JP6733315B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6733315B2 JP6733315B2 JP2016107332A JP2016107332A JP6733315B2 JP 6733315 B2 JP6733315 B2 JP 6733315B2 JP 2016107332 A JP2016107332 A JP 2016107332A JP 2016107332 A JP2016107332 A JP 2016107332A JP 6733315 B2 JP6733315 B2 JP 6733315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- polymerizable compound
- irradiation step
- light irradiation
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 343
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 49
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 172
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 139
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 134
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 63
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 32
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 22
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 18
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 6
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N indium;oxozinc;tin Chemical compound [In].[Sn].[Zn]=O HRHKULZDDYWVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006284 nylon film Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明の第1の光照射工程は、重合性化合物を含む重合性化合物含有液晶組成物がネマチック相−等方性液体間で相転移温度を有しており、かつ基板上に添着された前記重合性化合物含有液晶組成物が等方性液相状態で300〜380nm波長の紫外線で照射される工程を含む。
本発明に係る第1の光照射工程で使用できる照射方式は特に制限されることはなく公知の照射方式を使用することができる。
本発明において、紫外線を発生させるランプとしては、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、蛍光UVランプ、超高圧水銀ランプ、ケミカルランプ、LED光源、エキシマレーザー発生装置等を用いることができ、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)などの波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルタ、短波長カットフィルタ、バンドパスフィルタのような分光フィルタを通して照射光を調整してもよく、必要に応じて、紫外線をカットして使用してもよい。
本発明に係る第2の光照射工程は、第1の光照射工程の後の重合性化合物含有液晶組成物に対して電圧を印加した状態で300〜380nm波長の紫外線を照射する工程を含む。
本発明に係る第2の照射工程は、平行光が好ましい。照射対象の照度ムラを軽減することができる。
本発明に係る第2の光照射工程で使用できる照射方式は特に制限されることはなく公知の照射方式を使用することができ、上記の第1の光照射工程で使用可能な照射方式を使用することができるためここでは省略する。
必要により当該第2の光照射工程の後、さらに前記第2の光照射工程の後の重合性化合物含有液晶組成物に対して300〜380nm波長の活性エネルギー線を照射する第3の光照射工程を備えてもよい。以下、第3の光照射工程について説明する。
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第2の光照射工程の後、前記第2の光照射工程の後の重合性化合物含有液晶組成物に対して300〜380nm波長の活性エネルギー線を照射する第3の光照射工程を備えることが好ましい。
加熱手段により等方性液相状態の前記重合性化合物含有液晶組成物に300〜380nm波長の紫外線を照射する第1の光照射工程と、
前記第1の光照射工程の後、前記重合性液晶組成物の温度を、前記重合性液晶組成物のネマチック相−等方性液相温度(Tni)未満にして、前記第1の光照射工程の後の重合性化合物含有液晶組成物に対して電圧を印加した状態で300〜380nm波長の紫外線を照射する第2の光照射工程と、を有することが好ましい。
実施例1〜13においては、第1の光照射工程後の液晶セルおよび第2の光照射工程における電圧印加時の液晶セルについてそれぞれ偏光顕微鏡を用いて垂直配向性を以下の4段階で判定した。また、比較例1〜4においては、第1の光照射工程とアニール工程とを行った後の液晶セルおよび前記アニール工程後に電圧を印加して、第2の光照射工程を行った液晶セルについて偏光顕微鏡を用いて垂直配向性を以下の4段階で判定した。
レベルA:均一に垂直配向
レベルB:ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
レベルC:配向欠陥が有り許容できないレベル
レベルD:配向不良がかなり劣悪
「プレチルト角の試験方法」
実施例1〜13の液晶セル(または比較例1〜4の液晶セル)について20(℃)に設定した定温ステージ上にピーク電圧10Vで100Hzの矩形波を印加した状態の液晶セルを設置し、ウシオ電機製の紫外線照射装置ML−501C/Bで365nmにピーク波長を持つ平行光の紫外線を200(秒)照射した。ただし、比較例1と3においてのみ、液晶セルには矩形波を印加しなかった。紫外線の照度は、ウシオ電機製UVD−S365受光器で100.0mW/cm2を示した。照射後、矩形波の印加を終了すると、液晶表示素子にはプレチルト角が発現する。プレチルト角は、シンテック製OPTIPRO−microを用いて測定した。
実施例1〜13の液晶セル(または比較例1〜4の液晶セル)について垂直配向性の試験に用いた液晶表示素子の初期状態のプレチルト角を測定し、加熱(110℃、1時間)後のプレチルト角及びUV照射(100mW/cm2×200秒)後のプレチルト角を測定した。プレチルト角は、シンテック製OPTIPRO−microを用いて測定した。
実施例および比較例の液晶表示素子の表示エリア内に所定の固定パターンを500時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視観察にて、以下の4段階で判定した。
レベルA:残像無し
レベルB:残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
レベルC:残像有り許容できないレベル
レベルD:残像有りかなり劣悪
「滴下痕評価」
実施例および比較例の液晶表示素子を全面黒表示した場合における、白く浮かび上がる滴下痕を目視観察にて、以下の4段階で判定した。
レベルA:滴下痕無し
レベルB:滴下痕ごく僅かに有るも許容できるレベル
レベルC:滴下痕有り許容できないレベル
レベルD:滴下痕有りかなり劣悪
「重合性化合物の残存量」
実施例中、第1の光照射工程後の液晶セル内の重合性化合物の残存量について、以下の条件を測定した。
重合性化合物の残存量@3.6[J]:UVを3.6J照射した後の重合性化合物の残存量[%]
重合性化合物の残存量@7.2[J]:UVを7.2J照射した後の重合性化合物の残存量[%]
「実施例1」
ネマチック液晶相−等方相転移点(TNI)は76℃、Δnは0.11、Δεは−2.8、γ1は98mPa・sの負の誘電率異方性を示す液晶組成物100質量部に対して、多官能モノマーを1.5重量%添加した重合性化合物含有液晶組成物を(サンプル1)とした。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレート上の保持時間を30分から15分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレート上の保持時間を30分から5分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレート上の保持時間を30分から3分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレート上の保持時間を30分から1分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する時間を15分から5分に変更し、それにより紫外線照射量が3.6J/cm2から1.2J/cm2に低下した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。UVを1.2[J]照射したとき、サンプル1は重合性化合物の残存量が49[%]であった。
第1の光照射工程において紫外線を照射する時間を15分から30分に変更し、それにより紫外線照射量が3.6J/cm2から7.2J/cm2に増加した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する時間を15分から90分に変更し、それにより紫外線照射量が3.6J/cm2から21.6J/cm2に増加した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレートの設定温度を80℃から78℃に変えて、ホットプレート上の保持時間を30分から10分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレート上の保持時間を30分から10分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する前のホットプレートの設定温度を80℃から100℃に変えて、ホットプレート上の保持時間を30分から10分に変更した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
第1の光照射工程において紫外線を照射する際に使用する光源を、325nm〜375nm間でピーク波長域を有する東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L1)を用いた代わりに、305nm〜355nmの間でピーク波長域を有する東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L2)を用いて、紫外線を照射する時間を15分から5.7分に変更し、それにより紫外線照射量が3.6J/cm2から1.44J/cm2に低下した以外実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
ネマチック液晶相−等方相転移点(TNI)は76℃、Δnは0.11、Δεは−2.8、γ1は98mPa・sの負の誘電率異方性を示す液晶組成物100質量部に対して、多官能モノマーを1.5重量%、単官能モノマーを0.3質量%添加した重合性化合物含有液晶組成物を(サンプル2)とした点および第1の光照射工程において紫外線を照射する際に使用する光源を、325nm〜375nm間でピーク波長域を有する東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L1)を用いた代わりに、305nm〜355nmの間でピーク波長域を有する東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L2)を用いて、紫外線を照射する時間を15分から5.7分に変更し、それにより紫外線照射量が3.6J/cm2から1.44J/cm2に低下した点以外は、実施例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
一対の透明電極基板のうち一方の配向膜を有さないスリットパターン入り透明電極基板に、サンプル1を滴下し、他方の配向膜を有さない透明電極基板と真空下で狭持した後、常圧でシール材を硬化させ、セルギャップ3.5μmの液晶セルを得た。この時点における液晶配向は、狭持したときに液晶滴下点から放射状に広がった状態を保った水平配向を示した。まず、サンプル1を含む液晶セルを、サンプル1を100℃で保持されるようホットプレートで60(分)アニール処理した。次にホットプレートの温度100℃としたままの基板に対して法線方向から、無偏光紫外光を1.44J/cm2照射した(光照射工程1回目)。光源として305nm〜355nmに発光波長域がある東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L2)を用いた。紫外線の照度は、ウシオ電機製UVD−S313受光器で4.2mW/cm2であり、前記光照射工程1回目の際、液晶セルには電圧を印加していない。その後、前記第1の光照射した液晶セルに対して、さらに100℃で1時間アニールを行った後、室温まで冷却して液晶表示素子を作製した。当該液晶表示素子の表面は、クロスニコル配置になるよう直線偏光板を貼付した。
一対の透明電極基板のうち一方の配向膜を有さないスリットパターン入り透明電極基板に、サンプル1を滴下し、他方の配向膜を有さない透明電極基板と真空下で狭持した後、常圧でシール材を硬化させ、セルギャップ3.5μmの液晶セルを得た。この時点での液晶配向は、狭持したときに液晶滴下点から放射状に広がった状態を保った水平配向を示した。室温において、液晶セルの基板に対して法線方向から、無偏光紫外光を1.44J/cm2照射した(光照射工程1回目)。光源として305nm〜355nmに発光波長域がある東芝ライテック社製蛍光形紫外線ランプ(L2)を用いた。紫外線の照度は、ウシオ電機製UVD−S313受光器で4.2mW/cm2を示した。前記光照射工程1回目の際、液晶表示セルには電圧を印加していない。その後、前記光照射工程1回目で得られた液晶セルに対して、さらに90℃で30分アニールを行った後室温まで冷却した。冷却後、液晶セルを観察したところ、垂直配向にならず、水平配向のままであった。
液晶組成物をサンプル1からサンプル2に変更した以外比較例1と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
液晶組成物をサンプル1からサンプル2に変更した以外比較例2と同様の製造方法で液晶表示素子を作製した。
以上のことから、実施例1〜13は、垂直配向性、電圧印加時の液晶配向性、プレチルト角の安定性、焼付き評価、滴下痕評価の全てにおいて、AおよびBと良好な評価結果で実用的なものであることが確認された。
比較例1と3で作製した液晶表示素子は電圧印加時の液晶配向性がDであって、また比較例2と4で作製した液晶表示素子は電圧印加時の液晶配向性が評価不能であって、いずれも配向不良がかなり劣悪であることが確認された。プレチルト角も測定不能であり、液晶表示素子としての機能を有していないことが確認され、電圧印加時の液晶配向性、プレチルト角の安定性、焼付き評価、滴下痕評価も評価不能であった。なお、表中では測定不能および評価不能と表現した。
Claims (10)
- 基板上に添着されたネマチック相−等方性液体間で相転移温度を有する重合性化合物含有液晶組成物に等方性液相状態で300〜380nm波長の紫外線を照射する第1の光照射工程、及び前記第1の光照射工程の後、時間を置くことなく室温まで放冷し、放冷後の重合性化合物含有液晶組成物に電圧を印加した状態で300〜380nm波長の紫外線を照射する第2の光照射工程を含む、液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1の光照射工程で照射する紫外線の積算光量が0.8〜30J/cm2である請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1の光照射工程で照射する紫外線は、305〜375nmのピーク波長域を有する、請求項1または2のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1の光照射工程の紫外線照射時間は、1〜150分間である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第1の光照射工程は、無偏光の紫外線を照射される、請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第2の光照射工程で照射する紫外線の積算光量が0.8〜30J/cm2である請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第2の光照射工程で照射する紫外線は、305〜375nmのピーク波長域を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第2の光照射工程の紫外線照射時間は、1〜150分間である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 一対の基板のうちの少なくとも一方の基板として配向膜が形成されていない基板を用いる、請求項1〜8のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記重合性化合物として1種又は2種以上の多官能性重合性化合物を用いる請求項1〜9のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016107332A JP6733315B2 (ja) | 2016-05-30 | 2016-05-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016107332A JP6733315B2 (ja) | 2016-05-30 | 2016-05-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017215366A JP2017215366A (ja) | 2017-12-07 |
JP6733315B2 true JP6733315B2 (ja) | 2020-07-29 |
Family
ID=60575645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016107332A Active JP6733315B2 (ja) | 2016-05-30 | 2016-05-30 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6733315B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110824780B (zh) * | 2018-08-08 | 2022-04-08 | 夏普株式会社 | 具备光取向膜的基板的制造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005173439A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Fujitsu Display Technologies Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP5667306B2 (ja) * | 2011-09-27 | 2015-02-12 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
WO2013069487A1 (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-16 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
-
2016
- 2016-05-30 JP JP2016107332A patent/JP6733315B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017215366A (ja) | 2017-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4477421B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP6317582B2 (ja) | 液晶ディスプレイおよびその製造方法 | |
TWI544258B (zh) | Liquid crystal display device | |
US20130271713A1 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device | |
JP5299595B1 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
TWI559057B (zh) | A liquid crystal display device, and a liquid crystal display device | |
US10119075B2 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
JP5165667B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
WO2013103153A1 (ja) | 液晶表示装置、及び、その製造方法 | |
JP5333694B1 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
JP6011904B1 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
US20120242941A1 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
JP5951936B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
US9488869B2 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing same | |
JP2017531831A (ja) | ポリマー含有散乱型垂直配置液晶素子 | |
US20130342798A1 (en) | Liquid crystal display panel, liquid crystal display apparatus, and liquid crystal display cell | |
JP6733315B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
WO2015019958A1 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JPWO2015087775A1 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
JP6395007B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
CN110231737B (zh) | 带取向膜基板的制造方法 | |
CN111198459A (zh) | 液晶显示器件 | |
WO2017110704A1 (ja) | 液晶表示装置、及び、液晶表示装置の製造方法 | |
CN111373319A (zh) | 液晶显示装置及液晶显示装置的制造方法 | |
JP7156130B2 (ja) | 液晶表示素子およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20180220 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190315 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200609 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200622 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6733315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R154 | Certificate of patent or utility model (reissue) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |