JP6683823B2 - 表面処理剤 - Google Patents
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Description
(式中、Rfは2価の直鎖型パーフルオロオキシアルキレン基、Rは炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基、Xは加水分解性基、nは0〜2、mは1〜5の整数、aは2又は3である。)
しかし、該特許文献1に記載の表面処理剤は、室温で1日程度、100℃程度の加熱で1時間程度の硬化時間が必要であり、生産性に劣るという問題がある。このように、従来の撥水撥油処理剤(表面処理剤)は、良好な撥水撥油性及び汚れ拭取り性を有する膜を形成するこはできるが、硬化性に劣る。そのため、低温・短時間で硬化可能な撥水撥油処理剤(表面処理剤)の開発が要求されている。
そこで、本発明は、簡易な工程で、速やかに硬化被膜を形成することができ、保存性に優れた表面処理剤を提供することを目的とする。
(A)1分子中に加水分解性基を少なくとも1つ有する含フッ素有機ケイ素化合物、及び
(B)分子中にホスホン酸エステル基を有する化合物 (A)成分と(B)成分の合計100質量部に対し0.001〜15質量部となる量
を含有する表面処理剤、及び該表面処理剤の硬化物を有する物品を提供する。
また本発明の表面処理剤に含まれる、ホスホン酸エステル基を有する化合物は、空気中の水分に触れることによってホスホン酸エステル基が速やかに加水分解してホスホン酸となる。該ホスホン酸が加水分解性基を有する含フッ素有機ケイ素化合物の加水分解を促進して、表面処理剤を速やかに硬化する。該ホスホン酸エステルは水分に触れない状態では安定に存在することができる。従って、保存安定性に優れる表面処理剤を提供することができる。
(A)成分は、1分子中に加水分解性基を少なくとも1つ有する含フッ素有機ケイ素化合物である。該成分は、1分子中に、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基及びアルコキシアルコキシ基等の加水分解性基を有し、且つ、フッ素原子を有する有機ケイ素化合物であればよい。含フッ素有機ケイ素化合物とは、好ましくは、フルオロオキシアルキレン基を有する化合物であるのがよい。フルオロオキシアルキレン基を有する化合物とは、−CjF2jO−で示される繰返し単位が複数結合された(ポリ)フルオロオキシアルキレン構造を有する化合物である(該構造においてjは1以上、好ましくは1〜6、より好ましくは1〜4の整数である)。特には、該繰返し単位を10〜500個、好ましくは15〜200個、さらに好ましくは20〜100個、より好ましくは25〜80個有するのがよい。
−CF2O−
−CF2CF2O−
−CF2CF2CF2O−
−CF(CF3)CF2O−
−CF2CF2CF2CF2O−
−CF2CF2CF2CF2CF2O−
−C(CF3)2O−
前記式中d’は0〜5の整数であり、p’、q’、r’、s’、t’はそれぞれ独立に0〜200の整数であり、かつ、p’+q’+r’+s’+t’=10〜200である。
(A−Rf)α−ZWβ (1)
Rf−(ZWβ)2 (2)
A−Rf−Q−(Y)γB (3)
Rf−(Q−(Y)γB)2 (4)
(式中、iは1〜20の整数である。)
(式中、Meはメチル基である。)
(式中、fは2〜4の整数であり、hは1〜50の整数であり、Meはメチル基である。)
(式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基であり、Xは加水分解性基であり、aは2又は3であり、mは0又は1〜10の整数である)
式(7a)〜(7e)において、Q、R、X、及びaは上記の通りであり、m1は0〜10の整数であり、好ましくは2〜8の整数であり、m2は1〜10の整数であり、好ましくは2〜8の整数である。bは2〜6の整数、好ましくは2〜4の整数であり、cは1〜50の整数、好ましくは1〜10の整数であり、Meはメチル基である。
式中、R、X、a、及びmは上記の通りである。pは1〜6の整数、好ましくは1〜3の整数、より好ましくは1または2である。M’は、3〜8価、好ましくは3〜5価、より好ましくは3価又は4価の、置換又は非置換の炭化水素基であり、該炭化水素基における炭素原子の一部又は全部がケイ素原子に置き換わっていてもよく、また、該炭素原子に結合する水素原子の一部または全部がフッ素原子等のハロゲン原子に置き換わっていてもよい。尚、M’の価数はp+2である。M’は好ましくは下記構造式で表される基である。
(式中、Meはメチル基であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよい。)
(B)成分は分子中にホスホン酸エステル基を有する化合物である。本発明におけるホスホン酸エステル基とは−P(O)(OX’)2で表される基である。X’は−P(O)(OX’)2で表される一般的なホスホン酸エステルが有する基であればよい。好ましくは、非置換又は置換の、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基、又は−SiR3で表される基である。Rは、互いに独立に、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基である。より好ましくは、X’は、フェニル基又はトリメチルシリル基であるのがよい。
A’−Rf’−Z’W’α’ (5)
Rf’−(Z’W’α’)2 (6)
式中、Rf’基は上記の通りであり、α’は1〜7の整数であり、A’はフッ素原子、水素原子、又は末端が−CF3基、−CF2H基もしくは−CH2F基である1価のフッ素含有基、Z’は単結合、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、又はフッ素置換されてもよい2〜8価の有機基であり、W’は末端にホスホン酸エステル基を有する1価の有機基である。
式中、X’は上記の通りであり、l’は0〜20の整数である。
式中、X’は上記の通りであり、l’、m’、n’は互いに独立に1〜20の整数であり、好ましくは各々2又は3である。
本発明のコーティング剤組成物は予め溶媒によって希釈しておくことが望ましく、このような溶剤としては、上記フッ素基含有変性シラン(A)とホスホン酸エステル基を有する化合物(B)とを均一に溶解させるものであれば特に限定されない。例えば、フッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤(パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタンなど)、フッ素変性芳香族炭化水素系溶剤(1,3−トリフルオロメチルベンゼンなど)、フッ素変性エーテル系溶剤(メチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)など)、フッ素変性アルキルアミン系溶剤(パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミンなど)、炭化水素系溶剤(石油ベンジン、トルエン、キシレンなど)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど)が挙げられる。これらの中でも、溶解性及び安定性などの点で、フッ素変性された溶剤が望ましく、特には、フッ素変性エーテル系溶剤、フッ素変性芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。上記溶剤は1種を単独で使用しても2種以上を混合して使用してもよい。溶媒は組成物中における(A)成分と(B)成分の合計質量%が0.01〜50%、好ましくは0.03〜25%になるように含有することが好ましい。
表面処理剤は、ウェット塗工法(刷毛塗り、ディッピング、スプレー、インクジェット)、蒸着法など公知の方法で基材に施与することができる。塗工条件等は従来公知の方法に従えばよい。本発明の表面処理剤は、塗布後に硬化が速く、室温で硬化させることができる。さらに短時間で硬化させるために30〜200℃で加熱しても良い。硬化は加湿下で行うことが触媒作用を高めるため加水分解を促進する上で好ましい。硬化時間は適宜選択されればよいが、例えば、25℃では40分〜80分、特には60分程度で硬化することができる。また、80℃では30分程度で硬化することができる。湿度は適宜調整されればよく、相対湿度40〜50%程度が好ましい。尚、ウット塗工法をする場合には分子量の影響は小さいため、分子量は制限されないが、本発明の表面処理剤を蒸着法で塗工する際には、(A)成分と(B)成分の数平均分子量は同程度又は(B)成分の方が大きい方が望ましい。
表面処理剤の調製
実施例1〜5においては、上記した(A−1)成分と、(B−1)〜(B−3)成分のいずれかとをそれぞれ下記表1に記載の組成で混合し(混合物1〜5)、該混合物(合計100質量部)の濃度が20質量%になるようにNovec 7200(3M社製)400質量部に溶解させて表面処理剤を調製した。比較例1〜4においては、上記した(A−1)成分と、比較例用硬化触媒(C−1)〜(C−3)のいずれかとをそれぞれ下記表2に記載の組成で混合し(混合物6〜9)、該混合物(合計100質量部)の濃度が20質量%になるようにNovec 7200(3M社製)400質量部に溶解させて表面処理剤を調製した。
上記で調製した各表面処理剤5μLを、最表面にSiO2を15nm処理したガラス(コーニング社製 Gorilla3)に下記条件により真空蒸着し、25℃、湿度50%の雰囲気下で1時間硬化させて被膜(膜厚:約10nm)を形成したものを下記評価における試験体とした。
[真空蒸着による塗工条件及び装置]
・測定装置:小型真空蒸着装置VPC−250F
・圧力:2.0×10−3Pa〜3.0×10−2Pa
・蒸着温度(ボートの到達温度):500℃
・蒸着距離:20mm
・処理剤の仕込量:5mg
・蒸着量:5mg
[撥水性]
接触角計DropMaster(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角を測定した。結果を下記表3に記載する。
スチールウール(#0000)に対する耐摩耗性:
トライボギアTYPE:30S(新東科学社製)を用いて、硬化被膜を下記条件にて10,000回往復摩耗した後に、硬化被膜の水に対する接触角を接触角計DropMaster(協和界面科学社製)を用いて測定した。結果を下記表3に記載する。
接触面積:1cm2
荷重:1kg
上記試験体を50℃下、密閉容器内で1ヵ月保存した。保存後の試験体について、接触角計DropMaster(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角を測定した。さらに、上記耐摩耗性試験を実施した後の硬化被膜の水に対する接触角を測定した。結果を下記表3に記載する。
これに対し、表3の実施例1〜5に示す通り、本発明の表面処理剤は、室温(25℃、湿度50%)1時間硬化という低温短時間の硬化条件でも優れた耐摩耗性を有する硬化被膜を与えることができる。さらに、該硬化被膜を50℃下にて1ヵ月保存した後においても優れた耐摩耗性は低下することなく、保存安定性にも優れる。
スプレー塗工による硬化被膜の形成
上記実施例1〜5及び比較例1〜4で調製した混合物1〜9を、固形分濃度0.1質量%になるように1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン〔Solkane 365mfc(Solvay社製)〕に溶解させて表面処理剤を調製した。
調製1時間後の表面処理剤、及び50℃下1週間保存した後の表面処理剤を、各々、下記条件にてプラズマ処理洗浄した化学強化ガラス(コーニング社製、GorillaII)の表面にスプレー塗工装置(株式会社ティーアンドケー製、NST−51)を用いて、スプレー塗工した。その後、80℃、40%RHで30分間硬化させて硬化被膜を形成し、試験体を得た。
[プラズマ処理の条件]
・装置:プラズマドライ洗浄装置PDC210
・ガス:O2ガス80cc、Arガス10cc
・出力:250W
・時間:30秒
撥水性の評価方法:上記した撥水性試験と同じ方法により評価した。
耐摩耗性の評価:往復摩耗回数を3,000回にした他は上記した耐摩耗性試験と同じ方法により評価した。
保存性の評価:各試験体を50℃下、密閉容器内にて1週間保存した後に、上記撥水性及び耐摩耗性の評価を行った。
これに対し表4の実施例6〜10に示す通り、本発明の表面処理剤は、80℃、30分という低温短時間の硬化条件でも優れた耐摩耗性を有する硬化被膜を与えることができる。さらに、該硬化被膜を50℃下にて1ヵ月保存した後においても優れた耐摩耗性は低下することなく、保存安定性にも優れる。
Claims (12)
- (A)1分子中に加水分解性基を少なくとも1つ有する含フッ素有機ケイ素化合物、及び
(B)分子中にホスホン酸エステル基を有する化合物 (A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(B)成分が0.001〜15質量部となる量
を含有する表面処理剤。 - (B)成分がフッ素原子を有する化合物である、請求項1記載の表面処理剤。
- (B)成分がフルオロオキシアルキレン基を有する化合物である、請求項2記載の表面処理剤。
- (A)成分がフルオロオキシアルキレン基を有する含フッ素有機ケイ素化合物である、請求項1〜3のいずれか1項記載の表面処理剤。
- 前記(A)成分が、下記一般式(1)、(2)、(3)又は(4)で表される含フッ素有機ケイ素化合物から選ばれる少なくとも1種である、請求項4記載の表面処理剤。
(A−Rf)α−ZWβ (1)
Rf−(ZWβ)2 (2)
A−Rf−Q−(Y)γB (3)
Rf−(Q−(Y)γB)2 (4)
[上記各式において、Rf基は、互いに独立に、−(CF2)d−(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t−O(CF2)d−であり、dは0〜5の整数であり、p、q、r、s、tはそれぞれ独立に0〜200の整数であり、かつ、p+q+r+s+t=10〜200であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよく、Aは、互いに独立に、フッ素原子、水素原子、又は末端が−CF3基、−CF2H基もしくは−CH2F基である1価のフッ素含有基であり、Zは、互いに独立に、単結合、又は、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、又はフッ素原子で置換されてもよい2〜8価の有機基であり、Wは、互いに独立に、末端に加水分解性基を有する1価の有機基であり、αは1〜7の整数であり、βは、互いに独立に、1〜7の整数であり、Zが前記有機基の場合、式(1)におけるZの価数は(β+α)であり、式(2)におけるZの価数は(β+1)であり、Qは、互いに独立に、単結合または2価の有機基であり、γは、互いに独立に、1〜10の整数であり、Yは、互いに独立に、加水分解性基を有する2価の有機基であり、及び、Bは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又はハロゲン原子である]。 - (B)成分が、下記一般式(5)又は(6)で表わされる化合物である、請求項4又は5記載の表面処理剤。
A’−Rf’−Z’W’α’ (5)
Rf’−(Z’W’α’)2 (6)
[式中、Rf’基は、互いに独立に、−(CF2)d’−(OCF2)p’(OCF2CF2)q’(OCF2CF2CF2)r’(OCF2CF2CF2CF2)s’(OCF(CF3)CF2)t’−O(CF2)d’−であり、d’は0〜5の整数であり、p’、q’、r’、s’、t’は0〜200の整数であり、かつ、p’+q’+r’+s’+t’=10〜200であり、括弧内に示される各単位はランダムに結合されていてよく、α’は、互いに独立に、1〜7の整数であり、A’は、互いに独立に、フッ素原子、水素原子、又は末端が−CF3基、−CF2H基もしくは−CH2F基である1価のフッ素含有基であり、Z’は、互いに独立に、単結合、又は、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、又はフッ素原子で置換されてもよい2〜8価の有機基であり、及び、W’は、互いに独立に、末端にホスホン酸エステル基を有する1価の有機基である]。 - 前記(B)成分におけるホスホン酸エステル基が−P(O)(OX’)2で表され、X’が非置換又は置換の、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基、又は−SiR3で表される基である(前記Rは、互いに独立に、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基である)、請求項1〜6のいずれか1項記載の表面処理剤。
- 前記X’がフェニル基または−Si(CH3)3で表される基である、請求項7記載の表面処理剤。
- 前記(B)成分が、(A)成分の数平均分子量に対し0.5〜5倍である数平均分子量を有するものである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理剤の硬化物を有する物品。
- 前記物品が、光学物品、タッチパネル、反射防止フイルム、SiO2処理されたガラス、及び陶器から選ばれる、請求項10記載の物品。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理剤を蒸着により物品の表面に施与し、硬化して、物品の表面に硬化被膜を形成する方法。
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