JP6671062B2 - 多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法及び多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子 - Google Patents
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Description
物理的手法としては、粒径が数ミクロン以上の粒子を物理的な力で粉砕する機械的粉砕法が一般的である。粉砕手段の例としては、ボールミル、ジェットミル、ビーズミル、コロイドミル、コニカルミル、ディスクミル等が挙げられる。
一方、化学的手法とは、出発物質から徐々に粒子を成長させていく方法であり、還流法等が知られている。還流法では、例えば、出発物質(金属アルコキシド等)と粒子成長をコントロールする保護材(有機ポリマー等)とを添加した溶液を還流することで、粒子を成長させる(例えば、非特許文献1、2参照)。
また、還流法には、収量が少ないという問題がある。通常、還流法に用いる溶液中の出発物質(金属アルコキシド等)の濃度は数十mmol/L以下であり、100mL程度の溶液を用いた場合、1回の合成で得られる目的物質の量は数mg程度である。収量を増大させるためには規模の大きいプラントを構築する必要があり、産業的にコスト高の原因となる。
<1> 加水分解性金属化合物又はその加水分解物を含有するゾル溶液を、平均直径100nm〜10μmの細孔を有する有機共連続多孔体に含浸させる工程と、
ゾル溶液を含浸させた前記有機共連続多孔体を焼成する工程と、
を有する多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
本明細書において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本実施形態の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法(以下、単に「本実施形態の製造方法」ともいう。)は、加水分解性金属化合物又はその加水分解物を含有するゾル溶液を、平均直径100nm〜10μmの細孔を有する有機共連続多孔体に含浸させる工程(以下、「含浸工程」ともいう。)と、ゾル溶液を含浸させた有機共連続多孔体を焼成する工程(以下、「焼成工程」ともいう。)と、を有する。
有機共連続多孔体は、骨格と細孔(空隙)とがともに連続的に繋がった三次元網目状の構造を有する有機多孔体であり、有機モノリス構造体とも称される。有機共連続多孔体は、主にクロマトグラフィー分野において分離用担体として用いられている。有機共連続多孔体のSEM像の一例を図1に示す。本実施形態の製造方法では、このような有機共連続多孔体を用いて多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子を製造する。
ゾル溶液は、加水分解性金属化合物又はその加水分解物を含有する。加水分解性金属化合物としては、加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)により、[−金属原子−酸素原子−]という繰り返し構造を有する重合体を形成可能なものであれば、特に制限されない。
なお、ゾル溶液中では、加水分解性金属化合物の一部が加水分解・縮合して重合体を形成していてもよい。
アルコキシドとしては、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド、イソブトキシド、2−メトキシエトキシド等が挙げられる。
ハライドとしては、クロライド等が挙げられる。
有機酸塩としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸、イタコン酸、マレイン酸、グルタル酸等との塩が挙げられる。
錯体としては、エチレンジアミン、ビピリジン、ブタジエン、シクロペンタジエン等との錯体が挙げられる。
溶媒としては、水;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のアルコール類;ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル類などが挙げられる。
例えば、多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子がチタン酸ストロンチウム、二酸化チタン等の光触媒活性を有する多孔質結晶性ナノ粒子である場合、複合化するナノ粒子の一例としては、K−Al系複合金属酸化物、K−Fe系複合金属酸化物、K−Fe−Al系複合金属酸化物等の二酸化炭素吸着材が挙げられる。このような二酸化炭素吸着材の中でも、ムライト型構造を有する金属酸化物は、高い塩基触媒活性を有することが知られている。また、複合化するナノ粒子の他の例としては、p型半導体ナノ粒子が挙げられる。これらのナノ粒子を複合化した多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子は、二酸化炭素を効率的に光還元することが可能である。
前述したとおり、本実施形態の製造方法は、加水分解性金属化合物又はその加水分解物を含有するゾル溶液を、平均直径100nm〜10μmの細孔を有する有機共連続多孔体に含浸させる含浸工程と、ゾル溶液を含浸させた有機共連続多孔体を焼成する焼成工程と、を有する。本実施形態の製造方法は、必要に応じて、焼成工程によって得られた焼成物(多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子)を粉砕する工程(以下、「粉砕工程」ともいう。)を更に有していてもよい。
含浸方法としては、真空含浸法が挙げられる。例えば、ガラス瓶にゾル溶液を入れ、ゾル溶液中に有機共連続多孔体を浸漬した後、ガラス瓶を真空装置内に載置して減圧することにより、有機共連続多孔体にゾル溶液を含浸させることができる。
焼成条件は、加水分解性金属化合物の種類等に応じて適宜設定することが好ましい。一例として、焼成温度は、400℃〜1200℃であることが好ましく、450℃〜600℃であることがより好ましい。また、焼成時間は、12時間〜72時間であることが好ましく、24時間〜48時間であることがより好ましい。昇温速度は、60℃/時間〜200℃/時間であることが好ましい。
焼成の際の雰囲気は、金属酸化物が得られる条件であれば特に制限されず、例えば、大気雰囲気とすることができる。光触媒活性を有する多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子を製造する場合には、窒素混合雰囲気下で焼成してもよい。窒素混合雰囲気下で焼成すると、多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子に窒素がドープされ、可視光応答性が向上する傾向にある。
収縮率(%)=100×(有機共連続多孔体の見かけの体積−焼成物の見かけの体積)/有機共連続多孔体の見かけの体積
この収縮率は、有機共連続多孔体の空隙率、ゾル溶液中における加水分解性金属酸化物又はその加水分解物の濃度等によって調整することができる。
なお、多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の平均粒径は、動的光散乱法を測定原理とする粒度分布測定装置を用いて粒度分布を測定し、光の散乱強度を粒径の小さい粒子から粒径の大きい粒子へと順に累積したときの散乱強度の累積度数が50%となる粒径(D50)の値である。このような粒度分布測定装置としては、例えば、(株)堀場製作所のLA−300、SZ−100等が挙げられる。
本実施形態の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子は、前述した本実施形態の製造方法により製造することができる。
また、多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子は、平均直径1nm〜20nmの細孔を有することが好ましい。細孔の平均直径は、窒素、クリプトン、アルゴン、二酸化炭素、水素、飽和炭化水素等のガスを利用したガス吸着法細孔分布測定装置を用いて測定することができる。
また、多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の他の例としては、前述した二酸化炭素吸着材及びp型半導体ナノ粒子が複合化した多孔質結晶性チタン酸ストロンチウムナノ粒子が挙げられる。二酸化炭素吸着材及びp型半導体ナノ粒子が複合化した多孔質結晶性チタン酸ストロンチウムナノ粒子は、二酸化炭素を効率的に光還元することが可能である。
(1)ゾル溶液の調製
還流冷却管付きの三口フラスコに0.0031mol(0.64g)のストロンチウムイソプロポキシド(Sr(OCH(CH3)2)2)を仕込み、10mLの2−メトキシエタノールを加えた後、120℃で1時間加熱還流することにより、ストロンチウムイソプロポキシドの配位子を2−メトキシエタノールに置換した。次いで、120℃で1時間加熱することにより、生成したイソプロパノールを蒸留除去した。次いで、0.0031mol(0.94g)のチタンイソプロポキシド(Ti(OCH(CH3)2)4)を加えて溶解し、120℃で1時間加熱することにより、ゾル溶液6.29mLを得た。ゾル溶液中のストロンチウム及びチタンの合計濃度は1.0mol/Lであった。
ガラス瓶に上記(1)で調製したゾル溶液2mLを入れ、ゾル溶液中に直径2cm、厚さ0.5cmの円盤状のエポキシ系共連続多孔体(有機モノリス構造体、(株)エマオス京都、細孔の平均直径:300nm)を浸漬した。その後、ガラス瓶を真空装置内に載置して減圧することにより、エポキシ系共連続多孔体にゾル溶液を含浸させた。
上記(2)でゾル溶液を含浸させたエポキシ系共連続多孔体を電気炉内に入れ、100℃/時間の昇温速度で昇温した後、大気雰囲気下にて500℃で24時間焼成することにより、エポキシ系共連続多孔体を分解除去した。焼成後の固体を乳鉢で10分間粉砕し、チタン酸ストロンチウム粒子0.12gを得た。
また、粒度分布測定装置(SZ−100、(株)堀場製作所)を用いてチタン酸ストロンチウム粒子の平均粒径を測定したところ、平均粒径は130nmであった。
まず、図4(A)に示すTEM像を白黒2値化し、図4(B)に示す画像Bを得た。2値に際しては、8bitのグレースケール画像の状態で、バックグラウンド(背景)が全て白色(画素値:255)に判定される数値を閾値とした。但し、明らかに粒子である部分が白色と判定された場合には、黒色に修正した。
次いで、画像Bの輪郭線内を黒色とし、図4(C)に示す画像Cを得た。そして、次式に従って空隙率を算出した。
空隙率(%)=100×(画像Cの黒色部分の面積−画像Bの黒色部分の面積)/画像Cの黒色部分の面積
チタンブトキシド(Ti(OC4H9)4)をメタノールに溶解した0.018mol/Lのメタノール溶液9mLと、メタノール6mLとを室温で30分間撹拌し、チタン含有溶液を得た。また、8.25×10−5mol(0.092g)のポリビニルピロリドン及び1.65×10−4mol(0.034g)のストロンチウムイソプロポキシドを超純水15mLに溶解し、室温下で30分間撹拌して、ストロンチウム含有溶液を得た。そして、チタン含有溶液及びストロンチウム含有溶液を220mLの2−ブタノールと混合し、室温下で30分間撹拌した後、100℃で1時間加熱還流した。加熱還流後の溶液を限外濾過(圧力:0.2MPa)することで、チタン酸ストロンチウム粒子0.02gを得た。
窒素吸着法(BET1点法)により測定したチタン酸ストロンチウム粒子の比表面積は3.53m2/gであった。
(光触媒活性の評価)
実施例1及び比較例1で得られた各チタン酸ストロンチウム粒子0.2gを75mLの水に懸濁させ、更に犠牲剤として75mLのメタノールを加えた懸濁液を準備した。そして、500Wのキセノンランプを光源として懸濁液に光を照射し、水素発生量を測定した。結果を図6に示す。
Claims (6)
- 加水分解性金属化合物又はその加水分解物を含有するゾル溶液を、平均直径100nm〜10μmの細孔を有する有機共連続多孔体に含浸させる工程と、
ゾル溶液を含浸させた前記有機共連続多孔体を焼成する工程と、
を有する多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。 - 多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の平均粒径が30nm〜300nmである請求項1に記載の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
- 前記ゾル溶液中の前記加水分解性金属化合物又はその加水分解物に由来する金属の合計濃度が0.01mol/L〜7.0mol/Lである請求項1又は請求項2に記載の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
- 前記有機共連続多孔体が熱硬化性樹脂の硬化物からなる請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
- 前記ゾル溶液が、更にナノ粒子を含有する請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
- 多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子が多孔質結晶性チタン酸ストロンチウムナノ粒子である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の多孔質結晶性金属酸化物ナノ粒子の製造方法。
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