JP6679597B2 - 反射光学素子を製造する方法、反射光学素子および反射光学素子の使用 - Google Patents
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Description
a)第1材料からなる基板を提供するステップと、
b)少なくとも1つの空洞を、基板の第1表面から基板内に導入するステップと、
c)すくなくとも1つの空洞を、第2材料で充填するステップと、
d)オーバーコートを第1表面に、少なくとも1つの空洞の領域においてさえ付与するステップであって、少なくとも1つの第3材料からなる、少なくとも1つの層を、ガルバニック的および/または化学的に堆積させることにより、前記オーバーコートを付与するステップと、
e)第2材料を、少なくとも1つの空洞から出して空にするステップと、
f)少なくとも1つの反射層をオーバーコートに付与するステップであって、ステップe)の前、またはステップe)の後に実行するステップf)と、を含む。
Claims (25)
- 光と相互作用する光学有効面(20)および流体を受容する少なくとも1つの空洞(14)を備える、反射光学素子(10)を製造する方法であって:
a)第1材料からなる基板(12)を提供するステップと、
b)前記少なくとも1つの空洞(14)を、前記基板(12)の第1表面(36)から前記基板(12)内に導入するステップであって、前記少なくとも1つの空洞は、前記基板(12)内の前記第1表面(36)側にのみに配置されるステップと、
c)前記すくなくとも1つの空洞(14)を、第2材料(40)で充填するステップと、
d)オーバーコート(16)を前記第1表面(36)に、前記少なくとも1つの空洞(14)の領域においてさえ付与するステップであって、少なくとも1つの第3材料からなる、少なくとも1つの層をガルバニック的および/または化学的に堆積させることにより、前記オーバーコート(16)を付与するステップと、
e)前記第2材料(40)を、前記少なくとも1つの空洞(14)から出して空にするステップと、
f)少なくとも1つの反射層(18)を前記オーバーコート(16)に付与するステップであって、ステップe)の前、またはステップe)の後に実行するステップf)と、を含む方法。 - 請求項1に記載の方法であって、ステップa)は、更に:
前記基板(12)の前記第1表面(36)を、前記光学有効面(20)の基本形状に対応する表面形状に成形するステップ、を含む方法。 - 請求項1または2に記載の方法であって、第2材料(40)は、熱を付与することで液化可能な材料、および/または溶媒に溶解可能な材料である方法。
- 請求項1〜3の何れか一項に記載の作動方法であって、第2材料(40)は導電性である方法。
- 請求項3または4に記載の方法であって、前記第2材料(40)は、ワックス、ポリマーまたは塩である方法。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載の方法であって、ステップc)の後であり、およびステップd)の前に、導電層を、基板(12)の第1表面(36)に付与する方法。
- 請求項1〜6の何れか一項に記載の方法であって、ステップd)またはステップe)に続いて、オーバーコート(16)の表面(46)を、光学有効面(20)の達成されるべき微細な形状に従って、サブトラクティブ法により、微細に機械加工する方法。
- 請求項7に記載の方法であって、更に、微細に機械加工された前記表面(46)を、平滑化する方法。
- 請求項7または8に記載の方法であって、オーバーコートの、微細に機械加工された前記表面(46)の形状を、イオンビーム成形により、修正する方法。
- 請求項7〜9の何れか一項に記載の方法であって、少なくとも1つの空洞(14)に圧力を与え、一方オーバーコート(16)の表面(46)を、微細に機械加工する方法。
- 請求項1〜10の何れか一項に記載の方法であって、ステップd)を、オーバーコート(16)が、均一または不均一な厚さで、第1表面(36)に亘って配置されつつ生じるよう、実施する方法。
- 請求項1〜11の何れか一項に記載の方法であって、第3材料を、オーバーコートの間に連続的または段階的に変化させる方法。
- 反射光学素子であって、基板(12)と、ガルバニック的または化学的に前記基板(12)の第1表面上(36)に堆積された、少なくとも1つの層からなるオーバーコート(16)と、流体を受容する少なくとも1つの空洞(14)と、を備える反射光学素子であって、前記少なくとも1つの空洞(14)は、前記基板(12)内の前記第1表面(36)に隣接して前記第1表面(36)側にのみ配置され、前記オーバーコート(16)は、前記少なくとも1つの空洞(14)上にも延在し、および前記少なくとも1つの空洞(14)には、前記オーバーコート(16)の材料が無く、前記オーバーコート(16)において、前記基板(12)から反対を向いた表面(46)上に配置された、少なくとも1つの反射層(18)を備え、該少なくとも1つの反射層(18)は、光学有効面(20)を備える、反射光学素子。
- 請求項1〜12の何れか一項に記載の方法で製造された、請求項13に記載の反射光学素子。
- 請求項13または14に記載の反射光学素子であって、少なくとも1つの空洞(14)は、1つまたは複数のチャネル(22、24、26、28、30、32、34)の形状である反射光学素子。
- 請求項15に記載の反射光学素子であって、前記チャネル(22、24、26、28、30、32、34)は、数マイクロメートルから約1ミリメートルの範囲にある、幅を有する反射光学素子。
- 請求項13〜16の何れか一項に記載の反射光学素子であって、少なくとも1つの空洞(14)は、少なくとも1つの開口(38)を備え、該開口(38)は、反射層(18)の光学有効面(20)につながる反射光学素子。
- 請求項13〜17の何れか一項に記載の反射光学素子であって、基板(12)は、鋼、銅合金、および/またはアルミニウム‐シリコンを示す反射光学素子。
- 請求項13〜18の何れか一項に記載の反射光学素子であって、オーバーコート(16)は、銅、ニッケル、および/またはリンを含むニッケル(NiP)を示す反射光学素子。
- 請求項13〜19の何れか一項に記載の反射光学素子であって、基板(12)の材料およびオーバーコート(16)の材料は、少なくとも略同一の熱膨張係数を有する反射光学素子。
- 請求項13〜20の何れか一項に記載の反射光学素子であって、オーバーコート(16)の材料は、基板(12)の材料の熱膨張係数を上回る熱膨張係数を有する反射光学素子。
- 請求項13〜21の何れか一項に記載の反射光学素子であって、オーバーコート(16)は、均一な厚さを有するか、または基板(12)の第1表面(36)に亘って変化する厚さを有する反射光学素子。
- 請求項13〜22の何れか一項に記載の反射光学素子(10)の使用であって、VUV、EUVスペクトル領域、もしくは更なる短波スペクトル領域におけるアプリケーション用の光学系(100)におけるミラーとしての使用、または高強度光で材料を処理するための使用。
- 請求項13〜22の何れか一項に記載の反射光学素子(10)の使用であって、EUVマイクロリソグラフィ用の光学系(100)におけるコレクタミラーとしての使用。
- 請求項13〜22の何れか一項に記載の反射光学素子(10)の使用であって、光学系において光学補償器および/または光学マニピュレータとして使用され、少なくとも1つの空洞(14)は、光学有効面(20)の不所望な変形を補償するため、または光学有効面(20)において所望される変形を生じさせるために、可変の圧力を受ける使用。
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