JP6726703B2 - 交替ビーム密度プロファイルを有する近接場ビーム密度分布のための光学モジュールシステム - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 141
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 38
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 8
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 3
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 208000019061 glycogen storage disease due to GLUT2 deficiency Diseases 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0988—Diaphragms, spatial filters, masks for removing or filtering a part of the beam
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0994—Fibers, light pipes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/30—Collimators
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/022—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses lens and mount having complementary engagement means, e.g. screw/thread
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
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Description
1.1 位相板
1.2 集束レンズ
2 ハウジング
2.1、2.3 第1、第2の細目ねじ
2.2、2.4 第1、第2のストッパ
2.2.1、2.4.1 ストッパ面
10 ビームエキスパンダ、光学素子
10.1、10.2 第1、第2の光学面
20 ファイバコリメータ、光学素子
20.2 収束レンズ
20.3 マウント
20.3.4 細目ねじ
20.4 ファイバレセプタクル
20.4.2 細目ねじ
20.4.3 ファイバカップリング
20.4.5 偏心レセプタクル
20.4.6 固定ストッパ
20.5 固定ねじ
20.5.2 ねじヘッド
20.6 調整外枠
20.6.2 長手方向に移動可能な固定半外枠
20.6.2.2 固定スロット
30 ねじ付きアダプタ
30.1、30.3 第1、第2の細目ねじ
30.2、30.4 第1、第2のストッパ
102 コリメータハウジング
102.3 出口側の細目ねじ
102.4 出口側のストッパ
x 距離
y プロファイル方向
A 出口
AS 出力ビーム束
E 入口
ES 入力ビーム束
F 焦点
f 焦点距離
L 長手方向軸
LS ビーム密度分布の縦断面
X 光軸
TP’ 、TP、TP’’ 第1、第2、第3のトップハットプロファイル
DP ドーナツプロファイル
BP ビームウエストプロファイル
Claims (9)
- モジュールシステムであって、光学素子(1.1、1.2、10)として、
少なくとも1つの位相板(1.1)と、
少なくとも1つの非球面集束レンズ(1.2)と、
光軸(X)に対してコリメートされた同じ波長の単色光のビーム束の直径の回折限界変化のための少なくとも1つのビームエキスパンダ(10)と、を備え、
前記位相板、前記非球面集束レンズ、および前記ビームエキスパンダは、それぞれ、前記光軸(X)と同軸に配置された管状のハウジング(2)内に装着され、
前記光軸(X)と同心に、環状の第1のストッパ(2.2)および第1の細目ねじ(2.1)が前記ハウジング(2)の第1の端部に配置され、かつ、環状の第2ストッパ(2.4)および第2の細目ねじ(2.3)が前記ハウジング(2)の第2の端部に形成され、配置されていることで、
第1の光学素子(1、10)の前記ハウジング(2)の前記第2のストッパ(2.4)が第2の光学素子(1、10)の前記ハウジング(2)の前記第1のストッパ(2.2)に接触し配向して、前記第1および第2の光学素子(1、10)の光軸(X)が、当該第1および第2光学素子(1、10)により形成された光学系が回折限界を達成できるように互いに整列される停止位置にまで、装着された前記第1の光学素子(1、10)の前記第2の細目ねじ(2.3)は、前記第2の光学素子(1、10)の前記第1の細目ねじ(2.1)にねじ込まれるようになっており、
少なくとも1つの装着された前記位相板(1.1)が、光路の下流に配置された非球面集束レンズ(1.2)と共に集束ビームシェイパ(1)を形成するように設置されており、前記集束ビームシェイパは、一波長とガウスプロファイルを有する入力ビーム密度分布とを含む前記光軸(X)に対してコリメートされた光を、少なくとも1つの像平面(B2−B5)において交替ビーム密度プロファイル(TP、TP’、TP"、DP、BP)を有する出力ビーム密度分布(LS)に変換するためのものである、
ことを特徴とするモジュールシステム。 - 集束ビームシェイパ(1)の光路内の配置のための少なくとも1つのビームエキスパンダ(10)が、装着された位相板(1.1)と集束非球面レンズ(1.2)との間に配置されている、ことを特徴とする請求項1に記載のモジュールシステム。
- ハウジング(2)内に装着された焦点距離(f)の異なる集束レンズ(1.2)を、位相板(1.1)と交換可能に組み合わせて、集束ビームシェイパ(1)を形成することができる、ことを特徴とする請求項1または2に記載のモジュールシステム。
- 光ファイバから同じ波長の単色光を供給するための入口(E)および前記光軸(X)に沿ってコリメートされた光を出力するための出口(A)を有し、コリメータハウジング(102)内に装着された少なくとも1つのファイバコリメータ(20)を光学素子としてさらに備え、
前記ファイバコリメータ(20)の前記出口(A)において前記光軸と同心に、出口側のストッパ(102.4)および出口側の細目ねじ(102.3)が配置されていることで、
前記ファイバコリメータ(20)の前記出口側のストッパ(102.4)が第2の光学素子(1、10)の前記第1のストッパ(2.2)に接触し配向して前記ファイバコリメータ(20)と前記第2の光学素子(1、10)との光軸(X)が前記回折限界を達成可能に互いに整列される停止位置にまで、前記ファイバコリメータ(20)の前記出口側の細目ねじ(102.3)は、ハウジング(2)内に装着された前記第2の光学素子(1、10)の前記第1の細目ねじ(2.1)にねじ込まれるようになっている、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のモジュールシステム。 - 第1のビームエキスパンダ(10)は1.5の倍率を有し、第2のビームエキスパンダ(10)は1.75の倍率を有し、第3のビームエキスパンダ(10)は2.0の倍率を有する、ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のモジュールシステム。
- 光学素子(1、10、20)のセットを複数備え、光学素子(1、10、20)の前記セットはそれぞれ、単色光の波長のために設けられ、前記波長は、前記セット毎に異なる、ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のモジュールシステム。
- 少なくとも1つのねじ付きアダプタ(30)をさらに備え、
前記ねじ付きアダプタは、長手方向軸(L)に対して同心にかつ垂直に配置された第1のストッパ(30.2)と、第1の細目ねじ(30.1)と、前記長手方向軸(L)に沿って反対側の第2のストッパ(30.4)と、第2の細目ねじ(30.3)と、を有し、
前記ねじ付きアダプタ(30)のストッパ(30.2、30.4)が、装着された光学素子(1、10)のストッパ(2.2、2.4)に接触し配向して前記ねじ付きアダプタ(30)の前記長手方向軸(L)が前記回折限界を達成可能に前記光学素子(1、10)の光軸(X)と整列される停止位置にまで、前記ねじ付きアダプタ(30)の前記細目ねじ(30.1、30.3)は、装着された前記光学素子(1、10)のハウジング(2)の細目ねじ(2.1、2.3)にねじ込まれるようになっている、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のモジュールシステム。 - 少なくとも1つのねじ付きアダプタ(30)が、前記少なくとも1つのビームエキスパンダ(10)のビーム方向の反転のために設けられている、ことを特徴とする請求項7に記載のモジュールシステム。
- 少なくとも1つの集束レンズ(1.2)が、集束非球面レンズ(1.2)として設計されている、ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のモジュールシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017113945.1A DE102017113945B4 (de) | 2017-06-23 | 2017-06-23 | Modulares optisches Baukastensystem für fokusnahe Strahldichteverteilungen mit alternierendem Strahldichteprofil |
DE102017113945.1 | 2017-06-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019053277A JP2019053277A (ja) | 2019-04-04 |
JP6726703B2 true JP6726703B2 (ja) | 2020-07-22 |
Family
ID=62567444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018116754A Expired - Fee Related JP6726703B2 (ja) | 2017-06-23 | 2018-06-20 | 交替ビーム密度プロファイルを有する近接場ビーム密度分布のための光学モジュールシステム |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180372990A1 (ja) |
EP (1) | EP3418794B1 (ja) |
JP (1) | JP6726703B2 (ja) |
KR (1) | KR102061417B1 (ja) |
DE (1) | DE102017113945B4 (ja) |
ES (1) | ES2933506T3 (ja) |
LT (1) | LT3418794T (ja) |
PL (1) | PL3418794T3 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102532094B1 (ko) * | 2023-02-21 | 2023-05-12 | 주식회사 브이엘 | 이차전지 및 반도체 검사용 빔 익스팬더 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2017
- 2017-06-23 DE DE102017113945.1A patent/DE102017113945B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-06-07 LT LTEP18176514.0T patent/LT3418794T/lt unknown
- 2018-06-07 PL PL18176514.0T patent/PL3418794T3/pl unknown
- 2018-06-07 EP EP18176514.0A patent/EP3418794B1/de active Active
- 2018-06-07 ES ES18176514T patent/ES2933506T3/es active Active
- 2018-06-20 JP JP2018116754A patent/JP6726703B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2018-06-22 KR KR1020180072202A patent/KR102061417B1/ko active IP Right Grant
- 2018-06-25 US US16/017,136 patent/US20180372990A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LT3418794T (lt) | 2022-12-12 |
JP2019053277A (ja) | 2019-04-04 |
PL3418794T3 (pl) | 2023-01-23 |
KR20190000837A (ko) | 2019-01-03 |
KR102061417B1 (ko) | 2019-12-31 |
US20180372990A1 (en) | 2018-12-27 |
DE102017113945B4 (de) | 2019-11-14 |
EP3418794B1 (de) | 2022-10-05 |
ES2933506T3 (es) | 2023-02-09 |
DE102017113945A1 (de) | 2018-12-27 |
EP3418794A1 (de) | 2018-12-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180815 |
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A977 | Report on retrieval |
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