JP6744646B2 - 表面処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、治具に保持されるワークを陰極に設定して処理する表面処理装置等に関する。

メッキ液が収容されたメッキ槽内にて複数のワークを間欠搬送し、複数のワークの各停止位置にて陽極とワーク（陰極）間に流れる電流を整流器により個別に制御して各ワークをメッキするメッキ装置が特許文献１に開示されている。

特にこのメッキ装置では、メッキ槽内の各停止処位置にてワークに供給された電流量を積算し、制御装置により該積算値がワークの所要電流量に到達すると、昇降装置を駆動して、ワークを支持搬送するハンガーをメッキ槽の上方に移動させ、ワークへの通電を解除している。それにより、例えば多品種少量のワークへの電流量を個別に調整して、ワークの形状や表面積に対応して電流量を個別に調整できる。

特許第２７２７２５０号公報

近年、ワークに対する表面処理のより緻密な制御が求められつつある。一つの治具に保持される一つのワークに流れる電流を一つの整流器により調整しようとしても、一つの治具に設けられる複数の導通経路における抵抗値の相違等により、必ずしも緻密な電流制御が実現できてはいない。このことは、ワークを連続搬送する場合でも、ワークを間欠搬送する場合でも、共通する課題である。

また、一つの治具に設けられる複数の導通経路における抵抗値の相違等により、一つの治具保持される複数のワークをバッチ処理する場合では、同時に処理される複数のワーク毎に表面処理品質が異なることが懸念される。

本発明の少なくとも一つの態様は、一つの治具により保持されるワークを含む陰極設定部位を独立した複数の陰極に設定して、陰極毎に緻密な電流制御を可能とした表面処理装置を提供することを目的とする。

本発明の他の少なくとも一つの態様は、一つの治具に保持されてバッチ処理される複数のワークの各々を独立した陰極に設定して、ワーク毎に緻密な電流制御を可能とした表面処理装置を提供することを目的とする。

（１）本発明の一態様は、
処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
Ｎ（Ｎは２以上の整数）個の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークの各一つをそれぞれ保持し、かつ、前記Ｎ個の陰極レールと接触して前記複数のワークの各一つを陰極に設定する複数の治具と、
前記Ｎ個の陰極レールの各一つと前記少なくとも一つの陽極に接続される少なくともＮ個の整流器と、
を有し、
前記複数の治具の各々は、前記Ｎ個の陰極レールの各一つから前記複数のワークの各一つを含む異なるＮ個の部位の各一つに導通されるＮ個の導通経路を含み、前記Ｎ個の導通経路は互いに絶縁される表面処理装置に関する。

本発明の一態様では、処理液に浸漬される複数のワークの各一つをそれぞれ保持する複数の治具の各一つが、互いに絶縁されるＮ個の導通経路を含み、Ｎ個の導通経路がＮ個の陰極レールを介してＮ個の整流器とそれぞれ接続される。それにより、一つの治具に保持されるワークを含む給電部位がＮ個の陰極に設定される。Ｎ個の整流器がＮ個の陰極毎に電流を制御することで、一つの治具により保持されるワークを含むＮ個の陰極設定部位（ワークとその周囲のダミー被処理部とを含んでも良い）を緻密に電流制御することができる。

（２）本発明の一態様（１）では、前記Ｎ個の導通経路は、前記Ｎ個の陰極レールの各一つから前記複数のワークの各一つの異なるＮ個の部位に導通することができる。こうすると、一つの治具に保持されるワークをＮ個の陰極に設定することができ、処理されるワークの面内均一性を高めることができる。

（３）本発明の一態様（２）では、前記複数の治具の各々はワークをクランプする少なくともＮ個のクランパーを含み、前記複数のワークの各一つの異なる部位は、前記少なくともＮ個のクランパーで把持される少なくとも各一つの部位とすることができる。こうすると、一つの治具に保持されるワークをＮ個のクランパーを介してＮ個の陰極に設定することができ、処理されたワークの面内均一性を高めることができる。

（４）本発明の一態様（３）では、前記少なくともＮ個のクランパーで把持される前記少なくとも各一つの部位は、前記複数の治具の各一つに保持される前記複数のワークの各一つの上端部と下端部とを含むことができる。一般に、治具の上部クランパーと下部クランパーとは、陰極レールからの距離の違いにより配線抵抗値を等しく設定することは困難であるが、その抵抗値の相違を前提として整流器が電流を制御することができる。それにより、処理されたワークの面内均一性が向上する。

（５）本発明の一態様（３）では、前記少なくとも一つの陽極は、前記複数のワークの表面及び裏面と対向する少なくとも２つの陽極を含み、前記少なくともＮ個のクランパーで把持される前記少なくとも各一つの部位は、前記複数の治具の各一つに保持される前記複数のワークの各一つの前記表面と前記裏面とを含むことができる。こうすると、一つの治具に保持されるワークの表面と裏面は、クランパーを介して独立した陰極に設定することができ、ワークの表面と裏面とで処理品質を高めることができる。なお、一つのクランパーは、ワークの表裏面と接触する一方を導電部とし他方を絶縁部とすれば、ワークの表裏面の一方のみに通電することが可能となる。

（６）本発明の一態様（１）では、前記複数の治具の各々は、前記複数のワークの各一つの周囲にダミー被処理部を含み、前記Ｎ個の導通経路は、前記Ｎ個の陰極レールの少なくとも一つから前記複数のワークの各一つに導通される第１導通経路と、前記Ｎ個の陰極レールの少なくとも他の一つから前記ダミー被処理部に導通される第２の導通経路と、を含むことができる。こうすると、ダミー被処理部もワークと同様に処理される。ワークの周縁はダミー被処理部の内側に位置することから、ワークの周縁はエッジにならない。よって、ワークに周縁に電界が集中しないので、いわゆるドックボーンと称される厚膜部は生じない。ダミー被処理部をワークとは独立した陰極として電流制御することで、ワークの面内均一性が向上する。

（７）本発明の一態様（１）〜（６）では、前記少なくともＮ個の整流器のうちの少なくとも２個は、１個の整流器が兼用され、前記１個の整流器の端子は、前記Ｎ個の陰極レールの一つを介して前記Ｎ個の導通経路の一つに接続されると共に、可変抵抗器と前記Ｎ個の陰極レールの他の一つを介して前記Ｎ個の導通経路の他の一つに接続することができる。このように、少なくとも一つの整流器に代えて、他の整流器の端子が共用され、かつ、可変抵抗器の調整により治具に設けられたＮ個の導通経路の少なくとも一つに供給される電流を制御しても良い。

（８）本発明の一態様（１）〜（７）では、前記複数の治具を、前記処理槽内のＭ（Ｍは２以上の整数）個の停止位置を始点及び／または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置をさらに有し、前記Ｎ個の陰極レールの各々は、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されたＭ個の治具にそれぞれ接触され、かつ、電気的に絶縁されたＭ個の導電部を含み、前記複数の整流器は、計Ｎ×Ｍ個の導電部に対応してＮ×Ｍ個設けられ、前記Ｎ×Ｍ個の整流器の各一つを前記Ｎ×Ｍ個の導電部の各一つと接続することができる。本発明の一態様は連続搬送式の表面処理装置にも適用できるが、上記の場合Ｎ×Ｍ本の陰極レールが必要となる。陰極レールの数をＮ本（各１本にＭ個の導電部）に減少できる間欠搬送式の表面処理装置に特に好適である。

（９）本発明の一態様（１）〜（８）では、前記少なくとも一つの陽極は、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されるＭ個のワークと対向する少なくともＭ個の陽極を含み、前記Ｍ個の陽極の各一つを、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されるＭ個の治具の各一つと接続されるＮ個の整流器と共通接続することができる。このように、複数のワークの各々について複数の陰極及び一つ陽極が絶縁して接続されるので、ワーク毎の完全個別給電及びワーク内での陰極分割が可能となる。

（１０）本発明の他の態様は、
処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
Ｎ（Ｎは複数）個の陰極接続部と、
前記処理液に浸漬される複数のワークを保持し、かつ、前記複数の陰極接続部と接触して前記複数のワークの各一つを独立した陰極に設定する治具と、
前記Ｎ個の陰極接続部の各一つと前記少なくとも一つの陽極に接続されるＮ個の整流器と、
を有し、
前記複数の治具は、前記Ｎ個の陰極接続部の各一つから前記複数のワークの各一つに導通されるＮ個の導通経路を含み、前記Ｎ個の導通経路は互いに絶縁される表面処理装置に関する。本発明の他の態様では、バッチ処理される複数のワークの各々を独立した陰極に設定して緻密な電流制御を可能とすることができる。

（１１）本発明の他の態様（１０）では、前記Ｎ×Ｍ個の整流器のうちの少なくとも２個は１個の整流器で代用され、前記１個の整流器の端子は、前記Ｍ個のワークの一つの異なるＮ個の部位に導通されるＮ個の導通経路の一つに直接接続されると共に、前記Ｎ個の導通経路の他の一つに可変抵抗器を介して接続することができる。このように、少なくとも一つの整流器に代えて、他の整流器の端子が共用され、かつ、可変抵抗器の調整により、Ｍ個のワークの一つの異なるＮ個の部位に導通されるＮ個の導通経路の少なくとも一つに供給される電流を制御しても良い。

本発明の実施形態に係る間欠搬送方式のメッキ装置におけるメッキ処理部の概略断面図である。 図１に示すメッキ装置の一つの処理ユニットの概略平面図である。 一つの処理ユニット内に停止されるワークと陽極との位置関係を示す図である。 ワークを搬送する搬送治具の斜視図である。 陽極、陰極レール上の導電部及び整流器の接続を模式的に示す図である。 図６（Ａ）（Ｂ）はＮ＝２本の陰極レールの正面図及び断面図である。 ２本の陰極レール、ワーク（陰極）、陽極及び２つの整流器の接続の一例を模式的に示す図である。 搬送治具の被給電部がセル間で陰極レールの導電部を乗り継ぐ状態を模式的に示す図である。 セル内で往復水平走査移動されるノズル管を示す平面図である。 ノズル管の噴出口の配列ピッチを示す図である。 処理ユニットごとに配置される間欠搬送装置の一例を示す図である。 図１２（Ａ）（Ｂ）は処理ユニットごとに配置される間欠搬送装置の他の一例を示す図である。 間欠搬送方式に適した搬送治具の変形例を示す図である。 Ｎ＝２個の陰極レールの導電部に接続される一対の整流器を一つの整流器で兼用した変形例を示す図である。 陰極レールの清掃機能を付加した搬送治具の変形例を示す図である。 バッチ式表面処理装置の断面図である。 バッチ式表面処理装置の平面図である。 陽極と陽極バーとの接続の変形例を示す図である。

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。

１．複数の処理ユニット
図１は本実施形態に係るメッキ装置（広義には表面処理装置）の断面図である。図１において、このメッキ装置１は、回路基板等のワーク２をメッキするメッキ処理部が１以上の処理ユニット３−１〜３−ｎ（ｎは自然数）を連結して構成される。複数の処理ユニット３−１〜３−ｎは実質的に同一の構造を有することができる。複数の処理ユニット３−１〜３−ｎの各々では、ワーク２を連続搬送しても良いし、ワーク２を間欠搬送しても良い。間欠搬送式のメッキ装置１とした場合、複数の処理ユニット３−１〜３−ｎの各々では、少なくとも一つ、図１ではＭ（Ｍは２以上の整数）個例えばＭ＝４個のワーク２が間欠停止可能である。図１は最大サイズのワーク２を示し、メッキ装置１はその最大サイズ以下のワーク２を処理することができる汎用性を有する。以下では、間欠搬送式のメッキ装置１を例に挙げて説明する。なお、本発明は複数の処理ユニットを連結しない構造、つまり、単一の処理ユニットで複数のワークを間欠または連続搬送するものにも適用できることは言うまでもない。

ワーク２は、後述される間欠搬送装置により、現在の停止位置から次の停止位置に向けて、Ａ方向に順次間欠搬送される。本実施形態では、一つのワーク２は各処理ユニット内にてＭ＝４か所に停止される。最上流の処理ユニット３−１の上流側には、Ｂ方向への下降移動によりワーク２が搬入される搬入ユニット４が連結されても良い。処理ユニット３−１内のワーク２が間欠搬送される時に、搬入ユニット４内のワーク２も間欠搬送されて処理ユニット３−１に移動される。最下流の処理ユニット３−ｎの下流側には、処理ユニット３−ｎから水平移動されるワーク２をＣ方向に上昇させて搬出する搬出ユニット５が連結されても良い。処理ユニット３−ｎ内のワーク２が間欠搬送される前に、搬出ユニット５内のワーク２は上方に搬出される。ただし、搬入ユニット４及び／又は搬出ユニット５は省略しても良い。この場合、処理ユニット３−１の最上流停止位置にワーク２が下降され、処理ユニット３−ｎの最下流停止位置のワーク２が上昇して搬出される。

図２は、処理ユニット３−２〜３−ｎと共通の構成を有する処理ユニット３−１の平面図である。処理ユニット３−１は、メッキ液（広義には処理液）が収容される分割処理槽６を有する。ワーク２は分割処理槽６内のメッキ液に浸漬される。分割処理槽６は上方が開口された略箱体であり、上流側及び下流側の隔壁にはそれぞれ開口６Ａ，６Ｂが設けられ、隣り合うユニット（処理ユニット、搬入ユニットまたは搬出ユニット）との間でワーク２の水平移動が許容される。

本実施形態では、処理ユニット３−１内のＭ＝４つの停止位置にあるワーク２の表面及び裏面の少なくとも一方側に、少なくとも一つの陽極２０が設けられる。本実施形態では、各停止位置にある各一つのワーク２の表面と対向する陽極２０Ａと、ワーク２の裏面と対向する陽極２０Ｂが設けられる。陽極２０（２０Ａ，２０Ｂ）の各々は、互いに導通された複数の分割陽極を含むことができる。本実施形態では上流側の分割陽極２０Ａ１（２０Ｂ１）と下流側の分割陽極２０Ａ２（２０Ｂ２）に分割されている。陽極２０は、３以上に分割された分割陽極を含んでいても良いが、互いに導通されることから一つの陽極とみなすことができる。

図３は、処理ユニット３−１に配置される陽極２０Ａ１，２０Ａ２（２０Ｂ１，２０Ｂ２）とワーク２との位置関係を示す正面図である。図３に示すように、ワーク２は搬送治具３０に保持される。図２及び図３に示すように、陽極２０（２０Ａ，２０Ｂ）の各々は、４つの停止位置にあるワーク２と正対する位置に配置される。要は、図２に示すように、陰極に設定されるワーク２と陽極２０との間で均一な電界を形成できればよい。陽極２０の形状は問わず、図２及び図３に示す陽極は輪郭が矩形であるが、平面視での輪郭を円形としても良い。陽極は、不溶性陽極であっても可溶性陽極であっても良い。

本実施形態では、一つの処理ユニット３−１を４つのセル１１−１〜１１−４に区画する遮蔽板２３を有することができる。各セル１１−１〜１１−４内に、平面視でワーク２の両側に陽極２０（２０Ａ１，２０Ａ２，２０Ｂ１，２０Ｂ２）が配置される。遮蔽板２３は、隣り合うセル間での電界（図２に矢印で示す陽極−陰極間の電界）の影響を遮断するために設けられる。遮蔽板２３には、ワーク２が通過する開口２３Ａが形成される。

２．搬送治具
図４は、搬送治具３０の一例を示している。この搬送治具３０は、水平アーム部３００と、垂直アーム部３１０と、ワーク保持部３２０と、被案内部３３０と、複数例えば２つの第１，第２被給電部３４０Ａ，３４０Ｂと、被押動片３５０とを有する。水平アーム部３００は、間欠搬送方向Ａと直交する方向Ｂに沿って延びる。垂直アーム部３１０は水平アーム部３００に垂下して保持される。ワーク保持部３２０は垂直アーム部３１０に固定される。ワーク保持部３２０は、上部フレーム３２１と、上部フレーム３２１に例えば昇降可能に支持される下部フレーム３２２とを含む。上部フレーム３２１には、ワーク２の上部をクランプする複数のクランパー３２３が設けられる。下部フレーム３２２には、ワーク２の下部をクランプする複数のクランパー３２４が設けられる。ワーク２には下部のクランパー３２４により下向きのテンションが付与される。ただし、ワーク２が厚い場合や、ワーク２の下部から給電しない場合には、下部フレーム３２２及びクランパー３２４を省略しても良い。

被案内部３３０は、処理ユニット３−２〜３−ｎに沿って配置され、例えば処理ユニット３−２〜３−ｎ毎に分割された案内レール（図示せず）に案内されて、搬送治具３０を直線案内するものである。被案内部３３０は、案内レールの天面と転接するローラー３３１と、案内レールの両側面と転接するローラー３３２（図４では一方の側面に転接するローラーのみ図示）とを含むことができる。

第１，第２被給電部３４０は、図５及び図６（Ａ）（Ｂ）にて説明する陰極レール４０Ａ，４０Ｂと接触し、図７に示す２つの導通経路３１Ａ，３１Ｂを介してワーク２を２つの陰極に設定する。第１，第２被給電部３４０Ａ，３４０Ｂは、間欠搬送方向Ａに沿って延びる第１，第２支持アーム３４１Ａ，３４１Ｂの上流側と下流側とに支持される２つの接触子３４２，３４３をそれぞれ含む。接触子３４２，３４３は、支持アーム３４１に平行リンク機構を介して支持され、図５に示す陰極レール４０Ａ（４０Ｂ）に圧接されるようにバネで付勢される。なお、被給電部３４０の数を３以上とした場合には、それに合わせて陰極レール４０の数も３以上となる。

被押動片３５０は、例えば垂直アーム部３１０に固定され、ワーク保持部３２０の真上の位置にて被押動片３５０を垂直にして配置される。被押動片３５０は、後述する間欠搬送装置により図示Ｃ方向から押動されて、搬送治具３０に間欠搬送力を伝達させるものである。なお、図４に示す搬送治具３０には、連続搬送時に使用される被係合部３６０が設けられており、搬送治具３０は間欠搬送にも連続搬送にも兼用できる。

３．Ｎ個の陰極レール、Ｎ個の導通経路及びＮ×Ｍ個の整流器
図５に示すように各処理ユニット３−１〜３−ｎ（図５は２つの処理ユニットのみ図示）は、Ｎ（Ｎは２以上の整数）本例えばＮ＝２本の陰極レール４０Ａ，４０Ｂを有する。２本の陰極レール４０Ａ，４０Ｂは、搬送方向Ａと平行に配置される。２本の陰極レール４０Ａ，４０Ｂの各々は、好ましくは処理ユニット３−１〜３−ｎ毎に分割された複数の分割陰極レール４０−１〜４０−ｎ（図５は２つの分割陰極レール４０−１，４０−２のみを示す）を有し、搬送方向Ａで連続するように連結される。分割陰極レール４０−１〜４０−ｎの各々は、図５及び図６（Ａ）に示すように、絶縁レール４１上にて間隔（非導電部）４２をあけて、ワーク２が停止される各セル毎に一つずつ計４つの導電部４３を有する。陰極レール４０Ａにそれぞれ設けられた４つの導電部４３の各々は、各処理ユニット３−１〜３−ｎの４箇所の停止位置にてワーク２を保持して停止された図４に示す搬送治具３０の第１被給電部３４０Ａ（２つの接触子３４２，３４３）と電気的に導通される。陰極レール４０Ｂにそれぞれ設けられた４つの導電部４３の各々は、各処理ユニット３−１〜３−ｎの４箇所の停止位置にてワーク２を保持して停止された図４に示す搬送治具３０の第２被給電部３４０Ｂ（２つの接触子３４２，３４３）と電気的に導通される。なお、図５では各処理ユニット３−１〜３−ｎに収容されるメッキ液の液面Ｌが示され、ワーク２はメッキ液中に浸漬される。

図６（Ｂ）に示すように、２本の陰極レール４０Ａ，４０Ｂで共用される絶縁レール４１の幅方向の両端には隔壁４４Ａ，４４Ａが設けられ、導電部４３上に非油性の導電性流体（例えば水）４５を保持することができる。こうすると、被給電部３４０（２つの接触子３４２，３４３）と導電部４３との電気的接触を、導電性流体４５を介してより確実に担保することができる。ただし、水の導電性は金属である導電部４３の導電性よりもはるかに低いので、隣り合う導電部４３，４３間の絶縁性は維持される。また、図６（Ｂ）に示すように、導電部４３を絶縁レール４１上に固定するボルト４６は、第１，第２被給電部３４０Ａ，３４０Ｂの走行路を挟んだ両側に配置することができる。これにより、導電部３４にボルトの座ぐり穴を設ける必要がなくなり、抵抗となる要因を排除できる。

各処理ユニット３−１〜３−ｎは、ワーク２が停止されるＭ＝４つの各セル毎にＮ＝２つずつ計Ｍ×Ｎ＝８つの整流器５０（図５では処理ユニット３−１〜３−ｎについてのみ８つの整流器５０を示す）を有する。８つの整流器５０のうち各セル（ワーク２の停止位置）に対応して配置される一対の整流器５０の一方の正端子５１は、各セルに配置された陽極２０Ａ１，２０Ａ２と共通接続され、一対の整流器５０の一方の負端子５２は給電レール４０Ａ上にて各セルと対応する導電部４３と接続される。一対の整流器５０の他方の正端子５１は、各セルに配置された陽極２０Ｂ１，２０Ｂ２と共通接続され、一対の整流器５０の他方の負端子５２は給電レール４０Ｂ上にて各セルと対応する導電部４３と接続される。

搬送治具３０は、図７に模式的に示すように、２本の陰極レール４０Ａ，４０Ｂの各一つからワーク２の異なるＮ＝２つの部位に導通されＮ＝２つの第１，第２導通経路３１Ａ，３１Ｂを有する。図７の例では、第１導通経路３１Ａはワーク２の上部と接続され、第２導通経路３１Ｂはワーク２の下部と接続される。第１導通経路３１Ａは第１被給電部３４０Ａを含み、第２導通経路３１Ｂは第２被給電部３４０Ｂを含む。搬送治具３０に並列配置される第１，第２被給電部３４０Ａ，３４０Ｂは、図５に示すＮ＝２本の並列な陰極レール４０Ａ，４０Ｂとそれぞれ接触して、ワーク２に独立して電流制御可能なＮ＝２つの陰極を設定する。Ｎを３以上とすれば、ワーク２に独立して電流制御可能なＮ＝３以上の陰極を設定できる。

第１導通経路３１Ａは、上部フレーム３２１及びクランパー３２３を含む。また、第２導通経路３１Ｂは、下部フレーム３２２及びクランパー３２４を含む。上部フレーム３２１と下部フレーム３２２とを絶縁して独立の導通経路とする治具は、例えば本出願人による特許５８９８５４０号や特願２０１７−２０４６０３号に記載されている。この治具において、第１被給電部３４０Ａから上部フレーム３２１に至る導通経路と、第２被給電部３４０Ｂから下部フレーム３２２に至る導通経路とを例えば配線等により電気的に絶縁すれば、図６に示す第１，第２導通経路３１Ａ，３１Ｂが確立される。

図７の例では、図５に示す上部クランパー３２３を介してワーク２の上部に流れる電流と、下部クランパー３２４を介してワーク２の下部に流れる電流とが、２つの整流器５０により独立して制御される。治具３０の上部クランパー３２３と下部クランパー３２４とは、陰極レール４０Ａ，４０Ｂからの距離の違いにより配線抵抗値を等しく設定することは困難であるが、その抵抗値の相違を前提として２つの整流器５０が電流をそれぞれ独立して制御することができる。それにより、ワーク２の上部及び下部にほぼ等しい電流が流れ、処理されたワークの面内均一性が向上する。

一つの治具３０に保持されるワーク２をＮ個の陰極に設定するにあたっては、図７の例のように上下２つの陰極とするものに限定されない。例えば、複数の上部クランパー３２３毎に異なる整流器５０に接続し、それに加えて、複数の下部クランパー３２４毎にさらに異なる整流器５０に接続しても良い。これにより、Ｎ＝３以上の部位毎に独立した電流制御を実現することができる。この他、ワーク２の表面と裏面とに独立して制御された電流を供給しても良い。こうすると、一つの治具３０に保持されるワーク２の表面と裏面は、それぞれ異なる整流器５０により独立して制御された電流が供給され、ワーク２の表面と裏面とで処理品質を高めることができる。なお、ワーク２を保持する一つのクランパーは、ワーク２の表裏面と接触する一方を導電部とし他方を絶縁部とすることができ、それによりワーク２の表裏面の一方のみに通電することが可能となる。よって、図７の例において、上部クランパー３２３がワーク２の表面にのみ通電し、下部クランパー３２４がワーク２の裏面にのみ通電すれば、ワーク２の表裏面にそれぞれ独立して制御された電流を供給できる。また、ワーク２の上部／下部と表面／裏面との双方にそれぞれ独立して制御された電流を供給しても良い。

４．ワーク２の停止時の電流制御
各処理ユニット３−１〜３−ｎのＭ＝４箇所の停止位置（セル）にて、Ｍ＝４つのワーク２の各々に流れる電流は、各セル毎に２つずつ設けられた整流器５０の各々により独立して制御される。しかも、セル間では陰極同士が絶縁され、陽極同士も絶縁されるので、各一つのワーク２毎に絶縁分離させて、各整流器５０によりワーク２を個別的に給電制御することができる。加えて、セル間では遮蔽板２３により電界を分離することで、セル間での影響を排除して、ワーク２毎の個別給電が担保される。それにより、ワーク２のメッキ品質を向上させることができる。

本実施形態の間欠搬送方式を従来の連続搬送方式と対比すると、連続搬送されるワーク（陰極）は固定された陽極との位置関係が常時変化するのに対して、本実施形態の停止されたワーク（陰極）２は陽極２０と正対させることができる。このように、ワーク２の停止中は陰極と陽極との位置関係が一定となり、各ワークは同一メッキ条件となるので、メッキ品質が向上すると期待される。特にワーク２が停止していれば接触抵抗の変動はなくなるので、緻密な電流制御が可能となる。また、連続搬送に用いられる長い陰極レール途中には固定ボルト用の座ぐり穴等があり、陰極レールの抵抗値が場所毎に異なり均一抵抗とはならない。そのため、ワークの連続搬送中の位置によってワークに流れる電流が異なるが、間欠搬送ではそのような不具合を解消できる。さらに、本実施形態は、連続搬送のようにワークの連続搬送速度よりメッキ品質が悪影響を受けることもない。

ただし、上述のような完全個別給電を必ずしも実施せずにワーク２を間欠搬送しても良い。つまり、各処理ユニット３−１〜３−ｎの４つのセル１１−１〜１１−４にて、陽極を共通にしても良い。また、間欠搬送に代えてワーク２を連続搬送してもよく、この場合、図５及び図６（Ａ）に示す導電部４３間の間隔（非導電部）４２は不要となる。

５．ワーク２の間欠搬送中の電流制御
ワーク２がセル間で間欠搬送される間も、整流器５０によりワーク２に電流が供給される。ここで、間欠搬送中に、図４に示す搬送治具３０の２つの接触子３４２，３４３の少なくとも一方は陰極レール上の導電部４３と接触している。つまり、搬送上流側の接触子３４２が間隔４２の位置にて絶縁レール４１と接触しても、搬送下流側の接触子３４３は導電部４３と接触している。同様に、搬送下流側の接触子３４３が間隔４２の位置にて絶縁レール４１と接触しても、搬送上流側の接触子３４２は隣のセルの導電部４３と接触している。それらの過程で、搬送下流側の接触子３４３が例えばセル１１−１の導電部４３と接触し、搬送上流側の接触子３４２はセル１１−２の導電部４３と接触する。この場合、ワーク２はセル１１−１及びセル１１−２に対応する２つの整流器５０から電流が供給される。このセル間を移動する過程の状態（乗り継ぎ状態）を、図８に模式的に示す。図８において、図４に示す搬送治具３０の被給電部３４０が模式的に示され、被給電部３４０（第１，第２被給電部３４０Ａ，３４０Ｂの総称である）は上流側セルの導電部４３と下流側セルの導電部４３とに接触している。ここで、ワーク２が停止している時の整流器５０の出力を維持してワーク２を間欠搬送すると、２つの整流器５０と接続される乗り継ぎ中のワーク２には過渡的に２倍の電流が流れる虞がある。特に、間欠搬送速度が遅いほど、過渡電流の影響は大きい。

本実施形態では、ワーク２の間欠搬送中には以下の２つの電流制御のいずれかを採用している。間欠搬送速度が比較的遅い場合には、上述した過渡電流を低減または防止するために、ワーク２の停止時での整流器５０の出力（例えば１００％）を漸減（例えば５０％まで漸減）させた後に漸増（１００％まで戻す）させる。間欠搬送速度が比較的速い場合には、過渡電流は流れる期間が極めて短いため無視することができる。よって、その場合にはワーク２の停止時とワーク２の間欠搬送時とで整流器５０の出力を異ならせるように制御しなくても良い。例えば、ワーク２の搬送方向の幅を８００ｍｍ、間欠搬送速度を１２ｍ／ｍｉｎ、図８に模式的に示す被給電部４３０の搬送方向の幅を６０ｍｍと仮定すると、間欠搬送時間は５ｓｅｃとなり、被給電部４３０がセル間で導電部４３を乗り継ぎするのに要する時間（過渡電流が流れ得る時間）はわずか０．３ｓｅｃである。

６．ノズル管の移動走査
各処理ユニット３−１〜３−ｎの４つのセル１１−１〜１１−４にて、図９に示すように、平面視で、停止位置にあるワーク２の各面（表面及び裏面）と陽極２０との間に少なくとも１本のノズル管６０をさらに設けることができる。ノズル管６０は、ワーク（陰極）２と陽極２０との間に形成される電界を遮るので、複数のノズル管６０を設ける場合でもその本数は少ないことが好ましい。ノズル管６０は、図９に示すようにメッキ液を噴出する複数の噴出口６０Ａを有する。図１０に示すノズル管６０の噴出口６０Ａは垂直方向ピッチＰは従来の連続搬送式に用いられるピッチ（例えば７．５ｍｍ）よりも小さく、噴出口６０Ａの外径以上でかつ５ｍｍ以下とすることができる。単位時間当たりのメッキ液供給量を多くするためである。加えて、小さいサイズのチップや密なパターンに均等にメッキ液を供給するためにも、ピッチＰは小さい方が良い。なお、図１０ではワーク２の表裏面側のノズル管６０はワーク２を挟んで対向配置されているが、非対向位置に設けても良い。対向配置させればワーク２が液圧で変形することを解消でき、非対向配置させるとワーク２の貫通孔にメッキ液を供給し易くなる。なお、連続搬送方式でもノズル管が設けられるが、その本数は一処理ユニットに十数本と多い。

ワークの連続搬送方式では多数のノズル管が固定されていたが、間欠搬送方式を採用する本実施形態では、各処理ユニット３−１〜３−ｎの４つのセル１１−１〜１１−４にて、少なくとも１本のノズル管６０を、例えば図８の矢印Ａ１方向及びＡ２方向（共に間欠搬送方向Ａと平行である）に水平走査移動させている。それにより、図９に示すように、ワーク２の全面に対して均一にメッキ液を噴出させることができる。また、ノズル管６０の移動速度は、連続搬送方式でのワーク２の移動速度（例えば０．８ｍ／ｍｉｎ）よりも速くすることができる。こうすると、単位時間当たりのメッキ液供給量を多くすることができる。なお、連続搬送式でワーク速度を速くすると処理槽の全長が長くなって装置が大型化するが、本実施形態のような間欠搬送では装置は大型化しない。

ノズル管６０の往復移動機構は図示を省略するが、公知の往復直線運動させる機構（例えば可逆モータで駆動されるピニオン−ラック機構、ピストン−クランク機構等）を採用することができる。この往復移動機構は、各セルで停止されているワーク２の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、２本のノズル管６０を移動させることができる。こうすると、処理されるワーク２の面内均一性が向上する。特に、ノズル管６０の初期位置から少なくとも一回循環走査させて初期位置に復帰させることが好ましい。ノズル管６０の影がワーク面内でほぼ均一化されるからである。なお、ノズル管６０は装置の稼動中に亘って往復走査移動を連続させても良いし、ワーク２の間欠搬送中は往復走査移動を停止しても良い。

本実施形態によれば、間欠停止されるワーク２に対して、ワーク２の停止位置と対応して少なくとも一つ例えば２本のノズル管６０をワーク２に対して走査移動させることができる。それにより、平面視でワーク２と陽極２０との間に位置するノズル管６０の影となって陽極−陰極間の電界が妨げられる領域が、ノズル管６０の移動に伴って移動する。このため、ノズル管６０によって電界が妨げられる領域が固定されず、処理されるワーク２の面内均一性が向上する。なお、ノズル管６０の走査移動方向は水平方向に限らない。例えばノズル管６０を水平に配置して垂直方向に走査移動してもよく、走査移動方向は水平、垂直等のいずれの方向であっても良い。

ノズル管６０は公知の構造により分割処理槽内の噴出口６０Ａ付近のメッキ液を巻き込んで噴出させることができる。よって、陽極２０付近の金属イオンが豊富なメッキ液をワーク２に向けて噴出でき、スループットが向上する。

なお、ノズル管６０の走査移動は、間欠搬送方式の表面処理装置に広く適用することができ、必ずしも上述した実施形態のような構造、つまり複数の処理ユニットの連結構造、陰極分割構造、陽極分割構造や、後述するプッシャーによる間欠搬送機構を備えた構造等に限定されるものではない。

７．処理ユニット毎の間欠搬送装置
本実施形態では、各処理ユニット３−１〜３−ｎ毎に間欠搬送装置を設けることが好ましい。処理ユニットの数ｎを変更しても間欠搬送装置を再設計する必要がないからである。その便宜を求めなければ、特許文献１のように循環式間欠搬送装置を用いても良いし、各処理ユニット３−１〜３−ｎに共用される一つの間欠搬送装置を用いても良い。なお、以下に説明する間欠搬送装置は、必ずしも複数の処理ユニットを連結してメッキ槽を形成するものに限定されない。

各処理ユニット３−１〜３−ｎ毎に設けられる間欠搬送装置として、図１１または図１２に示すものを採用することができる。図１１に示す間欠搬送装置は、間欠搬送方向Ａと平行な正逆方向Ａ１，Ａ２に向けて、例えばエアシリンダー等で進退駆動されるプッシャー７０で構成される。プッシャー７０は、４箇所に押動片７１を有する。４つの押動片７１は、４つの搬送治具３０の被押動片３５０（図４参照）を押動可能である。４つの押動片７１は、図１１において時計周り方向Ｄに回転付勢されている。

プッシャー７０は、方向Ａ１に向けた前進時に４つの押動片７１が４つの搬送治具３０の被押動片３５０を押動して４つのワーク２を間欠搬送させる。プッシャー７０は、方向Ａ２に向けた後退時に、押動片７１が被押動片３５０と接触すると、押動片７１が矢印Ｄ方向への付勢力に抗して矢印Ｄとは逆方向に回転することで、被押動片３５０に邪魔されることなく初期位置に復帰される。こうして、各処理ユニット３−１〜３−ｎ内にあった４つのワーク２は、プッシャー７０により同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。それにより、処理ユニット内の最下流位置以外の３つのワーク２は同一処理ユニット内で一ステップ移動され、同一または前段の処理ユニット内の最下流位置にあったワーク２はその後段の処理ユニット内の最上流位置に移動される。こうして、４つの搬送治具３０に保持された４つのワーク２は、処理ユニット内の４つの停止位置を始点及び／または終点として、間欠的に搬送される。

図１１に示す間欠搬送装置は、搬送治具３０を押動するだけであるから、搬送治具３０の停止位置を制御することはできない。この間欠搬送装置は、間欠搬送速度が比較的遅く、プッシャー７０での押動停止後も搬送治具３０が前進し続ける慣性力を生じない場合に使用することができる。あるいは、この間欠搬送装置は、搬送治具３０の案内ローラー３３１，３３２の少なくとも一つに、本願出願人による国際特許出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１８／０２０１１９に記載されたブレーキ機構を設けた場合にも採用することができる。

図１２（Ａ）（Ｂ）に示す間欠搬送装置は、４つの押動片７３を備えて進退駆動（Ａ１，Ａ２方向の駆動）及び昇降駆動（矢印Ｅ方向の駆動）されるプッシャー７２を含む。４つの押動片７３は、搬送治具３０の被押動片３５０が嵌まり込む例えば上向き開口の凹部７３Ａを含む。図１２（Ａ）に示すように、プッシャー７２が上昇されると、４つの凹部７３Ａに搬送治具３０の被押動片３５０が嵌まり込む。その後、図１２（Ｂ）に示すように、プッシャー７２をＡ１方向に前進させると、４つの搬送治具３０は同時に一ステップ分だけ間欠搬送される。また、プッシャー７２の前進が終了すると、凹部７３Ａにより被押動片３５０の停止位置が一義的に定まる。その後、プッシャー７２は下降され、さらに後退されて、初期位置に復帰される。特に、凹部７３Ａと被押動片３５０との係合により、複数の搬送治具３０を所定の位置に停止させることができ、より高速な間欠送りが可能となる。

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また本実施形態及び変形例の全ての組み合わせも、本発明の範囲に含まれる。

図１３は、図４に示す搬送治具３０のうちのワーク保持部３２０をワーク保持部３２０Ａに変更した変形例を示す、図１３では、ワーク２を囲むハッチングで示す四角枠領域にダミー被処理部８０を設けている。ダミー被処理部８０はワーク２と共に表面処理（メッキ）される領域である。ダミー被処理部８０は、図１３に示す給電部８１と接続される。ここで、図４に示す治具３０の第１被給電部３４０Ａを上部／下部クランパー３２３，３２４を介してワーク２と電気的に接続する一方で、図１３に示す給電部８１を図４に示す第２被給電部３４０Ｂと電気的に接続することができる。こうすると、ダミー被処理部８０はワーク２に流れる電流を異なる整流器５０により独立して制御することが可能となる。ダミー被処理部８０は２分割以上、例えば上下左右で４分割されたそれぞれを、図４に５個以上設けられた被給電部３４０の４つに接続し、残りの被給電部３４０をワークに接続することにより、ダミー被処理部８０の電流制御を２分割以上でより細かく行うことができる。

ワーク２の周縁はダミー被処理部８０の内側に位置することから、ワーク２の周縁はエッジにならない。よって、ワーク２の周縁に電界が集中しないので、いわゆるドックボーンと称される厚膜部は生じない。ダミー被処理部８０に流れる電流とワーク２に流れる電流とをほぼ等しくすれば、ワーク２の周囲のダミー被処理部８０を含めた広面積がメッキ領域となり、その中心に位置するワーク２の面内均一性が向上する。なお、メッキ装置１はメッキ処理部の後工程に剥離槽を有し、メッキ後に搬送治具３０は剥離槽に投入されてメッキが剥離される。その際にダミー被処理部８０に形成されたメッキも剥離されるので、搬送治具３０を繰り返し再使用可能となる。

図１４は、Ｎ＝２個の陰極レールの導電部に接続される一対の整流器を一つの整流器で兼用した変形例を示す図である。図５では各処理ユニット１０−１〜１０−ｎの各々にＮ×Ｍ＝８個の整流器５０を配置したが、図１４ではＭ＝４個の整流器５０が配置される。各セルに対応してＮ＝２の場合に配置される図５の一対の整流器５０は、図１４では１個の整流器５０が兼用される。図１４に示すように、各セルに対応する１個の整流器５０の負端子５２は、陰極レール４０Ａの導電部４３に直接接続されると共に、陰極レール４０Ｂの導電部４３には可変抵抗器５３を介して接続することができる。各セルに対応する１個の整流器５０の正端子５１は、各セルに配置された陽極２０（２０Ａ１，２０Ａ２，２０Ｂ１，２０Ｂ２）に共通接続される。このようにしても、治具３０の第１導通経路３１Ａに流れる電流を整流器５０により制御すると共に、治具３０の第２導通経路３１Ｂに流れる電流を同一の整流器５０及び可変抵抗器５３で制御することができる。しかも、整流器５０のトータル個数を最大で半減させることができる。Ｎ＝３以上とした場合には、一つの整流器５０の端子に３本以上の配線を接続し、うち２本以上に可変抵抗器５３を接続しても良い。

図１５は、図４に示す搬送治具３０のうちの被給電部３４０（第１，第２被給電部の総称）に陰極レール４０（４０Ａ，４０Ｂの総称）の清掃機能を付加した変形例である搬送治具３０Ａを示す。ただし図１５では、第１，第２被給電部を一つの被給電部３４０として描いている。図１５では、支持アーム３４１が、接触子３４２，３４３に加えて、陰極レール４０と接触して陰極レール４０を清掃する少なくとも一つのレール清掃部３４４を支持している。図１５に示すレール清掃部３４４は、陰極レール４０の導電部４３を磨いて堆積層（例えば導電部上の酸化皮膜等）を削り取る研磨材例えばスクレーパー３４４Ａと、研磨粉やごみを払い出すブラシ３４４Ｂの少なくとも一方または双方とを含んでいる。ブラシ３４４Ｂはスクレーパー３４４Ａの下流側に設けることができる。清掃部３４４（３４４Ａ，３４４Ｂ）は、接触子３４２，３４４と同様な構造により陰極レール４０に圧接される。

図１５に示す清掃部３４４を有する搬送治具３０Ａを、メッキ装置１にて循環使用される多数の搬送治具の少なくとも一つとして用いることで、メッキ装置１を稼働させながら陰極レール４０を清掃し、通電不良を防止することができる。それにより、陰極レール４０の導電部４３の電気抵抗値が高くなるなどの不具合を抑制し、従来週一回の頻度で実施されていたメンテナンス頻度を少なくすることができる。

なお、図１５に示す搬送治具３０Ａは、上述した間欠搬送式の表面処理装置に限らず、導電部３４が連続して設けられる陰極レールを有する連続搬送式の表面処理装置でも使用することができる。

図１６及び図１７は、複数のワークをメッキ液に同時に浸漬させて処理するバッチ式の表面処理装置を示している。この表面処理装置は、処理槽１００に収容されたメッキ液に、治具２００を介してＭ＝４個のワーク（基板１〜４とも言う）が浸漬される。バッチ式の本実施形態は、上述した実施形態と同様に、ワーク２（図１３に示すようにワーク２の周囲にダミー被処理部８０を有する場合にはダミー被処理部８０も含む）をＮ＝２個の陰極に設定するものである。ここで、本実施形態では、Ｎ＝２個の陰極は、各ワーク２の表面と裏面とすることができる。ただし、上述した実施形態の通り、Ｎ＝２個の陰極は、各ワーク２の上部と下部であってもよく、あるいはワーク２とダミー被処理部８０であっても良い。また、設定される陰極の数Ｎは２に限らないことは上述の通りである。

本実施形態では、Ｎ×Ｍ＝８個の整流器５０（整流器１〜８とも言う）が設けられる。Ｎ×Ｍ＝８個の整流器５０の負端子には、治具２００と接触可能なＮ×Ｍ＝８個の陰極接続部１１０と接続されている。治具２００には、８個の陰極接続部１１０と接触されるＮ×Ｍ＝８個の端子２１０が設けられる。治具２００には昇降アーム２２０が設けられ、図示しない昇降機構により昇降される。治具２００が下降されると、Ｍ＝４個のワーク２が処理槽１００内のメッキ液に浸漬されると共に、端子２１０が陰極接続部１１０と接続される。

処理槽１００には、少なくとも一つの陽極２０が配置される。本実施形態では、Ｍ＝４個のワーク２の表裏面と対向する位置にＭ×２＝８個の陽極２０Ａ１〜２０Ａ４，２０Ｂ１〜２０Ｂ４（アノード１〜８とも言う）が設けられている。アノード１〜８と整流器１〜８との接続は図１７に示す通りである。整流器１にて基板１表面とアノード１の電流を制御し、整流器２にて基板１裏面とアノード２の電流を制御し、整流器３にて基板２表面とアノード３の電流を制御し、整流器４にて基板２裏面とアノード４の電流を制御する。また、整流器５にて基板３表面とアノード５の電流を制御し、整流器６にて基板３裏面とアノード６の電流を制御し、整流器７にて基板４表面とアノード７の電流を制御し、整流器８にて基板４裏面とアノード８の電流を制御する。こうして、本実施形態ではバッチ処理される複数のワークの各々を独立した陰極に設定して緻密な電流制御を可能とすることができる。

ここで、本実施形態でも図１４と同様にして、Ｎ×Ｍ個の整流器５０のうちの少なくとも２個は１個の整流器５０で兼用しても良い。この場合、兼用される１個の整流器５０の端子は、Ｍ個のワーク２の一つの異なるＮ個の部位（例えば表面／裏面、上部／下部またはワーク２／ダミー被処理部８０）に導通されるＮ個の導通経路の一つに直接接続されると共に、Ｎ個の導通経路の他の一つに可変抵抗器５３を介して接続することができる。このように、少なくとも一つの整流器５０に代えて、他の整流器５０の端子が共用され、かつ、可変抵抗器５３の調整により、Ｍ個のワーク２の一つの異なるＮ個の部位に導通されるＮ個の導通経路の少なくとも一つに供給される電流を制御しても良い。

本実施形態では、陽極２０と陽極バー２２との接続を例えば図１８に示すように変更することができる。図１８では、陽極２０がワーク２と対向しない面に、複数の接点２１が設けられる。複数の接点２１の各々は、例えばチタン等の導通部材２２Ａを介して陽極バー２２と導通接続される。ここで、従来は陽極２０の上端部を陽極バー２２に固定して、陽極２０の上側からのみ給電していた。こうすると、処理ユニット３−１〜３−ｎ内の液中抵抗が大きいので、ワーク２及び陽極２０の低抵抗部に電子が通り易く、ワーク２での電流分布が面内不均一となっていた。図１８のように陽極２０の多数の接点２１を介して給電することで、電流分布の面内均一性が向上され、ワーク２の処理で面内均一性が改善される。さらには、複数の接点２１の少なくとも１個毎に整流器を接続して電流調整を可能とすることで、抵抗差に拘わらず電流分布の面内均一性をさらに向上させることができる。

１ 表面処理装置、２ ワーク、３−１〜３−ｎ 処理槽（分割処理槽）、２０（２０Ａ１，２０Ａ２，２０Ｂ１，２０Ｂ２） 陽極、３０，３０Ａ ３１Ａ，３１Ｂ Ｎ個の導通経路、搬送治具、４０Ａ，４０Ｂ 陰極レール、４１ 絶縁レール、４２ 間隔（非導電部）、４３ 導電部、５０ 整流器、５１ 正端子、５２ 負端子、５３ 可変抵抗器、６０ ノズル管、６０Ａ 噴出口、７０，７２ プッシャー（間欠搬送装置）、７１，７３ 押動片、７３Ａ 凹部、８０ ダミー被処理部、１００ 処理槽、１１０ Ｎ×Ｍ個の陰極接続部、２００ 治具、２１０ Ｎ×Ｍ個の端子、３２２，３２４ クランパー、３４０Ａ，３４０Ｂ 第１，第２の被給電部

Claims (11)

1. 処理液が収容される処理槽と、
   前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
   Ｎ（Ｎは２以上の整数）個の陰極レールと、
   前記処理液に浸漬される複数のワークの各一つをそれぞれ保持し、かつ、前記Ｎ個の陰極レールと接触して前記複数のワークの各一つを陰極に設定する複数の治具と、
   前記Ｎ個の陰極レールの各一つと前記少なくとも一つの陽極に接続される少なくともＮ個の整流器と、
   を有し、
   前記複数の治具の各々は、前記Ｎ個の陰極レールの各一つからＮ個の陰極設定部位の各一つに導通される、互いに絶縁されるＮ個の導通経路を含み、前記Ｎ個の陰極設定部位は、前記Ｎ個の導通経路が設けられた一つの治具に保持される一つのワークを含む異なるＮ個の部位であることを特徴とする表面処理装置。
2. 請求項１において、
   前記Ｎ個の導通経路は、前記Ｎ個の陰極レールの各一つから前記複数のワークの各一つの異なるＮ個の部位に導通されることを特徴とする表面処理装置。
3. 請求項２において、
   前記複数の治具の各々はワークをクランプする少なくともＮ個のクランパーを含み、
   前記複数のワークの各一つの異なる部位は、前記少なくともＮ個のクランパーで把持される少なくとも各一つの部位であることを特徴とする表面処理装置。
4. 請求項３において、
   前記少なくともＮ個のクランパーで把持される前記少なくとも各一つの部位は、前記複数の治具の各一つに保持される前記複数のワークの各一つの上端部と下端部とを含むことを特徴とする表面処理装置。
5. 請求項３において、
   前記少なくとも一つの陽極は、前記複数のワークの表面及び裏面と対向する少なくとも２つの陽極を含み、
   前記少なくともＮ個のクランパーで把持される前記少なくとも各一つの部位は、前記複数の治具の各一つに保持される前記複数のワークの各一つの前記表面と前記裏面とを含むことを特徴とする表面処理装置。
6. 請求項１において、
   前記複数の治具の各々は、前記複数のワークの各一つの周囲にダミー被処理部を含み、
   前記Ｎ個の導通経路は、前記Ｎ個の陰極レールの少なくとも一つから前記複数のワークの各一つに導通される第１導通経路と、前記Ｎ個の陰極レールの少なくとも他の一つから前記ダミー被処理部に導通される第２の導通経路と、を含むことを特徴とする表面処理装置。
7. 請求項１乃至６のいずれか一項において、
   前記少なくともＮ個の整流器のうちの少なくとも２個は、１個の整流器で兼用され、前記１個の整流器の端子は、前記Ｎ個の陰極レールの一つを介して前記Ｎ個の導通経路の一つに接続されると共に、可変抵抗器と前記Ｎ個の陰極レールの他の一つを介して前記Ｎ個の導通経路の他の一つに接続されることを特徴とする表面処理装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか一項において、
   前記複数の治具を、前記処理槽内のＭ（Ｍは２以上の整数）個の停止位置を始点及び／または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置をさらに有し、
   前記Ｎ個の陰極レールの各々は、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されたＭ個の治具にそれぞれ接触され、かつ、電気的に絶縁されたＭ個の導電部を含み、
   前記少なくともＮ個の整流器は、計Ｎ×Ｍ個の導電部に対応してＮ×Ｍ個設けられ、前記Ｎ×Ｍ個の整流器の各一つが前記Ｎ×Ｍ個の導電部の各一つと接続されていることを特徴とする表面処理装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか一項において、
   前記少なくとも一つの陽極は、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されるＭ個のワークと対向する少なくともＭ個の陽極を含み、
   前記Ｍ個の陽極の各一つが、前記Ｍ個の停止位置にそれぞれ停止されるＭ個の治具の各一つと接続されるＮ個の整流器と共通接続されること特徴とする表面処理装置。
10. 処理液が収容される処理槽と、
    前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
    Ｎ×Ｍ（Ｎ，Ｍは２以上の整数）個の陰極接続部と、
    前記処理液に浸漬されるＭ個のワークを保持し、かつ、前記Ｎ×Ｍ個の陰極接続部と接触して前記Ｍ個のワークの各一つをＮ個の陰極に設定する治具と、
    前記Ｎ×Ｍ個の陰極接続部の各一つと前記少なくとも一つの陽極に接続されるＮ×Ｍ個の整流器と、
    を有し、
    前記治具は、前記Ｎ×Ｍ個の陰極接続部の各一つから前記Ｍ個のワークの各一つの異なるＮ個の部位に導通されるＮ×Ｍ個の導通経路を含み、前記Ｎ×Ｍ個の導通経路は互いに絶縁されることを特徴とする表面処理装置。
11. 請求項１０において、
    前記Ｎ×Ｍ個の整流器のうちの少なくとも２個は１個の整流器で兼用され、前記１個の整流器の端子は、前記Ｍ個のワークの一つの異なるＮ個の部位に導通されるＮ個の導通経路の一つに接続されると共に、前記Ｎ個の導通経路の他の一つに可変抵抗器を介して接続されることを特徴とする表面処理装置。

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