KR101838616B1 - 기체 분리막 및 이의 제조방법 - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 17
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims abstract description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims abstract description 6
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 claims abstract description 6
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims abstract description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- OYFRNYNHAZOYNF-UHFFFAOYSA-N H2dhybdc Natural products OC(=O)C1=CC(O)=C(C(O)=O)C=C1O OYFRNYNHAZOYNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 181
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 70
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 60
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 45
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 28
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 19
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 19
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 15
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 14
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 13
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 13
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 12
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 12
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 12
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 12
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 claims description 12
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 claims description 10
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 8
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 8
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 6
- UNBDDZDKBWPHAX-UHFFFAOYSA-N n,n-di(propan-2-yl)formamide Chemical compound CC(C)N(C=O)C(C)C UNBDDZDKBWPHAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 2
- NXDMHKQJWIMEEE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenoxy)aniline;furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1.C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O NXDMHKQJWIMEEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 claims description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VYGRRCKMMADGBB-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] phosphono hydrogen phosphate Chemical compound OCC(CO)(CO)COP(O)(=O)OP(O)(O)=O VYGRRCKMMADGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WHFQAROQMWLMEY-UHFFFAOYSA-N propylene dimer Chemical compound CC=C.CC=C WHFQAROQMWLMEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 101710178035 Chorismate synthase 2 Proteins 0.000 abstract description 2
- 101710152694 Cysteine synthase 2 Proteins 0.000 abstract description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 153
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 99
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 12
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 9
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 9
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 description 9
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001144 powder X-ray diffraction data Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 238000004467 single crystal X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 description 2
- 239000004941 mixed matrix membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[5-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CC=1OC(=NN=1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O KZEVSDGEBAJOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 3,5-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(N)=CC(C(O)=O)=C1 UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- DKNWSYNQZKUICI-UHFFFAOYSA-N amantadine Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(N)C3 DKNWSYNQZKUICI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- NISGSNTVMOOSJQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentanamine Chemical compound NC1CCCC1 NISGSNTVMOOSJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
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- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
- B01D53/228—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion characterised by specific membranes
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- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
- B01D67/0006—Organic membrane manufacture by chemical reactions
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- B01D67/0018—Thermally induced processes [TIPS]
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Abstract
Description
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도 6은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 나노결정성 금속-유기 골격체인 Ni2(DOBDC)(EG)2의 전자현미경 사진이다(반응시간: 5시간).
도 7은 본 발명의 실시예 1,2,3에 따라 각각 제조된 나노결정성 금속-유기 골격체인 M2(DOBDC)(EG)2(M=Mg, Co, Ni)의 분말 엑스선 회절 데이터이다(반응시간: 1시간).
도 8는 본 발명의 실시예 1,2,3에 따라 각각 제조된 나노결정성 금속-유기 골격체인 M2(DOBDC)(EG)2(M=Mg, Co, Ni)의 분말 엑스선 회절 데이터이다(반응시간: 5시간).
도 9은 금속에 결합된 에틸렌 글리콜을 메탄올로 교환을 통해서 합성한 금속-유기 골격체의 단결정 엑스선 회절 구조이다. 메탄올이 녹색으로 나타낸 금속에 결합되어 있는 구조를 보여준다.
도 10는 [Mg2(DOBDC)(MeOH)2]의 열중량 분석(TGA) 데이타이다.
도 11은 [Mg2(DOBDC)]의 1H-NMR 데이타이다.
도 12은 [[Mg2(DOBDC)]의 FT-IR 스펙트럼이다.
도 13는 [Mg2(DOBDC)]의 열중량 분석(TGA) 데이타이다.
도 14는 전처리 후 77 K에서 [Mg2(DOBDC)]의 질소 흡착 등온선이다.
도 15는 이산화탄소를 흡착하고 있는 [Mg2(DOBDC)]의 단결정 엑스선 회절 구조이다.
도 16은 문헌에 따라서 합성한 [Mg2(DOBDC)(DMF)2]의 단결정 엑스선 회절 구조이다.
도 17은 전처리 전 [Mg2(DOBDC)(DMF)2]의 1H-NMR 데이타이다.
도 18은 금속-유기 골격체의 함침량에 따른 PDMS 고분자 멤브레인 필름의 사진이다.
도 19는 금속-유기 골격체의 함침량에 따른 폴리이미드 고분자 멤브레인 필름의 사진이다.
도 20은 금속-유기 골격체의 함침량에 따른 CO2와 N2의 투과도 및 CO2/N2 선택도를 나타낸 그래프이다.
Claims (22)
- 하기 화학식 1f로 표시되는 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막:
[화학식 1f]
[M2(DOBDC)]
상기 화학식 1f에서, 상기 M은 1개 이상의 2가 금속이고, 상기 DOBDC는 음의 4가를 지니는 2,5-디옥시도-1,4-벤젠디카르복실레이트이며,
상기 금속-유기 골격체는 (i) 1H-NMR 분석 결과, 하기 화학식 2의 물질의 피크가 관찰되지 않고, (ii) FT-IR 분석 결과, 아미드 피크가 관찰되지 않으며,
상기 금속-유기 골격체는 (iii) TGA 분석 결과, 200 ℃에서 450 ℃까지 승온하였을 때 무게 변화가 3% 미만이고, (iv) 총 기공 부피가 0.70 내지 1.00 cm3/g이며,
상기 금속-유기 골격체는 (v) BET 표면적이 1,500 내지 2,000 m2/g까지 보이는 것을 특징으로 하는 기체 분리막:
[화학식 2]
R1-CO-NR2R3
상기 화학식 2에서, 상기 R1과 상기 R2 및 상기 R3은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 5인 알킬기이다. - 삭제
- 제1항에 있어서, 금속-유기 골격체는 하기 화학식 1a 내지 1e 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기체 분리막:
[화학식 1a]
[M1 n1(DOBDC)]
상기 화학식 1a에서, 상기 n1은 2이고, 상기 M1은 2가 금속이며;
[화학식 1b]
[M1 n1M2 n2(DOBDC)]
상기 화학식 1b에서, 상기 n1과 n2는 n1+n2=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1과 M2는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
[화학식 1c]
[M1 n1M2 n2M3 n3(DOBDC)]
상기 화학식 1c에서, 상기 n1과 n2 및 n3은 n1+n2+n3=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1과 M2 및 M3은 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
[화학식 1d]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4(DOBDC)]
상기 화학식 1d에서, 상기 n1, n2, n3 및 n4는 n1+n2+n3+n4=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3 및 M4는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
[화학식 1e]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)]
상기 화학식 1e에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이다. - 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 금속-유기 골격체가 고분자에 함침된 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제5항에 있어서, 상기 금속-유기 골격체는 콜로이드 상태의 나노 결정 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제5항에 있어서, 상기 고분자 100 중량부에 대해서 상기 금속-유기 골격체 2.5 내지 33.3 중량부가 함침된 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제5항에 있어서, 상기 고분자는 실록산계 고분자 또는 이미드계 고분자인 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제8항에 있어서, 상기 실록산계 고분자는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 디페닐폴리디메틸실록산 (Diphenylpolydimethylsiloxane. DP), 폴리메틸히드로실록산 (Polymethylhydrosiloxane, PMHS) 및 헥사메틸디실록산 (Hexamethyldisiloxane, HMDS) 중에서 선택되는 1종 이상이고, 상기 이미드계 고분자는 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리(4,4'-옥시디페닐렌-피로멜리트이미드)(Poly(4,4'-oxydiphenylene-pyromellitimide), PMDA-ODA), 폴리(4,4'-옥시디페닐렌 비페닐테트라카복시미드)(Poly(4-4'-oxydiphenylene biphenyltetracarboximide, BPDA-ODA), 폴리(4,4'-옥시디페닐렌 벤조페논테트라카르복시미드)(Poly(4-4'-oxydiphenylene benzophenonetetracarboximide), BTDA-ODA), 폴리(p-페닐렌 벤조페논테트라카복시미드)(Poly(p-phenylene benzophenonetetracarboximide), BTDA-PDA) 및 폴리(p-페닐렌 옥시디프탈이미드)(Poly(p-phenylene oxydiphthalimide), ODPA-PDA) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- 제1항에 있어서, 상기 금속-유기 골격체의 기공크기는 2 ~ 11 Å인 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- 제1항에 있어서, 동력학적인 분자크기가 2 ~ 11 Å인 기체에 대하여 투과도와 선택도를 가지는 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제11항에 있어서, 상기 동력학적인 분자크기가 2 ~ 11 Å인 기체는 CO2, NH3, He, H2O, Ne, NO, Cl2, HCl, N2O, Br2, HBr, CS2, H2S, Kr, SO2, N2, CO, CH4, Xe, n-C4H10, CF2Cl2, C3H6, C4H8, CF4, I-C4H10, n-C4F10, C6H6, CCl4, c-C6H12, C5H12, C6F14, CO, CH4, N2, H2, SF6, Ar, O2, 프로필렌(propylene), 프로판(propane), 에틸렌 및 아세틸렌 중에서 선택되는 기체인 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- [청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제11항에 있어서, CO2/N2, CO2/H2, N2/CH4, CO2/CH2, 에틸렌/아세틸렌, 프로판/프로필렌, CO2/CO, CO/H2, H2S/CO2, CO2/NH3, CO/NH3 및 CO2/H2 중에서 선택되는 혼합기체에 대하여 선택도를 가지는 것을 특징으로 하는 기체 분리막.
- 하기 단계를 포함하는 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막의 제조방법:
(A) (i) 하기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 (ii) S에 분산시키는 단계;
(B) (iii) 실록산계 고분자와 (iv) 경화제를 첨가하여 혼합하는 단계; 및
(C) 혼합된 용액을 기판에 캐스팅하고 가열하여 막을 형성하는 단계:
[화학식 4a]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S1 OH)2]
상기 화학식 4a에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며; 상기 S1 OH는 히드록시기를 포함하는 유기 용매이고;
상기 S은 유기 용매이며;
상기 실록산계 고분자 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체 2.5 내지 20 중량부, 상기 S 400 내지 600 중량부 및 상기 경화제 5 내지 15 중량부를 사용한다. - 하기 단계를 포함하는 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막의 제조방법.
(A) (i) 하기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 (ii) S에 분산시키는 단계;
(B) (iii) 이미드계 고분자를 첨가하여 혼합하는 단계; 및
(C) 혼합된 용액을 기판에 캐스팅하고 비활성 분위기 하에서 건조시켜 필름을 형성하는 단계:
[화학식 4a]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S1 OH)2]
상기 화학식 4a에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며; 상기 S1 OH는 히드록시기를 포함하는 유기 용매이고;
상기 S는 유기 용매이며;
상기 이미드계 고분자 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체 8.3 내지 33.3 중량부 및 상기 S 800 내지 1000 중량부를 사용한다. - [청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제14항 또는 제15항에 있어서,
상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체는 하기 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법:
(a1) (i) M1A1 y1·x1H2O, M2A2 y2·x2H2O, M3A3 y3·x3H2O, M4A4 y4·x4H2O, M5A5 y5·x5H2O 중에서 선택된 1종 이상의 금속 전구체; (ii) 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산 또는 이의 유도체; (iii) S1 OH; (iv) 아민계 제1 첨가제; (v) 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤질아민, 디이소프로필포름아미드, 디메틸포름아미드 중에서 선택된 1종 이상의 제2 첨가제를 포함하는 용액을 제조한 후 마이크로 웨이브를 인가하여 1 내지 5시간 동안 반응을 수행함으로써 하기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계:
[화학식 4a]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S1 OH)2]
상기 화학식 4a에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
상기 A1, A2, A3, A4, A5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NO3 -, Cl-, ClO4 - , OH-, CH3CO2 - 중에서 선택된 1가 음이온이거나 또는 ClO4 2-, SO4 2-, CO3 2- 중에서 선택된 2가 음이온이고;
상기 x1, x2, x3, x4, x5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이고;
상기 A1이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y1은 각각 2 또는 1이고, 상기 A2가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y2는 각각 2 또는 1이며, 상기 A3이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y3은 각각 2 또는 1이고, 상기 A4가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y4는 각각 2 또는 1이며, 상기 A5가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y5는 각각 2 또는 1이고;
상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 유도체는 상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 탈수소 이온 또는 염 중에서 선택된 1종 이상이며;
상기 S1 OH는 히드록시기를 포함하는 유기 용매이고, 상기 용액의 전체 부피를 기준으로 50 내지 95 부피%로 사용한다. - 하기 단계를 포함하는 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막의 제조방법.
(A) (i) 하기 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 (ii) S에 분산시키는 단계;
(B) (iii) 실록산계 고분자와 (iv) 경화제를 첨가하여 혼합하는 단계; 및
(C) 혼합된 용액을 기판에 캐스팅하고 가열하여 막을 형성하는 단계:
[화학식 4b]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S2 OH)2]
상기 화학식 4b에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며; 상기 S2 OH는 히드록시기를 포함하는 유기 용매이고;
상기 S은 유기 용매이며;
상기 실록산계 고분자 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 4b의 금속-유기 골격체 2.5 내지 20 중량부, 상기 S 400 내지 600 중량부 및 상기 경화제 5 내지 15 중량부를 사용한다. - 하기 단계를 포함하는 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막의 제조방법.
(A) (i) 하기 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 (ii) S에 분산시키는 단계;
(B) (iii) 이미드계 고분자를 첨가하여 혼합하는 단계; 및
(C) 혼합된 용액을 기판에 캐스팅하고 비활성 분위기 하에서 건조시켜 필름을 형성하는 단계:
[화학식 4b]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S2 OH)2]
상기 화학식 4b에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며; 상기 S2 OH는 히드록시기를 포함하는 유기 용매이고;
상기 S은 유기 용매이며;
상기 이미드계 고분자 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체 8.3 내지 33.3 중량부 및 상기 S 800 내지 1000 중량부를 사용한다. - 제17항 또는 제18항에 있어서,
상기 화학식 4b의 금속-유기 골격체는 하기 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법:
(a1) (i) M1A1 y1·x1H2O, M2A2 y2·x2H2O, M3A3 y3·x3H2O, M4A4 y4·x4H2O, M5A5 y5·x5H2O 중에서 선택된 1종 이상의 금속 전구체; (ii) 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산 또는 이의 유도체; (iii) S1 OH (iv) 아민계 제1 첨가제; (v) 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤질아민, 디이소프로필포름아미드, 디메틸포름아미드 중에서 선택된 1종 이상의 제2 첨가제를 포함하는 용액을 제조한 후 마이크로 웨이브를 인가하여 1~5시간 동안 반응을 수행함으로써 하기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계;
[화학식 4a]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S1 OH)2]
(a2) 상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 S2 OH와 접촉시켜 하기 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계;
[화학식 4b]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S2 OH)2]
상기 화학식 4a와 상기 화학식 4b에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
상기 A1, A2, A3, A4, A5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NO3 -, Cl-, ClO4 - , OH-, CH3CO2 - 중에서 선택된 1가 음이온이거나 또는 ClO4 2-, SO4 2-, CO3 2- 중에서 선택된 2가 음이온이고;
상기 x1, x2, x3, x4, x5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이고;
상기 A1이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y1은 각각 2 또는 1이고, 상기 A2가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y2는 각각 2 또는 1이며, 상기 A3이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y3은 각각 2 또는 1이고, 상기 A4가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y4는 각각 2 또는 1이며, 상기 A5가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y5는 각각 2 또는 1이고;
상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 유도체는 상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 탈수소 이온, 염 중에서 선택된 1종 이상이며;
상기 S1 OH는 히드록시기를 포함하는 제1 유기 용매이고; 상기 S2 OH는 히드록시기를 포함하는 제2 유기 용매이며, 상기 S2 OH는 상기 S1 OH 보다 비점이 낮고;
상기 S1 OH는 상기 용액의 전체 부피를 기준으로 50 내지 95 부피%로 사용한다. - [청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]하기 단계를 포함하는 화학식 1e의 금속-유기 골격체를 포함하는 기체 분리막의 제조방법.
(A) (i) 하기 화학식 1e의 금속-유기 골격체를 (ii) S에 분산시키는 단계;
(B) (iii) 실록산계 고분자와 (iv) 경화제를 첨가하여 혼합하는 단계; 및
(C) 혼합된 용액을 기판에 캐스팅하고 가열하여 막을 형성하는 단계:
[화학식 1e]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)]
상기 화학식 1e에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이고;
상기 S은 유기 용매이며;
상기 실록산계 고분자 100 중량부에 대하여, 상기 화학식 1e의 금속-유기 골격체 2.5 내지 20 중량부, 상기 S 400 내지 600 중량부 및 상기 경화제 5 내지 15 중량부를 사용한다. - 삭제
- [청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제20항에 있어서,
상기 화학식 1e의 금속-유기 골격체는 하기 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기체 분리막의 제조방법.
(a1) (i) M1A1 y1·x1H2O, M2A2 y2·x2H2O, M3A3 y3·x3H2O, M4A4 y4·x4H2O, M5A5 y5·x5H2O 중에서 선택된 1종 이상의 금속 전구체; (ii) 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산 또는 이의 유도체; (iii) S1 OH (iv) 아민계 제1 첨가제; (v) 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤질아민, 디이소프로필포름아미드, 디메틸포름아미드 중에서 선택된 1종 이상의 제2 첨가제를 포함하는 용액을 제조하여 마이크로 웨이브를 인가하여 1~5시간 동안 반응을 수행함으로써 하기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계;
[화학식 4a]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S1 OH)2]
(a2) 상기 화학식 4a의 금속-유기 골격체를 S2 OH와 접촉시켜 하기 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계;
[화학식 4b]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)(S2 OH)2]
(a3) 상기 화학식 4b의 금속-유기 골격체를 건조시켜 하기 화학식 1e의 금속-유기 골격체를 수득하는 단계;
[화학식 1e]
[M1 n1M2 n2M3 n3M4 n4M5 n5(DOBDC)]
상기 화학식 4a, 화학식 4b 및 화학식 1e에서, 상기 n1, n2, n3, n4 및 n5는 n1+n2+n3+n4+n5=2를 만족하는 0 이상의 실수이고; 상기 M1, M2, M3, M4 및 M5는 서로 상이하고 각각 독립적으로 2가 금속이며;
상기 A1, A2, A3, A4, A5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NO3 -, Cl-, ClO4 - , OH-, CH3CO2 - 중에서 선택된 1가 음이온이거나 또는 ClO4 2-, SO4 2-, CO3 2- 중에서 선택된 2가 음이온이고;
상기 x1, x2, x3, x4, x5는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 50의 정수이고;
상기 A1이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y1은 각각 2 또는 1이고, 상기 A2가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y2는 각각 2 또는 1이며, 상기 A3이 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y3은 각각 2 또는 1이고, 상기 A4가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y4는 각각 2 또는 1이며, 상기 A5가 상기 1가 음이온이거나 2가 음이온인 경우에는 상기 y5는 각각 2 또는 1이고;
상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 유도체는 상기 2,5-디히드록시-1,4-벤젠디카르복실산의 탈수소 이온, 염 중에서 선택된 1종 이상이며;
상기 S1 OH는 히드록시기를 포함하는 제1 유기 용매이고; 상기 S2 OH는 히드록시기를 포함하는 제2 유기 용매이며, 상기 S2 OH는 상기 S1 OH 보다 비점이 낮고;
상기 S1 OH는 상기 용액의 전체 부피를 기준으로 50 내지 95 부피%로 사용한다.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150156123A KR101838616B1 (ko) | 2015-11-06 | 2015-11-06 | 기체 분리막 및 이의 제조방법 |
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---|---|---|---|
KR1020150156123A KR101838616B1 (ko) | 2015-11-06 | 2015-11-06 | 기체 분리막 및 이의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170053510A KR20170053510A (ko) | 2017-05-16 |
KR101838616B1 true KR101838616B1 (ko) | 2018-04-26 |
Family
ID=59035055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150156123A KR101838616B1 (ko) | 2015-11-06 | 2015-11-06 | 기체 분리막 및 이의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101838616B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210116932A (ko) | 2020-03-18 | 2021-09-28 | 경상국립대학교산학협력단 | 복합막 형성용 조성물, 이로부터 제조된 이산화탄소 분리막 및 이의 제조방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102432096B1 (ko) | 2020-09-16 | 2022-08-12 | 연세대학교 산학협력단 | 기체 분리용 혼합분리막, 이의 제조방법 및 상기 혼합분리막을 포함하는 기체 분리막 |
KR20240072571A (ko) | 2022-11-17 | 2024-05-24 | 건국대학교 산학협력단 | 포피린 기반 공유결합성 유기고분자, 이의 제조방법, 이를 포함하는 흡착제 및 상기 흡착제를 포함하는 기체 분리 장치 |
-
2015
- 2015-11-06 KR KR1020150156123A patent/KR101838616B1/ko active IP Right Grant
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Mattew T. Kapelewski 외 13명, J. of the American Chemical Society 2014, 136(34), 12119~12129* |
배태현 외 1명, Energy & Environmental Science 2013, CO2/N2 Separations with Mixed-Matrix Membranes Containing Mg2(dobdc) Nanocrystals, 6, 3565-3569* |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210116932A (ko) | 2020-03-18 | 2021-09-28 | 경상국립대학교산학협력단 | 복합막 형성용 조성물, 이로부터 제조된 이산화탄소 분리막 및 이의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170053510A (ko) | 2017-05-16 |
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---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20151106 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20180227 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20180309 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
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|
PR1001 | Payment of annual fee |
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