。鋼板は、絶縁被膜が形成されていても良いし、絶縁被膜が無くても問題は無い。但し、鉄損低減の観点から、Ｓｉを２．０質量％〜８．０質量％の範囲で含有する成分組成を有する鋼板を用いることが好ましい。加えて、通板性の観点から、Ｓｉを２．５質量％〜４．５質量％の範囲で含有する成分組成を有する鋼板を用いることがより好ましい。方向性電磁鋼板の厚みは、工業的には0.10mm以上とすることが好ましく、0.35mm以下とすることが好ましく、0.10mm〜0.35mm程度とすることが好ましい。
また、磁区細分化処理前の、磁区が太い鋼板では、磁区細分化するためにより多くの磁極生成が必要になり、従来技術では十分な鉄損改善効果が得られない場合があった。よって、例えば、本明細書に従う手法を適用することによる、更なる鉄損改善効果は、磁区細分化処理前の磁区が太い鋼板を用いた場合の方がより大きく得られる。磁区細分化処理前の磁区がより太いということは、磁束密度がより高いことを意味しており、本明細書に記載の手法は、磁束密度Ｂ8が1.94Ｔ以上の鋼板に適用することがより好適である。
［方向性電磁鋼板の製造方法］
本発明の方向性電磁鋼板の製造方法は、上述した本発明の方向性電磁鋼板を製造する方法であり、上述した本発明の方向性電磁鋼板についての特徴と同様の特徴を有する。また、本発明の方向性電磁鋼板の製造方法では、仕上げ焼鈍を経た方向性電磁鋼板の表面に、電子ビーム又はレーザビームを照射して磁区細分化処理を施す。ここで、磁区細分化処理に際しては、ビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を鋼板の表面より内側とするようビームのフォーカス調整を行うことを特徴とする。
［局所歪み導入工程］
歪みを局所的に導入する方法は、電子ビームやレーザビームによる方法を適用すればよい。ただし、上述した本発明者らの実験のとおり、鉄損改善等の効果がより高かった電子ビームを使用することがより好ましい。ここで、局所歪み導入部を形成するに当たり、照射幅全域でビーム径が最も小さくなる位置（焦点位置）を鋼板表面より内側に設定することが肝要である。より好ましくは、この焦点位置を、鋼板の局所歪み導入部側の表面（照射面）より内側から板厚中心までの位置に調整する。焦点位置の調整方法は特に限定されないが、電子ビーム照射の場合はダイナミックフォーカス制御を適用し、収束電流を調整するのが好適である。レーザ照射の場合は、レーザ集光レンズの高さ（鋼板表面との距離）を調整するのが好適である。焦点位置を鋼板表面より内側に設定することで鉄損改善効果が向上する理由は明らかになっていないが、本発明者らは、還流磁区体積（局所歪み導入部の体積）が同じであっても、局所歪み導入部の鋼板内部における歪み分布が変化し、その結果として磁極の生成割合が増加したためではないかと考えている。磁区細分化処理に際する上記以外の条件は特には限定しないが、照射方向は、鋼板の圧延方向を横切る方向が好ましく、圧延方向に対して60°〜90°の方向がより好ましく、90°の方向（板幅方向）が更に好ましい。また、照射間隔は、圧延方向に3mm以上が好ましく、15mm以下が好ましく、3mm〜15mm程度の間隔がより好適である。電子ビームを用いる場合は、加速電圧は10kV以上が好ましく、200kV以下が好ましく、10〜200kVがより好ましく；ビーム電流は0.1mA以上が好ましく、100mA以下が好ましく、0.1〜100mAがより好ましく；ビーム径は0.01mm以上が好ましく、0.3mm以下が好ましく、0.01〜0.3mmがより好ましい。レーザビームを用いる場合は、単位長さ当たりの熱量は5J/m以上が好ましく、100J/m以下が好ましく、5〜100J/m程度がより好ましく；スポット径は0.01mm以上が好ましく、0.3mm以下が好ましく、0.01〜0.3mm程度がより好ましい。
本発明の製造方法の特徴である、焦点位置を所定の位置に制御することは、鋼板の表面に対してはデフォーカスさせることを意味している。このデフォーカスさせる技術はいくつか報告されている。例えば、特許文献６（特公昭62−49322号公報）、特許文献７（WO2013−0099160）、特許文献８（特開2015−4090号公報）、特許文献９（特開平5−43944号公報）である。次に、これらの技術と本発明との違いについて述べる。
まず、特許文献９には、電子ビームによる磁区細分化技術が記載され、ダイナミックフォーカス技術を適用せず、焦点を鋼板表面よりも遠くに設定するという内容である。特許文献９の実施例を見ると、焦点設定位置が一部では鋼板内部ではなく、鋼板の外に設定されており、本発明の内容とは明確に相違する。
また、特許文献６には、レーザによる磁区細分化技術であって、デフォーカスして皮膜剥離を抑制する技術が記載されている。本発明では、アンダーフォーカス側にデフォーカスすることが重要であるが、特許文献６ではアッパーフォーカスとアンダーフォーカスとが区別されておらず、アンダーフォーカス側のわずかな領域に鉄損が更に改善する領域が存在することは示唆されていない。また、特許文献６の技術は、歪み導入量を減らして鉄損の犠牲を最小限に抑えながら、被膜へのダメージを減らす内容であり、鉄損をさらに低減するものではない。
さらに、特許文献７および特許文献８に記載の技術は、変圧器の騒音特性改善やビルディングファクター改善を目的とするものであり、本発明で目的とする素材鉄損の更なる改善については触れるところがない。特許文献７および特許文献８の実施例を見ても、アッパーフォーカスとアンダーフォーカスとが区別されておらず、デフォーカスの程度に関する具体的な記述もない。
［局所歪み導入部の評価パラメータ］
従来の歪み評価で採用されている還流磁区の深さおよび幅評価では、本発明の方向性電磁鋼板で所期する歪み分布状態を評価することができない。本発明の方向性電磁鋼板における歪み状態を特定するには、上述した漏洩磁束を用いた評価方法が有効である。具体的には、磁化器により鋼板内部に磁束を通し、歪みの影響で磁束が通りにくくなることに起因して鋼板表面の上方に漏洩した磁束を、磁気センサで計測する方法である。その計測データを磁化容易軸方向にＦＦＴ演算し、ＦＦＴ演算結果の複素数を絶対値であらわしたものを、漏洩磁束の信号強度レベル（全漏洩磁束の強度レベル）とした。この信号強度レベルには歪みに起因した漏洩磁束だけでなく、その他の因子に起因した漏洩磁束も含まれている。したがって、歪み評価には、上記信号強度レベル自体ではなく、信号強度比（全漏洩磁束の強度レベル／歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルの比）を使用する。上述のとおり、得られる信号強度比（漏洩磁束の強度レベル比）が1.2超であると、非常に良好な鉄損特性が得られる。好ましくは、信号強度比は2.5倍以上であり、3.0倍以上である、4.0倍以上である。
次に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例は、本発明の好適な一例を示すものであり、本発明は、該実施例によって何ら限定されるものではない。本発明の実施形態は、本発明の趣旨に適合する範囲で適宜変更することが可能であり、それらは何れも本発明の技術的範囲に包含される。
表１に示す成分を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成を有する鋼スラブ（鋼No. A、B）を、連続鋳造にて製造し、1400℃に加熱後、熱間圧延により板厚：2.6mmの熱延板としたのち、950℃で10秒の熱延板焼鈍を施した。ついで、冷間圧延により中間板厚：0.80mmとし、酸化度PH2O/PH2＝0.35、温度：1070℃、時間：200秒の条件で中間焼鈍を実施した。その後、塩酸による酸洗により表面のサブスケールを除去したのち、再度、冷間圧延を実施して、板厚：0.22mmの冷延板とした。
ついで、均熱温度860℃で30秒保持する脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、二次再結晶・フォルステライト被膜形成および純化を目的とした仕上げ焼鈍を1220℃、20時間の条件で実施した。そして、未反応の焼鈍分離剤を除去した後に、50％のコロイダルシリカとリン酸アルミニウムからなるコーティング液を塗布し平担化焼鈍も兼ねた張力コーティングの焼き付け処理（焼き付け温度850℃）を施した。その後、圧延方向と直角に電子ビームまたはレーザビームを照射する磁区細分化処理を鋼板の片面に施した。電子ビームおよびレーザビームの照射条件は表２に従い、ビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を表２のとおり調節した。
鉄損、磁束密度および信号強度比（局所歪み導入部から漏洩する磁束において、全漏洩磁束の強度レベルを歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルで除した値）についての評価結果を表２に示す。表２に示すように、条件No.4〜8と同No.14〜18、および、同No.24〜28と同No.34〜38を比較すると、いずれの歪み導入方法であっても、磁束密度が高い方向性電磁鋼板を用いた方が、同じ焦点位置における、焦点位置0mmに対する鉄損の改善代が非常に大きくなっていることが分かる。
電子ビーム照射した条件No.4、5、6、7（鋼No.A）、No.14、15、16、17（鋼No.B）と、レーザビーム照射した条件No.24、25、26、27（鋼No.A）、No.34、35、36、37（鋼No.B）とを、鋼種ごとに比較すると、両方とも本発明範囲内であるが、同じ鋼種では電子ビーム照射したサンプルの方が、信号強度比が大きく、鉄損改善効果も電子ビーム材の方が大きいことが分かる。一方、焦点位置を照射面上に合わせた条件（焦点位置0mm）を含めた本発明範囲外の比較例では、発明例よりも鉄損が大きいことが分かる。
Figure 0006747627
Figure 0006747627
表１の鋼No.Aに示す成分を含有し、残部はFeおよび不可避的不純物の組成を有する鋼スラブを、連続鋳造にて製造し、1400℃に加熱後、熱間圧延により板厚：2.4mmの熱延板としたのち、1000℃で30秒の熱延板焼鈍を施した。ついで、冷間圧延により中間板厚：1.0mmとし、酸化度PH2O/PH2＝0.30、温度：1050℃、時間：30秒の条件で中間焼鈍を実施した。その後、塩酸による酸洗により表面のサブスケールを除去したのち、再度、冷間圧延を実施して、板厚：0.27mmの冷延板とした。
ついで、均熱温度820℃で120秒保持する脱炭焼鈍を施し、その後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、二次再結晶・フォルステライト被膜形成および純化を目的とした仕上げ焼鈍を1180℃、50時間の条件で実施した。そして、未反応の焼鈍分離剤を除去した後に、50％のコロイダルシリカとリン酸アルミニウムからなるコーティング液を塗布し、平担化焼鈍も兼ねた張力コーティングの焼き付け処理（焼き付け温度880℃）を施した。その後、圧延方向と直角に電子ビームを照射する磁区細分化処理を鋼板の片面に施した。焦点位置は、フォーカスコイルを連続的に変化させることで、鋼板の板幅方向で変化させた。焦点位置の幅方向位置に対するパターン１〜６を、図７Ａ〜図７Ｆに示す。その他の電子ビーム照射条件は、表３に記載の通りである。なお、評価サンプルは照射幅全域から採取した。
得られた評価結果（鉄損、磁束密度および信号強度比）を表３に示す。鋼板の板幅方向全域にわたって焦点位置が０超であり、かつ、信号強度比が１．２超である、本発明の範囲内であるパターンNo.2および5において、良好な鉄損特性が得られていることが分かる。一方、鋼板の板幅方向に部分的にでも焦点位置が０以下であるか、信号強度比が１．２以下である、本発明範囲外のパターンNo.1、3、4、6では、鉄損が大きくなっていることが分かる。
Figure 0006747627

Claims (5)

  1. 局所歪み導入部を介して細分化された複数の磁区を有する方向性電磁鋼板であって、
    該鋼板に、直流外部磁場を圧延方向に印加した際に、前記鋼板の局所歪み導入部側の表面から1.0mm離間する位置で、前記局所歪み導入部から漏洩する磁束において、全漏洩磁束の強度レベルを歪み以外の原因で漏洩した磁束の強度レベルで除した値が1.2超である方向性電磁鋼板。
  2. 磁束密度Ｂ8が1.94Ｔ以上である請求項１に記載の方向性電磁鋼板。
  3. 請求項１または２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法であって、仕上げ焼鈍を経た方向性電磁鋼板の表面に、電子ビームの照射による磁区細分化処理を施すに当たり、前記電子ビームのビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を前記鋼板の表面より内側とする、前記電子ビームのフォーカス調整を行う、方向性電磁鋼板の製造方法。
  4. 請求項１または２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法であって、仕上げ焼鈍を経た方向性電磁鋼板の表面に、レーザビームの照射による磁区細分化処理を施すに当たり、前記レーザビームのビーム径が照射幅全域において最も小さくなる位置を前記鋼板の表面より内側とする、前記レーザビームのフォーカス調整を行う、方向性電磁鋼板の製造方法。
  5. 前記ビーム径が最も小さくなる位置を、前記鋼板の局所歪み導入部側の表面より内側から板厚中心までの領域に設定する請求項３または４に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
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