JP6713210B2 - チャックテーブル - Google Patents

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本発明は、一般的にチャックテーブルに関し、特に、レーザー加工装置のチャックテーブルに関する。
近年、携帯電話やパソコン等の電子機器はより軽量化、小型化が求められており、これに伴いより薄い半導体デバイスチップが要求されている。より薄い半導体デバイスチップを形成する技術として、所謂先ダイシング法(DBG:Dicing Before Grinding)を称する分割技術が実用化されている。
この先ダイシング法は、半導体ウェーハの表面から分割予定ラインに沿って厚みが20〜40μmの切削ブレードによって所定の深さ(半導体デバイスチップの仕上がり厚みに相当する深さ)の分割溝を形成し、その後、表面に分割溝が形成された半導体ウェーハの裏面を研削して切削溝を裏面に露出させ、半導体ウェーハを個々の半導体デバイスチップに分割する技術であり、半導体デバイスチップの厚さを50μm以下に加工することが可能である。
しかし、先ダイシング法においては、所定深さの分割溝を形成した半導体ウェーハの裏面を研削して裏面に分割溝を露出させるので、Die Attach Film(DAF)と称するダイボンディング用の接着フィルムを前もって半導体ウェーハの裏面に装着することができない。
そこで、先ダイシング法によって個々の半導体デバイスチップに分割された半導体ウェーハの裏面にDAFを貼着し、このDAFを介して半導体デバイスチップをダイシングテープに貼着した後、各半導体デバイスチップ間の間隙に露出されたDAFの部分に、半導体ウェーハの表面側からチップ間の間隙を通してレーザービームを照射し、チップ間の間隙を通してDAFを分割するようにした技術が特開2002−118081号公報で提案されている。
然し、先ダイシング法によって分割された分割溝の幅は狭いため分割溝を認識することは困難であり、分割溝から外れてレーザービームが照射されDAFの分割が不十分となり、ダイシングテープからDAF付きデバイスチップをピックアップできないと共にデバイスチップの裏面を損傷させるという問題がある。
この問題を解決するために、本願の出願人は、チャックテーブルに保持されたウェーハに光を照射できるチャックテーブル機構を特開2014−150219号で提案した。
特開2002−118081号公報 特開2014−150219号公報
然し、特許文献2に開示されたチャックテーブル機構では、複合ガラスプレートとLEDが配設されたテーブル基台との間に空間領域が存在するため、複合ガラスプレートの上面(ウェーハ保持面)が湾曲して精度が出ないという問題がある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、発光体が発光してもチャックテーブルの保持面が湾曲することがないチャックテーブルを提供することである。
本発明によると、被加工物を保持するチャックテーブルであって、透明部材で形成され
被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルの外周を囲繞し該保持テーブルを照
明する環状の発光体と、該保持テーブルと該環状の発光体とを支持するテーブル基台と、
を備え、前記保持テーブルの表面には複数の溝が形成されており、前記環状の発光体には該テーブル基台側から該保持テーブルの表面に形成された該複数の溝に連通する連通孔が形成され、前記テーブル基台には該環状の発光体に形成された該連通孔に吸引力を伝達する吸引路が形成されており、該吸引路を介して該環状の発光体の該連通孔に吸引力を作用させることにより、該保持テーブルの表面に形成された該複数の溝に負圧を作用させることを特徴とするチャックテーブルが提供される。
本発明のチャックテーブルによると、保持テーブルとテーブル基台との間の空間領域を無くすことができるため、発光体が発光しても保持テーブルの保持面の平面精度が悪化することがない。
更に、保持テーブルの表面に複数の溝が形成されているので、保持テーブルの表面をダイシングテープで覆った状態でこれらの溝に負圧を作用させることにより、被加工物を保持テーブルに確実に吸引保持することができる。
本発明のチャックテーブルを備えたレーザー加工装置の斜視図である。 レーザービーム発生ユニットのブロック図である。 本発明実施形態に係るチャックテーブルの分解斜視図である。 図4(A)はチャックテーブルの上面図、図4(B)は環状発光体の底面図である。 図5(A)は図4(A)の5A−5A線断面図、図5(B)は図5(A)のB部分の拡大断面図である。 フレームユニットの斜視図である。 レーザービームの照射によるDAFの切断ステップを示す断面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態のチャックテーブルを具備したレーザー加工装置の斜視図が示されている。レーザー加工装置2は、静止基台4上にX軸方向に移動可能に搭載された第1スライドブロック26を含んでいる。
第1スライドブロック6は、ボールねじ8及びパルスモータ10から構成される加工送り手段12により一対のガイドレール14に沿って加工送り方向、即ちX軸方向に移動される。
第1スライドブロック6上には第2スライドブロック16がY軸方向に移動可能に搭載されている。すなわち、第2スライドブロック16はボールねじ18及びパルスモータ20から構成される割り出し送り手段22により一対のガイドレール24に沿って割り出し方向、すなわちY軸方向に移動される。
第2スライドブロック16上には円筒支持部材26を介してチャックテーブル28が搭載されており、チャックテーブル28は加工送り手段12及び割り出し送り手段22によりX軸方向及びY軸方向に移動可能である。チャックテーブル28には、チャックテーブル28に吸引保持された半導体ウェーハをクランプするクランパ30が設けられている。
静止基台4にはコラム32が立設されており、このコラム32にレーザービーム照射ユニット34が取り付けられている。レーザービーム照射ユニット34は、ケーシング33中に収容された図2に示すレーザービーム発生ユニット35と、光学系36と、ケーシング33の先端に取り付けられた集光器37とを含んでいる。
レーザービーム発生ユニット35は、図2に示すように、YAGレーザー又はYVO4レーザーを発振するレーザー発振器62と、繰り返し周波数設定手段64と、パルス幅調整手段66と、パワー調整手段68とを含んでいる。特に図示しないが、レーザー発振器62はブリュースター窓を有しており、レーザー発振器62から出射するレーザービームは直線偏光のレーザービームである。
ケーシング33の先端部には、集光器37とX軸方向に整列してレーザー加工すべき加工領域を検出する撮像手段39が配設されている。撮像手段39は、可視光によって半導体ウェーハの加工領域を撮像する通常のCCD等の撮像素子を含んでいる。
撮像手段39は更に、半導体ウェーハに赤外線を照射する赤外線照射手段と、赤外線照射手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と、この光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する赤外線CCD等の赤外線撮像素子から構成される赤外線撮像手段を含んでおり、撮像した画像信号はコントローラ(制御手段)40に送信される。
コントローラ40はコンピュータによって構成されており、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)42と、制御プログラム等を格納するリードオンリーメモリ(ROM)44と、演算結果等を格納する読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)46と、カウンタ48と、入力インターフェイス50と、出力インターフェイス52とを備えている。
56は案内レール14に沿って配設されたリニアスケール54と、第1スライドブロック6に配設された図示しない読み取りヘッドとから構成される加工送り量検出手段であり、加工送り量検出手段56の検出信号はコントローラ40の入力エンターフェイス50に入力される。
60はガイドレール24に沿って配設されたリニアスケール58と第2スライドブロック16に配設された図示しない読み取りヘッドとから構成される割り出し送り量検出手段であり、割り出し送り量検出手段60の検出信号はコントローラ40の入力インターフェイス50に入力される。
撮像手段39で撮像した画像信号もコントローラ40の入力インターフェイス50に入力される。一方、コントローラ40の出力インターフェイス52からはパルスモータ10、パルスモータ20、レーザービーム照射ユニット34等に制御信号が出力される。
図3を参照すると、本発明実施形態に係るチャックテーブル28の分解斜視図が示されている。チャックテーブル28は、SUS等の金属から形成されたテーブル基台70と、ガラス又はポリカーボネート等の透明樹脂から形成された保持テーブル72と、環状の発光体74とを含んでいる。
テーブル基台70は複数のねじ穴76と、テーブル基台70の表面に露出した一対の吸引路78とを有している。図5(A)の断面図に示すように、吸引路78は吸引路88及び電磁切替弁を介して図示しない吸引源に選択的に接続される。
保持テーブル72の表面72aには一方向に伸長する複数の微細な溝80が形成されている。好ましくは、溝80の幅は0.05〜0.10mm、深さは0.03〜0.08mm、溝80のピッチは0.15〜0.22mmである。
環状の発光体74は、テーブル基台70のねじ穴76に対応する複数の丸穴82と、発光体74の表面に露出した一対の連通孔84aとを有している。更に、図4(B)の発光体74の裏面図に示すように、環状の発光体74の内周には複数の(本実施形態では8個)LED86が装着されている。環状の発光体74は本実施形態ではSUSから形成されているが、他の材料から形成するようにしてもよい。
図4(A)を参照すると、チャックテーブル28の上面図が示されている。テーブル基台70と環状の発光体74との間に保持テーブル70を挟んで、ねじ85を環状の発光体74の丸穴82に挿入してテーブル基台70のねじ穴78に螺合することにより、図5(A)に示すように、チャックテーブル28が組み立てられる。
図5(B)の拡大断面図に示すように、環状の発光体74に装着されたLED86は所定幅の空間を介して透明な保持テーブル74の側面に対向している。環状の発光体74には連通孔84が形成されており、連通孔84は環状の発光体74の表面に形成された連通孔84aと接続しており、この連通孔84aが保持テーブル72の表面に形成された微細な溝80の一つと連通している。
従って、テーブル基台70に形成された吸引路88を電磁切替弁を介して吸引源に接続することにより、吸引路78を介して環状の発光体74の連通孔84に負圧が導入され、後で説明するようにチャックテーブル28にダイシングテープをかぶせることにより、この負圧が連通孔84aを介して保持テーブ72の表面に形成された微細な溝80に導入され、ダイシングテープをチャックテーブル28で吸引保持することができる。
このような構造のチャックテーブル28を有するレーザー加工装置2では、特に先ダイシング法で個々の半導体デバイスチップに分割されたウェーハの裏面にダイボンディング用の接着フィルムであるDAFを接着し、このDAFをレーザービームの照射により個々の半導体デバイスチップに対応して分割する実施形態に適している。以下、チャックテーブル28を使用したDAFの分割方法について詳細に説明する。
図6を参照すると、レーザー加工装置2に投入するフレームユニット21の斜視図が示されている。フレームユニット21では、半導体ウェーハ11は分割予定ライン13に沿った切削溝17により個々の半導体デバイスチップ15に分割されており、半導体ウェーハ11の裏面にはDAF19が接着されている。半導体ウェーハ11はDAF19を介して外周部が環状フレームFに貼着されたダイシングフレームTに貼着されてフレームユニット21が形成される。
DAF19の分割に際しては、図6に示すフレームユニット21がレーザー加工装置に投入され、チャックテーブル28により裏面にDAF19が貼着された半導体ウェーハ11をチャックテーブル28上に載置する。
テーブル基台70に形成された吸引路88,78及び環状の発光体74に形成された連通孔84,84aを介して透明の保持テーブル72の表面72aに形成された微細な溝80の一つに負圧を導入すると、保持テーブル72の表面はダイシングテープTで覆われているため、他の微細な溝80にも負圧が作用し、裏面にDAF19の接着された半導体ウェーハ11はダイシングテープTを介して透明な保持テーブル72に吸引保持される。そして、フレームユニット21の環状フレームFは、図1に示すクランプ30によりクランプされて固定される。
この状態で、環状の発光体74に装着されたLED86を点灯すると、LED86から出射された光は透明な保持テーブル72にその側面から進入し、保持テーブル72の表面がLED86の光により明るくなる。
従って、レーザー加工装置2のオペレータは、保持テーブル72からの光により切削溝17の位置を明確に認識することができ、集光器37からのレーザービームLBを切削溝17を介してDAF19に確実に照射することができ、DAF19を個々の半導体デバイスチップの裏面に接着された状態で分割することができる。
上述した実施形態ではDAFを貼着する被加工物として半導体ウェーハについて説明したが、DAFが貼着される被加工物は半導体ウェーハに限定されるものではなく、光デバイスウェーハ等の他のウェーハ、セラミックス基板等の他の被加工物にもDAFを接着して、本発明実施形態のチャックテーブルを使用してDAF付きのチップに被加工物を分割することができる。
2 レーザー加工装置
11 半導体ウェーハ
17 切削溝
19 DAF
21 フレームユニット
28 チャックテーブル
34 レーザービーム照射ユニット
35 レーザービーム発生ユニット
37 集光器
70 テーブル基台
72 保持テーブル
74 環状の発光体
78 吸引路
80 微細な溝
84,84a 連通孔
86 LED

Claims (1)

  1. 被加工物を保持するチャックテーブルであって、
    透明部材で形成され被加工物を保持する保持テーブルと、
    該保持テーブルの外周を囲繞し該保持テーブルを照明する環状の発光体と、
    該保持テーブルと該環状の発光体とを支持するテーブル基台と、
    を備え
    前記保持テーブルの表面には複数の溝が形成されており、
    前記環状の発光体には該テーブル基台側から該保持テーブルの表面に形成された該複数の溝に連通する連通孔が形成され、前記テーブル基台には該環状の発光体に形成された該連通孔に吸引力を伝達する吸引路が形成されており、
    該吸引路を介して該環状の発光体の該連通孔に吸引力を作用させることにより、該保持テーブルの表面に形成された該複数の溝に負圧を作用させることを特徴とするチャックテーブル。
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