JP6744688B2 - 遊技機用発射ハンドル及びそれを備えた遊技機 - Google Patents

Description

本発明は、遊技機用発射ハンドル及びそれを備えた遊技機に関するものである。

従来、遊技機には、遊技盤面上へ遊技球を発射するための発射装置が設けられ、遊技機前面下部に突設された発射ハンドルの発射レバーを回動操作することにより発射装置から発射される打球の強度を調整することができるようになっている。この種の発射ハンドルは、発射レバーを原点位置に向けて付勢するコイルバネが設けられており、遊技者が打球操作を行う場合、コイルバネの付勢に抗して発射レバーを付勢方向とは反対側に回動させる必要がある。このように付勢に抗した回動操作を行うとともに、発射レバーの操作量を所望の変位量に調整することで、この変位量に対応した勢いで遊技球を発射させることができ、盤面上の所望の位置に向けて遊技球を打ち出すことができる。

しかし、発射レバーをコイルバネの付勢に抗して回動させたまま、所望の位置で長時間にわたって正確に保持し続けることは難しい。特に、付勢に抗しての回動操作は遊技者の手の疲労等を招きやすいため、例えば、手の疲労等から手が左右に揺れてしまい、発射レバーが左右方向に微回動するといった事態が生じやすくなる。このような事態が生じると、遊技球の打ち出し位置にばらつきが生じてしまい、安定した発射動作を行うことができなくなる。

特開２０１１−４９０１号公報 特開２００８−１３２２６４号公報

この問題を解消する技術としては、特許文献１のような技術が提案されている。特許文献１で開示される発射操作装置は、遊技者が付勢に抗して発射操作部を操作させた後、補助操作部を押圧操作することにより、発射操作部において初期位置への付勢力に対する抗力が生じるようになっている。このような効力により、発射操作部を所望の回転位置に保持している。しかし、特許文献１の構成は発射操作部の近傍に多数の機械的構成を配置しなければならず、組み立ても複雑化しやすいという問題がある。

他方、特許文献２のような技術も提案されている。特許文献２で開示される弾球遊技機の発射ハンドルは、操作部と一体的に回動する金属体とハンドル固定電磁石とによって電気的ブレーキを構成している。しかし、特許文献２の構成は、操作部に金属板を取り付け、これと対向させてハンドル固定電磁石を配置する構成に制限されてしまい、設計上の自由度が小さいという問題がある。操作部の近傍に大掛かりや金属板や電磁石を設けることが望ましくない事情がある場合には特に不利になる。

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、操作部材を移動操作させた場合に、より軽微な力で操作部材を保持することができる構成を、より簡易に且つ電気的な制御が可能な構成で実現することを目的とする。

本発明は、
遊技球を遊技領域に向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドルであって、
遊技機の枠体の前面側に取り付けられるハンドル本体と、
前記ハンドル本体に対して、基準位置から所定方向に所定の範囲内で相対的に移動可能に配置された操作部材と、
前記操作部材を前記基準位置側に向かう方向に付勢する付勢部材と、
前記操作部材の操作量を検知する検知手段と、
磁気粘性流体を収容する収容部と、前記操作部材の移動と連動して変位すると共に、少なくとも一部が前記収容部内において前記磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに前記磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石と、を備え、前記電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも前記磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす保持手段と、
を有することを特徴とする。

本発明の遊技機用発射ハンドルは保持手段を備える。この保持手段は、磁気粘性流体を収容する収容部と、操作部材の移動と連動して変位すると共に、少なくとも一部が収容部内において磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石とを備える。そして、電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす。

この構成では、電磁石が非励磁状態のときに磁気粘性流体の粘度が相対的に低くなるため、このときには変位部の移動に伴う流体の摩擦抵抗が小さくなる。つまり、変位部が移動しやすくなるため、変位部と連動する操作部材に対して相対的に弱い力で移動操作させ易くなる。このように、非励磁状態のときには操作部材に対する操作を行い易くすることができる。言い換えれば、非励磁状態のときには操作部材は、抵抗を感じることもなくスムーズに操作することができる。

一方、電気的な制御によって電磁石を励磁状態に切り替えたときには磁気粘性流体の粘度が相対的に高くなるため、このときには変位部の移動に伴う流体の摩擦抵抗が大きくなる。つまり、変位部が移動しにくくなるため、変位部と連動する操作部材を移動操作させにくくすることができる。このときには、より軽微な力で操作部材を保持することが可能となる。しかも、このような操作部材の保持を、より簡易な構成で実現することができ、電気的な制御が可能なため保持力をフリー状態から完全保持まで無段階で調整することができる。

本発明は、
遊技球を遊技領域に向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドルであって、
遊技機の枠体の前面側に取り付けられるハンドル本体と、
前記ハンドル本体に対して、所定方向の回転軸線周りで且つ回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置された操作部材と、
前記操作部材を前記回転基準位置側に向かう回転方向に付勢する付勢部材と、
前記操作部材の回転量を検知する検知手段と、
磁気粘性流体を収容する収容部と、前記操作部材の回転と連動して変位すると共に、少なくとも一部が前記収容部内において前記磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに前記磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石と、を備え、前記電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも前記磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす保持手段と、
を有することを特徴とする構成としてもよい。

本発明の遊技機用発射ハンドルは、検知手段によって検知される操作部材の操作量が所定量以上であるときに所定の作動開始条件が成立したか否かを判定し、成立と判定された場合に保持手段の電磁石を励磁状態に切り替える制御手段を有していてもよい。

この構成では、遊技者は、操作部材を所望の操作量で所望の位置に移動操作した上で、所定の作動条件が成立するように操作することで、制御手段に対して保持動作を行う駆動指示を与えることができる。よって、遊技者が希望する時期に保持手段の電気的制御を開始し得る構成を実現することができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルにおいて、制御手段は、検知手段によって検知される操作部材の操作量が所定量以上であるときに操作部材が所定の移動停止状態となっている時間を計測するタイマ手段を備え、タイマ手段による計測時間が所定の基準時間を超えた場合に保持手段の電磁石を励磁状態に切り替える構成であってもよい。

この構成では、遊技者は、操作部材を所望の操作量に移動操作した上で、その移動位置である程度の時間（基準時間を超える時間）移動停止状態とすることで、制御手段に対し保持動作を行う駆動指示を与えることができる。つまり、遊技者は、ボタンの押圧操作などを行わなくても、操作部材の移動操作の状態によって保持手段の保持動作を開始させる指示を与えることができるため、遊技者が望む時期に保持を開始し得る構成を、遊技者を煩わせることなく手の疲労感がより抑えられる構成で実現することができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルは、遊技者が操作部材に直接接触した接触状態を検出する接触検出手段を有していてもよい。制御手段は、接触検出手段によって接触状態が検出されているときにのみ保持手段の電磁石を励磁状態とする構成であってもよい。

この構成によれば、遊技者が実際に操作していない状態で電気的制御が行われ、発射ハンドルの操作量が固定されてしまう事態を回避することができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルは、操作部材と変位部との間で動力を伝達するギア機構を有していてもよい。変位部は、所定の中心軸線周りに回転する回転部として構成されていてもよい。そして、回転部の回転量よりも操作部材の操作量のほうが小さくなるようにギア機構のギア比が設定されていてもよい。

この構成によれば、操作部材の操作力を、所定の位置に存在する保持手段の変位部（回転部）に良好に伝達することができる。また、保持手段の回転部の回転量よりも操作部材の操作量のほうが小さい伝達構成であるため、操作部材の力が保持手段の回転部に対してより強いトルクで作用しやすくなる。よって、遊技者は、操作部材をより小さい力で変位させやすくなり、付勢部材はより小さな付勢力で操作部に対して位置復帰動作を行うことができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルは、操作部材と変位部との間で動力を伝達するギア機構を有していてもよい。変位部は、所定の中心軸線周りに回転する回転部として構成されていてもよい。そして、回転部の回転量よりも操作部材の操作量のほうが大きくなるようにギア機構のギア比が設定されていてもよい。

この構成によれば、操作部材の操作力を、所定の位置に存在する保持手段の変位部（回転部）に良好に伝達することができる。また、保持手段の回転部の回転量よりも操作部材の操作量のほうが大きい伝達構成であるため、保持手段の回転部の力が操作部材に対してより強いトルクで作用しやすくなる。よって、保持手段はより小さな磁気粘性流体の摩擦力で、より大きなブレーキ力を発揮することができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルにおいて、操作部材は、所定方向の回転軸線周りで且つ回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置され、変位部は、所定の中心軸線周りに回転する回転部として構成され且つ操作部材の回転軸線上に設けられていてもよい。

このように構成されていれば、操作部材の後方のスペースを有効に利用して保持手段を配置することができ、コンパクト化を図ることができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルにおいて、操作部材は、所定方向の回転軸線周りで且つ回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置され、検知手段は、回動軸を備えた可変抵抗器であってもよい。そして、可変抵抗器の回動軸が操作部材の回転軸線上に設けられていてもよい。

このように構成されていれば、操作部材の後方のスペースを有効に利用して可変抵抗器を配置することができ、コンパクト化を図ることができる。

本発明の遊技機用発射ハンドルにおいて、保持手段がハンドル本体の内部に設けられていてもよい。

この構成によれば、ハンドル本体の内部スペースを利用して保持手段を配置することができ、遊技機用発射ハンドルをよりコンパクトに構成することができる。

本発明の遊技機は、上記遊技機用発射ハンドルを備えたことを特徴とする。
本発明の遊技機によれば、上記遊技機用発射ハンドルと同様の効果を奏することができる。

図１は、第１実施形態に係る遊技機用発射ハンドル及びそれを用いた遊技機を概略的に例示する正面図である。 図２は、第１実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを概略的に例示する斜視図である。 図３は、図２の遊技機用発射ハンドルの分解斜視図である。 図４（Ａ）は、図２の遊技機用発射ハンドルを所定位置で切断した切断面を概略的に示す断面概略図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）とは異なる位置で切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。 図５は、図２の遊技機用発射ハンドルを図４とは異なる向きに切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。 図６は、保持装置の断面を拡大して概略的に示す断面概略図である。 図７は、図２の遊技機用発射ハンドルで行われる制御の流れを例示するフローチャートである。 図８は、図２の遊技機用発射ハンドルにおける各信号の一例を示すタイミングチャートである。 図９は、第２実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを所定位置で切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。 図１０は、第３実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを操作部材の回転中心の位置で切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。 図１１は、第４実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを操作部材の回転中心の位置で切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。 図１２は、他の実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを長孔部に沿って切断した切断面を概略的に示す断面概略図である。

[第１実施形態]
以下、本発明に係る遊技機用発射ハンドル及びそれを備えた遊技機を具現化した第１実施形態について、図面を参照して説明する。なお、図１は、第１実施形態に係る遊技機用発射ハンドルを備えた遊技機を例示する正面図であり、まず、図１を参照して遊技機１の構成を概説する。

（遊技機の構成）
図１に示すように、遊技機１には、外枠、内枠、前面枠などからなる枠体１ａに遊技盤２が取り付けられている。この遊技盤２の盤面２ｂ（前面）には、円弧状のガイドレール２ｃによって略円形の遊技領域２ａが区画形成されている。そして、遊技領域２ａの中央には、液晶表示部５が搭載され、その液晶表示部５の下方（遊技領域２ａの中央下部）に始動入賞装置７と大入賞装置６が上下に配置されている。また、遊技機１には、遊技盤２の下方において枠体１ａの前面側に遊技球を貯留する遊技球受皿９が形成されている。更に、遊技球受皿９の右下方位置に遊技球を遊技領域２ａに向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドル４（以下、単に発射ハンドル４ともいう）が設けられている。

なお、本明細書において、「前後方向」とは、遊技盤２の盤面２ｂと直交する方向を意味し、盤面２ｂに対し、発射ハンドル４が配置される側（即ち、遊技者が位置するべき側）を前方側、それとは反対側（即ち、遊技機１奥側）を後方側とする。また、「上下方向」とは、遊技領域２ａを遊技球が流下する方向（鉛直方向）を意味し、「左右方向」とは、上記「前後方向」及び「上下方向」と直交する方向を意味する。

（発射ハンドルの構成）
図２〜図５を使って発射ハンドルの外観及び構成を説明する。
発射ハンドル４は、回転操作が可能とされた操作部材２０と、この操作部材２０の回転量を検出する可変抵抗器（検知手段）７０（図３、図５参照）とを備えており、遊技者によって操作部材２０が操作された場合に、可変抵抗器（検知手段）７０が検出した回転量に応じた発射強度で図示しない球発射装置を作動させる装置として構成されている。

図２及び図３に示すように、発射ハンドル４は、図１で示す遊技機１の枠体１ａの前面側に取り付けられるベース体１０Ａを備えたハンドル本体１０と、遊技者に操作される部材であって、そのハンドル本体１０に対して、所定方向（例えば、前後方向）に延びる回転軸線Ｘ１（図５参照）周りで、かつ、予め定められた回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置されている操作部材２０と、ハンドル本体１０及び操作部材２０に係合され、操作部材２０を回転基準位置側に向かう回転方向に付勢する付勢部材４０（図３参照）とを備える。

また、発射ハンドル４は、図３、図５で示すように、操作部材２０とハンドル本体１０との間に配置され、遊技者が発射ハンドル４に接触しているか否かを検出する発射タッチセンサ５０と、操作部材２０が回転操作されている時に遊技者が接触することで、球発射装置の作動（遊技球の発射）を停止する発射停止スイッチ６０とを備えている。更に、操作部材２０の回転量を検出する可変抵抗器（検知手段）７０が操作部材２０からの動力を受けるように伝達機構１５０を介して配置されている。可変抵抗器７０は、操作部材２０と連動して回転する回動軸７１を備えており、回動軸７１の回動変位を検出することで、操作部材２０の回転量を検出するように構成されている。

ハンドル本体１０は、遊技機１の枠体１ａに対して変位不能の固定される部分であり、枠体１ａに固定されるベース体１０Ａと、ベース体１０Ａに固定される装飾キャップ１０Ｂとを備える。図５等で示すようにベース体１０Ａは、筒状形態（例えば、円筒）をなす胴体部１１と、その胴体部１１の前端から前方に向かって漸次拡開（例えば、皿形状、すり鉢状、椀形状、又は擬似半球形状）してなる拡開部１２とを有し、胴体部１１の後端側が遊技機１の枠体１ａの前面側に取り付けられる。また、ハンドル本体１０には、装飾キャップ１０Ｂを取り付けるボス１３が回転軸線Ｘ１に沿って拡開部１２から前側に向かう突出形態で形成されている。

拡開部１２は、後述する操作部材２０、付勢部材４０、装飾キャップ１０Ｂの取付対象となる部分であり、装飾キャップ１０Ｂはこの拡開部１２に対してボス１３を介して相対変位不能に固定される。操作部材２０は、拡開部１２と装飾キャップ１０Ｂとによって前後に挟み込まれる形で配置保持され、回転軸線Ｘ１周りで相対的に回転し得るようになっている。

図３、図５で示すように、操作部材２０は、回転軸線Ｘ１（図４、図５参照）に交差（直交）するとともに円形の板状をなす回転本体部２１と、その回転本体部２１の外周部に連結される形態で配置され回転軸線Ｘ１を中心として略円筒状に形成された外周壁部２２とを有し、全体としてカップ形状に形成されている。外周壁部２２の外周面には、遊技者が操作する際に例えば指などを引っ掛ける指掛け部２７が外方に向かって突出形成されている。また、操作部材２０は、回転本体部２１と一体的に、回転軸線Ｘ１を中心とした略中空円筒状に形成される軸部２３を備え、軸部２３の一部は回転本体部２１の前方に突出し、軸部２３の他の部分は回転本体部２１の後方に延びている。回転本体部２１の前方に突出した軸部２３の前端部には、付勢部材４０の一部が固定される係合部２３Ａが一対の溝（切欠き）によって形成されている。また、回転本体部２１には回転軸線Ｘ１を中心とする周方向に沿った円弧状の案内孔２４が形成されており、ベース体１０Ａと装飾キャップ１０Ｂを連結するボス１３が遊挿され、案内孔２４の端部にボス１３が当接することで操作部材２０の回転角度範囲を定めるように機能している。

図３で示す付勢部材４０は、ねじりばねとして構成され、回転本体部２１の前方に突出した軸部２３に遊嵌されるコイル部４１と、コイル部４１の一端を内部側に突出して操作部材２０に係合する延長部４２と、コイル部４１の他端に設けられハンドル本体１０に係合する環状部４３とによって構成されている。付勢部材４０は、図５のようにコイル部４１内に軸部２３が遊嵌された状態で、延長部４２が係合部２３Ａ（一対の溝）に係合（挿通）され、環状部４３がハンドル本体１０の拡開部１２から前方に突出するボス１３に係合される。

この係合により、付勢部材４０の一端側が操作部材２０に対して相対的に回動しないように規制され、ハンドル本体１０に対して変位不能となる。この付勢部材４０は、操作部材２０を拡開部１２に対して所定の回転方向に相対的に変位させるように付勢力を発生させている。

このような構成で、操作部材２０を回転軸線Ｘ１周りで相対的に回転し得るようにハンドル本体１０によって保持しつつ、操作部材２０に対し回転基準位置に向かう回転方向の付勢力を生じさせている。操作部材２０は回転基準位置においても付勢部材４０の付勢力が発生した状態で保持されている。

図５のように、操作部材２０の軸部２３の後端には、操作部材２０と共通の回転軸線Ｘ１周りに回転する延長軸部２５がビス等により一体的に固定されている。延長軸部２５には、保持装置１００と連係するギア機構１４０の第１ギア１４２と、可変抵抗器７０と連係する伝達機構１５０の主動ギア１５２が固着されており、操作部材２０を回動させると、第１ギア１４２及び主動ギア１５２は操作部材２０とともに回転する。

図３、図５等で示す発射タッチセンサ５０は、遊技者が操作部材２０に直接接触した接触状態を検出する接触検出手段の一例に相当する。この発射タッチセンサ５０は、メッキ加工などを施して導電性を持たせたメッキ部分が表面部に形成された環状部材５４と、環状部材５４のメッキ部分に電気的に接続され、静電気容量の変化を検出してメッキ部分に遊技者が接触したか否かを検出するタッチ本体部５２とを含み構成されている。環状部材５４は、遊技者が操作部材２０を操作する時に自然と遊技者が接触するように、ベース体１０Ａの拡開部１２の開口端に設けられている。発射タッチセンサ５０は、例えば遊技者が操作部材２０を操作して環状部材５４に直接接触している場合に接触検知信号を出力し、遊技者が操作部材２０に直接操作していない場合（環状部材５４に接触していない場合）には接触検知信号は出力されない。なお、タッチ本体部５２が遊技者の環状部材５４への接触を検知しない場合は、球発射装置が遊技球の発射を行わないようにしており、発射タッチセンサ５０から接触検知信号を受信している間だけ球発射装置が遊技球の発射を行うようにしている。これにより、操作部材２０への不正な操作に基づき、遊技者の操作なくして遊技球の発射が行われないようにすることができる。

なお、発射タッチセンサ５０は、環状部材５４の代わりに、操作部材２０（外周壁部２２及び指掛け部２７）の表面部にメッキ加工などを施して導電性を持たせ、そのメッキ部分に電気的にタッチ本体部５２を接続してもよい。

図３、図５等で示すように、発射停止スイッチ６０は、スイッチ本体部６２に対して自身の一端部を支点として傾動可能にスイッチレバー６４が設けられており、そのスイッチレバー６４の一部がハンドル本体１０（ベース体１０Ａ）の切欠きから突出するように配置されている。この発射停止スイッチ６０は、操作部材２０が回転基準位置の状態でスイッチレバー６４が押圧部（図示略）によって押圧されて打球装置による遊技球の打球動作がされないように配置されており、操作部材２０が回転操作された場合には、その押圧部（図示略）の押圧が開放されて発射停止を解除される。そして、操作部材２０が回転操作された状態で遊技者によってスイッチレバー６４が押されたときに、スイッチ本体部６２がこの押圧を検出して打球装置による遊技球の打球動作が停止する。

可変抵抗器７０は、図５に示すように、抵抗値を変化させる回動軸７１を備え、操作部材２０の軸部２３と回動軸７１が伝達機構１５０を介して連動するようにハンドル本体１０に固定支持されている。この可変抵抗器７０は、検出した回動軸７１の回転量に従って、遊技球の発射速度を調整する仕組みになっている。

伝達機構１５０は、延長軸部２５からフランジ状に張り出すように延長軸部２５に固定される主動ギア１５２と、主動ギア１５２の回転軸線と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された従動ギア１５４とを有する。従動ギア１５４は、主動ギア１５２に噛み合うとともに可変抵抗器７０の回動軸７１から張り出すように回動軸７１に固定されている。伝達機構１５０は、操作部材２０の回転に応じて動作し、操作部材２０の回転と連動させて可変抵抗器７０の回動軸７１を回転させるように回転力を伝達する。

保持装置１００を制御する制御回路９０は、例えば、図６のようにタイマ回路９２を備えたマイクロコンピュータなどとして構成されている。制御回路９０には、上述した可変抵抗器７０の検出値（操作部材２０の操作量）が入力されるようになっており、この検出値をデジタル信号に変化するＡＤ変換器などを備える。また、制御回路９０には、発射タッチセンサ５０から発せられる接触検知信号が入力されるようになっている。また、制御回路９０は、この検出値を図７の処理を行う演算回路を備え、更に、制御回路９０は、演算回路による演算結果に応じ、後述する保持装置１００に設けられた電磁石１３０のコイルの通電と非通電を切り替える駆動回路を備える。なお、制御回路９０は、後述する図７の処理を行い得る構成であれば、マイクロコンピュータでなくてもよく、簡易的なハードウェア回路などによって構成されていてもよい。

図５、図６で示す保持装置１００は、保持手段の一例に相当し、収容空間部１０４Ａがキャビティ状に形成されるハウジング１０４と、ハウジング１０４内に挿入されるとともに操作部材２０の回転と連動して変位する変位部の一例として示す回転部１２０と、ハウジング１０４内に収容される電磁石１３０とを備える。保持装置１００は、ベース体１０Ａに固定されるケース体１６０に形成された収納スペースに収納固定されている。ベース体１０Ａに固定されたケース体１６０は、遊技球受皿９の装飾カバーの後方に位置して遊技者から視認できないようになっている。

図６のようにハウジング１０４の収容空間部１０４Ａは、内壁面が所定の径の円筒面として構成される一対の保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂと、これら保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂの間に形成され、内壁面が保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂの径よりも大きい径の円筒面として構成された収容部１１０とを有する。この収容部１１０には、回転部１２０（変位部）の一部と磁気粘性流体１０２が収容される。保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂには、回転部１２０の回転軸部１２２を回転可能に支持する軸受部１０６Ａ、１０６Ｂが取り付けられている。軸受部１０６Ａ、１０６Ｂは公知のベアリングとして構成される。また、保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂにおいて、収容部１１０との境界付近には、収容部１１０に収容された磁気粘性流体１０２の漏れを防ぐためのシール部材１０８Ａ，１０８Ｂが設けられている。シール部材１０８Ａ，１０８Ｂは、封入パッキンとして構成され、回転軸部１２２の外周面と各保持空間部１０５Ａ，１０５Ｂの内周面との間をシールする。

回転部１２０は、図５で示す操作部材２０の回転と連動して変位するように構成された部分である。この回転部１２０は、少なくとも一部が収容部１１０内において磁気粘性流体１０２に浸漬された状態で配置される。具体的には、回転部１２０は、軸状に構成され所定方向（例えば前後方向）に延びるように配置される回転軸部１２２と、この回転軸部１２２の外周部から外側にフランジ状に張り出す回転翼１２４とを備えて構成され、回転翼１２４の全部が収容部１１０内において磁気粘性流体１０２に浸漬された状態で配置されている。

電磁石１３０は、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され、励磁状態のときに磁気粘性流体１０２に及ぶ磁束を発生させる。この電磁石１３０は、通電可能に構成されたコイルが、収容部１１０（回転翼１２４）を環状に囲むように配置されている。そして、例えば、励磁状態のとき（即ち、コイルの通電時）に、回転翼１２４の前面及び後面と交差する方向の磁束が磁気粘性流体１０２に及ぶように電磁石１３０が配置されている。なお、図６には、磁束の方向を符号Ｗで概念的に示している。

磁気粘性流体１０２は、公知の磁気粘性流体として構成されている。以下、磁気粘性流体１０２をＭＲＦ（Magnetorheological Fluid）ともいい、保持装置１００をＭＲＦデバイスとも称する。磁気粘性流体１０２は、磁場を変化させることで自由液体から半固体状態まで可逆的に瞬時に変化させることができる機能性流体である。この磁気粘性流体１０２は、例えば強磁性粒子（例えばカルボニル鉄）を油液（例えばシリコンオイル）中に分散させた構成をなしている。この磁気粘性流体１０２は、磁場のない状態（電磁石１３０によって磁場が印加されていない場合）には、ニュートン流体として機能し、相対的に粘度が非常に低い流体となる。磁気粘性流体１０２は、外部から磁場が加えられると、磁場の大きさによりせん断応力が変化するビンガム流体として機能し、磁場が印加されていない場合よりも粘度が大幅に高くなる。

図６の例では、磁気粘性流体１０２内に回転翼１２４が浸漬され、回転翼１２４の前面、後面、外周面が磁気粘性流体１０２に接触している。このように構成された保持装置１００は、電磁石１３０の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも磁気粘性流体１０２の粘度が上昇する構成をなす。電磁石１３０が非励磁状態のときには、磁気粘性流体１０２の粘度が相対的に低く、このときには回転翼１２４の回転に対する摩擦抵抗が小さいため、回転翼１２４は回転しやすくなる。逆に、電磁石１３０が励磁状態のときには、磁気粘性流体１０２の粘度が相対的に高くなり、このときには回転翼１２４の回転に対する摩擦抵抗が大きいため、回転翼１２４は回転し難くなる。なお、操作部材２０が回転基準位置から回転した位置にあり操作部材２０に対して外部からの力が加えられていない状態で、電磁石１３０が励磁状態のときの磁気粘性流体１０２の粘度は、付勢部材４０の付勢力に抗して回転翼１２４の回転位置を固定し続けることが可能な粘度であってもよく、このような状態のときに、付勢部材４０の付勢力によって操作部材２０が回転した位置から回転基準位置に回転しようとするが、非励磁状態のときよりも大幅に遅い速度で回転し、操作部材２０を回転した位置に保持するような粘度であってもよい。

図４、図５のように、操作部材２０と回転部１２０（変位部）との間で動力を伝達するように機能する伝達手段としてギア機構１４０が設けられる。このギア機構１４０は、延長軸部２５からフランジ状に張り出すとともに延長軸部２５に固定される第１ギア１４２と、第１ギア１４２の回転軸線（即ち、回転軸線Ｘ１）と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第２ギア１４４と、第１ギア１４２及び第２ギア１４４の回転軸線と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第３ギア１４６と、第１ギア１４２、第２ギア１４４、第３ギア１４６の回転軸線と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第４ギア１４８とを備える。第２ギア１４４、第３ギア１４６は、ベース体１０Ａに固定されるケース体１６０に回転可能に保持されている。第４ギア１４８は、回転部１２０を構成する回転軸部１２２の前端部に固定されており、回転軸部１２２と一体的に回転する。なお、図３のように、ケース体１６０は、ケース本体１６０Ａと、蓋体１６０Ｂとによって第２ギア１４４、第３ギア１４６、第４ギア１４８の収容空間を構成している。

図４のように第２ギア１４４は、第１ギア１４２に噛み合うとともに第３ギア１４６に噛み合い、第３ギア１４６は、第２ギア１４４に噛み合うとともに第４ギア１４８に噛み合う。このように構成されたギア機構１４０は、操作部材２０の回転に応じて動作し、操作部材２０の回転と連動させて回転部１２０を回転軸線Ｘ２周りに回転させるように回転力を伝達する。なお、回転部１２０の回転軸線Ｘ２と操作部材２０の回転軸線Ｘ１は平行である。更に、ギア機構１４０は、保持装置１００の回転部１２０の回転量（回転速度）よりも操作部材２０の回転量（回転速度）のほうが大きくなるようにギア比が設定されている。具体的には、回転部１２０（第４ギア１４８）が１回転すると、操作部材２０（第１ギア１４２）が複数回転し得るギア比構成になっており、操作部材２０の回転量（操作量）に比して回転部１２０の回転量（移動量）が少なくなっている。

次に、制御回路９０によって行われる制御について、図７等を参照しつつ説明する。
図７で示す制御処理は、例えば遊技機１が電源オン状態のときに制御回路９０によって所定の短時間毎に実行される処理である。

まず、図７の制御の実行に伴い、ハンドル位置情報２の値をハンドル位置情報１の値としてコピー（更新）する（Ｓ１）。なお、ハンドル位置情報２の値とは、操作部材２０の最新の操作量検出値であり、ハンドル位置情報１の値とは、操作部材２０の前回の操作量検出値である。つまり、ステップＳ１の処理では、ステップＳ１の時点での可変抵抗器７０の検出値（操作量）をハンドル位置情報２の値として更新し、更新前にハンドル位置情報２の値とされていた前回値（前回の可変抵抗器７０の検出値（操作量））をハンドル位置情報１の値として更新する。ハンドル位置情報１、２の各値は制御回路９０に設けられた図示しないメモリに記憶されている。

ステップＳ１の後には、発射ハンドル４に遊技者が接触しているか否かを判断する。具体的には、上述した発射タッチセンサ５０（接触検出手段）によって接触検知信号が出力されており、遊技者の接触を示す検出結果が得られている場合には、ステップＳ２にてＹに進む。発射タッチセンサ５０（接触検出手段）によって接触検知信号が出力されず、遊技者の接触を示す検出結果が得られていない場合には、ステップＳ２にてＮに進む。

ステップＳ２にてＹに進む場合、ハンドル位置情報１とハンドル位置情報２とが等しいか否かを判断する（Ｓ３）。ステップＳ３、Ｓ４の判断は、ハンドル位置情報１とハンドル位置情報２とが完全に同一である場合に等しいと判断してもよく、ハンドル位置情報１とハンドル位置情報２との差が予め定められた範囲（例えば微小範囲）に収まっている場合に等しいと判断してもよい。

ステップＳ３において、ハンドル位置情報１、２が等しいと判断されない場合、ステップＳ３にてＮに進む。ステップＳ３にてＮに進む場合、操作部材２０が停止しておらず変位している状態である。この場合、ステップＳ７にて後述するタイマ回路９２の時間計測をクリアし（Ｓ７）、保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の動作を停止させ、電磁石１３０を非励磁状態で維持する（Ｓ８）。

ステップＳ３において、ハンドル位置情報１とハンドル位置情報２とが等しいと判断される場合、ステップＳ３にてＹに進み、ハンドル位置情報１とハンドル位置情報２とが等しくなってから、等しい状態で所定時間（例えば２秒）経過したか否かを判断する（Ｓ４）。具体的には、ステップＳ３でＹと判断される時点からタイマ回路９２を作動させて時間計測を行い、タイマ回路９２の計測が所定時間（例えば２秒）を経過する前にハンドル位置情報１、２が等しくない状態に変化した場合には、ステップＳ４にてＮに進む。

ステップＳ４にてＮに進む場合とは、操作部材２０の停止状態が所定時間維持されず、ステップＳ３で等しいと判断された後、途中で変位してしまった場合である。この場合、ステップＳ７にて後述するタイマ回路９２の時間計測をクリアし（Ｓ７）、保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の動作を停止させ、電磁石１３０を非励磁状態で維持する（Ｓ８）。

ステップＳ３において、ハンドル位置情報１、２が等しいと判断された後、等しい状態で所定時間（例えば２秒）経過したと判断された場合、ステップＳ４にてＹに進む。

ステップＳ４にてＹに進む場合、ハンドル位置情報２が原点位置であるか否か、即ち、ハンドル位置情報２が示す操作量が回転基準位置を示す値であるか否かを判断する（Ｓ５）。ハンドル位置情報２が原点位置を示す場合には、ステップＳ５にてＹに進む。ステップＳ５でＹに進む場合、遊技者によって操作部材２０の回動操作が行われていないため、保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の動作を停止させ、電磁石１３０を非励磁状態で維持する（Ｓ８）

ステップＳ５にてＮに進む場合、即ち、ステップＳ５においてハンドル位置情報２が示す操作量が回転基準位置を示す値でないと判断された場合、ステップＳ６の処理を行う。ステップＳ５でＹに進む場合とは、操作部材２０が回転基準位置から回転した位置で所定時間停止状態が維持された場合である。つまり、ステップＳ５でＹに進む場合とは、操作部材２０が「所定の移動停止状態」となった場合であり、具体的には操作部材２０が「所定の回転停止状態」となった場合である。この場合、保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の動作を開始し、電磁石１３０を励磁状態で維持する（Ｓ６）。このステップＳ６の処理により、磁気粘性流体１０２の粘度が高まり、回転部１２０に保持力が付与される。

以上のように、制御回路９０（制御手段）は、可変抵抗器７０によって検知される操作部材２０の回転量が所定量以上であるときに所定の作動開始条件が成立したか否かを判定し、成立と判定された場合に保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態に切り替える。具体的には、制御回路９０（制御手段）は、可変抵抗器７０によって検知される操作部材２０の回転量が所定量以上であるときに操作部材２０が所定の移動停止状態（可変抵抗器７０の抵抗値が一定状態）となっている時間を計測するタイマ回路９２（タイマ手段）を備え、タイマ回路９２による計測時間が所定の基準時間を超えた場合に保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態に切り替える構成となっている。

また、図７のステップＳ２の判断処理で明らかなように、制御回路９０（制御手段）は、発射タッチセンサ５０（接触検出手段）によって接触状態が検出されているときにのみ保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態とする制御（Ｓ６）を行い、発射タッチセンサ５０（接触検出手段）によって接触状態が検出されていないときには、ステップＳ８のように保持装置１００に対する電圧の印加を停止し、電磁石１３０を非励磁状態で維持する構成となっている。

図８には、実際の動作の一例をタイミングチャートとして示している。例えば、図７の処理を所定の短時間毎に繰り返し行う場合、遊技者が発射タッチセンサ５０に接触するまでの間は、繰り返し行われる図７の処理のステップＳ２にてＮの判断が繰り返される。遊技者が発射タッチセンサ５０に接触すると、その接触時間Ｔ１でステップＳ２にてＹに進む。可変抵抗器７０の検出値（操作量であるボリウム値）が原点位置を示す間は、ステップＳ３でＹ、ステップＳ４でＮの処理が行われ、このような判断が繰り返されるため、保持装置１００（ＭＲＦデバイス）に電力が供給されず、停止状態で維持される。

一方、可変抵抗器７０の検出値（操作量であるボリウム値）が原点位置を示さず、ハンドル位置情報１、２が等しいと判断される状況となると、図７のステップＳ３においてＹと判断され、タイマ回路９２によって所定時間（２秒）計測される。そして、ハンドル位置情報１、２が等しい状態が所定時間以上経過したと判断された時間Ｔ３では、図７のステップＳ４でＹ、Ｓ５でＮと判断されることになり、ステップＳ６にて保持装置１００（ＭＲＦデバイス）が駆動される。

時間Ｔ３の後、操作部材２０の停止状態が維持されなくなった時間Ｔ４では、図７のステップＳ３でＮと判断されることになり、ステップＳ７、Ｓ８の処理が実行され、ステップＳ８にて保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の駆動が停止する。

更に、時間Ｔ５において、可変抵抗器７０の検出値（操作量であるボリウム値）が原点位置を示さず、ハンドル位置情報１、２が等しいと判断される状況となり、その状況が所定時間（２秒）経過した状態となると、再びステップＳ６にて保持装置１００（ＭＲＦデバイス）が駆動される。

時間Ｔ５の後、例えば遊技者の手が操作部材２０から離され、発射タッチセンサ５０が接触検知信号を出力しなくなった時間Ｔ６では、図７の処理のステップＳ２にてＮの判断がなされることになるため、ステップＳ８にて保持装置１００（ＭＲＦデバイス）の駆動が停止する。このようにして、制御がなされてゆくことになる。

ここで、遊技機用発射ハンドル４及び遊技機１の効果を例示する。
遊技機用発射ハンドル４は、電磁石１３０が非励磁状態のときに磁気粘性流体１０２の粘度が相対的に低いため、このときには回転部１２０（変位部）の移動に伴う流体の摩擦抵抗が小さくなる。つまり、回転部１２０（変位部）が移動しやすくなるため、回転部１２０（変位部）と連動する操作部材２０に対して負荷はなく、相対的に弱い力で回転操作させることができる。このように、非励磁状態のときには操作部材２０は、抵抗を感じることもなくスムーズに操作することができる。

一方、電気的な制御によって電磁石１３０を励磁状態に切り替えたときには磁気粘性流体１０２の粘度が相対的に高くなるため、このときには回転部１２０（変位部）の移動に伴う流体の摩擦抵抗が大きくなる。つまり、回転部１２０（変位部）が移動しにくくなるため、回転部１２０（変位部）と連動する操作部材２０を回転操作させにくくすることができる。このときには、より軽微な力で操作部材２０を保持することが可能となる。しかも、このような操作部材２０の保持を、より簡易に且つ電気的な制御が可能な構成で実現することができる。電気的な制御が可能なため、操作部材２０の保持力をフリー状態から完全保持まで無段階で調整することができる。

遊技機用発射ハンドル４は、可変抵抗器７０によって検知される操作部材２０の回転量が所定量以上であるときに所定の作動開始条件が成立したか否かを判定し、成立と判定された場合に保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態に切り替える制御回路９０（制御手段）を有する。この構成では、遊技者は、操作部材２０を所望の回転量に回転操作した上で、所定の作動条件が成立するように操作することで、制御回路９０（制御手段）に対して保持動作を行う駆動指示を与えることができる。よって、遊技者が希望する時期に保持装置１００（保持手段）の電気的制御を開始し得る構成を実現することができる。

制御回路９０（制御手段）は、可変抵抗器７０によって検知される操作部材２０の回転量が所定量以上であるときに操作部材２０が所定の移動停止状態（可変抵抗器７０の抵抗値が一定状態）となっている時間を計測するタイマ回路９２（タイマ手段）を備え、タイマ回路９２による計測時間が所定の基準時間を超えた場合に保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態に切り替える構成となっている。この構成では、遊技者は、操作部材２０を所望の回転量に回転操作した上で、その回転位置である程度の時間（基準時間を超える時間）移動停止状態とすることで、制御回路９０（制御手段）に対し保持動作を行う駆動指示を与えることができる。つまり、遊技者は、ボタンの押圧操作などを行わなくても、操作部材２０の回転操作の状態によって保持装置１００（保持手段）の保持動作を開始させる指示を与えることができるため、遊技者が望む時期または遊技者が気付かないうちに保持を開始し得る。このような構成は、遊技者の手を煩わせることなく操作部材２０を所望の回転位置で保持する疲労感がより抑えられる構成を実現することができる。

遊技機用発射ハンドル４は、遊技者が操作部材２０に直接接触した接触状態を検出する発射タッチセンサ５０（接触検出手段）を有する。制御回路９０（制御手段）は、発射タッチセンサ５０（接触検出手段）によって接触状態が検出されているときにのみ保持装置１００（保持手段）の電磁石１３０を励磁状態とする構成である。この構成によれば、遊技者が実際に操作していない状態で電気的制御が行われ、遊技機用発射ハンドル４の操作位置（操作量）が固定されてしまう事態を回避することができる。

遊技機用発射ハンドル４は、操作部材２０と回転部１２０（変位部）との間で動力を伝達するギア機構１４０を有する。回転部１２０（変位部）は、所定の中心軸線周りに回転するように構成され、回転部１２０の回転量（回転速度）よりも操作部材２０の操作量（回転速度）のほうが大きくなるようにギア機構１４０のギア比が設定されている。この構成によれば、操作部材２０の回転力を、所定の位置に存在する保持装置１００（保持手段）の回転部１２０（変位部）に良好に伝達することができる。また、保持装置１００（保持手段）の回転部１２０の回転量（回転速度）よりも操作部材２０の操作量（回転速度）のほうが大きい伝達構成であるため、保持装置１００（保持手段）の回転部１２０の力が操作部材２０に対してより強いトルクで作用しやすくなる。よって、保持装置１００（保持手段）はより小さな磁気粘性流体１０２の摩擦力で、より大きなブレーキ力を発揮することができる。

[第２実施形態]
次に、第２実施形態に係る遊技機用発射ハンドル２０４について、図９を参照して説明する。
なお、実施形態２の遊技機用発射ハンドル２０４は、ギア機構１４０に代えてギア機構２４０を設けた点のみが実施形態１の遊技機用発射ハンドル４と異なり、この点以外は実施形態１と同様である。保持装置１００の制御方法も実施形態１と同一である。よって、以下ではギア機構２４０について重点的に説明し、実施形態１と同様の部分については詳細な説明は省略する。なお、ギア機構２４０以外は、適宜図１〜図８の構成を参照することとする。

図９で示す遊技機用発射ハンドル２０４のギア機構２４０は、操作部材２０（図５参照）と回転部１２０（変位部）との間で動力を伝達するように機能する。このギア機構２４０は、延長軸部２５からフランジ状に張り出すとともに延長軸部２５に固定される第１ギア２４２と、第１ギア２４２の回転軸線（即ち、回転軸線Ｘ１）と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第２ギア２４４と、第１ギア２４２及び第２ギア２４４の回転軸線と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第３ギア２４６と、第１ギア２４２、第２ギア２４４、第３ギア２４６の回転軸線と平行な回転軸線周りに回転可能に保持された第４ギア２４８とを備える。第２ギア２４４、第３ギア２４６は、ベース体１０Ａに固定されるケース体１６０（図３参照）に回転可能に保持されている。第４ギア２４８は、回転部１２０を構成する回転軸部１２２の前端部に固定されており、回転軸部１２２と一体的に回転する。

図９のように第２ギア２４４は、第１ギア２４２に噛み合うとともに第３ギア２４６に噛み合い、第３ギア２４６は、第２ギア２４４に噛み合うとともに第４ギア２４８に噛み合う。このように構成されたギア機構２４０は、操作部材２０の回転に応じて動作し、操作部材２０の回転と連動させて回転部１２０を回転軸線Ｘ２周りに回転させるように回転力を伝達する。なお、回転部１２０の回転軸線Ｘ２と操作部材２０の回転軸線Ｘ１は平行である。更に、ギア機構２４０は、保持装置１００の回転部１２０の回転量（回転速度）よりも操作部材２０の操作量（回転速度）のほうが小さくなるようにギア比が設定されている。具体的には、延長軸部２５に連結された操作部材２０（図５等）が１回転する間に、回転部１２０が複数回転するようなギア比になっている。

本構成によれば、操作部材２０の回転力を、所定の位置に存在する保持装置１００（保持手段）の回転部１２０（変位部）に良好に伝達することができる。また、保持装置１００（保持手段）の回転部１２０の回転量（回転速度）よりも操作部材２０の回転量（回転速度）のほうが小さい伝達構成であるため、操作部材２０の力が保持装置１００（保持手段）の回転部１２０に対してより強いトルクで作用しやすくなる。よって、遊技者は、操作部材２０をより小さい力で変位させやすくなり、付勢部材４０はより小さな付勢力で操作部材２０に対して位置復帰動作を行うことができる。

[第３実施形態]
次に、第３実施形態に係る遊技機用発射ハンドル３０４について、図１０を参照して説明する。
図１０では、第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と同一の構成をなす部分については、これと同一の符号を付しており、以下ではこれら同一構成の部分の詳述は省略する。

遊技機用発射ハンドル３０４は、軸部２３と回転部１２０とを連動させる構造、及びハンドル本体３１０のベース体３１０Ａの収容構造のみが第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と異なっており、これ以外は、第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と同様である。保持装置１００の制御方法も実施形態１と同一である。

図１０の例では、操作部材２０の軸部２３が延長軸部２５を介して回転部１２０の回転軸部１２２と連結され、互いに固定されている。そして、操作部材２０、延長軸部２５、回転部１２０が一体的に且つ同一の回転速度で回転するように構成されている。この構成では、保持装置１００の回転部１２０（変位部）が、操作部材２０と共通の回転軸線Ｘ１周りに回転する構成となっており、操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に回転部１２０が設けられていている。また、遊技機用発射ハンドル３０４は、保持装置１００（保持手段）がハンドル本体３１０の内部（具体的にはベース体３１０Ａの内部）に設けられている。

本構成の遊技機用発射ハンドル３０４は、回転部１２０（変位部）が、所定の中心軸線周りに回転する構成をなし、且つ操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に設けられている。このように構成されていれば、操作部材２０の後方のスペースを有効に利用して保持装置１００（保持手段）を配置することができ、コンパクト化を図ることができる。

また、保持装置１００（保持手段）がハンドル本体３１０の内部に設けられているため、ハンドル本体３１０の内部スペースを利用して保持装置１００（保持手段）を配置することができ、遊技機用発射ハンドル４をよりコンパクトに構成することができる。

[第４実施形態]
次に、第４実施形態に係る遊技機用発射ハンドル４０４について、図１１を参照して説明する。
図１１では、第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と同一の構成をなす部分については、これと同一の符号を付しており、以下ではこれら同一構成の部分の詳述は省略する。

遊技機用発射ハンドル４０４は、軸部２３、回転部１２０、可変抵抗器７０を連動させる構造、及びハンドル本体４１０のベース体４１０Ａの収容構造のみが第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と異なっており、これ以外は、第１実施形態の遊技機用発射ハンドル４と同様である。保持装置１００の制御方法も実施形態１と同一である。

図１１の例では、操作部材２０の軸部２３が可変抵抗器７０の回動軸７１の前端部７１Ａに連結され、互いに固定されている。可変抵抗器７０の回動軸７１の後端部７１Ｂは、回転部１２０の回転軸部１２２と連結部材４２０を介して連結され、互いに固定されている。そして、操作部材２０、可変抵抗器７０の回動軸７１、保持装置１００の回転部１２０が一体的に且つ同一の回転速度で回転するように構成されている。

この構成では、保持装置１００の回転部１２０（変位部）及び可変抵抗器７０の回動軸７１が、操作部材２０と共通の回転軸線Ｘ１周りに回転する構成となっており、操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に可変抵抗器７０の回動軸７１及び保持装置１００の回転部１２０が設けられていている。また、遊技機用発射ハンドル４０４は、保持装置１００（保持手段）がハンドル本体４１０の内部（具体的にはベース体４１０Ａの内部）に設けられている。

本構成の遊技機用発射ハンドル４０４は、可変抵抗器７０の回動軸７１が操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に設けられている。このように構成されていれば、操作部材２０の後方のスペースを有効に利用して可変抵抗器７０（検知手段）を配置することができ、コンパクト化を図ることができる。

また、保持装置１００（保持手段）がハンドル本体４１０の内部に設けられているため、ハンドル本体４１０の内部スペースを利用して保持装置１００（保持手段）を配置することができ、遊技機用発射ハンドル４をよりコンパクトに構成することができる。

［他の実施形態]
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

上述した実施形態では、検知手段として可変抵抗器７０を例示したが、操作部材２０の回転量（操作量）を検出可能なセンサであればよい。例えば可変抵抗器以外の公知の回転角度センサを用いてもよい。

上述した実施形態では、変位部として回転部を例示したが、変位部は、少なくとも一部が磁気粘性流体に浸漬されるスライド部材として構成されていてもよい。この場合、操作部材２０の回転動作をスライド部材の直線動作に変換する機構として、ラックアンドピニオン機構などを設けるとよい。

上述した実施形態４では、操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に可変抵抗器７０が存在する構成として、操作部材２０と可変抵抗器７０とが直接連結される構成を例示したが、操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に可変抵抗器７０を配置した上で、ギア機構などの伝達機構を利用して操作部材２０の動力を保持装置１００（保持手段）に伝達するようにしてもよい。

上述した実施形態４では、操作部材２０の回転軸線Ｘ１上に保持装置１００の回転部１２０が存在する構成として、操作部材２０の軸部２３と可変抵抗器７０の回動軸７１と回転部１２０とが一体的に連結される構成を例示したが、操作部材の軸部の回転軸線上に保持装置の回転部が位置しつつ、操作部材の軸部と保持装置の回転部とが離間していてもよい。この場合、操作部材の軸部の回転軸線上に保持装置の回転部を軸部から離間させて配置した上で、ギア機構などの伝達機構（離間部伝達機構）を利用して操作部材の動力を回転部に伝達するようにしてもよい。

上述した実施形態では、所定の作動開始条件として、「操作部材２０の回転量が一定量以上となった状態で操作部材２０が所定の回転停止状態となったこと」を例示したが、この例に限られない。例えば、「操作部材２０の回転量が一定量以上となった状態で所定の操作スイッチ（例えば発射停止スイッチ６０）に対して所定操作（押圧操作、長押し操作、複数回の押圧操作等）がなされたこと」を所定の作動開始条件とし、この場合に制御回路９０が電磁石を励磁するようにしてもよい。

上述した実施形態では、制御回路９０が遊技機用発射ハンドルの内部に設けられた例を示したが、外部に設けられていてもよい。

上述した実施形態では、操作部材として、ハンドル本体に対して、所定方向の回転軸線Ｘ１周りで且つ回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置された操作部材２０を例示した。しかし、図１２の遊技機用発射ハンドル５０４のように、ハンドル本体５１０に対して、基準位置から所定の直線方向にスライド動作可能且つ往復動作可能な操作部材５２０が設けられていてもよい。図１２で示す操作部材５２０は、例えばスライド動作可能な構成且つ遊技機前方側で操作可能な構成でハンドル本体５１０に保持されており、所定の範囲内でハンドル本体５１０に対して相対的に移動可能とされている。ハンドル本体５１０は、例えば、遊技機前後方向を板厚方向とする板状部５１１と、板状部５１１において所定方向に直線状に延びて形成された長孔部５１１Ａとを備える。操作部材５２０は、遊技者が操作可能なように長孔部５１１Ａに挿し通されるとともに遊技者が操作する際に例えば指などを引っ掛ける突出部５２２と、この突出部５２２と一体的に形成されたベース部５２４とを備える。そして、ベース部５２４には、ラックギア５２４Ａが形成されている。更に、操作部材５２０を基準位置（突出部５２２が長孔部５１１Ａの端部に当接する位置）側に向かう方向に付勢する付勢部材５４０（例えばばね部材）と、操作部材５２０の操作量（基準位置からの直線移動量）を検知する検知手段としての可変抵抗器７０とを備えている。なお、可変抵抗器７０は、上述した実施形態で用いた可変抵抗器７０と同様の構成をなし、同様の回動軸７１を有している。この構成では、操作部材５２０のスライド動作に伴ってラックギア５２４Ａが直線的に移動し、操作部材５２０の操作量（ラックギア５２４Ａの移動量）に応じた回転量で従動ギア５５４及び回動軸７１が回転するようになっている。そして、検知手段に相当する可変抵抗器７０は、回動軸７１の回転量を操作部材５２０の操作量として検知する。
更に、この構成でも、上述した実施形態で示した保持装置１００と同様の保持装置１００が設けられ、この保持装置１００の回転部１２０には、ギア５４８が連結されている。回転部１２０に連結されたギア５４８は、ラックギア５２４Ａの直線動作に連動して回動するようになっている。この構成でも、制御回路９０は、可変抵抗器７０（検知手段）によって検知される操作部材５２０の操作量が所定量以上であるときに操作部材５２０が移動停止状態（可変抵抗器７０の抵抗値が一定状態）となった場合、その移動停止状態となっている時間をタイマ回路９２（タイマ手段）によって計測する。そして、タイマ回路９２による計測時間（移動停止状態の計測時間）が所定の基準時間（例えば２秒）を超えた場合に保持装置１００の電磁石１３０を励磁状態に切り替えるように制御を行う。この場合も、電気的な制御によって電磁石１３０を励磁状態に切り替えたときに磁気粘性流体１０２の粘度が相対的に高くなり、回転部１２０が変位しにくくなるため、回転部１２０と連動する操作部材５２０を移動させにくくすることができる。このときには、より軽微な力で操作部材５２０を保持することが可能となる。なお、図１２では、保持装置１００の回転部１２０に固定されたギア５４８と、可変抵抗器７０の回動軸７１に固定された従動ギア５５４とがラックギア５２４Ａを介して連係する構成を例示したが、この構成に限定されない。例えば、保持装置１００の回転部１２０に固定されたギア５４８が操作部材５２０のラックギア５２４Ａを介さずに直接的に又はギア機構等を介して間接的に可変抵抗器７０の従動ギア５５４と連係するように構成されていてもよい。

１…遊技機
２ａ…遊技領域
４，２０４，３０４，４０４，５０４…遊技機用発射ハンドル
１０，３１０，４１０，５１０…ハンドル本体
２０，５２０…操作部材
４０，５４０…付勢部材
５０…発射タッチセンサ（接触検出手段）
７０…可変抵抗器（検知手段）
９０…制御回路（制御手段）
９２…タイマ回路（タイマ手段）
１００…保持装置
１０２…磁気粘性流体
１１０…収容部
１２０…回転部（変位部）
１３０…電磁石
１４０，２４０…ギア機構

Claims (8)

1. 遊技球を遊技領域に向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドルであって、
   遊技機の枠体の前面側に取り付けられるハンドル本体と、
   前記ハンドル本体に対して、基準位置から所定方向に所定の範囲内で相対的に移動可能に配置された操作部材と、
   前記操作部材を前記基準位置側に向かう方向に付勢する付勢部材と、
   前記操作部材の操作量を検知する検知手段と、
   磁気粘性流体を収容する収容部と、前記操作部材の移動と連動して変位すると共に、少なくとも一部が前記収容部内において前記磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに前記磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石と、を備え、前記電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも前記磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす保持手段と、
   を有し、
   前記操作部材と前記変位部との間で動力を伝達するギア機構を有し、
   前記変位部は、所定の中心軸線周りに回転する回転部として構成され、
   前記回転部の回転速度よりも前記操作部材の回転速度のほうが大きくなるように前記ギア機構のギア比が設定されていることを特徴とする遊技機用発射ハンドル。
2. 遊技球を遊技領域に向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドルであって、
   遊技機の枠体の前面側に取り付けられるハンドル本体と、
   前記ハンドル本体に対して、基準位置から所定方向に所定の範囲内で相対的に移動可能に配置された操作部材と、
   前記操作部材を前記基準位置側に向かう方向に付勢する付勢部材と、
   前記操作部材の操作量を検知する検知手段と、
   磁気粘性流体を収容する収容部と、前記操作部材の移動と連動して変位すると共に、少なくとも一部が前記収容部内において前記磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに前記磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石と、を備え、前記電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも前記磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす保持手段と、
   を有し、
   前記操作部材は、所定方向の回転軸線周りで且つ回転基準位置から所定の回転角度範囲内で相対的に回転可能に配置され、
   前記検知手段は、回動軸を備えた可変抵抗器であり、
   前記可変抵抗器の前記回動軸が前記操作部材の回転軸線上に設けられていることを特徴とする遊技機用発射ハンドル。
3. 前記検知手段によって検知される前記操作部材の操作量が所定量以上であるときに所定の作動開始条件が成立したか否かを判定し、成立と判定された場合に前記保持手段の前記電磁石を励磁状態に切り替える制御手段を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機用発射ハンドル。
4. 前記制御手段は、前記検知手段によって検知される前記操作部材の操作量が所定量以上であるときに前記操作部材が所定の移動停止状態となっている時間を計測するタイマ手段を備え、前記タイマ手段による計測時間が所定の基準時間を超えた場合に前記保持手段の前記電磁石を励磁状態に切り替えることを特徴とする請求項３に記載の遊技機用発射ハンドル。
5. 遊技者が前記操作部材に直接接触した接触状態を検出する接触検出手段を有し、
   前記制御手段は、前記接触検出手段によって前記接触状態が検出されているときにのみ前記保持手段の前記電磁石を前記励磁状態とすることを特徴とする請求項３又は請求項４のいずれか一項に記載の遊技機用発射ハンドル。
6. 遊技球を遊技領域に向けて発射する際に遊技者が操作する遊技機用発射ハンドルであって、
   遊技機の枠体の前面側に取り付けられるハンドル本体と、
   前記ハンドル本体に対して、基準位置から所定方向に所定の範囲内で相対的に移動可能に配置された操作部材と、
   前記操作部材を前記基準位置側に向かう方向に付勢する付勢部材と、
   前記操作部材の操作量を検知する検知手段と、
   磁気粘性流体を収容する収容部と、前記操作部材の移動と連動して変位すると共に、少なくとも一部が前記収容部内において前記磁気粘性流体に浸漬された状態で配置される変位部と、励磁状態と非励磁状態とに切り替え可能に構成され励磁状態のときに前記磁気粘性流体に及ぶ磁束を発生させる電磁石と、を備え、前記電磁石の励磁状態のときに非励磁状態のときよりも前記磁気粘性流体の粘度が上昇する構成をなす保持手段と、
   を有し、
   前記変位部は、所定の中心軸線周りに回転する回転部として構成され、
   前記操作部材は、所定の直線方向にスライド動作可能且つ往復動作可能に構成され、
   更に、前記操作部材の直線動作に連動して回動するギアを有し、
   前記ギアが、前記回転部に連結されていることを特徴とする遊技機用発射ハンドル。
7. 前記保持手段が前記ハンドル本体の内部に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の遊技機用発射ハンドル。
8. 請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の遊技機用発射ハンドルを備えることを特徴とする遊技機。

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