JP6731036B2 - 末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法、並びにこれに用いる重合開始剤及びその原料となるアルコール化合物 - Google Patents

Description

本発明は末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法、並びに
これに用いる重合開始剤及びその原料となるアルコール化合物に関する。

近年、ドラッグデリバリーシステムの分野において、親水性セグメントと疎水性セグメ
ントから形成されるブロック共重合体を用いて、高分子ミセルに薬物を封入する方法が提
案されている（例えば、特許文献１〜３を参照）。この方法を用いることにより、高分子
ミセルが薬剤のキャリアとして機能し、生体内での薬剤の除放化や病変部位への集中的投
与を含む様々な効果が得られる。

親水性セグメントとしては、ポリアルキレングリコール骨格を用いた例が多数提案され
ている（例えば、特許文献１〜３を参照）。ポリアルキレングリコール骨格を有する化合
物は、生体内での毒性が低いうえ、腎臓での排泄を遅延させることが可能である。その結
果、ポリアルキレングリコール骨格を有さない化合物と比較して、血中での滞留時間を延
ばすことができる。そのため、ポリアルキレングリコール誘導体で薬剤をミセル化して使
用する場合、その投与量や投与回数の低減を実現することができる。

ポリアルキレングリコール誘導体のうち、末端にアミノ基を有する化合物は、α−アミ
ノ酸−Ｎ−カルボキシ無水物との開環重合反応によりポリアルキレングリコール骨格とア
ミノ酸骨格から構成されるブロック共重合体へ誘導することが可能である。そして、得ら
れたブロック共重合体を用いて高分子ミセル内に薬剤を封入する例が多数提案されている
（例えば、特許文献１〜３を参照）。

このような、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の合成方法も知
られている（例えば、特許文献４、５を参照）。これらの方法では、一価アルコールの金
属塩を重合開始剤に用いてアルキレンオキシドの重合を行った後、重合末端を水酸基、次
いで２−シアノエトキシ基に変換し、シアノ基の水素還元を経て最終的にアミノ基含有置
換基（３−アミノ−１−プロポキシ基）へと誘導する。

その他のアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の合成方法としては、例え
ばアミノ基がシリル保護された重合開始剤を用いてエチレンオキシドと重合させた後、脱
保護によりアミノ基へと誘導する方法（非特許文献１、特許文献６を参照）があるが、こ
の方法だと末端が２−アミノ−１−エトキシ基に限定されるという問題点がある。また、
反応性は低く、分子量を６０００まで上げるのに９６時間という長時間を有することが課
題とされている（非特許文献１を参照）。

特許第２６９０２７６号公報 特許第２７７７５３０号公報 特開平１１−３３５２６７号公報 特許第３０５０２２８号公報 特許第３５６２０００号公報 特許第４５８１２４８号公報

Ｂｉｏｃｏｎｊ. Ｃｈｅｍ. １９９２，３，２７５−２７６.

特許文献４に開示されているように、重合開始剤として用いられる１価アルコールの金
属塩は、重合溶媒（例えばテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略す）などの有機溶媒）中
に完全に溶解させることが難しい場合が多く、そのような場合、金属塩を重合溶媒に溶解
させるためには金属塩合成時、開始剤原料であるアルコールを過剰量残しておく必要があ
る（例えば特許文献４では重合開始剤であるナトリウムメトキシド２ｍｏｌに対してメタ
ノール１３ｍｏｌ）。ところが、これらのアルコールが反応系中に存在すると、重合速度
の低下が避けられず、重合速度を上げるためには高温や高圧などの厳しい反応条件が必要
となる。また、重合開始剤が重合溶媒に溶解しないと系内が均一にならないため、溶解し
た重合開始剤からのみ重合が進行し、得られるポリアルキレングリコール誘導体の分散度
が広くなるという問題点がある。

また、１価アルコールは微量の水分を含む場合が多い。水分を含んだ状態で重合開始剤
を調製してアルキレンオキシドとの重合を行うと両末端が水酸基の高分子化合物（以下、
ジオールポリマーと略記）が副生する。１価アルコールの沸点が水より十分に高い場合は
、減圧下で脱水することにより水分量を減らすことができるが、例えば末端がメチル基の
場合に用いるメタノールは沸点が水よりも低いため、減圧下で脱水して水分を除去するこ
とは出来ない。そのため、メタノールを用いて金属塩を調製してアルキレンオキシドの重
合を行うと、ジオールポリマーの生成が避けられない。ジオールポリマーは、構造や分子
量などの諸物性が目的物と似ているため、分離精製することは極めて難しい。ジオールポ
リマーを不純物として含んだまま先の反応を進めた場合、適切な反応条件を選択しないと
両末端にアミノ基を含むポリマーが生成する。このような不純物を含むポリマーをそのま
ま使用すると、ポリマーミセル化剤の設計上、目的の性能が得られなくなる可能性が生じ
るため、重合反応を行う際には水分を極力低く抑えなければならない。

特許文献４や特許文献５に記載の合成法では、ラネーニッケル触媒を用いた水素還元に
よりシアノ基をアミノメチル基へ変換している。この方法は、ポリアルキレングリコール
誘導体の用途によっては、最終生成物中に微量の金属が混入する可能性が懸念される場合
がある。さらに、この反応は一般に高温が必要とされ、それに伴いアクリロニトリルのβ
脱離が進行し、目的物が収率よく得られないということや、ニトリル還元の中間体である
イミンへのアミン付加反応により生じる２級、３級アミンの生成、及びポリアクリロニト
リルの副生などのリスクがあるといった問題も残っていた。

重金属を使用せずに末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体を合成す
る方法としては、アミノ基を保護したアルコキシドを重合開始剤に用いてアルキレンオキ
シドと重合させる方法が考えられる。例えばアミノ基の保護基としてシリル基を用いる場
合、ケイ素−窒素結合はケイ素−酸素結合よりも弱いため、アミノ基だけがシリル化され
たアルコールを選択的に合成することは非常に難しく、その合成例は報告されていない。

本発明では、上記従来技術における諸問題を解決し、狭分散かつ高純度な末端にアミノ
基を有するポリアルキレングリコール誘導体を製造する方法、並びに該方法に使用する重
合開始剤を提供することを目的とする。

本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、アミノ基が保護基で保
護された重合溶媒への十分な溶解性を有する化合物を重合開始剤として用いることにより
、温和な条件下でのアルキレンオキシドの重合とジオールポリマー生成の抑制、さらには
ジオールポリマーが生成した場合の除去も可能にするとともに、重金属の混入や副生成物
の生成を防止することを実現し、最終的に末端にアミノ基を有する高純度かつ狭分散のポ
リアルキレングリコールへ誘導できることを見出し、本発明を完成させたものである。

すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を重合開始剤として使用し、
前記重合開始剤とアルキレンオキシドとを反応させる工程を少なくとも含む、末端にアミ
ノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法に関する。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一
方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互
いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、Ｒ_Ａ ^２は炭素数
１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、Ｒ
_Ａ ^３は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、又は炭素
数３〜２０の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、ここでＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の
炭素数の総数は４以上であり、又は、Ｒ_Ａ ^３がヘテロ原子を含む場合はＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３
の炭素原子及びヘテロ原子の総数が４以上であり、Ｍはアルカリ金属を表す）

本発明は、別の態様によれば、工程ａ）〜工程ｃ）を含む、末端にアミノ基を有するポ
リアルキレングリコール誘導体の製造方法に関する。

（一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、
Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し
、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに結合してアミノ
基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、Ｒ_Ａ ^２は炭素数１〜６の直鎖状、又
は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、Ｒ_Ａ ^３は単結合、或い
はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、又は炭素数３〜２０の分岐状
もしくは環状の２価の炭化水素基であり、ここでＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の炭素数の総数は４以
上であり、又は、Ｒ_Ａ ^３がヘテロ原子を含む場合はＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の炭素原子及びヘテ
ロ原子の総数が４以上であり、Ｒ_Ａ ^４は水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、
分岐状又は環状の炭素数１〜１２の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を
含んでいてもよく、Ｒ_Ａ ^５は炭素数２〜８のアルキレン基であり、Ｍはアルカリ金属を表
し、ｎは１〜４５０の整数である）
工程ａ）前記一般式（Ｉ）で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で
反応させることにより、下記一般式（Ｉ−１）で表される化合物を得る工程

（一般式（Ｉ−１）中、Ｒ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＲ_Ａ ^５は前記一般式
（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）について定義したとおりであって、前記一般式（ＩＩ）及び（Ｉ
ＩＩ）のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＲ_Ａ ^５と同一であり、Ｍはアルカリ
金属を表し、前記一般式（Ｉ）のＭと同一であり、ｒは１〜４４５の整数を表す）；
工程ｂ）前記一般式（Ｉ−１）で表される化合物と下記一般式（Ｉ−２）で表される化合
物とを反応させることにより、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物を得る工程

（一般式（Ｉ−２）中、Ｒ_Ａ ^４及びＲ_Ａ ^５は前記一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）について
定義したとおりであって、前記一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）のＲ_Ａ ^４及びＲ_Ａ ^５と同一
であり、ｋは０〜５の整数を表し、Ｌは脱離基を表す）；及び
工程ｃ）前記一般式（ＩＩ）で表される化合物を脱保護し、前記一般式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物を得る工程。

本発明は、また別の態様によれば、下記一般式（ｉ）で表される、保護アミノ基含有ア
ルコール化合物に関する。

（一般式（ｉ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一
方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互
いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、Ｒ_Ａ ^２は炭素数
１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、Ｒ
_Ａ ^３は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、又は炭素
数３〜２０の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、ここでＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の
炭素数の総数は４以上であり、又は、Ｒ_Ａ ^３がヘテロ原子を含む場合はＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３
の炭素原子及びヘテロ原子の総数が４以上である）

本発明は、さらに別の態様によれば、下記一般式（Ｉ）で表される、保護アミノ基含有
アルコール化合物の金属塩に関する。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一
方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互
いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、Ｒ_Ａ ^２は炭素数
１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、Ｒ
_Ａ ^３は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、又は炭素
数３〜２０の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基であり、ここでＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の
炭素数の総数は４以上であり、又は、Ｒ_Ａ ^３がヘテロ原子を含む場合はＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３
の炭素原子及びヘテロ原子の総数が４以上であり、Ｍはアルカリ金属を表す）

本発明による、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法を
用いることにより、重合速度を低下させる原因である重合開始剤原料アルコールの実質的
な存在なしに重合が可能となり、従来よりも温和な条件でアルキレンオキシドの重合を行
うことができる。また、微量の水分に起因するジオールポリマー等の不純物の生成を抑制
して、また仮に水分が混入してポリマー不純物が生成したとしても分離精製により除去す
ることができ、狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体を製造することがで
きる。また、この方法が精製工程も含む場合は、ポリアルキレングリコール誘導体の精製
及び取り出しの際に凍結乾燥が不要のため、工業的な規模でポリアルキレングリコール誘
導体を製造することができ、設備や工程の簡略化を実現することができるといったさらな
る利点を有する。また、アミノ基が保護された重合開始剤を用いることにより、重金属を
用いた還元法を使わなくてすみ、それに伴う副生成物の混入を防ぐことができるため、医
薬品において避けるべき重金属不純物と副生成物の混入というリスクを低減することが可
能となる。さらに、本発明に係る製造方法により製造されたポリアルキレングリコール誘
導体は、重合開始剤が系内に均一に溶解しているため狭分散性であり、ドラッグデリバリ
ーシステムの分野において有用な親水性セグメントと疎水性セグメントから形成されるブ
ロック共重合体へと誘導する際に、非常に有利に用いることができる。さらにまた、本発
明によるアミノ基が保護されたアルコール化合物及びそのアルカリ金属塩は、ポリアルキ
レングリコール誘導体の製造方法において、従来に替わる、より有用な重合開始剤及びそ
の前駆体として用いることができるため非常に有用である。

［実施形態１］
本発明は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を重合開始剤として使用し、前記重合開
始剤とアルキレンオキシドとを反応させる工程を少なくとも含む、末端にアミノ基を有す
るポリアルキレングリコール誘導体の製造方法である。一実施形態によれば、本発明は、
下記に示す工程ａ）〜ｃ）を順次経ることを特徴とする。（以下、この実施形態を「実施
形態１」と称する場合がある。）
工程ａ）一般式（Ｉ）で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反
応させ、下記一般式（Ｉ−１）で表される化合物を得る工程、
工程ｂ）一般式（Ｉ−１）で表される化合物を下記一般式（Ｉ−２）で表される化合物
と反応させ、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を得る工程、及び
工程ｃ）一般式（ＩＩ）で表される化合物を脱保護し、一般式（ＩＩＩ）で表される化
合物を得る工程。

上記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、及び（ＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは、互いに独
立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示す
か、又はＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する
環状保護基を示す。前記保護基は、好ましくは重金属触媒を使用することなく脱保護でき
る保護基である。Ｒ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂで表される保護基の種類は、例えば、以下
の（ア）〜（エ）に分類して例示することができるが、これらに限定されるものではない
。

（ア）Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造の保護基（トリアルキルシリル基）
上記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、及び（ＩＩ）中のＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂが互いに独立
にアミノ基の保護基を示す場合、及び、一方が水素原子、他方がアミノ基の保護基を示す
場合、Ｒ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂは、Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造の保護基（トリア
ルキルシリル基）であり得る。
上記のＳｉ（Ｒ^１）_３で表される構造中、Ｒ^１は独立して炭素数１〜６の直鎖状、又は
炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基である。或いは、Ｒ^１は互いに結
合してこれらが結合するケイ素原子と共に３〜６員環を形成していてもよい。Ｒ^１の具体
例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。ま
た、Ｒ^１が互いに結合してケイ素原子と共に環を形成する場合はこれらの基から水素原子
が一つ脱離した基などが挙げられる。
Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造の保護基の好ましい具体例としては、例えば、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられるが
、これらに限定はされない。

（イ）Ｒ_Ａ ^６ＯＣＯで表される構造の保護基
上記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、及び（ＩＩ）中のＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂが互いに独
立にアミノ基の保護基を示す場合、及び、一方が水素原子、他方がアミノ基の保護基を示
す場合、Ｒ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂは、Ｒ_Ａ ^６ＯＣＯで表される構造の保護基であり得
る。
上記のＲ_Ａ ^６ＯＣＯで表される構造中、Ｒ_Ａ ^６は炭素数１〜２０の１価の炭化水素の残
基であり、該残基はハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、ケイ素原子、リン
原子又はホウ素原子を含んでいてもよい。
Ｒ_Ａ ^６ＯＣＯの構造で示される保護基としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオ
キシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル基、２，２，２ − トリクロロエチルオキシカル
ボニル基、２−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキシカル
ボニル基、１−(１−アダマンチル)−１−メチルエチルオキシカルボニル基、１，１−ジ
メチル−２−ハロエチルオキシカルボニル基、１，１−ジメチル−２，２−ジブロモエチ
ルオキシカルボニル基、１，１−ジメチル−２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボ
ニル基、１−メチル−１−(４−ビフェニルイル)エチルオキシカルボニル基、１−(３，
５−ジ−ｔ − ブチルフェニル)−１−メチルエチルオキシカルボニル基、２−(２'−ピ
リジル)エチルオキシカルボニル基、２−(４'−ピリジル)エチルオキシカルボニル基、２
−(Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボキシアミド)エチルオキシカルボニル基、１ −アダ
マンチルオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、
１ − イソプロピルアリルオキシカルボニル基、シンナミルオキシカルボニル基、４ −
ニトロシンナミルオキシカルボニル基、８ − キノリルオキシカルボニル基、Ｎ − ヒド
ロキシピペリジニルオキシカルボニル基、アルキルジチオカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、ｐ − メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ − ニトロベンジルオキ
シカルボニル基、ｐ−ブロモベンジルオキシカルボニル基、ｐ−クロロベンジルオキシカ
ルボニル基、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル基、４−メチルスルフィニルベ
ンジルオキシカルボニル基、９−アントリルメチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチ
ルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、９−(２，７−ジ
ブロモ)フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，７−ジ−ｔ−ブチル−[９−(１０
，１０−ジオキソ−チオキサンチル)]メチルオキシカルボニル基、４ − メトキシフェナ
シルオキシカルボニル基、２−メチルチオエチルオキシカルボニル基、２ − メチルスル
ホニルエチルオキシカルボニル基、２ − (ｐ − トルエンスルホニル)エチルオキシカル
ボニル基、[２−(１，３−ジチアニル)]メチルオキシカルボニル基、４ − メチルチオフ
ェニルオキシカルボニル基、２，４−ジメチルチオフェニルオキシカルボニル基、２ −
ホスホニオエチルオキシカルボニル基、２−トリフェニルホスホニオイソプロピルオキシ
カルボニル基、１ ，１−ジメチル−２ − シアノエチルオキシカルボニル基、ｍ−クロ
ロ−ｐ−アシロキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−(ジヒドロキシボリル)ベンジルオ
キシカルボニル基、５−ベンゾイソオキサゾリルメチルオキシカルボニル基、２−(トリ
フルオロメチル)−６− クロモニルメチルオキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニ
ル基、ｍ−ニトロフェニルオキシカルボニル基、３ ，５−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル基、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、３ ，４−ジメトキシ−６−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基やフェニル(ｏ−ニトロフェニル)メチルオキシカルボニル
基等が例示できるが、これらに限定はされない。中でも、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボ
ニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基
、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基が好ましい
。

（ウ）環状保護基
Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂが互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保
護基である場合、このような環状保護基としては、Ｎ−フタロイル基、Ｎ−テトラクロロ
フタロイル基、Ｎ−４−ニトロフタロイル基、Ｎ−ジチアスクシロイル基、Ｎ−２，３−
ジフェニルマレオイル基、Ｎ−２，５−ジメチルピロリル基、Ｎ−２，５−ビス（ トリ
イソプロピルシロキシ）ピロリル基、Ｎ−１，１，３， ３−テトラメチル−１，３−ジ
シライソインドイル基、３，５−ジニトロ−４−ピリドニル基や１，３，５−ジオキサジ
ニル基、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジシラ−１−アザシクロペンタン等が
例示できるが、これらに限定はされない。中でも、Ｎ−フタロイル基が好ましい。

（エ）その他の保護基
Ｒ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂが、上記（ア）〜（ウ）以外の保護基である場合、このよ
うな保護基としては、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−トルエンスルホニル基
、２−ニトロベンゼンスルホニル基、（２−トリメチルシリル）エタンスルホニル基、ア
リル基、ピバロイル基、メトキシメチル基、ジ(４−メトキシフェニル)メチル基、５−ジ
ベンゾスベリル基、トリニルメチル基、(４−メトキシフェニル)ジフェニルメチル基、９
−フェニルフルオレニル基、[２−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基やＮ−３−アセ
トキシプロピル基等が例示できるが、これらの保護基に限定はされない。好ましくは重金
属触媒を使用することなく脱保護可能な保護基を、適宜選択して使用することができる。
中でも、ベンジル基、ｐ−トルエンスルホニル基、２−ニトロベンゼンスルホニル基、ア
リル基が好ましい。

上記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^２は、炭素数１〜
６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基である。Ｒ_Ａ ^２
の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のそれぞれから、水素原
子が一つ脱離した基などが挙げられる。

上記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^３は、単結合、或
いは窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０
の直鎖状、又は炭素数３〜２０の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基である。Ｒ_Ａ ^３
の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェニル基、０−トリル基、ｍ
−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリ
ル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、メシチル基など
のそれぞれから水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。これらの炭化水素基は、炭
素原子の一部が窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子によって置換されていて
もよい（ただし、一般式（Ｉ）においてはＯ⁻Ｍ^＋を構成する酸素原子との結合部を、一
般式（Ｉ−１）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）においては（ＯＲ_Ａ ^５）を構成する酸素原子
との結合部を除く）。中でも、Ｒ_Ａ ^３は下記一般式（ＶＩＩ）で表される構造であること
が好ましい。工程ａ）において、上記一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と重合溶媒との
相溶性が向上するためである。
−（ＯＲ_Ａ ^５）_Ｐ− （ＶＩＩ）
上記一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^５は、上記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ）、
及び（ＩＩＩ）中のＲ_Ａ ^５と同一であり、その具体例は後述する通りである。ｐは、１〜
１０の整数であり、重合開始剤の原料となるアルコール化合物を蒸留により精製する観点
からは、好ましくは１〜５の整数、さらに好ましくは１〜２の整数である。

ここで、上記したＲ_Ａ ^２の炭素数とＲ_Ａ ^３の炭素数との総数は４以上である。なお、Ｒ
_Ａ ^３において炭素原子の一部がヘテロ原子によって置換されている場合は、ヘテロ原子の
数も炭素原子の数として換算した総数が４以上であればよい。Ｒ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３の炭素数
の総数は、好ましくは４〜１５であり、より好ましくは４〜９である。上記一般式（Ｉ）
で表される重合開始剤において、両末端の窒素原子と酸素原子（Ｏ⁻Ｍ^＋を構成している
酸素原子）とを連結するＲ_Ａ ^２及びＲ_Ａ ^３からなる鎖の鎖長を４以上と長くすることによ
って、重合溶媒への溶解性が向上するとともに、一般式（Ｉ）で表される化合物において
、窒素上の保護基が酸素上へ転移する可能性がある基質においては転移を防ぐことができ
る。

上記一般式（Ｉ−２）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^４は、水素原子、或いは置
換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１２の炭化水素基であり、かつ
該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒ_Ａ ^４の具体例としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、フェニル基、０−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，
３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，
４−キシリル基、３，５−キシリル基、メシチル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる
。Ｒ_Ａ ^４が置換基を有する場合、その置換基としては、例えば、アセタール化ホルミル基
、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数１〜６のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数２〜７のアシルアミド基、同一又は異なるトリ（炭素数１〜６のアルキル
）シロキシ基、シロキシ基、シリルアミノ基、マレイミド基、チオール基、水酸基、メタ
クリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、活性エステル基、及びアジ基が挙げられる
。置換基を有するＲ_Ａ ^４として具体的には下記構造式で表されるものが例示できるがこれ
らに限定はされない。なお、下記式は、置換された構造のＲ_Ａ ^４の末端部分を示し、式中
の点線は、Ｒ_Ａ ^４の炭化水素部分が上記に例示したようなバリエーションをとり得ること
を示す。置換基の数は特に限定されないが、１〜３が好ましい。このような置換基は、さ
らに任意の適切な保護基で保護されていてもよい。

上記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^５は、炭素数
２〜８のアルキレン基である。中でも、炭素数２〜３のアルキレン基であることが好まし
い。即ち、Ｒ_Ａ ^５はエチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。なお、上記一般
式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ）、及び（ＩＩＩ）中、（ＯＲ_Ａ ^５）単位としては１
種のオキシアルキレン基、例えばオキシエチレン基、又はオキシプロピレン基のみで構成
されていてもよいし、二種以上のオキシアルキレン基が混在していてもよい。２種以上の
オキシアルキレン基が混在している場合、（ＯＲ_Ａ ^５）は２種以上の異なるオキシアルキ
レン基がランダム重合したものであってもよいし、ブロック重合したものであってもよい
。

上記一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）中、Ｍは、アルカリ金属を表す。Ｍの具体例としては
、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナトリウム−カリウム合金等を挙げるこ
とができる。

上記一般式（Ｉ−１）中、ｒは、例えば１〜４４５の整数を表し、好ましくは１０〜３
９５の整数、さらに好ましくは２０〜３４５の整数である。

上記一般式（Ｉ−２）中、ｋは、例えば０〜５の整数である。ｋが０である場合の一般
式（Ｉ−２）で表される化合物は低沸点で取り扱いが難しい場合や、毒性の高い場合があ
るため、ｋは１〜５の整数であることが好ましく、さらに１〜３の整数であることがより
好ましい。

上記一般式（Ｉ−２）中、Ｌは脱離基を表す。Ｌの具体例としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、
トリフルオロメタンスルホナート（以下ＴｆＯと記す）、ｐ−トルエンスルホナート（以
下ＴｓＯと記す）、メタンスルホナート（以下ＭｓＯと記す）などが挙げられるが、これ
らに限定はされない。

上記一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）中、ｎは、１〜４５０の整数を表し、好ましくは１
０〜４００の整数、さらに好ましくは２０〜３５０の整数である。ｎは、上記したｒとｋ
の和でも表される。

本実施形態１の製造方法の各工程において用いる一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２
）、及び（ＩＩ）で表される各化合物の選択においては、所望の最終生成物である一般式
（ＩＩＩ）で表される化合物を得ることができるように、一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（
Ｉ−２）、及び（ＩＩ）中において、所望のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、Ｒ_Ａ
^４、Ｒ_Ａ ^５、Ｍ、ｒ、ｋ、Ｌ、及びｎを選択することができる。

また、本実施形態１は、工程ａ）〜ｃ）の前に、任意選択的な工程として、重合開始剤
として用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物を合成するための前工程を有していても
よい。この前工程は、重合開始剤の前駆体として用いられる下記一般式（ｉ）で表される
化合物を合成する工程（前工程１）、及び、一般式（ｉ）で表される化合物を用いて重合
開始剤として用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する工程（前工程２）を含
む。なお、本実施形態には、前工程として、前工程１に引き続き前工程２を行う態様も、
前工程１を経ずに前工程２のみを行う態様も含まれるものとする。前工程２のスキームを
以下に示す。

（上記一般式（ｉ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＭは、上記一般式（
Ｉ）中のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＭと同一である。）

また、本実施形態１は、工程ａ）〜ｃ）の後に、任意選択的な工程として、工程ｃ）で
得られた一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を精製する後処理工程を有していてもよい。

以下の実施形態の説明においては、時系列に沿って、前工程１〜２、工程ａ）〜ｃ）、
及び後処理工程の順に説明する。

［前工程１］
前工程１は、重合開始剤の前駆体として用いられる上記一般式（ｉ）で表されるアルコ
ール化合物の合成を行う工程であり、その製造は例えば下記工程（ｉ−１）にて行うこと
ができるが、これに限定されるものではない。

（上記一般式（ｉａ）及び（ｉｂ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、及びＲ_Ａ ^３は上記
一般式（ｉ）中のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、及びＲ_Ａ ^３と同一である。すなわち、上
記一般式（Ｉ）中のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ_Ａ ^２、及びＲ_Ａ ^３と同一である。Ｌ^１は脱離
基を表す。）

上記一般式（ｉａ）及び（ｉｂ）中、Ｌ^１の脱離基の具体例としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ
、ＴｆＯ、ＴｓＯ、ＭｓＯなどが挙げられるが、これらに限定はされない。

上記工程（ｉ−１）を実施して上記一般式（ｉ）で表される化合物を合成する際には、
例えば、無溶媒で一般式（ｉａ）で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いて一般式
（ｉｂ）で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に
、一般式（ｉａ）で表される化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後一般式
（ｉｂ）で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよい。一般式（ｉｂ）
で表される化合物の使用量は、一般式（ｉａ）で表される化合物のモル数に対して、例え
ば１〜５倍量、好ましくは１．５〜３倍量であり、選択的にアミノ基だけに保護基を反応
させる観点からは、１．５〜２倍量がより好ましい。

上記工程（ｉ−１）において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、ＴＨＦや１
，４−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、塩化メチレンなどのハロゲン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−メチル−２−ピ
ロリドン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の
使用量は、特に限定はされないが、一般式（ｉａ）で表される化合物の質量に対して、例
えば１〜２０倍量、好ましくは２〜１０倍量、さらに好ましくは２〜５倍量である。

上記工程（ｉ−１）において使用する塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム
、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混
成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等が挙げられるが、これら
には限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式（ｉａ）で表される化合物のモ
ル数に対し、例えば１〜５倍量、好ましくは１．５〜３倍量、より好ましくは１．５〜２
倍量である。

上記工程（ｉ−１）における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行う
ことができるが、例えば−６０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜８０℃である。上記工程
（ｉ−１）の反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式（ｉａ）で表される化合
物が消失したとき、または一般式（ｉ）が主生成物として得られる時点とすることができ
る。

Ｒ_Ａ ^１ａとＲ_Ａ ^１ｂとを別の保護基にしたい場合や、保護基の立体障害が高く、アミノ
基のみならずヒドロキシ基にも同時に保護基がかかってしまう場合には、最初にアミノ基
を１つ目の保護基で保護した後に、脱保護可能な別の保護基によりヒドロキシ基を保護し
、続いてアミノ基を２つ目の保護基で保護し、最後にヒドロキシ基の脱保護をして合成す
ることができる。また、反応条件によって、アミノ基とヒドロキシ基との選択性が得られ
ず、ヒドロキシ基に保護がかかることや、アミノ基に１つしか保護基が導入されない等が
起こり得るが、その場合は、精密蒸留により一般式（ｉ）で表される化合物とその他の副
生成物を分けることができる。また、一般式（ｉ）で表される化合物は副生成物が生成し
ない場合でも蒸留により精製し、水分を除去することが好ましい。その場合の一般式（ｉ
）で表される化合物の含水率は例えば５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、さら
に好ましくは５ｐｐｍ以下である。

上記一般式（ｉ）で表される化合物がＲ_Ａ ^３にヘテロ原子を含む場合には、上記一般式
（ｉ）で表される化合物製造の別法として、例えばＲ_Ａ ^３のヘテロ原子の隣に水素原子を
有する一般式（ｉｆ）で表される化合物を使用する下記工程（ｉ−２）〜（ｉ−３）のよ
うな方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。

（上記一般式（ｉｃ）、（ｉｄ）、（ｉｅ）、及び（ｉｆ）中、Ｒ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ
_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＬ^１は上記一般式（ｉａ）及び（ｉｂ）中のＲ_Ａ ^１ａ、Ｒ_Ａ ^１ｂ、Ｒ
_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、及びＬ^１と同一である。Ｌ^２は脱離基を表す。）

上記一般式（ｉｃ）及び（ｉｅ）中、Ｌ^２の脱離基の具体例としてはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、
ＴｆＯ、ＴｓＯ、ＭｓＯなどが挙げられるが、これらに限定はされない。

上記工程（ｉ−２）を実施する際には、例えば、無溶媒で一般式（ｉｃ）で表される化
合物に塩基性化合物を加え、続いて一般式（ｉｄ）で表される化合物を滴下し、混合する
ことで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式（ｉｃ）で表される化合物を溶解させ
た後に塩基性化合物を加え、その後一般式（ｉｄ）で表される化合物を滴下し、混合する
ことで反応させてもよい。一般式（ｉｄ）で表される化合物の使用量は、一般式（ｉｃ）
で表される化合物のモル数に対して例えば２〜１０倍量、好ましくは２〜５倍量であり、
さらに好ましくは２〜３倍量である。

上記工程（ｉ−２）において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例は、上記工程（ｉ−１
）で記載した溶媒の具体例と同様である。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般
式（ｉｃ）で表される化合物の質量に対して例えば１〜２０倍量、好ましくは２〜１０倍
量、さらに好ましくは２〜５倍量である。

上記工程（ｉ−２）において使用する塩基性化合物の具体例は、上記工程（ｉ−１）で
記載した塩基性化合物の具体例と同様である。塩基性化合物の使用量は、上記一般式（ｉ
ｃ）で表される化合物のモル数に対し、例えば２〜１０倍量、好ましくは２〜５倍量、よ
り好ましくは２〜３倍量である。

上記工程（ｉ−２）における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行う
ことができるが、例えば−６０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜８０℃である。反応の終
了はガスクロマトグラフィーにより一般式（ｉｃ）で表される化合物が消失したとき、ま
たは一般式（ｉｅ）で表される化合物が主生成物として得られる時点とすることができる
。

次いで、上記工程（ｉ−３）を実施して上記一般式（ｉ）で表される化合物を合成する
際には、工程（ｉ−２）終了後の反応液中に、一般式（ｉｆ）で表される化合物と塩基性
化合物を直接添加してもよいし、一度、一般式（ｉｅ）で表される化合物を精製して取り
出した後に、一般式（ｉｆ）で表される化合物と塩基性化合物、及び溶媒の混合溶液に滴
下してもよい。また、（ｉ−３）の工程は無溶媒で行うこともできる。一般式（ｉｆ）で
表される化合物の使用量は、一般式（ｉｅ）で表される化合物のモル数に対して、１〜３
０倍量、好ましくは２〜２０倍量、さらに好ましくは５〜１０倍量である。例えばＲ_Ａ ^３
が上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物であった場合、一般式（ｉｆ）で表される化合
物はジオールとなるが、一般式（ｉｆ）で表される化合物を一般式（ｉｅ）で表される化
合物のモル数に対して過剰量用いることで、一般式（ｉｆ）で表される化合物の一方の末
端ヒドロキシ基を反応させることができる。

上記工程（ｉ−３）において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例は上記工程（ｉ―１）
で記載した溶媒の具体例と同様である。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式
（ｉｅ）で表される化合物の質量に対して例えば１〜２０倍量、好ましくは２〜１０倍量
、さらに好ましくは２〜５倍量である。上記工程（ｉ−３）において使用する塩基性化合
物の具体例は、上記工程（ｉ―１）で記載した塩基性化合物の具体例と同様である。塩基
性化合物の使用量は、上記一般式（ｉｅ）で表される化合物のモル数に対し、例えば１〜
２倍量、好ましくは１〜１．５倍量、より好ましくは１〜１．２倍量である。

上記工程（ｉ−３）における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行う
ことができるが、例えば−６０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜８０℃である。反応の終
了はガスクロマトグラフィーにより一般式（ｉｅ）で表される化合物が消失した時点とす
ることができる。反応条件によって、Ｒ_Ａ ^３上のヘテロ原子と末端ヒドロキシ基との両方
が一般式（ｉｅ）で表される化合物と反応し副生成物を生じることがあるが、その場合は
精密蒸留により一般式（ｉ）で表される化合物と副生成物を分けることができる。また、
一般式（ｉ）で表される化合物は副生成物が生成しない場合でも蒸留により精製し、水分
を除去することが好ましい。その場合の一般式（ｉ）で表される化合物の含水率は例えば
５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５ｐｐｍ以下である。

［前工程２］
前工程２は、上記一般式（ｉ）で表される化合物と、アルカリ金属又はアルカリ金属化
合物とを反応させることにより、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を得る工程である。

前工程２において、一般式（ｉ）で表される化合物と反応させるアルカリ金属又はアル
カリ金属化合物とは、Ｍで表されるアルカリ金属、Ｍ^＋Ｈ⁻で表されるアルカリ金属の水
素化物、Ｒ_Ｘ ⁻Ｍ^＋、[Ｒ_Ｙ]^・−Ｍ^＋で表される有機アルカリ金属（Ｒ_Ｘは、置換基を有
していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜２０のアルキ
ル基又は炭素数７〜２０のアリールアルキル基を表し、Ｒ_Ｙは置換基を有していてもよい
芳香族化合物を表す）、及びＲ_ＺＯ⁻Ｍ^＋で表される１価アルコールのアルカリ金属塩（
Ｒ_Ｚは、炭素数１〜６のアルキル基を表す）からなる群より選択される物質をいうものと
する。

Ｍのアルカリ金属の具体例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナ
トリウム−カリウム合金等を挙げることができる。Ｍ^＋Ｈ⁻の具体例としては、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等を挙げることができる。Ｒ_Ｘ ⁻Ｍ^＋の具体例としては、エチ
ルリチウム、エチルナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒ
ｔ−ブチルリチウム、１，１−ジフェニルヘキシルリチウム、１，１−ジフェニル−３−
メチルペンチルリチウム、１，１−ジフェニルメチルカリウム、クミルナトリウム、クミ
ルカリウム、クミルセシウム等を挙げることができる。[Ｒ_Ｙ]^・−Ｍ^＋の具体例としては
、リチウムナフタレニド、ナトリウムナフタレニド、カリウムナフタレニド、アントレセ
ンリチウム、アントラセンナトリウム、アントラセンカリウム、ビフェニルナトリウム、
ナトリウム２−フェニルナフタレニド、フェナントレンナトリウム、ナトリウムアセナフ
チレニド、ナトリウムベンゾフェノンケチル、ナトリウム１−メチルナフタレニド、カリ
ウム１−メチルナフタレニド、ナトリウム１−メトキシナフタレニド、カリウム１−メト
キシナフタレニド等を挙げることができ、これらの化合物は1種単独で、または２種以上
を混合して用いることもできる。Ｒ_ＺＯ⁻Ｍ^＋におけるＲ_Ｚの具体例としては、メチル基
、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられるが、
これらに限定はされない。中でも、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物としては、副反
応を抑制する観点から、ナトリウム、カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムが好
ましく、また反応性の高さの観点から、ナトリウムナフタレニド、カリウムナフタレニド
、アントラセンナトリウム、アントラセンカリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドが好ましい。

前工程２の反応において使用されるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物の使用量は、
上記一般式（ｉ）で表される化合物のモル数に対し、０．５〜３．０当量、好ましくは０
．８〜２．０当量、さらに好ましくは０．９〜１．０当量である。特に工程ａ）において
重合開始剤としても働きうるアルカリ金属化合物を使用する場合には、使用量を１．０当
量以下とする必要がある。例えばカリウムメトキシドを使用する場合には、前工程２にお
いて生成するメタノールを重合開始剤の合成後に減圧留去することにより、工程ａ）にお
いてカリウムメトキシドが重合開始剤として働かないようにする必要がある。

前工程２において、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する際には、例えば前工
程１で蒸留精製した一般式（ｉ）で表される化合物を適切な溶媒に溶解させた後、アルカ
リ金属又はアルカリ金属化合物を直接添加してもよいし、適切な溶媒にアルカリ金属又は
アルカリ金属化合物を溶解させたところに一般式（ｉ）で表される化合物を添加してもよ
い。前工程２において使用する溶媒の具体例としては、ＴＨＦや１、４−ジオキサン等の
エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を例示することができ
るが、これらには限定されない。溶媒を用いる場合、金属ナトリウム等の脱水剤を用いて
蒸留したものを使用することが好ましい。溶媒の含水率は、例えば５０ｐｐｍ以下、好ま
しくは１０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５ｐｐｍ以下である。溶媒の使用量は特に限定
されないが、上記一般式（ｉ）で表される化合物の質量に対して、例えば１〜５０倍量、
好ましくは２〜１０倍量、さらに好ましくは２〜５倍量である。また、前工程２の反応は
−７８〜１００℃の温度、好ましくは０℃〜用いた溶媒の還流温度（例えば、０℃〜ＴＨ
Ｆの還流温度である６６℃）で行い、必要に応じて反応系の冷却や加熱を行うことができ
る。

中でも、前工程２において使用する溶媒としては、後述する工程ａ）で重合溶媒として
用いる溶媒と同じものを使用することが好ましい。前工程２で合成された重合開始剤が工
程ａ）で使用する重合溶媒に溶解するかどうかを、前工程２の重合開始剤合成時に予め確
認することができるためである。具体的には、例えば、前工程２の反応溶媒としてＴＨＦ
を、アルカリ金属化合物として水素化カリウム（例えば上記一般式（ｉ）で表される化合
物に対して１．０当量以下の水素化カリウム）を、工程ａ）の重合溶媒としてＴＨＦを使
用する場合、重合開始剤の重合溶媒への溶解性を以下のように確認することができる。前
工程２における反応が進行し粉末状の水素化カリウムが減少するとともに水素が発生する
。このとき生成する上記一般式（Ｉ）で表される重合開始剤が、前工程２の反応溶媒であ
るＴＨＦに析出せずに、また、最終的に水素化カリウムが全て反応したときに反応溶液中
に塩の析出及び白濁がないかどうかを確認することで、後の工程ａ）における重合開始剤
の重合溶媒への溶解性を事前に確認することができる。

また、工程ａ）で使用する重合溶媒への一般式（Ｉ）で表される重合開始剤の溶解性を
予め確認する別法としては、下記方法が例示できるが、これに限定はされない。上記のよ
うに一般式（ｉ）で表される化合物とアルカリ金属又はアルカリ金属化合物とを反応させ
て一般式（Ｉ）で表される重合開始剤を合成し、その後一般式（Ｉ）で表される重合開始
剤以外の溶媒や試薬を常法により除去して、一般式（Ｉ）で表される重合開始剤を取り出
す。得られた一般式（Ｉ）で表される重合開始剤を、例えば２０ｗｔ％の濃度で後の工程
ａ）で使用する重合溶媒に溶解させ、目視により塩の析出や白濁が見られないかを確認す
ることができる。

上述の通り、重合開始剤の原料である一価アルコールが水分を含んだ状態で重合開始剤
を調製して、その重合開始剤を用いてアルキレンオキシドとの重合を行うと、ジオールポ
リマーが副生する。ジオールポリマーは目的物から分離することが極めて難しく、ジオー
ルポリマーやそれ由来の不純物を含むポリマーをそのまま使用すると、ポリマーミセル化
剤の目的の性能が得られなくなる可能性が高い。そのため、後の工程ａ）において重合反
応を行う際には、一般式（Ｉ）で表される化合物（重合開始剤）を含む反応系の水分を極
力低く抑えることが好ましい。これに関して、一般式（Ｉ）で表される化合物の前駆体で
ある上記一般式（ｉ）で表される化合物は、例えば、Ｒ_Ａ ^１ａ＝Ｒ_Ａ ^１ｂ＝トリエチルシ
リル基、Ｒ_Ａ ^２＝ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２、Ｒ_Ａ ^３＝ＯＣＨ_２ＣＨ_２の場合、沸点が１２０℃
（１０Ｐａ）と高く、水との沸点差が十分にあるため、減圧乾燥を行うことにより水を分
離することが可能である。そのため、前工程２における一般式（ｉ）で表される化合物と
アルカリ金属又はアルカリ金属化合物との反応前には、一般式（ｉ）で表される化合物に
対して、十分に減圧乾燥を行った後に蒸留を行うことが好ましい。蒸留後の一般式（ｉ）
で表される化合物の含水率は、例えば５０ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、さら
に好ましくは５ｐｐｍ以下となるようにする。このように重合開始剤の原料である一般式
（ｉ）で表される化合物を水分を極力含まない状態とすることにより、得られた重合開始
剤を用いて重合反応を行う際に、ジオールポリマーの副生をより良く抑えることができる
。

なお、前工程２で使用した一般式（ｉ）で表される原料アルコールの物質量と前工程２
終了後の反応溶液の全体の重さから、前工程２の終了後の反応溶液（重合開始剤合成後の
反応溶液）中の、重合開始剤として働きうる物質の濃度（ｍｍｏｌ／ｇ）を求めることが
できる。すなわち、前工程２終了後の反応溶液中の、重合開始剤として働きうる物質の濃
度は、「使用した原料アルコール（ｉ）の物質量（ｍｍｏｌ）／前工程２終了後の反応溶
液全体の重さ（ｇ）」で求めることができる。前工程２終了後の反応溶液中に一般式（ｉ
）で表される原料アルコールが残っている場合には、その原料アルコールも重合開始剤と
して働くためである。（次工程ａ）における反応は平衡反応であるため、一般式（Ｉ）で
表される化合物が重合開始剤として反応し生成したポリマー末端アルコキシドが原料アル
コール（ｉ）のプロトンを引き抜き、アルコキシド（重合開始剤）として働かせる。）た
だし後述のように、前工程２の終了後の反応溶液中の原料アルコール残量はできるだけ少
ないことが望ましい。前工程２の終了後の反応溶液は、そのまま後の工程ａ）における重
合開始剤溶液として用いることができる。

従来、一般的に用いられている重合開始剤であるナトリウム塩やカリウム塩は、ＴＨＦ
などの重合溶媒には単独では溶解しないことが多い。その場合、均一な重合を行うために
は開始剤原料であるアルコールを過剰量残しておく必要がある（例えば特許文献４では重
合開始剤であるナトリウムメトキシド２ｍｏｌに対してメタノール１３ｍｏｌ）。しかし
、これらのアルコールが反応系中に存在すると、重合速度の低下が避けられず、重合速度
を上げるためには高温や高圧などの厳しい反応条件が必要となる。これに対し、本実施形
態で重合開始剤として用いる一般式（Ｉ）で表されるアミノ基が保護基で保護されたアル
コール誘導体は、分子内の構造に重合溶媒と類似の構造を有するため、重合溶媒に易溶で
ある。例えば、Ｒ_Ａ ^３がオキシエチレン構造を有する場合、一般式（Ｉ）で表される化合
物はＴＨＦやジエチレングリコールジメチルエーテルなどを含むエーテル化合物に易溶で
ある。そのため、重合開始剤の重合溶媒への溶解のために、開始剤原料アルコールを残し
ておく必要がない。そのため、重合速度が向上し、かつ温和な条件下での重合が可能であ
る。

このように、次の工程ａ）において温和な条件で十分な反応速度を得るためには、前工
程２において、開始剤原料アルコール残量が少ない重合開始剤を合成することが好ましい
。具体的には、一般式（ｉ）で表される開始剤原料アルコールから一般式（Ｉ）で表され
る重合開始剤を合成した後の、一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と一般式（ｉ）で表さ
れる開始剤原料アルコールの物質量比率が、１００：０〜８０：２０（ｍｏｌ％）となる
ことが好ましく、さらに好ましくは１００：０〜９０：１０（ｍｏｌ％）となるように反
応させる。そのためには、前工程２を、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の使用モル
数が一般式（ｉ）で表される化合物の０．８〜１．５、好ましくは０．９〜１．０となる
ような条件で行うことが好ましい。

また、上述の一般式（Ｉ）で表される重合開始剤を合成した後に、一般式（ｉ）で表さ
れる開始剤原料アルコールを反応系から減圧留去することも可能である。その場合、前工
程２の終了後の一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と一般式（ｉ）で表される開始剤原料
アルコールの物質量比率が１００：０〜９８：２（ｍｏｌ％）となるまで原料アルコール
を除去することが好ましく、さらに好ましくは１００：０〜９９：１（ｍｏｌ％）となる
まで原料アルコールを除去することが好ましい。原料アルコール残量を少なくすることで
、次の工程ａ）における重合速度をより高めることができる。

本実施形態では、上述の通り、重合開始剤の重合溶媒への溶解度向上要因であり、一方
重合速度低下要因でもある、一般式（ｉ）で表される開始剤原料アルコール化合物が残っ
ておらずとも、開始剤である一般式（Ｉ）で表される化合物を重合溶媒に溶解することが
できる。その役割を果たす構造が一般式（Ｉ）中のＲ_Ａ ^３であり、例えば重合溶媒がＴＨ
Ｆの場合、好ましくはＲ_Ａ ^３を、上記した一般式（ＶＩＩ）で表される構造（（ＯＲ_Ａ ^５
）_ｐ）とすることで、重合開始剤と重合溶媒の相溶性が高まり、開始剤原料アルコールの
実質的な存在なしに重合開始剤が重合溶媒へと溶解することができる。結果、均一な系で
の重合が可能となり、狭分散ポリアルキレングリコール誘導体を温和な条件で合成するこ
とが可能となる。

［工程ａ）］
工程ａ）は、上記一般式（Ｉ）で表される化合物（重合開始剤）とアルキレンオキシド
とを重合溶媒中で反応させる工程である。工程ａ）によれば、下記一般式（Ｉ−１）で表
される化合物を得ることができる。

工程ａ）では、好ましくは一般式（Ｉ）で表される化合物を重合溶媒中に完全に溶解さ
せた後、アルキレンオキシドと反応させる。上記のように、一般式（Ｉ）で表される化合
物は、その原料アルコールである一般式（ｉ）で表される化合物が実質的に存在しなくと
も重合溶媒に易溶である。中でも、重合溶媒との高相溶性の観点からは、一般式（Ｉ）中
のＲ_Ａ ^３は、上記した一般式（ＶＩＩ）で表されるアルキレンオキシド構造（−（ＯＲ_Ａ
^５）_Ｐ−）を有することが好ましい。一般式（Ｉ）で表される化合物が重合溶媒中に完全
に溶解できたことは、例えば目視により重合溶媒中に塩の析出や白濁が見られないことで
確認することができる。この際、一般式（Ｉ）で表される化合物の質量に対する重合溶媒
の質量が１０倍量以下（かつ１倍量以上）の状態で、塩の析出や白濁が見られないことが
望ましい。すなわち、一般式（Ｉ）で表される化合物を含む重合溶媒溶液中の一般式（Ｉ
）で表される化合物の濃度としては、９．１重量％以上（かつ５０重量％以下）の状態で
、塩の析出や白濁が見られないことが望ましい。上記のように一般式（Ｉ）で表される化
合物が重合溶媒中に完全に溶解できたことを確認した後は、確認時の濃度のまま一般式（
Ｉ）で表される化合物を含む重合溶媒溶液を重合反応に使用してもよいし、更に重合溶媒
を加えて希釈した状態で重合反応に使用してもよい。なお、重合溶媒の量は、重合反応開
始時において、使用するアルキレンオキシドの質量に対して、例えば１〜５０倍量、好ま
しくは２〜２５倍量となるように調整されればよい。

また、上記のように、原料アルコールの存在は重合速度の低下要因となるため、工程ａ
）では、原料アルコールが少ない状態で重合開始剤を用いることが好ましい。例えば、工
程ａ）の前に上記の前工程２を実施した場合には、前工程２で得られた、好ましくは１０
０：０〜８０：２０の物質量比率で一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と一般式（ｉ）で
表される原料アルコールとを含む反応生成物（原料アルコールの少ない反応生成物）を、
そのまま重合溶媒に溶解させて使用することが好ましい。

工程ａ）で使用する重合溶媒としては、重合開始剤との高相溶性の観点から、炭素数４
〜１０の環状エーテル化合物や直鎖状、もしくは分岐状のエーテル化合物が好ましく用い
られる。環状エーテル化合物の具体例としては、フラン、２，３−ジヒドロフラン、２，
５−ジヒドロフラン、２，３−ジメチルフラン、２，５−ジメチルフラン、テトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、２
，５−ジメチルテトラヒドロフラン、１，２−メチレンジオキシベンゼン、１，３−ジオ
キソラン、２−メチル−１,３−ジオキソラン、４−メチル−１,３−ジオキソラン、２，
２−ジメチル−１,３−ジオキソラン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、テトラヒドロ
ピラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、２，４−ジメチル−１，３−ジオキ
サン、１，４−ベンゾジオキサン、１，３，５−トリオキサン、オキセパン等が例示でき
るが、これらに限定はされない。直鎖状、もしくは分岐状のエーテル化合物の具体例とし
てはモノエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が例示できるが、これらに限定はされない
。特にＴＨＦが好ましく用いられる。また、エーテル化合物以外の重合溶媒を使用するこ
とも可能であり、その具体例としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類等が例示出来るが、これらに限定はされない。用いる重合溶媒は、単体溶剤でも良いし
、二種以上を組み合わせて用いても良く、組み合わせる場合の、化合物の組み合わせ、並
びにその混合比は限定されない。

重合反応に使用する重合溶媒の量は特に限定されないが、使用するアルキレンオキシド
の質量に対して、例えば１〜５０倍量、好ましくは２〜３０倍量、さらに好ましくは３〜
２０倍量である。重合溶媒は、例えば、金属ナトリウム等の脱水剤を用いて蒸留したもの
を使用することが好ましい。重合溶媒の含水率は、例えば５０ｐｐｍ以下、好ましくは１
０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５ｐｐｍ以下である。

使用するアルキレンオキシドの具体例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ドが挙げられる。中でも、重合性が高いという点でエチレンオキシドが好ましい。重合反
応に使用する一般式（Ｉ）で表される化合物とアルキレンオキシドとの使用量比としては
、特に限定されないが、一般式（Ｉ）で表される化合物：アルキレンオキシドの物質量比
として、例えば１：１〜１：４５０、好ましくは１：１０〜１：４００である。

工程ａ）では、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物を重合溶媒中に溶解させた反応
系にアルキレンオキシドを一括添加しても良いし、逐次添加しても良い。あるいは上述の
重合溶媒にアルキレンオキシドを溶解した溶液を、上記の反応系に滴下しても良い。重合
は、例えば３０〜８０℃の温度で行うことができるが、好ましくは５０〜８０℃、さらに
好ましくは６０〜８０℃の温度で実施する。重合反応時の圧力は、例えば１．０ＭＰａ以
下、好ましくは０．５ＭＰａ以下である。重合反応の進行度はＧＰＣで追跡することがで
き、アルキレンオキシドの転化率に変化がなくなった時点を終点とすることができる。本
実施形態では上記のように、重合に際して高温や高圧などの厳しい反応条件を必要としな
い点で有利である。

［工程ｂ）］
工程ｂ）は、工程ａ）で得られた上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物と下記一般式
（Ｉ−２）で表される化合物とを反応させる工程である。工程ｂ）により、下記一般式（
ＩＩ）で表される化合物を得ることができる。
Ｒ_Ａ ^４（ＯＲ_Ａ ^５）_ｋＬ （Ｉ−２）

工程ｂ）において、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物を合成する際には、例えば、
工程ａ）の反応終了後の反応液（（Ｉ−１）を含む反応液）中に、一般式（Ｉ−２）で表
される化合物を直接添加しても良いし、必要に応じて適切な溶媒に一般式（Ｉ−２）で表
される化合物を溶解させて使用しても良い。使用する溶媒の具体例としては、ＴＨＦや１
、４−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
を例示することができる。溶媒の使用量は特に限定されないが、上記一般式（Ｉ−２）で
表される化合物の質量に対して、例えば１〜５０倍量、好ましくは２〜１０倍量、さらに
好ましくは２〜５倍量である。反応は０〜１００℃の温度で、好ましくは、４０〜７０℃
の温度で行うことができ、必要に応じて反応系の冷却や加熱を行う。使用する一般式（Ｉ
−２）で表される化合物の量は、上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物のモル数に対し
、例えば１〜５０当量、好ましくは１〜４０当量、さらに好ましくは１〜３０当量である
。反応の進行度は^１Ｈ−ＮＭＲで追跡することができ、反応液を水でクエンチした際に生
じる水酸基由来のピークが消失した時点を終点とすることができる。

工程ｂ）の反応は、触媒なしでも進行するが、塩基触媒を用いることにより加速するこ
とができる。塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアン
モニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム
などの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類
、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環ア
ミン類、アンモニア水等を使用することができるが、これらには限定されない。塩基触媒
の使用量は、上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物のモル数に対し、例えば０．１〜３
０倍量、好ましくは１〜２０倍量である。

工程ｂ）においては、一般式（Ｉ−１）で表される化合物と、一般式（Ｉ−２）で表さ
れる化合物との反応により生成するアルカリ金属塩を分離するために、アルカリ吸着剤を
さらに用いても良い。好適なアルカリ吸着剤としては水酸化アルミニウム（例えば、協和
化学工業社製「キョーワード２００」）、合成ハイドロタルサイド（例えば、協和化学工
業社製「キョーワード５００」）、合成珪酸マグネシウム（例えば、協和化学工業社製「
キョーワード６００」）、合成珪酸アルミニウム（例えば、協和化学工業社製「キョーワ
ード７００」、酸化アルミニウム・酸化マグネシウム固溶体（例えば、協和化学工業社製
「ＫＷ−２０００」）、富田製薬（株）製「トミタＡＤ７００ＮＳ」）が用いられるが、
これらに限定はされない。中でもイオン捕捉能が高いことからＫＷ−２０００が好ましい
。アルカリ吸着剤の使用量は一般式（ＩＩ）で表される化合物の質量に対して０．０１〜
１０倍量、好ましくは０．１〜８倍量、さらに好ましくは０．３〜６倍量であるが特に限
定はされない。アルカリ吸着剤は、上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物と、一般式（
Ｉ−２）で表される化合物との反応が終了した時点で、反応液に直接投入することもでき
るし、反応が終了し生成したアルカリ金属塩をろ過した後に反応液に投入してもよい。投
入後０．５〜６時間反応させた後、ろ過により除去を行うことができるが反応時間は特に
限定されない。吸着材を用いる時の方法としてはバッチ式として反応溶液中に吸着材を添
加、撹拌してもよいし、カラム式として吸着材を充填したカラム上に反応溶液を通過させ
てもよい。吸着処理を行う場合の溶媒の具体例としては、ＴＨＦ、１、４−ジオキサンな
どのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、
酢酸ｎ−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされ
ない。塩の吸着能を高めるためにはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
等が好ましい。これらの溶媒は、単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合
して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。

一般式（ＩＩ）で表される化合物が固体である場合は、次工程ｃ）に移る前に固体とし
て取り出して使用することができる。その場合、反応液をそのまま又は濃縮後、貧溶媒に
滴下して晶析を行うことができる。濃縮する際は、一般式（ＩＩ）で表される化合物の濃
度が、例えば１０〜５０質量％、好ましくは１５〜４５質量％、さらに好ましくは２０〜
４０質量％となるように調製する。

濃縮を行う際、一般式（ＩＩ）で表される化合物の良溶媒に溶媒置換して晶析を行って
も良い。その場合の良溶媒としては、ＴＨＦ、１、４−ジオキサンなどのエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、γ−
ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（
ＤＭＦ）、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされない。これらの溶媒は
単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場
合、混合比に関しては特に限定されない。溶媒置換後の一般式（ＩＩ）で表される化合物
の濃度は、例えば５〜５０質量％、好ましくは１０〜４０質量％、さらに好ましくは１０
〜３０質量％である。

貧溶媒としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物の溶解性が低いものが用いられ、例
えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭化水素類やジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル等のエーテル類が好適に用いられる。貧溶媒の使用
量は特に限定されないが、一般式（ＩＩ）で表される化合物の質量に対して、例えば５〜
１００倍量、好ましくは５〜５０倍量、さらに好ましくは５〜２０倍量の貧溶媒を使用す
る。貧溶媒は単独で用いることもできる他、他の溶媒と混合して使用することも可能であ
る。混合する他の溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、γ−ブチロラクトン等の
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、１、４−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメチルスルホキ
シド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル等が例示
できるがこれらに限定はされない。

工程ｂ）では、晶析により固体を析出させた後、必要に応じて固体の洗浄を行い、精製
を行っても良い。洗浄に用いる溶媒は上述と同じ貧溶媒であることが好ましいが、洗浄溶
媒の使用量も含めて特に限定はされない。得られた固体を減圧下で乾燥させることにより
、一般式（ＩＩ）で表される化合物を固体として取り出すことができる。

先の工程ａ）におけるアルキレンオキシドの重合時に水が混入した場合、先述のように
ジオール誘導体が生成し、さらに工程ｂ）を経ることにより、下記一般式（ＶＩＩＩ）で
表されるジオール誘導体が生成する。
Ｒ_Ａ ^４（ＯＲ_Ａ ^５）_ｑＯＲ_Ａ ^４ （ＶＩＩＩ）
（上記一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ_Ａ ^４及びＲ_Ａ ^５は一般式（ＩＩ）について定義したとお
りであって、一般式（ＩＩ）のＲ_Ａ ^４及びＲ_Ａ ^５と同一である。ｑは１〜８９０の整数で
ある。）

上記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるジオール誘導体は、水が重合開始剤として働いた場
合に生成するため、一般式（Ｉ）で表される重合開始剤が機能した場合とは違い、両末端
から重合が進行する。そのためｑとしては上述の一般式（Ｉ−１）中のｒの２倍程度であ
り、例えば１〜８９０の整数を表し、好ましくは２０〜７９０、さらに好ましくは４０〜
６９０である。本実施形態では、好ましくは上述のとおり反応系中の水分量を低く抑えた
状態で重合反応を行うことにより、上記のようなジオール誘導体の生成を抑制することが
できる。

また、従来の特許文献４及び特許文献５に記載の合成法では、重合末端をシアノエチル
基、次いでアミノ基へと変換するため、ジオール不純物は最終的に両末端がアミノ基の化
合物へと誘導されるが、この化合物は目的化合物と類似の末端構造を有するため、後述す
るような陽イオン交換樹脂を用いた精製法では分離することが出来ない。これに対し、本
実施形態では、上記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるジオール誘導体は一般式（ＩＩＩ）で
表される目的化合物と末端構造が異なる。このため、例えば後述するような陽イオン交換
樹脂を用いた精製により分離することが可能であり、その結果、純度の高いアミノ基を有
するポリアルキレングリコール誘導体（ＩＩＩ）を合成することが出来る。

［工程ｃ）］
工程ｃ）では、工程ｂ）で得られた上記一般式（ＩＩ）で表される化合物における保護
基の脱保護を行う。この脱保護は、重金属触媒を使用することなく行われることが好まし
い。なお、ここでいう重金属触媒は、例えばＣｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｃｕ
、Ｃｒ等の重金属を原料とした触媒である。工程ｃ）において、重金属触媒を用いずに脱
保護を行う際の方法としては、例えば上記一般式（ＩＩ）中のＲ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１
ｂがシリル基の場合（上記（ア）の場合）は、酸触媒下で、水又はアルコール（Ｒ^６ＯＨ
：式中Ｒ^６は炭素数１〜５の炭化水素基である）と上記一般式（ＩＩ）で表される化合物
とを反応させることにより一般式（ＩＩＩ）で表される化合物へと変換することができる
。使用する酸触媒の具体例や使用量は後述の実施形態２で記載するとおりである。

また、例えばＲ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂがｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基の場
合（上記（イ）の場合）は、トリフルオロ酢酸や塩酸などの強酸を上記一般式（ＩＩ）で
表される化合物に作用させることで脱保護できる。これらの強酸の使用量としては、一般
式（ＩＩ）で表される化合物のモル数の、例えば０．０１〜１０００当量、好ましくは０
．１〜１００当量、さらに好ましくは１〜１０当量である。

例えばＲ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂがＮ−フタロイル基の場合（上記（ウ）の場合）は、アル
コール中でヒドラジン水和物を上記一般式（ＩＩ）で表される化合物と反応させることで
、フタロイル基が脱離できる。使用されるアルコールとしては、メタノール、エタノール
、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−
ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどが例示できる。アルコールの使用量
としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物の質量に対して、例えば１〜１００倍量、好
ましくは３〜５０倍量、さらに好ましくは５〜１０倍量である。使用されるヒドラジン水
和物の使用量としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物のモル数の、例えば１〜５０当
量、好ましくは２〜２０当量、さらに好ましくは３〜１０当量である。

例えばＲ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂがベンジル基やアリル基の場合（上記（エ）の場合
）は、液体アンモニウムと金属ナトリウムを使用するバーチ還元の条件で、上記一般式（
ＩＩ）で表される化合物の脱保護を行うことができる。使用される液体アンモニウムの使
用量としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物の質量に対して、例えば１〜１００倍量
、好ましくは３〜５０倍量、さらに好ましくは５〜１０倍量である。使用される金属ナト
リウムの使用量としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物のモル数の、例えば２〜５０
当量、好ましくは２〜１０当量、さらに好ましくは２〜５当量である。以上の例のように
重金属触媒を使用しない条件を適切に選択することにより脱保護を行うことができ、その
条件は限定されない。

なお、工程ｃ）の脱保護は上記の通り重金属触媒を使用することなく行われることが好
ましいが、重金属触媒を使用して行うことも可能である。例えば、本発明の製造方法によ
り得られるポリアルキレングリコール誘導体を、重金属の混入が本質的な問題とならない
用途（例えば化粧品、育毛剤、界面活性剤等）に使用する場合等には、工程ｃ）において
このような重金属触媒を使用することも考えられる。工程ｃ）が重金属触媒を使用して行
われる場合、上記したような一般的な重金属触媒を常法により使用すればよく、その方法
は特に制限されない。

酸触媒により脱保護後した場合、生成した一般式（ＩＩＩ）で表されるアミンと酸が塩
を形成し酸を除去できないことがある。その際、生成した塩基性化合物を添加して酸と反
応させると添加した塩基性化合物と酸の塩が形成し、一般式（ＩＩＩ）で表されるアミン
を取り出すことができる。このとき生成した塩はろ過により除去することができる。生じ
た塩がポリマー内に取り込まれてしまった場合、吸着材を用いて塩を除去することができ
る。そのときの吸着材としては上述の工程ｂ）に記載したような吸着材を使うことができ
るが特に限定はされない。吸着剤の使用量は一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の質量に
対して０．０１〜１０倍量、好ましくは０．１〜８倍量、さらに好ましくは０．３〜６倍
量であるが特に限定はされない。用いる塩基性化合物としては、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ドなどが挙げられるがこれらに限定はされない。塩基性化合物の添加量は、脱保護に使用
した酸触媒のモル数に対して、例えば１〜１０当量、好ましくは１〜５当量、さらに好ま
しくは１〜２当量である。ろ過を行う際の溶媒としては反応溶媒をそのまま用いてもよい
し、塩が析出しやすい溶媒に置換してからろ過しても良い。塩が析出しやすい溶媒の具体
例としては、ＴＨＦ、１、４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエ
ステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメ
チルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニト
リル等が例示できるが、これらに限定はされない。ろ過性を高めるためにはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が好ましい。これらの溶媒は、単独で用いるこ
ともできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関
しては特に限定されない。

酸触媒を除去する際、塩基性化合物を添加せずに直接吸着材を反応系に添加することも
できるが、その場合ろ過性が低下する可能性があるため上述の塩基性化合物を添加した後
に吸着材を使用することが好ましい。

脱保護後は、例えばそのまま貧溶媒で一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の晶析を行っ
てもよいし、良溶媒に置換してから晶析をおこなってもよく、また上述の塩基性化合物と
の反応と吸着材処理をしてから晶析を行ってもよい。その場合の良溶媒の具体例としては
、ＴＨＦ、１、４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホ
キシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル等が例
示できるが、これらに限定はされない。これらの溶媒は、単独で用いることもできるし、
一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定
されない。溶媒置換後の濃度は、例えば５〜５０質量％、好ましくは１０〜４０質量％、
さらに好ましくは１０〜３０質量％である。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の晶析に使用される貧溶媒としては、一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される化合物の溶解性が低いものが用いられる。貧溶媒の具体例としては、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタン、シクロオクタンなどの炭化水素やジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
、ジ−ｎ−ブチルエーテルなどのエーテル類が好適に用いられる。貧溶媒の使用量は特に
限定されないが、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の質量に対して、例えば５〜１００
倍量、好ましくは５〜５０倍量、さらに好ましくは５〜２０倍量の溶媒を使用する。貧溶
媒は単独で用いることもできる他、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。ま
た、他の溶媒と混合して使用することも可能である。混合することができる、他の溶媒と
しては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１、４−ジオキ
サン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル等が例示できるがこれらに限定は
されない。貧溶媒として二種以上の溶媒を混合して用いる場合、混合比に関しては特に限
定されない。

工程ｃ）では、晶析により、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の固体を析出させた後
、必要に応じて固体の洗浄を行い、精製を行っても良い。洗浄に用いる溶媒は、上述と同
じ貧溶媒であることが望ましいが、洗浄溶媒の使用量も含めて特に限定はされない。得ら
れた固体を減圧下で乾燥させることにより、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を固体と
して取り出すことができる。

なお、本実施形態においては、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物のアミノ基は上記の
工程ｃ）における脱保護により得られるため、例えば特許文献５に記載の方法で生成しう
る副生成物（下記（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物）は実質的に生成せず、最終的に
一般式（ＩＩＩ）で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度なポリアルキレン
グリコール誘導体を合成することができる。これに対し、例えば特許文献５に記載の方法
でシアノエチル化物を水素還元してアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体へ
導く場合、アクリロニトリルのβ脱離を伴うため下記一般式（ＶＩ）で示されるＰＥＧ誘
導体の生成を防げない。また、上記水素還元工程ではニトリルの還元中間体であるイミン
に生成物のアミンが付加することにより、下記一般式（ＩＶ）、（Ｖ）で表される２級、
３級アミン化合物が副生する可能性がある。これらの副反応は反応系へのアンモニアや酢
酸の添加により抑制することが出来るものの、従来の方法で完全に制御することは困難で
ある。

（上記一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）中、Ｒ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、Ｒ_Ａ ^４、Ｒ_Ａ ^５、及びｎは上記一
般式（ＩＩＩ）中のＲ_Ａ ^２、Ｒ_Ａ ^３、Ｒ_Ａ ^４、Ｒ_Ａ ^５、及びｎと同一である。）

［後処理工程］
工程ｃ）の後には、任意選択的に、強酸性陽イオン交換樹脂を用いて一般式(ＩＩＩ)で
表される化合物の精製を行う、後処理工程を実施することができる。また、工程ｂ）で得
られた一般式（ＩＩ）で表される化合物における保護基が酸で脱保護できる保護基である
場合には、工程ｂ）の後に、この強酸性陽イオン交換樹脂による後処理工程を行うことに
より、脱保護も同時に行うことができ、工程簡略化を行うことができる。すなわちこの場
合は、工程ｃ）（一般式（ＩＩ）で表される化合物の脱保護により一般式（ＩＩＩ）で表
される化合物を得る工程）は、具体的には以下の後処理工程の操作により実施することが
できる。

後処理工程では、工程ｃ）で得られた一般式(ＩＩＩ)で表される化合物を含む反応生成
物（粗生成物）又は工程ｂ）で得られた一般式（ＩＩ）で表される化合物を含む反応生成
物（粗生成物）を、強酸性陽イオン交換樹脂と反応させる。工程ｃ）又は工程ｂ）で得ら
れた粗生成物と強酸性陽イオン交換樹脂とを反応させる方法としては、イオン交換樹脂を
充填したカラムに粗生成物溶液を流して吸着させる方法や、樹脂が充填されたカートリッ
ジと工程ｃ）又は工程ｂ）を実施した反応槽の間で粗生成物溶液を循環させる方法等が挙
げられるが、反応の方法については特に限定されない。また、工程ｂ）の後に後処理工程
を行う場合は、強酸性陽イオン交換樹脂の触媒下で、一般式（ＩＩ）で表される化合物と
水又は炭素数１〜５の一価アルコール溶媒とを反応させることで、脱保護の後に、一般式
(ＩＩＩ)で表される化合物を強酸性陽イオン交換樹脂に吸着させることができる。

強酸性陽イオン交換樹脂の具体例としては、オルガノ(株)製アンバーライトシリーズ（
ＩＲ１２０Ｂ、ＩＲ１２４Ｂ、２００ＣＴ、２５２）、オルガノ(株)製アンバージェット
シリーズ（１０２０、１０２４、１０６０、１２２０）、三菱化学(株)製ダイヤイオンシ
リーズ（例えば、ＳＫ１０４、ＳＫ１Ｂ、ＳＫ１１０、ＳＫ１１２、ＰＫ２０８、ＰＫ２
１２、ＰＫ２１６、ＰＫ２１８、ＰＫ２２０、ＰＫ２２８、ＵＢＫ０８、ＵＢＫ１０、Ｕ
ＢＫ１２、ＵＢＫ５１０Ｌ、ＵＢＫ５３０、ＵＢＫ５５０）、ダウ・ケミカル(株)製ＤＯ
ＷＥＸシリーズ（５０Ｗ×２ ５０−１００、５０Ｗ×２ １００−２００、５０Ｗ×４
１００−２００、５０Ｗ×８ ５０−１００、５０Ｗ×８ １００−２００、５０Ｗ×８
２００−４００、ＨＣＲ−Ｓ、ＨＣＲ−Ｗ２（Ｈ)）などが好適に用いられるが、これら
に限定はされない。強酸性陽イオン交換樹脂の使用量としては、一般式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物の質量の、例えば１〜５０倍量、好ましくは１〜３０倍量、さらに好ましくは
１〜２０倍量である。

強酸性陽イオン交換樹脂を用いる場合、事前に強酸性陽イオン交換樹脂を酸性化合物で
処理してから使用しても良い。強酸性陽イオン交換樹脂はスルホン酸のアルカリ金属塩の
状態で販売されていることも多く、酸性化合物で事前に処理して用いることでスルホ基が
再生され、反応効率を上げることが可能であるためである。この場合、用いられる酸性化
合物としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸などの無機酸類等が例示できるが、
これらに限定はされない。これらの酸性化合物の使用量は、強酸性陽イオン交換樹脂の質
量の、例えば１〜１５倍量、好ましくは１〜１０倍量、さらに好ましくは１〜８倍量であ
る。強酸性陽イオン交換樹脂を酸性化合物で処理した後、水洗によって樹脂中から酸性化
合物を分離し、必要に応じてメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶媒で水を分離す
る。

この後処理工程では、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物以外の不純物（上記一般式（
ＶＩＩＩ）で表される化合物や塩など）を分離することもできる。すなわち、工程ｃ）又
は工程ｂ）後の粗生成物を強酸性陽イオン交換樹脂と反応させて、強酸性陽イオン交換樹
脂に一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を吸着させた後、水又は炭素数１〜５の一価アル
コールで強酸性陽イオン交換樹脂を洗浄することにより、一般式（ＩＩＩ）で表される目
的化合物以外の物質を分離することができる。この洗浄の際に使用する炭素数１〜５の一
価アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ｎ−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール
などが例示できるが、これらには限定されない。洗浄を行う際、水又は一価アルコールを
単独で用いることもできるし、水と一種以上のアルコールの混合物、又は二種以上のアル
コールの混合物を用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。
使用する水又は炭素数１〜５の一価アルコールの使用量は特に限定されないが、使用した
強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して、例えば１〜３０倍量、好ましくは１〜２０倍量
、さらに好ましくは１〜１０倍量である。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を吸着させた強酸性陽イオン交換樹脂を、水又は炭
素数１〜５の一価アルコール中で塩基性化合物と反応させることにより、一般式（ＩＩＩ
）で表される化合物を水又は一価アルコール中に抽出する。反応を行う際、水又は一価ア
ルコールを単独で用いることもできるし、水と一種以上のアルコールの混合物、又は二種
以上のアルコールの混合物を用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定
されない。強酸性陽イオン交換樹脂を塩基性化合物と反応させる方法としては、充填した
カラムに塩基性化合物の溶液を流して反応させる方法や、樹脂が充填されたカートリッジ
と工程ｃ）を実施した反応槽の間で塩基性化合物の溶液を循環させる方法等を挙げること
ができるが、反応の方法については特に限定されない。

抽出の際に用いる一価アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール
、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ネ
オペンチルアルコールなどが例示できる。水又は一価アルコールの使用量は特に限定され
ないが、使用した強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して、例えば１〜３０倍量、好まし
くは１〜２０倍量、さらに好ましくは１〜１０倍量である。

抽出の際に用いる塩基性化合物としては、水又は有機溶媒に溶解したアンモニア（例え
ば、アンモニア水やアンモニアのメタノール溶液など）が好適に用いられるが、第一級、
第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類等も
使用することができる。第一級の脂肪族アミン類としては、メチルアミン、エチルアミン
、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｓ
ｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、エチレンジアミン等、第二級の脂肪族ア
ミン類としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン
等、第三級の脂肪族アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ
−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチル
アミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン等、混成アミン類としては、例えばジメチルエチル
アミン、メチルエチルプロピルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、ベンジルジ
メチルアミン等、芳香族アミン類及び複素環アミン類の具体例としては、アニリン誘導体
（例えばアニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニ
リン、エチルアニリン、プロピルアニリン、トリメチルアニリン、２−ニトロアニリン、
３−ニトロアニリン、４−ニトロアニリン、２，４−ジニトロアニリン、２，６−ジニト
ロアニリン、３，５−ジニトロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルトルイジン等）、ジフェニル
（ｐ−トリル）アミン、メチルジフェニルアミン、トリフェニルアミン、フェニレンジア
ミン、ナフチルアミン、ジアミノナフタレンやピリジン誘導体（例えばピリジン、メチル
ピリジン、エチルピリジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、４−（１−ブチルペン
チル）ピリジン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、トリエチルピリジン、フェニ
ルピリジン、３−メチル−２−フェニルピリジン、４−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン、ジフ
ェニルピリジン、ベンジルピリジン、メトキシピリジン、ブトキシピリジン、ジメトキシ
ピリジン、４−ピロリジノピリジン、２−（１−エチルプロピル）ピリジン、アミノピリ
ジン、ジメチルアミノピリジン等）等が例示できるが、これらに限定はされない。また、
塩基性化合物として水酸化カリウムや水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を使用するこ
ともできる。塩基性化合物の使用量は、使用した強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して
、例えば０．１〜１００倍量、好ましくは０．１〜１０倍量、さらに好ましくは０．１〜
５倍量である。

このように、工程ａ）〜ｃ）を実施することで、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ
）の前及び／又は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施することで、一般
式（ＩＩＩ）で表される化合物（末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキ
レングリコール誘導体）を製造することができる。

すなわち本発明は、また別の局面によれば、上記製造方法により得られた一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘
導体に関するものである。

工程ａ）〜ｃ）の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ）の前及び／又
は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施して得られる一般式（ＩＩＩ）で
表される化合物は、重合時、開始反応が成長反応より十分に早く、また停止反応の要因で
ある水分の反応系への混入が少なく、さらに重合開始剤が重合溶媒中に均一に溶解してい
るため、狭分散ポリマーとして得ることができる。すなわち、本実施形態の製造方法によ
り製造される上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、狭分散性であり、その分散度（
重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、例えば１．０〜１．２０であり、
好ましくは１．０〜１．１０であり、さらに好ましくは１．０〜１．０６である。また、
本実施形態の製造方法により製造される上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の分子量
は、重量平均分子量（Ｍｗ）として、５，０００〜２５，０００が好ましく、８，０００
〜１５，０００がより好ましい。なお、本明細書において、ポリマーの分子量及び分散度
は、ゲル浸透クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記）を用いて測定を行った場合の値
をいうものとする。

工程ａ）〜ｃ）の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ）の前及び／又
は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、一般式
(ＩＶ)で表される化合物及び一般式(Ｖ)で表される化合物の混入量としては、面積含有率
（％）で、一般式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)、及び（Ｖ）で表される化合物の総面積に対して、一
般式(ＩＶ)及び（Ｖ）で表される化合物の面積が３％以下であることが好ましく、より好
ましくは２％以下である。最も好ましくは、得られる生成物は、一般式(ＩＶ)で表される
化合物及び一般式(Ｖ)で表される化合物をいずれも含まないものである。なお、実際には
、本実施形態によると、一般式(ＩＶ) で表される化合物及び一般式(Ｖ)で表される化合
物はいずれも生成しない。上記一般式（ＩＶ）で表される２級アミン、及び一般式（Ｖ）
で表される３級アミンは、主生成物である一般式(ＩＩＩ)で表されるポリアルキレングリ
コール誘導体に対して２倍、３倍の分子量を有するため、ＧＰＣによって生成量を確認す
ることができる。

工程ａ）〜ｃ）の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ）の前及び／又
は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、一般式
（ＶＩ）で表される化合物の混入量としては、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及び一
般式（ＶＩ）で表される化合物の総物質量に対して、２ｍｏｌ％以下であることが好まし
く、より好ましくは１ｍｏｌ％以下である。最も好ましくは、得られる生成物は一般式(
ＶＩ)で表される化合物を含まないものである。なお、実際には、本実施形態によると、
一般式(ＶＩ)で表される化合物は生成しない。上記一般式（ＶＩ）で表される化合物は、
アルコールを官能基として有するため、プロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）により、主
生成物である一般式(ＩＩＩ)で表されるポリアルキレングリコール誘導体のアミンα位メ
チレンと比較して、組成比含有率（ｍｏｌ％）を求めることができる。

また、工程ａ）〜ｃ）の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ）の前及
び／又は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施して得られる生成物は、上
記したような、従来の方法で生成しうる副生成物（一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される
化合物）を実質的に含まないものである。具体的には、上記したＧＰＣ及び１Ｈ−ＮＭＲ
による測定結果から換算した、主生成物である一般式(ＩＩＩ)で表される化合物の総量を
Ｘ_Ａ、一般式(ＩＶ)、一般式（Ｖ）、及び一般式(ＶＩ)で表される化合物を含む副生成物
の総量をＸ_Ｂとしたとき、Ｘ_Ａ／（Ｘ_Ａ＋Ｘ_Ｂ）は０．９５以上であることが好ましく、
より好ましくは０．９７以上である。最も好ましくは、得られる生成物は上記のような副
生成物を含まないものである。なお、実際には、本実施形態によるとこれらの副生成物は
生成しない。

また、工程ａ）〜ｃ）の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程ａ）〜ｃ）の前及
び／又は後に、前工程１、２及び／又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、
高周波誘導結合プラズマ質量分析計（ＩＣＰ−ＭＳ）により測定された重金属不純物含有
量としては、１００ｐｐｂ以下が好ましく、さらに好ましくは１０ｐｐｂ以下である。上
記生成物中の重金属不純物量測定は、上記のＩＣＰ−ＭＳを用いて行うのが一般的だが、
この測定方法に限定はされない。ＩＣＰ−ＭＳにより分析を行う際はポリマーサンプルを
溶媒で希釈して測定を行う。用いる溶媒はポリマーが溶解し、かつ金属を含まないのもの
であることが必須である。超純水や電子工業用Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが特に好
ましいが、これらに限定はされない。希釈率は特に限定されないが、好ましくは１０〜１
００，０００倍、さらに好ましくは５０〜１，０００倍である。

上述の通り、例えば特許文献４や特許文献５に記載の従来の合成法ではラネーニッケル
触媒を用いてシアノ基をアミノメチル基に変換しているため、例えばポリアルキレングリ
コール誘導体を医薬品用途に使用する場合等では、生成物中への重金属の混入が懸念され
る。日米ＥＵ医薬品規制調和国際会議（ＩＣＨ）において報告された「ＩＣＨ Ｑ３Ｄ：
医薬品の金属不純物ガイドライン(案)」によると、金属不純物のうちリスクアセスメント
が必要な金属不純物としてクラス１にＡｓ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｈｇ、クラス２ＡにＶ、Ｍｏ、
Ｓｅ、Ｃｏ、クラス２ＢにＡｇ、Ａｕ、Ｔｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｒｕ、ク
ラス３にＳｂ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉが挙げられている。水素還元反応に
おいて使用される重金属としてはＣｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｃｒなど
が挙げられるが、これらはリスクアセスメントが必要な重金属として挙げられており、今
後ますます混入低減が求められている。これに対し、本実施形態の方法では上記のように
重金属触媒の使用を必要としないため、生成物中に重金属が混入しない。その結果、特に
医薬品用途に使用する一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を得るのに適した製造方法と言
える。

［実施形態２］
本発明は、上述した実施形態１の中でも、重合開始剤として、特にアミノ基をシリル基
で保護した下記一般式（１）で表される化合物及び／又は下記一般式（２）で表される化
合物（以下、省略して「一般式（１）及び／又は（２）で表される化合物」と示すことが
ある。他の化合物についても同様。）を用いることが好ましい。一般式（１）及び／又は
（２）で表される化合物は、重合溶媒への溶解性が高く、また重合開始剤として安定性が
高く、さらに重合後は酸触媒により容易に脱保護できるという利点がある。この重合開始
剤として一般式（１）及び／又は（２）で表される化合物を使用する実施形態を、以下「
実施形態２」と称する場合がある。なお、本実施形態２は上記実施形態１の好ましい態様
であるため、以下、重複する部分については記載を省略する。
なお、下記一般式（１）で表される化合物は、上記実施形態１における一般式（Ｉ）で
表される化合物において、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂが各々Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造で
あり、Ｒ_Ａ ^２がＲ^２であり、かつＲ_Ａ ^３が（ＯＲ^５）_ｍである化合物である。
また、下記一般式（２）で表される化合物は、上記実施形態１における一般式（Ｉ）で
表される化合物において、Ｒ_Ａ ^１ａ及びＲ_Ａ ^１ｂが各々Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造で
あり、Ｒ_Ａ ^２がＲ^３であり、かつＲ_Ａ ^３が単結合である化合物である。

本実施形態２における、重合開始剤として一般式（１）及び／又は（２）で表される化
合物を使用する場合のポリアルキレングリコール誘導体の製造方法を、工程ａ’）〜ｃ’
）として以下に記載する。下記に示す通り、重合開始剤として一般式（１）で表される化
合物を使用した場合、得られるポリアルキレングリコール誘導体は一般式（３）で表され
る化合物となり、重合開始剤として一般式（２）で表される化合物を使用した場合、得ら
れるポリアルキレングリコール誘導体は一般式（４）で表される化合物となる。

工程ａ’）一般式（１）及び／又は（２）で表される重合開始剤とアルキレンオキシド
とを重合溶媒中で反応させ、下記一般式（１２）及び／又は（１３）で表される化合物を
得る工程、
工程ｂ’）一般式（１２）及び／又は（１３）で表される化合物と下記一般式（５）で
表される化合物とを反応させ、下記一般式（１４）及び／又は（１５）で表される化合物
を得る工程、及び
工程ｃ’）一般式（１４）及び／又は（１５）で表される化合物を脱保護し、一般式（
３）及び／又は（４）で表される化合物を得る工程。

上記一般式（１）〜（２）及び（１２）〜（１５）中、Ｒ^１は、それぞれ独立して炭素
数１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基である。
あるいは、Ｒ^１は互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に３〜６員環を形成し
ていてもよい。Ｒ^１の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキ
シル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など
が挙げられる。また、Ｒ^１が互いに結合してケイ素原子と共に環を形成する場合はこれら
の基から水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。（なお、上記の通り、本実施形態
２におけるＲ^１は、上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^１ａ及び／又はＲ_Ａ ^１ｂとは定義が異な
る別個の符号であり、上記実施形態１に記載した「（ア）Ｓｉ（Ｒ^１）_３で表される構造
の保護基」中のＲ^１と同一である。）なお、窒素上に二つの保護基を導入することが容易
であり、後述する一般式（６）及び／又は（７）で表される化合物の合成がし易いという
観点からは、Ｒ^１としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、及びイソプロピル基が
好ましい。

上記一般式（１）、（３）、（１２）、及び（１４）中、Ｒ^２は、炭素数１〜６の直鎖
状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基である。Ｒ^２の具体例と
しては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のそれぞれから、水素原子が一つ脱
離した基などが挙げられる。なお、本実施形態２におけるＲ^２は、上記実施形態１におけ
るＲ_Ａ ^２に対応しており、その定義は上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^２の定義と同一である
。

上記一般式（２）、（４）、（１３）、及び（１５）中、Ｒ^３は、炭素数４〜６の直鎖
状の２価の炭化水素基である。Ｒ^３の具体例としては、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基のそれぞれから水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。なお、上記
の通り、本実施形態２におけるＲ^３は、上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^３とは定義が異なる
別個の符号である。

上記一般式（３）〜（５）及び（１４）〜（１５）中、Ｒ^４は、水素原子、或いは置換
されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１２の炭化水素基であり、かつ該
炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒ^４の具体例としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、フェニル基、０−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−
キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−
キシリル基、３，５−キシリル基、メシチル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。置換
された構造のＲ^４としては、例えば、アセタール化ホルミル基、シアノ基、ホルミル基、
カルボキシル基、アミノ基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のア
シルアミド基、同一又は異なるトリ（炭素数１〜６のアルキル）シロキシ基、シロキシ基
、シリルアミノ基、マレイミド基、チオール基、水酸基、メタクリロイルオキシ基、アク
リロイルオキシ基、活性エステル基、及びアジ基が挙げられる。置換基を有するＲ_Ａ ^４と
して具体的には、下記構造式で表されるものが例示できるがこれらに限定はされない。な
お、下記式は、置換された構造のＲ^４の末端部分を示し、式中の点線は、Ｒ^４の炭化水素
部分が上記に例示したようなバリエーションをとり得ることを示す。このような置換基は
、さらに任意の適切な保護基で保護されていてもよい。

なお、本実施形態２におけるＲ^４は、上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^４に対応しており、
その定義は上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^４の定義と同一である。

上記一般式（１）、（３）〜（５）及び（１２）〜（１５）中、Ｒ^５は、炭素数２〜８
のアルキレン基である。中でも、炭素数２〜３のアルキレン基であることが好ましい。即
ち、Ｒ^５はエチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。なお、（ＯＲ^５）単位と
しては１種のオキシアルキレン基、例えばオキシエチレン基、又はオキシプロピレン基の
みで構成されていてもよいし、二種以上のオキシアルキレン基が混在していてもよい。２
種以上のオキシアルキレン基が混在している場合、（ＯＲ^５）は２種以上の異なるオキシ
アルキレン基がランダム重合したものであってもよいし、ブロック重合したものであって
もよい。なお、本実施形態２におけるＲ^５は、上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^５に対応して
おり、その定義は上記実施形態１におけるＲ_Ａ ^５の定義と同一である。

上記一般式（１）〜（２）及び（１２）〜（１３）中、Ｍは、アルカリ金属を表し、Ｍ
の具体例は上記実施形態１に記載したとおりである。

上記一般式（１）、（３）、（１２）及び（１４）中、ｍは、１〜３の整数を表す。蒸
留する際の化合物の沸点を考えると、好ましくはｍは１〜２の整数である。

また、上記一般式（１）〜（４）及び（１２）〜（１５）中、ｒ、ｋ、ｎ、及びＬは、
上記実施形態１に記載したｒ、ｋ、ｎ、及びＬと同一である。

本実施形態２の製造方法の各工程において用いる各化合物の選択においては、所望の最
終生成物である一般式（３）及び／又は（４）の化合物を得ることができるように、一般
式（１）、（２）、（５）、及び（１２）〜（１５）において、所望のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３
、Ｒ^４、Ｒ^５、ｍ、ｒ、ｋ、ｎ、及びＬを選択することができる。

また、本実施形態２では、工程ａ’）〜ｃ’）に先立って、任意選択的な工程として、
［前工程１’］及び［前工程２’］を実施することができる。［前工程１’］及び［前工
程２’］は、重合開始剤の原料（出発物質）である下記一般式（６）及び／又は（７）で
表される化合物を製造する工程（［前工程１’］）、並びに重合開始剤である上記一般式
（１）及び／又は（２）で表される化合物を製造する工程（［前工程２’］）を含む。な
お、前工程としては、［前工程１’］に引き続き［前工程２’］を行ってもよいし、［前
工程１’］を経ずに［前工程２’］のみを行ってもよい。

また、本実施形態２では、工程ａ’）〜ｃ’）の後には、任意選択的な工程として、得
られた目的物（一般式（３）及び／又は（４）で表される化合物）を精製する後処理工程
を行ってもよい。

以下の好ましい実施形態２の説明においては、時系列に沿って、［前工程１’］及び［
前工程２’］、工程ａ’）〜工程ｃ’）、及び後処理工程の順に説明する。なお、上記し
た実施形態１と同様な内容の箇所については、記載を適宜省略する。

［前工程１’］
[前工程１’]は、重合開始剤の前駆体として用いられる下記一般式（６）及び／又は（
７）で表される化合物の合成を行う工程である。

（上記一般式（６）及び（７）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、及びｍは、上記一般式（１
）及び（２）について定義したとおりであって、上記一般式（１）及び（２）中のＲ^１、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、及びｍと同一である。）

[前工程１’]は、例えば下記工程（１−１）〜（１−２）、下記工程（２−１）〜（２
−２）にて実施することができるが、これに限定されるものではない。

（上記一般式（６ａ）、（６ｂ）、（７ａ）、（８）、及び（９）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３
、Ｒ^５、及びｍは、一般式（１）及び（２）について定義したとおりであって、一般式（
１）及び（２）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、及びｍと同一である。Ｌ^１は脱離基を表し
、その具体例は上記実施形態１に記載したとおりである。Ｒ^６は炭素数１〜５の炭化水素
基である。）

Ｒ^６の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基などが挙げられるが、これらに限定はされない。

一般にケイ素−窒素結合はケイ素−酸素結合よりも弱いため、上記の式（１−２）や式
（２−２）で表されるような脱保護反応では、本来はケイ素−窒素結合が優先して切断さ
れる。しかし、本実施形態２における本反応の場合、窒素上に嵩高い二つの保護基（トリ
アルキルシリル基）が存在するため、その立体障害によりケイ素−酸素結合を優先して切
ることができる。このように、アミノ基を嵩高い二つの保護基で保護し、かつ、ヒドロキ
シ基も同じ構造の一つの保護基で保護した後に（すなわちアミノ基とヒドロキシ基におい
て三つ全ての保護基をかけた後に）、アミノ基に二つの保護基があるという嵩高さを利用
して、ヒドロキシ基だけを優先して脱保護することにより、従来法では困難であった、ア
ミノ基だけがシリル化されたアルコールを合成することができる。

上記工程（１−１）及び／又は（２−１）の実施は、例えば以下のように行うことがで
きる。無溶媒で一般式（６ａ）及び／又は（７ａ）で表される化合物に塩基性化合物を加
え、続いて一般式（６ｂ）で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよい
し、適切な溶媒に、一般式（６ａ）及び／又は（７ａ）で表される化合物を溶解させた後
に塩基性化合物を加え、その後一般式（６ｂ）で表される化合物を滴下し、混合すること
で反応させてもよい。一般式（６ｂ）で表される化合物の使用量は、一般式（６ａ）及び
／又は（７ａ）で表される化合物のモル数に対して例えば３〜１５倍量、好ましくは３〜
１０倍量であり、さらに好ましくは３〜５倍量である。

上記工程（１−１）及び／又は（２−１）で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例として
は、ＴＨＦや１，４−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−
メチル−２−ピロリドン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるがこれらに限定はさ
れない。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式（６ａ）及び／又は（７ａ）で
表される化合物の質量に対して例えば１〜２０倍量、好ましくは２〜１０倍量、さらに好
ましくは２〜５倍量である。

上記工程（１−１）及び／又は（２−１）で使用する塩基性化合物の具体例としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸
化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水
素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪
族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等を使用す
ることができるが、これらには限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式（６
ａ）及び／又は（７ａ）で表される化合物のモル数に対し、例えば３〜１５倍量、好まし
くは３〜１０倍量、より好ましくは３〜５倍量である。

上記工程（１−１）及び／又は（２−１）における反応温度は、使用する溶媒の融点か
ら沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−６０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜８
０℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式（６ａ）及び／又は（７
ａ）で表される化合物が消失したとき、または一般式（８）及び／又は（９）で表される
化合物が主生成物として得られる時点とすることができる。

また、上記工程（１−２）及び／又は（２−２）は、例えば一般式（８）及び／又は（
９）で表される化合物を塩基処理することによって実施することができる。具体的には、
例えば以下のように実施することができる。一度一般式（８）及び／又は（９）で表され
る化合物を精製して取り出した後に、一般式（８）及び／又は（９）で表される化合物を
Ｒ^６ＯＨに溶解させ、触媒量のＲ^６ＯＮａを添加して選択的な脱保護を行う。生成する（
Ｒ^１）_３ＳｉＯＲ^６をＲ^６ＯＨと共に減圧留去することで平衡を一般式（８）及び／又は
（９）から一般式（６）及び／又は（７）に偏らせる。再びＲ^６ＯＨを追加してさらに反
応させ、上述の減圧留去する操作を繰り返すことで反応を完結させることができる。Ｒ^６
ＯＨの使用量は、特に限定はされないが、一般式（８）及び／又は（９）で表される化合
物の質量に対して例えば１〜２０倍量、好ましくは２〜１５倍量、さらに好ましくは３〜
１０倍量である。Ｒ^６ＯＮａの使用量は、特に限定はされないが、一般式（８）及び／又
は（９）で表される化合物のモル数に対し、例えば０．０１〜１倍量、好ましくは０．０
１〜０．５倍量、より好ましくは０．０１〜０．１倍量である。

上記工程（１−２）及び／又は（２−２）における反応温度は、例えば０℃〜１００℃
、好ましくは３０℃〜８０℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式
（８）及び／又は（９）で表される化合物が消失した時点とすることができる。一般式（
６）及び／又は（７）で表される化合物は蒸留により精製し、水分を除去することが好ま
しい。その場合の一般式（６）及び／又は（７）で表される化合物の含水率は例えば５０
ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５ｐｐｍ以下である。

上記一般式（６）及び／又は（７）で表される化合物の製造の別法としては、例えば下
記工程（１−３）〜（１−４）、下記工程（１−５）〜（１−６）、下記工程（２−３）
〜（２−４）等の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

（上記一般式（６ｂ）、（６ｃ）、（６ｄ）、（６ｅ）、（６ｆ）、（７ｂ）、及び（７
ｃ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、及びｍは、一般式（１）及び（２）について定義した
とおりであって、一般式（１）及び（２）中のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、及びｍと同一で
ある。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ脱離基を表し、その具体例は上記実施形態１に記載したとお
りである。ＴｓＣｌは塩化ｐ−トルエンスルホニルの略であり、ＭｓＣｌは塩化メタンス
ルホニルの略である。）

上記工程（１−３）、（２−３）の実施は上記実施形態１に記載の工程（ｉ−２）と同
様の手法で行うことができる。
上記工程（１−４）、（１−６）の実施は上記実施形態１に記載の工程（ｉ−３）と同
様の手法で行うことができる。上記（１−４）や（１−６）で表される反応の場合、上記
実施形態１の工程（ｉ−３）にて記載したとおり、ジオールを過剰量用いることで優先し
て一方の末端のアルコールをエーテル化することができる。

上記工程（１−５）の実施は、例えば以下のように行うことができる。上記実施形態１
に記載の工程（ｉ−１）と同様の手法で合成した（６ｅ）を出発原料として、無溶媒で一
般式（６ｅ）で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いてＴｓＣｌ、又はＭｓＣｌを
添加し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式（６ｅ）で表される
化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後ＴｓＣｌ、又はＭｓＣｌを添加し、
混合することで反応させてもよい。ＴｓＣｌ、又はＭｓＣｌの使用量は、一般式（６ｅ）
で表される化合物のモル数に対して例えば１〜５倍量、好ましくは１〜３倍量であり、さ
らに好ましくは１〜２倍量である。

上記工程（１−５）で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、ＴＨＦや１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化
メチレンなどのハロゲン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−メチル−２−ピロリド
ン、アセトニトリル等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は、特に限
定はされないが、一般式（６ｅ）で表される化合物の質量に対して例えば１〜２０倍量、
好ましくは２〜１０倍量、さらに好ましくは２〜５倍量である。

上記工程（１−５）で使用する塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素
化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミ
ン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等を使用することができるが、こ
れらには限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式（６ｅ）で表される化合物
のモル数に対し、例えば３〜１５倍量、好ましくは３〜１０倍量、より好ましくは３〜５
倍量である。

上記工程（１−５）における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行う
ことができるが、例えば−６０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜８０℃である。反応の終
了はガスクロマトグラフィーにより一般式（６ｅ）で表される化合物が消失した時点とす
ることができる。

上記工程（２−４）の実施は、例えば以下のように行うことができる。上記工程（２−
３）で合成した一般式（７ｃ）で表される化合物を出発原料として無溶媒で水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式（７ｃ）
で表される化合物を溶解させた後に水酸化ナトリウム水溶液を加え、混合することで反応
させてもよい。水酸化ナトリウムの使用量は、一般式（７ｃ）で表される化合物のモル数
に対して例えば１〜５倍量、好ましくは１〜３倍量であり、さらに好ましくは１〜２倍量
である。

上記工程（２−４）で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、Ｈ２Ｏ、ＴＨＦや
１，４−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレンなどのハロゲン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやＮ−メチル−２−
ピロリドン、アセトニトリル等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は
、特に限定はされないが、一般式（７ｃ）で表される化合物の質量に対して例えば１〜２
０倍量、好ましくは２〜１０倍量、さらに好ましくは２〜５倍量である。

上記工程（２−４）における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行う
ことができるが、例えば−６０℃〜１００℃、好ましくは−３０℃〜２０℃である。反応
の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式（７ｃ）で表される化合物が消失した時点
とすることができる。

［前工程２’］
［前工程２’］は、上記一般式（６）及び／又は（７）で表される化合物と、アルカリ
金属又はアルカリ金属化合物とを反応させることにより、下記一般式（１）及び／又は（
２）で表される化合物を得る工程である。

[前工程２’]の反応は、上記実施形態１の前工程２と同様に実施することができる。す
なわち、使用するアルカリ金属又はアルカリ金属化合物の種類やその使用量、使用する溶
媒の種類やその使用量、反応系への化合物の添加方法、反応温度等は、上記実施形態１の
前工程２に記載した範囲内において、適宜選択することができる。また、[前工程２’]に
使用する溶媒としては、重合時に使用する重合溶媒と同じ種類のものを使用することで、
重合開始剤合成時に重合開始剤が重合溶媒に溶解するかどうかを、予め確認することがで
きる。確認方法は、上記実施形態１の前工程２に記載したのと同様である。

上述したとおり、重合反応を行う際には、副生成物であるジオールポリマーの生成を抑
えるため、一般式（１）及び／又は（２）で表される化合物（重合開始剤）を含む反応系
中の水分を極力低く抑えることが好ましい。これに関して、例えば、一般式（６）で表さ
れる化合物はＲ^１＝エチル基、Ｒ^２＝ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２、ｍ＝１の場合は沸点が１２０
℃（１０Ｐａ）と高く、また、一般式（７）で表される化合物はＲ^１＝エチル基、Ｒ^３＝
ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２の場合は沸点が１１０℃（１０Ｐａ）と高く、水
との沸点差が十分にあるため、減圧乾燥を行うことにより水を分離することが可能である
。そのため、[前工程２’]では、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の添加前に、一般
式（６）及び／又は（７）で表される化合物に対して、十分に減圧乾燥を行った後に蒸留
を行うことが好ましい。一般式（６）及び／又は（７）で表される化合物の含水率の範囲
は、上記実施形態１の前工程２に記載した一般式（ｉ）で表される化合物の含水率の範囲
と同様である。

上述のように、重合速度向上のためには、開始剤原料アルコール残量が少ない重合開始
剤を用いることが好ましい。具体的には、[前工程２’]における重合開始剤の合成終了後
に、一般式（１）及び／又は（２）で表される重合開始剤と、一般式（６）及び／又は（
７）で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率は、上記実施形態１の前工程２に記
載した、一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と、一般式（ｉ）で表される開始剤原料アル
コールの物質量比率と同様の範囲であることが好ましい。また、上述の重合開始剤を合成
した後に、一般式（６）及び／又は（７）で表される開始剤原料アルコールを減圧留去す
ることも可能であり、その場合の一般式（１）及び／又は（２）で表される重合開始剤と
、一般式（６）及び／又は（７）で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率も、上
記実施形態１の前工程２において記載した、一般式（Ｉ）で表される重合開始剤と、一般
式（ｉ）で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率と同様の範囲であることが好ま
しい。

［工程ａ’）］
工程ａ’）は、上記一般式（１）及び／又は（２）で表される化合物を重合溶媒中でア
ルキレンオキシドと反応させる工程である。望ましくは一般式（１）及び／又は（２）で
表される化合物を重合溶媒中に完全に溶解させた後、アルキレンオキシドと反応させる。
工程ａ’）によれば、下記一般式（１２）及び／又は（１３）で表される化合物を得るこ
とができる。なお、重合開始剤としては、上記一般式（１）で表される化合物、又は上記
一般式（２）で表される化合物のいずれか一方のみを使用してもよいし、両者を併せて使
用してもよい。

ここで、一般にケイ素−酸素結合はケイ素−窒素結合よりも強いため、ケイ素−酸素結
合を含む５員環もしくは６員環構造が形成可能な場合、シリル保護アミノ基含有アルコキ
シドの合成中に分子内でケイ素−窒素結合とケイ素−酸素結合の交換反応が進行する可能
性がある。そのため、例えば、下式（０ａ）で表される化合物を重合開始剤に用いて重合
を試みても、アルコキシド側ではなく、アミノ基側から重合が進行してしまい、目的のポ
リアルキレングリコール誘導体は得られない。これに対して、本実施形態２で用いる一般
式（１）及び／又は（２）で表される重合開始剤（例えば、下式（１ａ）、（２ａ））に
おいては、窒素と、Ｏ⁻Ｍ^＋を構成している酸素とを連結する鎖の鎖長を４以上に伸ばす
ことにより、ケイ素−酸素結合を含む５員環もしくは６員環構造の生成が抑制されて、ア
ルコキシドの状態で安定した構造を形成することができる。その結果、アルコキシド側か
ら重合が進行し、目的のポリアルキレングリコール誘導体を得ることが出来る。

重合開始剤として用いる一般式（１）及び／又は（２）で表されるシリル保護アミノ基
含有アルコール誘導体は、それぞれ分子内の構造に重合溶媒と類似の構造を有するため、
開始剤原料アルコールの存在なしに重合溶媒へと溶けることができる。特に、上記一般式
（１）で表される重合開始剤については、アルキレンオキシド構造を分子内に有すること
で、例えば溶媒がＴＨＦなどのエーテル系溶媒の場合、重合開始剤と重合溶媒との相溶性
が高まり、重合開始剤が開始剤原料アルコールの存在なしに重合溶媒へと溶けることがで
きる。また、特に、上記一般式（２）で表される重合開始剤については、Ｒ^３で表される
炭化水素構造を分子内に有することで、例えば溶媒がトルエンなどの炭化水素系溶媒の場
合、重合開始剤と重合溶媒との相溶性が高まり、重合開始剤が開始剤原料アルコールの存
在なしに重合溶媒へと溶けることができる。結果、均一な系で、かつ温和な条件で重合す
ることが可能となり、狭分散なポリアルキレングリコール誘導体の製造が可能となる。

工程ａ’）の反応は、上記実施形態１の工程ａ）に記載したのと同様に実施することが
できる。すなわち、使用する重合溶媒の種類やその使用量、反応系へのアルキレンオキシ
ドの添加方法、反応温度等は、上記実施形態の工程ａ）に記載した範囲内において、適宜
選択することができる。

中でも、一般式（１）で表される重合開始剤を使用する場合には、分子内にアルキレン
オキシド構造を有するため、重合溶媒としては、炭素数４〜１０の環状エーテル化合物、
又は直鎖状もしくは分岐状のエーテル化合物が好ましく用いられる。環状エーテル化合物
、直鎖状もしくは分岐状のエーテル化合物の具体例は、それぞれ上記実施形態１の工程ａ
）に記載したとおりである。また、一般式（２）で表される重合開始剤を使用する場合に
は、分子内に炭化水素構造を有するため、重合溶媒としては、芳香族炭化水素類が好まし
く用いられる。その具体例も、上記実施形態の工程ａ）に記載したとおりである。

［工程ｂ’）］
工程ｂ’）は、工程ａ’）で得られた上記一般式（１２）及び／又は（１３）で表され
る化合物を、下記一般式（５）で表される化合物と反応させる工程である。工程ｂ’）に
より、下記一般式（１４）、（１５）で表される化合物を得ることができる。
Ｒ^４（ＯＲ^５）_ｋＬ （５）

工程ｂ’）の反応は、上記実施形態１の工程ｂ）に記載したのと同様に実施することが
できる。すなわち、反応系への一般式（５）で表される化合物の添加方法や、使用する溶
媒の種類及びその使用量、使用する塩基触媒の種類及びその使用量、使用するアルカリ吸
着剤の種類及びその使用量、反応温度、得られた一般式（１４）及び／又は（１５）で表
される化合物の晶析、洗浄、精製等は、上記実施形態の工程ｂ）に記載した範囲内におい
て、適宜選択することができる。

［工程ｃ’）］
工程ｃ’）では、工程ｂ’）で得られた一般式（１４）及び／又は（１５）で表される
化合物を脱保護する。この脱保護は、重金属触媒を用いることなく行われることが好まし
い。より好ましくは、一般式（１４）及び／又は（１５）で表される化合物を、酸性条件
下で脱保護する。具体的には、一般式（１４）及び／又は（１５）で表される化合物を、
酸触媒の存在下で、水又はアルコール（Ｒ^６ＯＨ：式中Ｒ^６は炭素数１〜５の炭化水素基
である。）と反応させて、下記一般式（３）及び／又は（４）で表される化合物へと変換
することができる。反応は、酸触媒の存在下、無溶媒で、又は必要に応じて適切な溶媒中
で、一般式（１４）及び／又は（１５）で表される化合物と水又はアルコールとを反応さ
せることにより行うことができる。その際、平衡を生成物側に移動させることにより収率
を向上させることができるため、生成する（Ｒ^１）_３ＳｉＯＨ、又は（Ｒ^１）_３ＳｉＯＲ
^６は、加熱下で、又は減圧下で留去することが好ましい。水又はアルコールの使用量は特
に限定されないが、一般式（１４）及び／又は（１５）のモル数に対して、例えば２〜４
０００当量、好ましくは１０〜３０００当量、さらに好ましくは２０〜２０００当量であ
る。

使用する酸触媒の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酸、クエン酸、
酒石酸、フマル酸、リンゴ酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類、塩酸、硫酸、硝酸、
リン酸、過塩素酸等の無機酸類、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスル
ホン酸類、オルガノ（株）製アンバーリストシリーズ等の固体酸等が例示できるがこれら
に限定はされない。これらの酸触媒の使用量としては、一般式（１４）及び／又は（１５
）で表される化合物のモル数の、例えば０．０１〜５００当量、好ましくは０．１〜３０
０当量、さらに好ましくは０．１〜１５０当量である。これらの酸性化合物は単独で用い
ることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比
に関しては特に限定されない。

脱保護後に得られた一般式（３）及び／又は（４）で表される化合物の晶析、洗浄、精
製等は、上記実施形態１の工程ｃ）に記載した範囲内において、適宜選択して実施するこ
とができる。

一般式（３）及び／又は（４）で表される化合物のアミノ基は、工程ｃ’）における脱
保護により得られるため、例えば特許文献５に記載の方法で生成しうる副生成物（下記（
Ａ）〜（Ｃ−２）で表される化合物）は生成せず、最終的に一般式（３）及び／又は（４
）で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度なポリアルキレングリコール誘導
体を合成することができる。これに対し、例えば特許文献５に記載の方法を使用する場合
は、上記したように下記一般式（Ａ）で示されるＰＥＧ誘導体の生成を防げない。また、
上記水素還元工程では下記一般式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｃ−１）、（Ｃ−２）で表
される２級、３級アミン化合物が副生する可能性がある。これらの副反応は上記のとおり
従来の方法で完全に制御することは困難である。

（上記一般式（Ａ）、（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｃ−１）、（Ｃ−２）中、Ｒ^２、Ｒ^３
、Ｒ^４、Ｒ^５、ｍ、及びｎは、一般式（３）及び（４）について定義したとおりであって
、一般式（３）及び（４）のＲ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、ｍ、及びｎと同一である。）

［後処理工程］
工程ｃ’）の後には、強酸性陽イオン交換樹脂を用いて一般式（３）及び／又は（４）
で表される化合物の精製を行う後処理工程を実施することができる。この場合の後処理工
程も、上記実施形態１の後処理工程において記載したのと同様な操作により実施すること
ができる。

このように、工程ａ’）〜ｃ’）を実施することで（或いは、任意選択的に、工程ａ’
）〜ｃ’）の前及び／又は後に、前工程１’、２’及び／又は後処理工程を更に実施する
ことで）、一般式（３）及び／又は（４）で表される化合物（末端にアミノ基を有する狭
分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体）を製造することができる。

すなわち本発明は、また別の局面によれば、上記製造方法により得られた一般式（３）
及び／又は（４）で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレン
グリコール誘導体に関するものである。

工程ａ’）〜ｃ’）の後に得られる（或いは、任意選択的に、工程ａ’）〜ｃ’）の前
及び／又は後に、前工程１’、２’ 及び／又は後処理工程を更に実施して得られる）一
般式（３）及び／又は（４）で表される化合物の特性、すなわち、分散度及び重量平均分
子量、副生成物（ＰＥＧ誘導体、及び、２級、３級アミン）の混入量、重金属不純物含有
量等については、上記実施形態１において一般式（ＩＩＩ）で表される化合物について記
載したのと同様である。

本発明は、また別の側面によれば、上記に開示した末端にアミノ基を有するポリアルキ
レングリコール誘導体の製造方法に使用するための重合開始剤として用いられる、上記一
般式（Ｉ）で表される保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩に関する。中でも、上
記一般式（１）又は（２）で表される新規なシリル保護アミノ基含有アルコール化合物の
金属塩であることが好ましい。本発明は更に、上記重合開始剤の原料（出発物質）として
用いられる、上記一般式（ｉ）で表される新規な保護アミノ基含有アルコール化合物にも
関する。中でも、上記一般式（６）又は（７）で表される新規なシリル保護アミノ基含有
アルコール化合物であることが好ましい。これらの化合物の定義並びに製造方法、使用方
法は、上記実施形態１及び実施形態２においてポリアルキレングリコール誘導体の製造方
法において詳述したため、説明を省略する。

以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に
制限されるものではない。なお、実施例中における分子量の表記において、重量平均分子
量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の数値はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
よりポリエチレングリコール換算値として測定したものである。なお、ＧＰＣは下記条件
で測定を行った。
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ、ＳｕｐｅｒＡＷ−３０００
展開溶媒：ＤＭＦ（臭化リチウム０．０１ｍｏｌ／Ｌ溶液）
カラムオーブン温度：６０℃
サンプル濃度：０．２０ｗｔ％
サンプル注入量：２５μｌ
流量：０．３ｍｌ／ｍｉｎ

［合成例１］式（ｉＡ）で表される化合物の合成
[合成例１−１]式（ｉＡ−１）で表される化合物の合成
５０ｍｌ三口フラスコに２−（３−アミノプロポキシ）−エタノール０．７５ｇ、トリ
エチルアミン２．３５ｇ、トルエン２．９２ｇを仕込み、その後窒素雰囲気化でトリフル
オロメタンスルホン酸トリエチルシリル（以下ＴＥＳＯＴｆと記す）５．９８ｇを滴下し
た。その後８０℃で２５時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を分離し、上層
を減圧蒸留してシリル保護体（ｉＡ−１）を２．７１ｇ（収率９３．３％）得た。
シリル保護体（ｉＡ−１）
無色液体
沸点 １９０℃／１０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６３（１８Ｈ，ｑ），０．９
６（２７Ｈ，ｔ），１．６９（２Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｍ），３．４０（２Ｈ，ｔ
），３．４９（２Ｈ，ｔ），３．７６（２Ｈ，ｔ）

式中ＴＥＳはトリエチルシリル基のことである。

［合成例１−２］式（ｉＡ）で表される化合物の合成
１０ｍｌナスフラスコにシリル保護体（ｉＡ−１）２．２１ｇ、メタノール２．７０ｇ
、ナトリウムメトキシド１３ｍｇを仕込み、６０℃で１８時間撹拌した。その後、トリエ
チルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール２．７０ｇを入れて６０℃で撹拌した
。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし、トルエン
に溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有
アルコール体（ｉＡ）を１．５０ｇ（収率９０．０％）得た。蒸留後の含水率を測定した
結果、水分は１ｐｐｍ以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＡ）
無色液体
沸点 １１８−１２２℃／１０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６０（１２Ｈ，ｑ），０．９
３（１８Ｈ，ｔ），１．６８（２Ｈ，ｍ），１．９６（１Ｈ，ｂｓ），２．８２（２Ｈ，
ｍ），３．４０（２Ｈ，ｔ），３．５０（２Ｈ，ｍ），３．７３（２Ｈ，ｍ）

[合成例２]別法による式（ｉＡ）の合成
［合成例２−１］求電子剤（ｉｉＡ）の合成
（２−１−１）シリル保護体（ｉｉＡ−１）の合成
３００ｍｌ三口フラスコに３−アミノ−１−プロパノール６．０ｇ、トリエチルアミン
２８．７４ｇ、トルエン１８．０ｇを仕込み、その後窒素雰囲気下でＴＥＳＯＴｆ７５．
０ｇを滴下した。その後８０℃で２５時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を
分離し、上層を減圧蒸留してシリル保護体（ｉｉＡ−１）を３１．４７ｇ（収率９３．３
％）得た。
シリル保護体（ｉｉＡ−１）
無色液体
沸点 １３３−１３８℃／１０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６０（１８Ｈ，ｑ），０．９
４（２７Ｈ，ｔ），１．６２（２Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｍ），３．５４（２Ｈ，ｔ
）

（２−１−２）シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉｉＡ−２）の合成
２００ｍｌナスフラスコにシリル保護体（ｉｉＡ−１）３０．９８ｇ、メタノール３０
．９８ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇを仕込み、６０℃で１８時間撹拌した。その後
、トリエチルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール３０．９８ｇを入れて６０℃
で撹拌した。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし
、トルエンに溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後トルエンを減圧留去してシ
リル保護アミノ基含有アルコール体（ｉｉＡ−２）を２２．６６ｇ（粗収率９６．４％）
得た。¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、この粗生成物は中間体として十分な純度を有して
いることが確認できたため、（ｉｉＡ−２）はそのまま次の工程に用いた。
シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉｉＡ−２）
無色液体
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６０（１２Ｈ，ｑ），０．９
３（１８Ｈ，ｔ），１．６７（２Ｈ，ｍ），２．８５（２Ｈ，ｍ），３．５９（２Ｈ，ｍ
）

（２−１−３）求電子剤（ｉｉＡ）の合成
５０ｍｌ三口フラスコにＴｓＣｌ４．７ｇ、塩化メチレン５ｇ、トリエチルアミン５．
０ｇを仕込み、シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉｉＡ−２）５．０ｇを塩化メチ
レン１０．０ｇに溶解させた溶液を氷冷しながら滴下した。常温に戻して１３時間撹拌後
、水でクエンチしてトルエンで抽出した。その後トルエン溶液を濃縮して求電子剤（ｉｉ
Ａ）を７．６ｇ（粗収率１００％）得た。¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、この粗生成物
は中間体として十分な純度を有していることが確認できたため、（ｉｉＡ）はそのまま次
の工程に用いた。
求電子剤（ｉｉＡ）
褐色液体
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．５４（１２Ｈ，ｑ），０．８
９（１８Ｈ，ｔ），１．６８（２Ｈ，ｍ），２．４５（３Ｈ，ｓ），２．７１（２Ｈ，ｍ
），３．９８（２Ｈ，ｔ）

［合成例２−２］求電子剤（ｉｉＢ）の合成
２００ｍｌ三口フラスコに３−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩１５．９３ｇ、トリ
エチルアミン２７．２６ｇ、トルエン４７．７９ｇを仕込み、その後窒素雰囲気化でＴＥ
ＳＯＴｆ５０．００ｇを滴下した。その後８０℃で６３時間撹拌した。反応液を分液ロー
トに移し、下層を分離し、上層を減圧蒸留して求電子剤（ｉｉＢ）を８．００ｇ（収率３
０．０％）得た。
求電子剤（ｉｉＢ）
無色液体
沸点 １０８℃／３０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６１（１２Ｈ，ｑ），０．９
４（１８Ｈ，ｔ），１．９２（２Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｍ），３．３１（２Ｈ，ｔ
）

［合成例２−３］求電子剤（ｉｉＡ）を使用した式（ｉＡ）で表される化合物の合成
１００ｍｌ三口フラスコにエチレングリコール６．７８ｇ、Ｎ−メチルピロリドン１０
ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１．３５ｇを仕込み、３０分撹拌後、求電子剤（ｉｉ
Ａ）５．０ｇをＮ−メチルピロリドン１５ｇに溶かした溶液を常温にて滴下した。６０℃
まで昇温し、５時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム０．１８ｇを用いて反応停止した。
続いてジフェニルエーテルに溶媒置換した後、析出した塩をろ過で取り除いた。その後減
圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＡ）を３．１６ｇ（収率６５．７％
）得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は１ｐｐｍ以下であった（含水率測定はカ
ールフィッシャー水分計による、以下同様）。
シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＡ）
無色液体
沸点：上記[合成例１−２]で得られた結果と同じ。
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：上記［合成例１−２］で得られた結果
と同じ。

式中Ｔｓはパラトルエンスルホニル基、ｔ−ＢｕＯＫはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド
、ＮＭＰはＮ−メチルピロリドンのことである。

［合成例２−４］求電子剤（ｉｉＢ）を使用した式（ｉＡ）で表される化合物の合成
２００ｍｌ三口フラスコにエチレングリコール２．９８ｇ、Ｎ−メチルピロリドン５．
０ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド０．５４ｇを仕込み、３０分撹拌後、求電子剤（ｉ
ｉＢ）２．００ｇをＮ−メチルピロリドン１０．０ｇに溶かした溶液を常温にて滴下した
。６０℃まで昇温し、５時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム０．０８ｇを用いて反応停
止した。続いてジフェニルエーテルに溶媒置換した後、析出した塩をろ過で取り除いた。
その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＡ）を１．０７ｇ（収率６
４．０％）得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は１ｐｐｍ以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＡ）
無色液体
沸点：上記[合成例１−２]で得られた結果と同じ。
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：上記［合成例１−２］で得られた結果
と同じ。

［合成例３］式（ｉＢ）で表される化合物の合成
［合成例３−１］式（ｉＢ−１）で表される化合物の合成
２００ｍｌ三口フラスコに６−アミノ−１−ヘキサノール５．００ｇ、トリエチルアミ
ン１５．６８ｇ、トルエン１５．００ｇを仕込み、その後窒素雰囲気化でＴＥＳＯＴｆ４
０．９１ｇを滴下した。その後８０℃で２５時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、
下層を分離し、上層を減圧蒸留してシリル保護体（ｉＢ−１）を１８．３９ｇ（収率９３
．０％）得た。
シリル保護体（ｉＢ−１）
無色液体
沸点 １８０℃／１０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６３（１８Ｈ，ｑ），０．９
６（２７Ｈ，ｔ），１．６９（８Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｍ），３．４０（２Ｈ，ｔ
）

［合成例３−２］式（ｉＢ）で表される化合物の合成
５０ｍｌ一口フラスコにシリル保護体（ｉＢ−１）５．００ｇ、メタノール５．００ｇ
、ナトリウムメトキシド２９ｍｇを仕込み、６０℃で１８時間撹拌した。その後、トリエ
チルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール５．００ｇを入れて６０℃で撹拌した
。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし、トルエン
に溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有
アルコール体（ｉＢ）を３．３５ｇ（収率８９．０％）得た。蒸留後の含水率を測定した
結果、水分は１ｐｐｍ以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉＢ）
無色液体
沸点 １０８−１１２℃／１０Ｐａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ３）：δ＝０．６０（１２Ｈ，ｑ），０．９
３（１８Ｈ，ｔ），１．６８（８Ｈ，ｍ），２．８２（２Ｈ，ｍ），３．４０（２Ｈ，ｔ
）

［合成例４］式（ＩＡ）で表される化合物の合成
［合成例４−１］式（ＩＡ）で表される化合物の合成
窒素雰囲気下のグローブボックス内で、５０ｍＬ三口フラスコ中に水素化カリウム（関
東化学(株)製、ミネラルオイル状）を投入し、ヘキサン洗浄によりミネラルオイルを分離
後、約２時間真空乾燥し０．５０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）の水素化カリウムを得た。フラ
スコ内にシリンジで蒸留ＴＨＦを７．７１ｇ添加し、式（ｉＡ）で表される化合物４．４
４ｇ（１２．８ｍｍｏｌ）を常温で滴下した。常温で１時間撹拌した後、５０℃で２時間
撹拌を行い、式（ＩＡ）で表される化合物のＴＨＦ溶液１２．４０ｇ（１．０２ｍｍｏｌ
／ｇ）を得た。このとき塩の析出及び白濁は観測されなかった（（ＩＡ）質量／ＴＨＦ溶
液質量＝３９．８重量％）。上記反応により合成された重合開始剤（ＩＡ）と開始剤原料
アルコール（ｉＡ）の物質量比率は９８：２（ｍｏｌ％）である。以下に反応スキームを
示す。

［合成例４−２］式（ＩＡ）で表される化合物の別法合成
窒素雰囲気下のグローブボックス内で１００ｍＬ三口フラスコ内にナフタレン２．０２
ｇ、カリウム０．６８ｇを秤量し、１時間真空乾燥した。その後窒素雰囲気下に戻し、フ
ラスコ内にシリンジで蒸留ＴＨＦ１９．６５ｇを添加した。１時間撹拌し、カリウムナフ
タレンのＴＨＦ溶液を調整した（０．７１ｍｍｏｌ／ｇ）。一方、窒素雰囲気下、５０ｍ
Ｌ三口フラスコ内に式（ｉＡ）で表される化合物１．９６ｇ（５．６４ｍｍｏｌ）をシリ
ンジで秤量した。そこに上記調整したカリウムナフタレンのＴＨＦ溶液を常温で７．８５
ｇ滴下した。熟成を１時間実施し、重合開始剤（ＩＡ）のＴＨＦ溶液９．７７ｇ（０．５
８ｍｍｏｌ／ｇ）を得た。このとき塩の析出及び白濁は観測されなかった（（ＩＡ）質量
／ＴＨＦ溶液質量＝２２．３重量％）。上記反応により合成された重合開始剤（ＩＡ）と
開始剤原料アルコール（ｉＡ）の物質量比率は９８：２（ｍｏｌ％）である。反応スキー
ムを以下に示す。

［合成例５］式（Ｉ−１Ａ）で表される化合物の合成
温度計、滴下漏斗、ジムロート冷却器を接続した５００ｍＬ四口フラスコ中に撹拌子を
投入した。装置内の真空度を１０Ｐａ以下に保った後、オイルバス及びヒートガンを使っ
て装置内を加温し、系内の水分を除去した。その後、窒素気流下で２Ｌ四口フラスコ内に
［合成例４−１］より調整した式（ＩＡ）で表される化合物のＴＨＦ溶液１．６９ｇと蒸
留ＴＨＦ１４０ｇを添加した。滴下漏斗にエチレンオキシド２０ｇと蒸留ＴＨＦ４０ｇを
投入し、５００ｍＬ四口フラスコ内に少しずつ滴下した。５００ｍＬ四口フラスコ内の温
度が安定したことを確認後、４５〜５０℃で８時間熟成を行った。以下に反応スキームを
示す。

反応終了後、オイルバスを外し、反応系を室温まで冷却した。得られた反応液を少量サ
ンプリングし、酢酸で反応停止してＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝８，０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝１．０４であった。

［合成例６］式（ＩＩＡ）で表される化合物の合成
［合成例６−１］式（ＩＩＡ）で表される化合物の合成
式（Ｉ−１Ａ）で表される化合物の反応液中に、２−ブロモエチルメチルエーテルを２
．４１ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのＴＨＦ溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）１０．５ｍＬを
添加し、５時間還流させながら撹拌した。反応液中の塩をろ過により取り除いた後、２５
ｗｔ％まで濃縮し、濃縮液を滴下漏斗に移した。撹拌子の入った５００ｍＬビーカー中ヘ
キサンを２０１ｇ投入し、その中に濃縮液を１０分かけて滴下後、２０分間熟成を行った
。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン９９ｇで２０分間洗
浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を１回実施した。以下に反応スキームを示す。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、１８．６ｇのポリマー（ＩＩＡ）を得た。ＧＰ
Ｃ測定を行った結果、Ｍｗ＝８，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であった。

［合成例６−２］式（ＩＩＡ）で表される化合物の別法合成
式（Ｉ−１Ａ）で表される化合物の反応液中に、２−メトキシエチルｐ−トルエンスル
ホネートを２．０５ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド０．５０ｇを添加し、４０℃で５
時間撹拌した。反応液中の塩をろ過により取り除いた後、２５ｗｔ％まで濃縮し、濃縮液
を滴下漏斗に移した。撹拌子の入った５００ｍＬビーカー中ヘキサンを２００ｇ投入し、
その中に濃縮液を１０分かけて滴下後、１０分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過
後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン１００ｇで１０分間洗浄を行ない、さらに同様
の洗浄操作を１回実施した。以下に反応スキームを示す。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、１８．６ｇのポリマー（ＩＩＡ）を得た。ＧＰ
Ｃ測定を行った結果、Ｍｗ＝８，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であった。

［合成例６−３］式（ＩＩＡ）で表される化合物の別法合成
２Ｌの高圧ガス反応容器を窒素パージにより乾燥し、窒素雰囲気下上述の［合成例４−
１］の方法で合成した重合開始剤（ＩＡ）のＴＨＦ溶液８．２９ｇ（１．０２ｍｍｏｌ／
ｇ、８．４６ｍｍｏｌ）と蒸留ＴＨＦ８８５ｇを添加した。反応容器を４５℃まで昇温し
た後、エチレンオキシド１００ｇを連続的に圧入した後、系内の圧力を窒素加圧により０
．１５ＭＰａに調節した。４５℃で撹拌すると系内の圧力は徐々に低下していき、６時間
経過したところで０．１１ＭＰａで安定し反応の終点とした。４０℃まで冷却した後、求
電子剤として２−メトキシエチル−ｐ−トルエンスルホネート９．７５ｇをＴＨＦ９７．
５ｇに溶解させ系内に圧入し、さらにカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのＴＨＦ溶液（１ｍ
ｏｌ／Ｌ）２１ｍｌをＴＨＦ２１ｇで希釈し系内に圧入した。続いて４０℃に保ちながら
５時間熟成を行った。析出した塩をろ過により分別し、ろ液に吸着材ＫＷ−２０００を１
７ｇ添加して２時間撹拌した後ろ過により吸着材を取り除いた。反応液を濃縮し４００ｇ
とした後、撹拌子の入った３Ｌビーカー中にヘキサン７５０ｇ、酢酸エチル７５０ｇを入
れ、得られた反応液を滴下後、１０分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末
を元のビーカーに戻し、ヘキサン３７５ｇ、酢酸エチル３７５ｇで１０分間洗浄を行ない
、さらにもう一度同様の洗浄を繰り返した後、得られた白色粉末を真空乾燥した。結果、
９６ｇのポリマー（ＩＩＡ）を得た。ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝１１，４００、Ｍ
ｗ／Ｍｎ＝１．０３であった。反応スキームを以下に示す。

下記表１に示したように合成例６−３では化学量論的にエチレンオキシドとの重合が進
行していることがわかる。

［合成例７］式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合物の合成
［合成例７−１］式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合物の合成
５０ｍＬ三口フラスコに、［合成例６−１］で得られた式（ＩＩＡ）で表される化合物
１．０ｇ、ＴＨＦ９．０ｇ、１Ｎ ＨＣｌａｑ．０．４ｍｌを投入し４０℃で４時間撹拌
した。その後２５ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液０．２ｍｌで反応を停止した。反応溶液を濃縮し
て水を留去した後、ＴＨＦ５．７ｇを添加してポリマー溶液の濃度を調整し、析出した塩
をろ過した。撹拌子の入った１００ｍＬビーカー中にヘキサン１０ｇを入れ、得られた反
応液を滴下後、１０分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカー
に戻し、ヘキサン５ｇで１０分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を１回実施した。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、０．７ｇの式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合
物を得た。ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝７，９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であった
。反応スキームを以下に示す。

なお、式（ＩＩＡ）で表される化合物を、反応後精製することなく続いて塩酸を加えて
脱保護しても良く、その場合さらに工程を簡略化することができる。

［合成例７−２］式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合物の別法合成
１Ｌ三口フラスコに［合成例６−３］で得られたポリマー（ＩＩＡ）１００ｇ、ＭｅＯ
Ｈ４００ｇ、酢酸５．００ｇを投入し３５℃で３時間撹拌した。その後ナトリウムメチラ
ート２８％メタノール溶液を２４．１２ｇで反応を停止した。反応溶液を濃縮してトルエ
ンへと溶媒置換し４５０ｇのポリマー溶液を調整し、析出した塩をろ過した。得られたポ
リマー溶液に吸着材ＫＷ−２０００を１００ｇ加え３５℃で１時間処理をして微量の塩を
除去した。撹拌子の入った３Ｌビーカー中にヘキサン１０００ｇ、酢酸エチル５００ｇを
入れ、得られた反応液を滴下後、１０分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉
末を元のビーカーに戻し、ヘキサン６００ｇ、酢酸エチル３００ｇで１０分間洗浄を行な
い、さらに同様の洗浄操作を１回実施した。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、９０ｇのポリマー（ＩＩＩＡ−ａ）を得た。Ｇ
ＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝１１，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３であった。反応スキ
ームを以下に示す。

［合成例８］式（ＩＩＩＢ−ａ）で表される化合物の合成
合成例４〜７で、式（ｉＡ）で表される化合物を式（ｉＢ）で表される化合物に変えた
以外は同様の操作により式（ＩＩＩＢ−ａ）で表される化合物を得た。すなわち、式（ｉ
Ｂ）で表される化合物を用いて、合成例４−１と同様の操作により重合開始剤（ＩＢ）を
合成し、その重合開始剤を用いて、合成例５〜７と同様の操作により式（ＩＩＩＢ−ａ）
で表される化合物を得た。なお、合成例６については合成例６−１と、合成例７について
は合成例７−１と同様の操作を行った。式（ＩＩＩＢ−ａ）で表される化合物についてＧ
ＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝７，９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であった。反応スキー
ムを以下に示す。

［合成例９］式（ＩＩＩＡ―ｂ）〜（ＩＩＩＡ―ｆ）で表される化合物の合成
式（ｉＡ）で表される化合物とエチレンオキシドの比を変える以外は合成例４〜７とほ
ぼ同様の操作を行うことにより、ポリマー（ＩＩＩＡ―ｂ）〜（ＩＩＩＡ―ｆ）を合成し
た。なお、合成例４については合成例４−１と、合成例６については合成例６−１と、合
成例７については合成例７−１と同様の操作を行った。分析結果を表２に示す。

［合成例１０］式（ＩＩＩＢ−ｂ）〜（ＩＩＩＢ−ｆ）で表される化合物の合成
式（ｉＢ）で表される化合物とエチレンオキシドの比を変える以外は合成例８とほぼ同
様の操作を行うことにより、ポリマー（ＩＩＩＢ−ｂ）〜（ＩＩＩＢ−ｆ）を合成した。
分析結果を表３に示す。

［合成例１１］式（ＩＩＩＡ−ｇ）〜（ＩＩＩＡ−ｌ）、（ＩＩＩＢ−ｇ）〜（ＩＩＩＢ
−ｌ）の合成
［合成例６−１］における基質２−ブロモエチルメチルエーテルを、下表に示す（置換
基の付いた）アルキル基（Ｒ^４）を末端に有する２−ブロモエチル（置換）アルキルエー
テルに変える以外は、合成例４〜７とほぼ同様の操作を行うことにより式（ＩＩＩＡ−ｇ
）〜（ＩＩＩＡ−ｌ）で表される化合物を、合成例８とほぼ同様の操作を行うことにより
式（ＩＩＩＢ−ｇ）〜（ＩＩＩＢ−ｌ）で表される化合物を合成した。なお、合成例４に
ついては合成例４−１と、合成例６については合成例６−１と、合成例７については合成
例７−１と同様の操作を行った。分析結果を表４、５に示す。

［合成例１２］式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合物の精製
陽イオン交換樹脂ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ−２０８（三菱化学（株）製）５０ｇを充填した
カートリッジ内を１Ｎ塩酸３００ｇで洗浄後、イオン交換水３００ｇで３回、次いでメタ
ノール３００ｇで１回、カートリッジの洗浄を行った。５００ｍＬ二口フラスコにポリマ
ー（ＩＩＩＡ−ａ）のメタノール５ｗｔ％溶液（ポリマー含有量１０ｇ）を投入し、ポリ
マー溶液を上述のカートリッジ内にポンプを使って移送した。カートリッジの排液口から
出てきたメタノール溶液を元の５００ｍＬナスフラスコに合せ、この操作を２時間継続し
てポリマー（ＩＩＩＡ−ａ）を陽イオン交換樹脂に吸着させた。その後、カートリッジ内
の樹脂をメタノール３００ｇで１回洗浄した後、７Ｎアンモニア溶液（メタノール溶液、
関東化学（株）製）を５０ｇ使ってポリマー（ＩＩＩＡ−ａ−２）を陽イオン交換樹脂か
ら溶離させた。なお、陽イオン交換樹脂からの溶離工程以降の精製ポリマーを（ＩＩＩＡ
−ａ−２）と示す。

なお式（ＩＩＩＡ−ａ）で表される化合物の代わりに式（ＩＩＡ）で表される化合物を
使用しても、陽イオン交換樹脂触媒下、メタノール溶液で脱保護が進行するので、脱保護
と精製を同時に行うことができ、工程をさらに簡略化することができた。

得られた溶離液を５００ｍＬナス形フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使っ
てアンモニアとメタノールを留去した。ほぼ乾固するまで減圧濃縮を実施後、トルエンに
溶媒置換し、ポリマー（ＩＩＩＡ−ａ−２）の固形分濃度が２５ｗｔ％になるように調製
した。

撹拌子の入った５００ｍＬビーカー中にヘキサン１００ｇと酢酸エチル５０ｇを混合し
、滴下漏斗を使って得られたポリマー（ＩＩＩＡ−ａ−２）の２５ｗｔ％溶液を１０分か
けて滴下後、２０分間撹拌を行い、熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元
のビーカーに戻し、ヘキサン５０ｇと酢酸エチル２５ｇの混合溶媒で２０分間洗浄を行な
い、さらに同様の洗浄操作を１回実施した。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、８．５１ｇのポリマー（ＩＩＩＡ−ａ−２）を
得た。ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝８，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０５であった。な
お、重合時あえて水分を少量混入させて反応を行った以外は上記実施例と同様にして反応
を行った場合、上記陽イオン交換樹脂精製で得られたろ液を濃縮乾燥して得られた化合物
中に、下記式（ＶＩＩＩａ）で表される重合時混入した水による副生成物が極少量Ｈ−Ｎ
ＭＲにより確認できた。以上のことより、仮に重合時、水が混入したとしても陽イオン交
換樹脂により副生成物を除去することができ、製造マージンを広げることができた。

［比較合成例１］ポリマー（ＶＩａ）の合成
温度計、滴下漏斗、ジムロート冷却器を接続した５００ｍＬの四口ナスフラスコ中に撹
拌子と重合開始剤として、カリウムメトキシド（関東化学（株）製）７１ｍｇ（１．０１
ｍｍｏｌ）を投入し、装置内の真空度を１０Ｐａ以下に保った後、オイルバス及びヒート
ガンを使って装置内を加温し、系内の水分を除去した。

その後、窒素気流下で四口フラスコ内にメタノール（東京化成工業（株）製）４０μＬ
（１．００ｍｍｏｌ）及び蒸留ＴＨＦ１４０ｇを投入し、カリウムメトキシドが完全に溶
解するまで室温で撹拌を行った。上記方法により合成された重合開始剤カリウムメトキシ
ドと開始剤原料アルコールであるメタノールの物質量比率は５０：５０（ｍｏｌ％）であ
る。

滴下漏斗内にエチレンオキシド３５ｇと蒸留ＴＨＦ６０ｇの混合溶液を投入し、内温を
３５℃以下に保ちながら四口フラスコ内に少量ずつ滴下した。全量滴下後、内温を５０℃
以下に保ちながら８０時間撹拌を行った。

エチレンオキシドの転化率に変化がなくなったことを確認後、フラスコ内に酢酸０．０
６ｇを添加した。窒素バブリングによりエチレンオキシドを除去後、反応液を５００ｍＬ
ナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使って固体が析出するまで反応液を
濃縮した。ポリマーの粗生成物２３ｇをトルエン４６ｇに再溶解後、滴下漏斗に移送した
。

撹拌子の入った５００ｍＬビーカー中にイソプロピルエーテル１３８ｇを投入し、滴下
漏斗を使ってポリマー溶液を１０分かけて滴下後、２０分間熟成を行った。生成した白色
粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、イソプロピルエーテル６９ｇの混合溶媒で２
０分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を２回実施した。反応スキームを以下に示す
。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、１８．５４ｇの比較ポリマー（ＶＩａ）を得た
。ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝７，２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１６であった。

［比較合成例２］ポリマー（ＩＸａ）の合成
３００ｍｌ四口フラスコにポリマー（ＶＩａ）１０．００ｇ、ＴＨＦ２９．５ｇ、１０
ｗｔ％水酸化カリウム水溶液０．５６ｇ、Ｈ_２Ｏ ０．５ｇ、アクリロニトリル１．０６
ｇを仕込み、常温にて６時間撹拌した。反応終了後、アルカリ吸着剤「トミタＡＤ７００
ＮＳ」（商品名、合成ケイ酸アルミニウム、富田製薬（株）製）を１．４５ｇ添加し、２
時間反応を行った。アルカリ吸着剤をろ過後、ろ液を３００ｍＬナスフラスコに移し、ト
ルエンに溶媒置換して比較ポリマー（ＩＸａ）の固形分濃度が２５ｗｔ％になるまで濃縮
した。

撹拌子の入った５００ｍＬビーカー中にヘキサン１００ｇと酢酸エチル５０ｇを混合し
、滴下漏斗を使って得られた濃縮液を１０分かけて滴下後、２０分間熟成を行った。生成
した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン５０ｇと酢酸エチル２５ｇ
の混合溶媒で２０分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を１回実施した。反応スキー
ムを以下に示す。

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、９．１２ｇの比較ポリマー（ＩＸａ）を得た。
ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝７，３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１５であった。

［比較合成例３］ポリマー（ＩＩＩｃ）の合成
５００ｍＬの水素還元用オートクレーブの中に５．０ｇのポリマー（ＩＸａ）、５．０
ｇのラネーコバルト触媒Ｒ−４００（日興リカ（株）製）、４５．０ｇのメタノール、３
．０ｍＬのアンモニアの１Ｎメタノール溶液（アルドリッチ製）を室温で投入した。その
後、水素ガス（圧力＝１０ｋｇ／ｃｍ^２）を封入し、内温が１２０℃になるまで加温し、
そのまま６時間反応を行った。室温まで冷却後、圧力を大気圧に戻した後、窒素を吹き込
みながら系内のアンモニアを除去した。ろ過によりラネーコバルト触媒を除去後、ろ液を
１００ｍＬナス形フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使ってアンモニアとメタ
ノールを留去した。乾固するまで減圧濃縮を実施後、ポリマー（ＩＩＩｃ）と下記一般式
（ＩＶｃ）〜（ＶＩｃ）の混合物を４．５ｇ得た。ＧＰＣ測定を行った結果、Ｍｗ＝７，
３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５であった。反応スキームと副生成物を以下に記す。

［合成例７−１、８、１２と比較合成例３で得られた生成物の不純物含有量分析］
［合成例７−１］、［合成例８］及び［合成例１２］において得られた生成物と［比較
合成例３］で得られた生成物中の不純物含有量分析を行った。結果を下記表６に示す。
表６中ｍＰＥＧと表した化合物とは[比較合成例３]中、一般式（ＶＩｃ）に相当する化
合物であり、末端にシアノエチル基を有するポリマーからアクリロニトリルがβ脱離した
化合物である。ｍＰＥＧの組成比はＨ−ＮＭＲ測定により算出した。まず、[合成例７−
１]、[合成例８]、[合成例１２]、[比較合成例３]で得られた生成物をそれぞれ１０ｍｇ
測り取り、０．７５ｍｌのＣＤＣｌ３に溶解させた後、トリフルオロ酢酸無水物を５０ｍ
ｇ添加し、１日放置した。この処理によって生成する下記一般式（ＶＩ−１）で表される
化合物のエステルα位メチレン由来のプロトンと下記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化
合物のアミドα位メチレン由来のプロトンとの比によりｍＰＥＧの組成比を算出した。
表中２、３級アミンと表した化合物とは[比較ポリマー合成例３]中、一般式（ＩＶｃ）
、（Ｖｃ）に相当する化合物である。その混入量はＧＰＣにより測定し、２倍、３倍分子
量に相当するポリマーの面積パーセントより算出した。
これらの結果より、比較ポリマー（ＩＩＩｃ）では水素還元によるアクリロニトリルの
β脱離と２、３級アミンの生成が観測されたが、実施例ポリマー（ＩＩＩＡ−ａ）、（Ｉ
ＩＩＢ−ａ）、（ＩＩＩＡ−ａ−２）ではそれらの副生物が観測されなかった。

［合成例７−１、８、１２と比較合成例３で得られた生成物の金属分析］
［合成例７−１］、［合成例８］及び［合成例１２］において得られた生成物と［比較
合成例３］で得られた生成物の高周波誘導結合プラズマ質量分析計（ＩＣＰ−ＭＳ、Ａｇ
ｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ７５００ｃｓ）による金属不純物分析を行った
。測定は各生成物を超純水で１００倍希釈したサンプルを用い、標準添加法により分析を
行った。分析結果（固形分換算値）を表７に示す（単位はｐｐｂ）。
金属分析の結果、比較ポリマー（ＩＩＩｃ）では還元時に使用した重金属が混入するの
に対し、[合成例７−１]、[合成例８]、[合成例１２]では重金属触媒を使用していないた
め、実施例ポリマー（ＩＩＩＡ−ａ）、（ＩＩＩＢ−ａ）、（ＩＩＩＡ−ａ−２）では重
金属が含まれていないことがわかる。

［重合開始剤及び比較重合開始剤の合成、並びに重合溶媒に対する溶解性比較］
上記で使用した以外の重合開始剤（開始剤２〜９、１１、１２、比較開始剤１〜８）を
合成した結果を以下に示す。なお、以下において、「開始剤１」は［合成例４−１］にお
いて式（ｉＡ）で表される化合物を用いて合成された式（ＩＡ）で表される重合開始剤で
あり、「開始剤１０」は［合成例８］において式（ｉＢ）で表される化合物を用いて合成
された重合開始剤（ＩＢ）である。

［開始剤２の合成］
[合成例２−３]において使用したエチレングリコールをジエチレングリコールに変えた
以外は、[合成例２−３]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして、開始剤２を合成
した。

［開始剤３の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＣ）に変え
た以外は、[合成例２−４]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして、開始剤３を合
成した。

［開始剤４の合成］
[合成例２−４]において使用したエチレングリコールをジエチレングリコールに変えた
以外は、[開始剤３の合成]に記載の方法と同様にして、開始剤４を合成した。

［開始剤５の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＤ）に変え
、エチレングリコールをトリエチレングリコールに変えた以外は、[合成例２−４]及び[
合成例４−１]に記載の方法と同様にして開始剤５を合成した。

［開始剤６の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＥ）に変え
た以外は、[合成例２−４]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして開始剤６を合成
した。

上記求電子剤（ｉｉＥ）及び開始剤６中、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルの
ことである。

［開始剤７の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＦ）に変え
た以外は、[合成例２−４]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして、開始剤７を合
成した。

［開始剤８の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＧ）に変え
た以外は、[合成例２−４]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして、開始剤８を合
成した。

［開始剤９の合成］
[合成例２−４]において使用した求電子剤（ｉｉＢ）を下記求電子剤（ｉｉＨ）に変え
た以外は、[合成例２−４]及び[合成例４−１]に記載の方法と同様にして開始剤９を合成
した。

［開始剤１１の合成］
３００ｍｌ三口フラスコに６−アミノ−１−ヘキサノール１５．７ｇ、ＴＨＦ９１．０
ｇ、炭酸カリウム４６．３ｇを仕込み、その後窒素雰囲気下、氷冷しながらアリルブロマ
イド２８．４ｍｌを滴下した。その後常温で１時間撹拌した。反応液をろ過し、減圧蒸留
して開始剤１１の原料アルコール（ｉＣ）を１３．２ｇ（収率５０．０％）得た。続いて
[合成例４−１]に記載の方法と同様にして開始剤１１を合成した。

［開始剤１２の合成］
アリルブロマイドを１，２−ビス（クロロジメチルシリル）エタンに変えた以外は［開
始剤１１の合成］と同様にして開始剤１２を合成した。

［比較開始剤１の合成］
[合成例２−１]において使用したシリル保護アミノ基含有アルコール体（ｉｉＡ−２）
を原料として、続いて[合成例４−１]に記載の方法と同様にして比較開始剤１を合成した
。

［比較開始剤２の合成］
保護基のトリエチルシリルをトリメチルシリル（ＴＭＳ）に変えた以外は[比較開始剤
１の合成]に記載の方法と同様にして比較開始剤２を合成した。

上記比較開始剤２中のＴＭＳはトリメチルシリルのことである。

［比較開始剤３の合成］
［開始剤１１の合成］において使用した６−アミノ−１−ヘキサノールを３−アミノ−
１−プロパノールに変えた以外は[開始剤１１の合成]に記載の方法と同様にして、比較開
始剤３を合成した。

［比較開始剤４の合成］
式（ｉＡ）で表される化合物に代えて、原料アルコールとして下記（ｉＤ）を使用した
以外は[合成例４−１]に記載の方法と同様にして比較開始剤４を合成した。

［比較開始剤５の合成］
式（ｉＡ）で表される化合物に代えて、原料アルコールとして下記（ｉＥ）を使用した
以外は[合成例４−１]に記載の方法と同様にして比較開始剤５を合成した。

［比較開始剤６の合成］
［開始剤１２の合成］において使用した６−アミノ−１−ヘキサノールを３−アミノ−
１−プロパノールに変えた以外は[開始剤１２の合成]に記載の方法と同様にして比較開始
剤６を合成した。

［比較開始剤７の合成］
[比較開始剤３の合成]において使用したアリルブロマイドをベンジルブロマイドに変え
た以外は[比較開始剤３の合成]に記載の方法と同様にして比較開始剤７を合成した。

［比較開始剤８の合成］
以下のスキーム１に示す反応により下記式（ｉＦ）で表される化合物を合成した。この
式（ｉＦ）で表される化合物を、式（ｉＡ）で表される化合物に代えて使用した以外は、
[合成例４−１]に記載の方法と同様にして、比較開始剤８を合成した。

１）Ｂｏｃ保護（ｉＦ−１）の合成
２００ｍｌ三口フラスコに３−アミノ−１−プロパノール５．１１ｇ、トリエチルアミ
ン７．２１ｇ、メタノール５５．４３ｇ、二炭酸ジーｔｅｒｔ−ブチル（以下Ｂｏｃ２Ｏ
と記す）１５．６１ｇを仕込み、窒素雰囲気下、常温にて１４時間撹拌した。反応液を飽
和塩化アンモニウム水溶液で反応停止し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶
液を減圧で濃縮してＢｏｃ保護（ｉＦ−１）１０．７３ｇ（粗収率９０％）を得た。

２）ＴＢＳ保護（ｉＦ−２）の合成
５００ｍｌ三口フラスコにＢｏｃ保護（ｉＦ−１）１０．６１ｇ、ＴＨＦ２４１．８０
ｇを加え、窒素雰囲気下で氷冷しながら、イミダゾール９．２６ｇ、ＴＢＳＣｌ１５．３
８ｇを添加した。常温に戻して２２時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応停止
し、イソプロピルエーテルで抽出した。得られたイソプロピルエーテル溶液を減圧で濃縮
してＴＢＳ保護（ｉＦ−２）１８．２４ｇ（粗収率９３％）を得た。

３）Ｂｏｃ保護（ｉＦ−３）の合成
５００ｍｌ二口フラスコにＴＢＳ保護（ｉＦ−２）１０．０１ｇ、脱水ＴＨＦ１５５．
５８ｇを加え、窒素雰囲気下で氷冷しながら、ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液（２．
６９Ｍ）１６．６８ｍＬを滴下した。同温度で３０分撹拌後、Ｂｏｃ２Ｏ／ＴＨＦ溶液（
２６ｗｔ％）４０．８７ｇを滴下し、常温に戻して２．５時間撹拌した。反応液をイソプ
ロピルエーテルで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後、得られた溶液を減
圧で濃縮してＴＢＳ保護（ｉＦ−３）１４．７７ｇ（粗収率１００％）を得た。

４）アルコール（ｉＦ）の合成
５００ｍｌ三口フラスコにＴＢＳ保護（ｉＦ−３）１４．７７ｇ、ＴＨＦ１１０．５９
ｇを仕込み、窒素雰囲気下、常温で撹拌しながらＴＢＡＦ（フッ化テトラｎ−ブチルアン
モニウム）／ＴＨＦ溶液（１Ｍ）３９．５ｍＬを添加した。同温度で５時間撹拌後、イソ
プロピルエーテルで希釈し超純水で洗浄した。得られたイソプロピルエーテル溶液を減圧
で濃縮してアルコール（ｉＦ）１０．２２ｇ（粗収率９８％）を得た。

上記スキーム中Ｂｏｃはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルのことである。

上記で合成した各種重合開始剤（開始剤１〜１２、及び比較開始剤１〜８）の構造を下
記にまとめて示す。

次に開始剤１〜１２と比較開始剤１〜８の重合溶媒への溶解性の結果を示す。上記で合成
した開始剤１〜１２と比較開始剤１〜８のＴＨＦを減圧留去し、重合開始剤を取り出した
後、それぞれ重合溶媒に２０ｗｔ％の濃度で溶解させた結果を表に示す。目視による濁り
が全く見られないものは「○」、濁りが見られたり全く溶けない、またはアルコキシドに
した段階で分解してしまうものは「×」、未検討のものは「−」を記した。

比較開始剤１、２、５、６の合成を検討した際は分子内での保護基のかけ変わりが進行
したが、鎖長を伸長した開始剤１、２、６、７、１０、１２では開始剤が安定に存在し、
かつ溶媒へ溶解した。一方、比較開始剤３、４、７、８で溶媒へ溶解しなかった化合物も
鎖長を伸長した開始剤３、４、５、８、９、１１では溶媒へ溶解した。

上記の実施例及び比較例の結果、合成例５及び比較合成例１において、後者が開始剤原
料アルコールの存在のため８０時間もの重合時間を要しているのに対し、前者は開始剤原
料アルコールの残量が少ない状態でもＴＨＦに可溶である重合開始剤を用いることで８時
間以内に重合反応が完結していることがわかる。すなわち、本発明の手法によって温和な
条件下でのアルキレンオキシドの重合が実現した。また、合成例６では合成例５の反応液
を後処理することなく、直接次工程の反応に用いることにより、工程が大幅に簡略化出来
た。さらに合成例１２ではイオン交換樹脂を用いた樹脂の精製に有機溶媒を用いることに
より、最終工程で凍結乾燥を使用せずに、簡便な方法でポリマーの精製を行うことが可能
となった。

合成例５〜８及び比較合成例１〜３において、後者ではシアノ基の還元に重金属を触媒
とした水素添加反応を要するのに対し、前者では保護アミノ基を脱保護するだけで目的の
ポリマーを合成できる。比較ポリマー（ＩＩＩｃ）では水素還元によりアクリロニトリル
のβ脱離と２、３級アミンの生成が起こっているが、実施例ポリマー（ＩＩＩＡ−ａ）、
（ＩＩＩＢ−ａ）、（ＩＩＩＡ−ａ−２）ではいずれの生成も観測できなかった（表６）
。また、合成例７−１、８、１２及び比較合成例３において、金属分析の結果、比較ポリ
マーでは還元時に使用した重金属が混入するのに対し、合成例７−１、８、１２では重金
属触媒を使用していないため、本質的に重金属が混入しないことがわかる。また強酸性陽
イオン交換樹脂による精製によりカリウム金属混入量を低減することができた（表７）。
結果、本発明により、医薬品において悪影響を及ぼす可能性のある重金属の混入がないア
ミノ基含有狭分散ポリアルキレングリコール誘導体の合成を達成した。また、新規な保護
アミノ基含有アルコールを合成し、さらにそれを原料として重合開始剤とすることで、さ
まざまなポリマー合成へ応用することが可能となった。上記新規重合開始剤を使用して、
さらに必要に応じて陽イオン交換樹脂により精製することで、水の混入により生成する分
離困難であったジオールポリマーを除去することができ、純度よくアミノ基含有狭分散ポ
リアルキレングリコール誘導体を得ることが可能になり、製造マージンを広げることがで
きた。

本発明の方法を用いて製造した高分子化合物は、ドラッグデリバリーシステムの分野を
はじめとした医薬品や化粧品等の用途で用いられるブロック共重合体を合成する際に出発
原料として広く使用することができる。また、新規な保護アミノ基含有アルコールの金属
塩は様々なポリマー合成へと応用することができる。

Claims (3)

1. 下記一般式（６）で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール化合物。
   

   

   （一般式（６）中、Ｒ^１はそれぞれ独立して炭素数１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基であり、或いはＲ^１は互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に３〜６員環を形成することもでき、Ｒ^２はｎ−ブチル基から、水素原子が一つ脱離した基であり、Ｒ^５は炭素数２〜８のアルキレン基であり、ｍは１〜３の整数を表す）
2. 請求項１に記載の一般式（６）で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール化合物の製造方法であって、下記一般式（８）で表されるトリシリル保護化合物を塩基処理する工程を含む、シリル保護アミノ基含有アルコール化合物の製造方法。
   

   

   （一般式（８）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^５、及びｍは、前記一般式（６）について定義したとおりであって、前記一般式（６）のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^５、及びｍと同一である）
3. 下記一般式（ＩＩ−１）で表される、シリル保護アミノ基含有ポリアルキレングリコール化合物誘導体。
   

   

   （一般式（ＩＩ−１）中、Ｒ^１はそれぞれ独立して炭素数１〜６の直鎖状、又は炭素数３〜６の分岐状もしくは環状の１価の炭化水素基であり、或いはＲ^１は互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に３〜６員環を形成することもでき、Ｒ^２はｎ−ブチル基の末端の炭素から、水素原子が一つ脱離した基であり、Ｒ^４は、水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１２の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、Ｒ^５は炭素数２〜８のアルキレン基であり、ｍは１〜３の整数を表し、ｎは１〜４５０の整数である）