JP6723660B2 - ウェハ保持装置及びウェハ着脱方法 - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 保持すべきウェハと接触するウェハ保持面を有し、前記ウェハ保持面上に複数の吸着領域が設けられるウェハチャックと、
前記複数の吸着領域のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部と、を備え、
前記制御部は、前記ウェハの固定を解除する場合、前記複数の吸着領域のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とし、前記ウェハと前記一部の吸着領域との間に存在するガスが外部に排出されるように前記仮固定状態を維持した後に、前記複数の吸着領域の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくすることを特徴とするウェハ保持装置。 - 前記制御部は、前記仮固定状態を0.1秒以上10秒以下の時間にわたって維持することを特徴とする請求項1に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記ウェハに関連する条件に応じて、前記仮固定状態を維持する時間を変えることを特徴とする請求項1または2に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記仮固定状態において、前記一部の吸着領域とは異なる吸着領域をウェハ固定時の吸着力にしたままとすることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記仮固定状態において、ウェハ固定時より小さい吸着力とする前記一部の吸着領域を順番に切り替えることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記仮固定状態において、前記複数の吸着領域の全てが同時にウェハ固定時より小さい吸着力となることを避けながら、ウェハ固定時より小さい吸着力とする前記一部の吸着領域を順番に切り替えることを特徴とする請求項5に記載のウェハ保持装置。
- 保持すべきウェハと接触するウェハ保持面を有し、前記ウェハ保持面上に複数の吸着領域が設けられるウェハチャックと、
前記複数の吸着領域のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部と、を備え、
前記複数の吸着領域は、第1吸着領域と、第2吸着領域とを含み、
前記制御部は、前記ウェハの固定を解除する場合、前記第1吸着領域をウェハ固定時の吸着力にしたまま前記第2吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする第1仮固定状態とした後に、前記第2吸着領域の吸着力をウェハ固定時の吸着力にしたまま前記第1吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする第2仮固定状態とし、その後に、前記複数の吸着領域の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくすることを特徴とするウェハ保持装置。 - 前記制御部は、前記第1仮固定状態と前記第2仮固定状態とを交互に繰り返し実行することを特徴とする請求項7に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記第1仮固定状態と前記第2仮固定状態との間のタイミングに、前記第1吸着領域および前記第2吸着領域の双方をウェハ固定時の吸着力に戻すことを特徴とする請求項7または8に記載のウェハ保持装置。
- 前記制御部は、前記ウェハに関連する条件に応じて、前記第1仮固定状態と前記第2仮固定状態のそれぞれの維持時間および実行回数の少なくとも一方を変化させることを特徴とする請求項7から9のいずれか一項に記載のウェハ保持装置。
- 前記ウェハに関連する条件は、前記ウェハの固定時間、前記ウェハへの投入熱量、前記ウェハの前記ウェハ保持面に接触する面の材料、前記ウェハの重量および前記ウェハの厚さの少なくとも一つに依存することを特徴とする請求項3または10に記載のウェハ保持装置。
- 保持すべきウェハと接触するウェハ保持面を有し、前記ウェハ保持面上に複数の吸着領域が設けられるウェハチャックと、
前記複数の吸着領域のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部と、を備え、
前記ウェハチャックは、前記ウェハ保持面を有する絶縁体層と、前記絶縁体層の内部であって前記複数の吸着領域に対応する位置に設けられる複数の電極構造と、を含み、
前記制御部は、前記ウェハの固定を解除する場合、前記複数の吸着領域のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とした後に、前記複数の吸着領域の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくし、
前記制御部は、各電極構造に印加する電圧の絶対値または振幅をウェハ固定時より小さくすることにより、各電極構造に対応する各吸着領域の吸着力を低減させることを特徴とするウェハ保持装置。 - 前記ウェハチャックは、前記絶縁体層を支持するベース部材をさらに含み、
前記制御部は、各電極構造に印加する電圧を前記ベース部材と同電位とすることにより、各電極構造に対応する各吸着領域の吸着力を低減させることを特徴とする請求項12に記載のウェハ保持装置。 - 前記複数の電極構造には、直流電圧が印加されることを特徴とする請求項12または13に記載のウェハ保持装置。
- 前記複数の電極構造には、交流電圧が印加され、
前記仮固定状態の維持時間は、前記交流電圧の一周期に要する時間よりも長いことを特徴とする請求項12または13に記載のウェハ保持装置。 - 保持すべきウェハと接触するウェハ保持面を有し、前記ウェハ保持面上に複数の吸着領域が設けられるウェハチャックと、
前記複数の吸着領域のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部と、を備え、
前記ウェハ保持面には、前記ウェハの冷却または加熱に用いる伝熱用ガスを充填するための溝が設けられ、
前記制御部は、前記ウェハの固定を解除する場合、前記複数の吸着領域のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とし、前記ウェハと前記ウェハ保持面との間に残留する前記伝熱用ガスが外部に排出されるように前記仮固定状態を維持した後に、前記複数の吸着領域の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくすることを特徴とするウェハ保持装置。 - 前記複数の吸着領域の一つは、前記ウェハ保持面の外周に沿った閉ループ状の領域を含むように設けられ、
前記制御部は、前記仮固定状態において、前記閉ループ状の領域の吸着力をウェハ固定時よりも小さくすることを特徴とする請求項1から16のいずれか一項に記載のウェハ保持装置。 - 前記制御部は、前記仮固定状態において、前記閉ループ状の領域より内側に設けられる少なくとも一つの吸着領域をウェハ固定時の吸着力のまま維持することを特徴とする請求項17に記載のウェハ保持装置。
- ウェハチャックを用いるウェハ着脱方法であって、前記ウェハチャックは、保持すべきウェハと接触するウェハ保持面を有し、前記ウェハ保持面上に複数の吸着領域が設けられ、
当該ウェハ着脱方法は、前記ウェハの固定を解除する場合、前記複数の吸着領域のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とし、前記ウェハと前記一部の吸着領域との間に存在するガスが外部に排出されるように前記仮固定状態を維持した後に、前記複数の吸着領域の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくすることを特徴とするウェハ着脱方法。
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