JP6727327B2 - 照明放射を発生するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2016年5月4日に出願された欧州特許出願第16168237.2号の優先権を主張するものであり、参照により全体が本明細書に組み込まれる。
照明放射ビームを発生するための駆動放射ビームを提供することであって、その放射ビームが複数の放射パルスを含むことと、
駆動放射ビームを第1の複数の駆動放射パルスと第2の複数の駆動放射パルスに分割することと、
照明放射ビームの出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために第1の複数の放射パルスの第1の制御可能特性を制御することと、
照明放射ビームの出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために第2の複数の放射パルスの第2の制御可能特性を制御することと、
を含む、方法が提供される。
第1の複数の駆動放射パルスを提供することと、
第2の複数の駆動放射パルスを提供することと、
第1の複数の出力パルスと第2の複数の出力パルスを結合して照明放射ビームにすることと、
照明放射ビームを使用して、ターゲットの少なくとも1つの特性を決定することと、
を含み、
第1の複数の放射パルスを提供するステップが、照明放射の出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために第1の複数の放射パルスの第1の制御可能特性を制御することを含み、
第2の複数の放射パルスを提供するステップが、照明放射の出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために第2の複数の放射パルスの第2の制御可能特性を制御することを含む、方法が提供される。
リソグラフィ装置が、
パターンを照明するように配置された照明光学システムと、
基板上にパターンの像を投影するように配置された投影光学システムと、
上記のインスペクション装置と、
を含み、
リソグラフィ装置が、更なる基板にパターンを適用する際にインスペクション装置によって計算された1つ以上のパラメータを使用するように配置される、リソグラフィシステムを更に提供する。
Δλ=λD/N−λD/(N+2)≒2λD/N2
1.高調波発生放射源において照明放射ビームを発生するための方法であって、
照明放射ビームを発生するための駆動放射ビームを提供することであって、その放射ビームが複数の放射パルスを含むことと、
駆動放射ビームを第1の複数の駆動放射パルスと第2の複数の駆動放射パルスに分割することと、
照明放射ビームの出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために第1の複数の放射パルスの第1の制御可能特性を制御することと、
照明放射ビームの出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために第2の複数の放射パルスの第2の制御可能特性を制御することと、
を含む、方法。
2.第1の制御可能特性を制御することが、第2の複数の放射パルスに対する第1の複数の放射パルスの遅延を特定の遅延値によって制御することを含む、条項1に記載の方法。
3.第1の制御可能特性又は第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つが、それぞれ出力波長スペクトルの第1の部分又は第2の部分に単一波長連続体を含ませるように制御される、条項1又は条項2に記載の方法。
4.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つのパルスの高調波発生に関する発生時間ウィンドウを制御することを含む、条項1から3のいずれかに記載の方法。
5.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第1の複数の駆動放射パルス又は第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つについてゲーティングを実行することを含む、条項4に記載の方法。
6.第1の複数の駆動放射パルス又は第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つについて汎用ダブルオプティカルゲート法が実行される、条項4に記載の方法。
7.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第1の複数の駆動放射パルス又は第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つについてパルス圧縮を実行することを含む、条項4に記載の方法。
8.第1の制御可能特性又は第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つが、出力波長スペクトルの第2の部分が出力波長スペクトルの第1の部分とは異なるように制御される、上記条項のいずれかに記載の方法。
9.インスペクション装置に関する方法であって、
第1の複数の駆動放射パルスを提供することと、
第2の複数の駆動放射パルスを提供することと、
第1の複数の出力パルスと第2の複数の出力パルスを結合して照明放射ビームにすることと、
照明放射ビームを使用して、ターゲットの少なくとも1つの特性を決定することと、
を含み、
第1の複数の放射パルスを提供するステップが、照明放射の出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために第1の複数の放射パルスの第1の制御可能特性を制御することを含み、
第2の複数の放射パルスを提供するステップが、照明放射の出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために第2の複数の放射パルスの第2の制御可能特性を制御することを含む、方法。
10.第1の制御可能特性を制御することが、第2の複数の放射パルスに対する第1の複数の放射パルスの遅延を特定の遅延値によって制御することを含む、条項9に記載の方法。
11.第1の制御可能特性又は第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つが、それぞれ出力波長スペクトルの第1の部分又は第2の部分に単一波長連続体を含ませるように制御される、条項9又は条項10に記載の方法。
12.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つのパルスの高調波発生に関する発生時間ウィンドウを制御することを含む、条項9から11のいずれかに記載の方法。
13.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第2の複数の駆動放射パルスについてゲーティングを実行することを含む、条項12に記載の方法。
14.第1の複数の駆動放射パルス又は第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つについて汎用ダブルオプティカルゲート法が実行される、条項12に記載の方法。
15.第1の制御可能特性を制御すること又は第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、第2の複数の駆動放射パルスについてパルス圧縮を実行することを含む、条項12に記載の方法。
16.第1の制御可能特性又は第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つが、出力波長スペクトルの第2の部分が出力波長スペクトルの第1の部分とは異なるように制御される、条項9から15のいずれかに記載の方法。
17.条項1から8のいずれかに記載の方法を実行するための手段を含む照明装置。
18.条項9から16のいずれかに記載の方法を実行するための手段を含むインスペクション装置。
19.条項17に記載の照明装置を含む、条項18に記載のインスペクション装置。
20.デバイスを製造する方法であって、デバイスフィーチャ及びメトロロジーターゲットがリソグラフィプロセスによって一連の基板上に形成され、1つ以上の処理された基板上のメトロロジーターゲットの特性が条項9から16のいずれかに記載の方法によって測定され、測定された特性が更なる基板の処理のためにリソグラフィプロセスのパラメータを調整するために使用される、方法。
21.条項1から8のいずれかに記載の制御ステップ又は条項9から16のいずれかに記載の制御ステップをプロセッサに実行させるための機械可読命令を含むコンピュータプログラムプロダクト。
22.リソグラフィシステムであって、
リソグラフィ装置が、
パターンを照明するように配置された照明光学システムと、
基板上にパターンの像を投影するように配置された投影光学システムと、
条項18又は19に記載のインスペクション装置と、
を含み、
リソグラフィ装置が、更なる基板にパターンを適用する際にインスペクション装置によって計算された1つ以上のパラメータを使用するように配置される、リソグラフィシステム。
Claims (14)
- 高調波発生放射源において照明放射ビームを発生する方法であって、
前記照明放射ビームを発生する駆動放射ビームを提供することであって、前記駆動放射ビームが複数の駆動放射パルスを含むことと、
前記駆動放射ビームを第1の複数の駆動放射パルス及び第2の複数の駆動放射パルスに分割することと、
前記照明放射ビームの出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために前記第1の複数の駆動放射パルスの第1の制御可能特性を制御することと、
前記照明放射ビームの前記出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために前記第2の複数の駆動放射パルスの第2の制御可能特性を制御することと、
を含み、
第1の制御可能特性を制御することは、前記第2の複数の駆動放射パルスに対する前記第1の複数の駆動放射パルスの遅延を特定の遅延値によって制御することを含み、前記遅延値は、前記第1の複数の駆動放射パルスと前記第2の複数の駆動放射パルスとの間で時間的な重なりが発生しないように設定される、方法。 - 前記第1の制御可能特性又は前記第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つは、それぞれ前記出力波長スペクトルの前記第1の部分又は前記第2の部分に単一波長連続体を含ませるように制御される、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の制御可能特性を制御すること又は前記第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、前記第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つのパルスの高調波発生に関する発生時間ウィンドウを制御することを含む、請求項1または2のいずれかに記載の方法。
- 前記第1の制御可能特性を制御すること又は前記第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つが、前記第1の複数の駆動放射パルス又は前記第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つについてゲーティングを実行することを含む、請求項3に記載の方法。
- インスペクション装置に関する方法であって、
第1の複数の駆動放射パルスを提供することと、
第2の複数の駆動放射パルスを提供することと、
前記第1の複数の駆動放射パルスと前記第2の複数の駆動放射パルスを結合して照明放射ビームにすることと、
前記照明放射ビームを使用して、ターゲットの少なくとも1つの特性を決定することと、
を含み、
第1の複数の駆動放射パルスを提供するステップは、前記照明放射ビームの出力波長スペクトルの第1の部分を制御するために前記第1の複数の駆動放射パルスの第1の制御可能特性を制御することを含み、
第2の複数の駆動放射パルスを提供するステップは、前記照明放射ビームの前記出力波長スペクトルの第2の部分を制御するために前記第2の複数の駆動放射パルスの第2の制御可能特性を制御することを含み、
第1の制御可能特性を制御することは、前記第2の複数の駆動放射パルスに対する前記第1の複数の駆動放射パルスの遅延を特定の遅延値によって制御することを含み、前記遅延値は、前記第1の複数の駆動放射パルスと前記第2の複数の駆動放射パルスとの間で時間的な重なりが発生しないように設定される、方法。 - 前記第1の制御可能特性又は前記第2の制御可能特性のうちの少なくとも1つは、それぞれ前記出力波長スペクトルの前記第1の部分又は前記第2の部分に単一波長連続体を含ませるように制御される、請求項5に記載の方法。
- 前記ターゲットの少なくとも一つの特性は、パターン形成された構造のクリティカルディメンジョンである、請求項6に記載の方法。
- 前記第1の制御可能特性を制御すること又は前記第2の制御可能特性を制御することのうちの少なくとも1つは、前記第2の複数の駆動放射パルスのうちの少なくとも1つのパルスの高調波発生に関する発生時間ウィンドウを制御することを含む、請求項5から7のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載の方法を実行するための手段を含む照明装置。
- 請求項5から8のいずれか一項に記載の方法を実行するための手段を含むインスペクション装置。
- 請求項9に記載の照明装置を含む、請求項10に記載のインスペクション装置。
- デバイスを製造する方法であって、デバイスフィーチャ及びメトロロジーターゲットがリソグラフィプロセスによって一連の基板上に形成され、1つ以上の処理された基板上の前記メトロロジーターゲットの特性が請求項5から8のいずれか一項に記載の方法によって測定され、前記測定された特性が更なる基板の処理のために前記リソグラフィプロセスのパラメータを調整するために使用される、方法。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載の制御ステップ又は請求項5から8のいずれか一項に記載の制御ステップをプロセッサに実行させるための機械可読命令を含むコンピュータプログラムプロダクト。
- リソグラフィシステムであって、
リソグラフィ装置が、
パターンを照明するように配置された照明光学システムと、
基板上に前記パターンの像を投影するように配置された投影光学システムと、
請求項10又は11に記載のインスペクション装置と、
を含み、
前記リソグラフィ装置が、更なる基板に前記パターンを適用する際に前記インスペクション装置によって計算された1つ以上のパラメータを使用するように配置される、リソグラフィシステム。
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