JP5174553B2 - デチャック機構、真空装置、デチャック方法 - Google Patents
デチャック機構、真空装置、デチャック方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5174553B2 JP5174553B2 JP2008169163A JP2008169163A JP5174553B2 JP 5174553 B2 JP5174553 B2 JP 5174553B2 JP 2008169163 A JP2008169163 A JP 2008169163A JP 2008169163 A JP2008169163 A JP 2008169163A JP 5174553 B2 JP5174553 B2 JP 5174553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- dechucking
- substrate
- electrostatic chuck
- holding surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
2…………真空装置
3…………真空容器
11………基板ホルダ
15………静電チャック
17………静電チャック用電源
21a……基板突き上げ棒
23………プラズマ源
31………真空ポンプ
33………真空バルブ
37………プラズマ発生容器
39………プラズマ照射口
41………キャリアガス流入口
43………フィラメント
45………電源
53………冷却ガス充填用溝
55………冷却ガス流路
61………プラズマ発生管
61a……キャリアガス流入口
61b……プラズマ照射口
63………プラズマ発生用コイル
65………電源
67………プラズマ発生管
67a……キャリアガス流入口
67b……プラズマ照射口
69………プラズマ発生用コイル
71………電源
73………プラズマ発生管
73a……キャリアガス流入口
73b……プラズマ照射口
75………電極
77………電極
79………電源
Claims (7)
- 基板を保持する保持面を有する静電チャックと、
前記保持面と前記基板の間にプラズマを照射するプラズマ源とを有し、
前記保持面には、冷却ガス充填用溝が設けられ、
前記プラズマ源は、前記冷却ガス充填用溝に接するように前記静電チャック内部に設けられていることを特徴とするデチャック機構。 - 前記プラズマ源は、
プラズマ発生容器と、
前記プラズマ発生容器に設けられ、プラズマ化させるガスが流入するキャリアガス流入口と、
前記プラズマ発生容器に設けられ、プラズマを照射するプラズマ照射口と、
を有し、
前記プラズマ照射口は、前記冷却ガス充填用溝に接するように設けられていることを特徴とする請求項1に記載のデチャック機構。 - 前記プラズマ源は、
前記プラズマ発生容器内に設けられたフィラメントと、
前記フィラメントに接続された直流電源と、
を有することを特徴とする請求項2記載のデチャック機構。 - 前記プラズマ源は、
前記プラズマ発生容器の周囲または内部に設けられたプラズマ発生用コイルと、
前記プラズマ発生用コイルに接続された交流電源と、
を有することを特徴とする請求項2記載のデチャック機構。 - 前記プラズマ源は、
前記プラズマ発生容器内に設けられた一対の電極と、
一対の前記電極に接続された交流電源またはパルス電源と、
を有することを特徴とする請求項2記載のデチャック機構。 - 真空容器と、
前記真空容器の内部を排気するための真空ポンプと、
前記真空容器と前記真空ポンプとの間に設けられた真空バルブと、
請求項1〜請求項5のいずれかに記載のデチャック機構と、
を有することを特徴とする真空装置。 - 静電チャックに保持された基板をデチャックするデチャック方法であって、
前記保持面には、冷却ガス充填用溝が設けられており、
前記冷却ガス充填用溝を介して前記保持面と前記基板の間に向けてプラズマを照射することにより、前記保持面と前記基板の残留電荷を中和することを特徴とするデチャック方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008169163A JP5174553B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | デチャック機構、真空装置、デチャック方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008169163A JP5174553B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | デチャック機構、真空装置、デチャック方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010010477A JP2010010477A (ja) | 2010-01-14 |
JP5174553B2 true JP5174553B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=41590596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008169163A Expired - Fee Related JP5174553B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | デチャック機構、真空装置、デチャック方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5174553B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10896843B2 (en) | 2017-03-24 | 2021-01-19 | Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd. | Wafer holding device and wafer chucking and dechucking method |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8520360B2 (en) * | 2011-07-19 | 2013-08-27 | Lam Research Corporation | Electrostatic chuck with wafer backside plasma assisted dechuck |
CN103972013B (zh) * | 2014-05-14 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种真空设备 |
CN111954852A (zh) * | 2018-04-12 | 2020-11-17 | Asml荷兰有限公司 | 包括静电夹具的装置和用于操作该装置的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11350140A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 窒化炭素膜の薄膜製造装置及びその製造方法 |
JP2002313902A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Canon Inc | 静電チャック、該静電チャックから基板を離脱する方法 |
JP2003282691A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Nec Kyushu Ltd | ウェハ保持用静電チャックおよびウェハの剥離方法 |
JP2004047511A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Tokyo Electron Ltd | 離脱方法、処理方法、静電吸着装置および処理装置 |
JP4193040B2 (ja) * | 2003-01-31 | 2008-12-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高分子フィルムの表面処理方法及び表面処理装置、当該処理方法により処理された高分子フィルム並びに高分子系複合フィルム |
JP5221842B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2013-06-26 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
JP2007331953A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tohoku Univ | 原子内包シリコンクラスター、及び、その製造方法 |
-
2008
- 2008-06-27 JP JP2008169163A patent/JP5174553B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10896843B2 (en) | 2017-03-24 | 2021-01-19 | Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd. | Wafer holding device and wafer chucking and dechucking method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010010477A (ja) | 2010-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009010263A (ja) | 基板接合装置 | |
JP5479723B2 (ja) | プラズマ光源とプラズマ光発生方法 | |
JP5174553B2 (ja) | デチャック機構、真空装置、デチャック方法 | |
JPH1074826A (ja) | 静電チャックから被加工物を解放する方法および装置 | |
JP2008178679A (ja) | プラズマ処理装置 | |
US20180144946A1 (en) | Method of plasma discharge ignition to reduce surface particles | |
CN108431930A (zh) | 具有远程等离子体源和dc电极的原子层蚀刻系统 | |
JP6234271B2 (ja) | 被処理体を処理する方法 | |
JP5317509B2 (ja) | プラズマ処理装置および方法 | |
JP2006269556A (ja) | プラズマ処理装置、及び半導体装置の製造方法 | |
KR101809788B1 (ko) | 웨이퍼 클램핑을 위한 esc 충전 제어용 방법 및 장치 | |
KR101883246B1 (ko) | 플라스마 처리 장치 및 시료의 이탈 방법 | |
JP4936276B2 (ja) | 窒化処理装置 | |
KR20110006932A (ko) | 기판 고정 장치 | |
TW201724164A (zh) | 等離子體處理裝置及其清洗方法 | |
WO2013027584A1 (ja) | 真空処理装置及び真空処理方法 | |
JP2009194194A (ja) | プラズマ処理方法 | |
JP5649153B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2020077657A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
JP2005101617A (ja) | ウェハー結合装置及びその方法 | |
JP6204881B2 (ja) | 被処理体を処理する方法 | |
JP6142305B2 (ja) | 静電吸着方法及び静電吸着装置 | |
JP3269678B2 (ja) | 静電チャック装置および静電チャック方法 | |
KR20180014943A (ko) | 기판 디척킹 방법 및 이를 이용한 기판 처리 장치 | |
JP3589278B2 (ja) | ピンチプラズマの発生方法および装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100809 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120615 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5174553 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |