JP6670946B2 - レーザ照射装置 - Google Patents
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Description
基材の被処理部にレーザを照射するレーザ照射装置であって、
レーザ光源を有するヘッドと、
前記基材が載置されるステージと、
前記ステージと前記ヘッドとを垂直方向に相対移動させて前記基材の前記被処理部に照射されるレーザスポット直径を調整可能な垂直方向移動装置と、
調整可能な複数のレーザスポット直径の各々に応じて、前記基材の前記被処理部の全体にわたってレーザを照射する際のスループット及び消費電力を求め、前記スループットと前記消費電力とを対応づけて表示装置に表示する制御装置と、
を備えたものである。
RF=RP/πω2(z) …(3)
RF≦2α=30 …(4)
P=πω2(z)・F …(5)
E=PT …(6)
T={(L−2ωe(z))/V}×n …(7)
Claims (4)
- 基材の被処理部にレーザを照射するレーザ照射装置であって、
レーザ光源を有するヘッドと、
前記基材が載置されるステージと、
前記ステージと前記ヘッドとを垂直方向に相対移動させて前記基材の前記被処理部に照射されるレーザスポット直径を調整可能な垂直方向移動装置と、
調整可能な複数のレーザスポット直径の各々に応じて、前記基材の前記被処理部の全体にわたってレーザを照射する際のスループット及び消費電力を求め、前記スループットと前記消費電力とを対応づけて表示装置に表示する制御装置と、
を備え、
前記レーザ光源は、所定のパワー分解能でパワー設定を変更可能であり、
前記制御装置は、前記被処理部の処理に必要とされるパワー密度範囲を取得し、前記所定のパワー分解能をレーザスポットの面積で除したパワー密度分解能が前記パワー密度範囲の上下限幅に一致するレーザスポット直径をスポット直径下限値として導出し、前記パワー密度範囲の下限値であるパワー密度下限値とレーザスポット面積との積がレーザパワーの上限値になるときのレーザスポット直径をスポット直径上限値として導出し、前記スポット直径下限値から前記スポット直径上限値までの範囲内で、前記垂直方向移動装置によって調整可能な複数のレーザスポット直径を選出する、
レーザ照射装置。 - 前記制御装置は、前記表示装置に表示された前記スループットと前記消費電力との対応関係の中からオペレータが任意の対応関係を選択設定可能な画面を前記表示装置に表示する、
請求項1に記載のレーザ照射装置。 - 前記制御装置は、前記スループットと前記消費電力との対応関係として、少なくとも、前記スループットが最大の場合の前記対応関係である第1の対応関係と、前記消費電力が最小の場合の前記対応関係である第2の対応関係と、前記スループットが最大よりも小さく前記消費電力が最小よりも大きい場合の前記対応関係である第3の対応関係とを前記表示装置に表示する、
請求項1又は2に記載のレーザ照射装置。 - 前記スループットは、レーザスポット直径の関数であってレーザスポット直径が大きいほど大きくなるパラメータであり、
前記消費電力は、前記被処理部の全体にわたってレーザを照射するのに要する照射時間と前記被処理部にレーザを照射する際のレーザパワーとの積である、
請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ照射装置。
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