JP6663643B2 - マッサージ機 - Google Patents
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Description
本発明はストレッチ効果を有するマッサージ機に関する。
特許文献１には、ストレッチの動作を行うマッサージ機が記載されている。
特許文献１は、足首に配置された容量の小さい空気袋を膨張させた後にストレッチ用空気袋を膨張させる制御部を備え、人体の足首に最も近い位置にある上記容量の小さい空気袋を膨張させて人体の足首を固定した後、上記容量の小さい空気袋を膨張させた状態で上記ストレッチ用空気袋を膨張させて足先の裏面側を押圧するアキレス腱ストレッチ用の動作モードを有するマッサージ機が知られている。
特許文献１は、足首に配置された容量の小さい空気袋を膨張させた後にストレッチ用空気袋を膨張させる制御部を備え、人体の足首に最も近い位置にある上記容量の小さい空気袋を膨張させて人体の足首を固定した後、上記容量の小さい空気袋を膨張させた状態で上記ストレッチ用空気袋を膨張させて足先の裏面側を押圧するアキレス腱ストレッチ用の動作モードを有するマッサージ機が知られている。
しかしながら、このようなマッサージ機は、関節に対して２段階のストレッチを行うことができなかった。また、押し上げる力が不足しており、効果的に足首を伸ばすことができなかった。
そこで本発明は、関節に対して２段階のストレッチを行うことが可能であり、より高いストレッチ効果を与えることができるマッサージ機を提供することを目的とする。
そこで本発明は、関節に対して２段階のストレッチを行うことが可能であり、より高いストレッチ効果を与えることができるマッサージ機を提供することを目的とする。
本発明は、身体の手首の関節及び／又は身体の足首の関節を屈曲させてマッサージを行うマッサージ機において、手先から前腕及び／又は足裏から脹脛を支持する身体支持面は、前記関節を中心として、身体の末端側を支持する第１範囲と、身体の基端側を支持する第２範囲と、を有し、前記第１範囲には、前記関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、前記第１屈曲手段と前記第２屈曲手段は、前記関節側を支点に前記身体支持面に取り付けられ、前記第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも前記関節に近い位置に配置されており、前記第１屈曲手段と第２屈曲手段は、エアセルであり、前記第１屈曲手段は、第２屈曲手段と重なり合った重合部を有し、前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
この様に、第１屈曲手段を駆動させて関節を屈曲させ、次いで第２屈曲手段を駆動させて関節を更に屈曲させることで、関節へ２段階のストレッチを行うことが可能となる。
また、第１屈曲手段のエアセルと、第２屈曲手段のエアセルは、重なる重合部が設けられており、前記重合部分は、１つのエアセルが膨張するよりも大きく膨張することが可能となり、足首や手首をストレッチさせるのに好適である。
この様に、第１屈曲手段を駆動させて関節を屈曲させ、次いで第２屈曲手段を駆動させて関節を更に屈曲させることで、関節へ２段階のストレッチを行うことが可能となる。
また、第１屈曲手段のエアセルと、第２屈曲手段のエアセルは、重なる重合部が設けられており、前記重合部分は、１つのエアセルが膨張するよりも大きく膨張することが可能となり、足首や手首をストレッチさせるのに好適である。
前記第２範囲には、前記関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられており、前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段と第３屈曲手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
この様に、第１屈曲手段と第３屈曲手段を駆動させて関節を屈曲させ、次いで第２屈曲手段を駆動させて関節を更に屈曲させることで、関節へ２段階のストレッチを行うことが可能となる。
この様に、第１屈曲手段と第３屈曲手段を駆動させて関節を屈曲させ、次いで第２屈曲手段を駆動させて関節を更に屈曲させることで、関節へ２段階のストレッチを行うことが可能となる。
前記第１範囲には、身体の足部が支持され、前記第１屈曲手段は、足裏の土踏まずに対応する位置に設けられ、前記第２屈曲手段は、足裏の足先に対応する位置に設けられる。
このように配置させることで、足首を２段階でストレッチできる。
このように配置させることで、足首を２段階でストレッチできる。
前記第２範囲には、身体の脚部が支持され、前記第３屈曲手段は、脹脛の裏に対応する位置に設けられる。
このように配置させることで、足首を２段階でストレッチできる。
このように配置させることで、足首を２段階でストレッチできる。
前記マッサージ機は、更に踵を挟持する挟持手段を有しており、前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段と挟持手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンと、前記第１屈曲手段と第３屈曲手段と挟持手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
この様に挟持手段によって、踵を固定することで、踵が移動してしまうのを防止し、より効果的なストレッチを実現できる。
この様に挟持手段によって、踵を固定することで、踵が移動してしまうのを防止し、より効果的なストレッチを実現できる。
前記第１屈曲手段と、第２屈曲手段は、マッサージ機のフットレストに設けられており、前記マッサージ機は、更に座部を有しており、前記座部は、フットレストを上下させる揺動機構を有しており、前記マッサージ機は、フットレストを上昇させた状態で、第１屈曲手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
この様に動作させることで、フットレストが上昇し、大腿部から脚部までが伸ばされた状態で、ストレッチ動作を行うことが可能となる。
この様に動作させることで、フットレストが上昇し、大腿部から脚部までが伸ばされた状態で、ストレッチ動作を行うことが可能となる。
前記第１屈曲手段と、第２屈曲手段と、第３屈曲手段と、挟持手段は、マッサージ機のフットレストに設けられており、前記マッサージ機は、更に座部を有しており、前記座部は、フットレストを上下させる揺動機構を有しており、前記マッサージ機は、フットレストを上昇させた状態で、第１屈曲手段と挟持手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンと、前記第１屈曲手段と第３屈曲手段と狭圧手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
この様に動作させることで、フットレストが上昇し、大腿部から脚部までが伸ばされた状態で、各ストレッチ動作を行うことが可能となる。
この様に動作させることで、フットレストが上昇し、大腿部から脚部までが伸ばされた状態で、各ストレッチ動作を行うことが可能となる。
第１範囲には手部が支持され、前記第１屈曲手段は、手のひらに対応する位置に設けられ、前記第２屈曲手段は、手先に対応する位置に設けられる。
このように配置させることで、手首を２段階でストレッチできる。
このように配置させることで、手首を２段階でストレッチできる。
第２範囲には前腕部が支持され、前記第３屈曲手段は、前腕の裏に対応する位置に設けられる。
このように配置させることで、手首を２段階でストレッチできる。
このように配置させることで、手首を２段階でストレッチできる。
関節に対して２段階のストレッチを行うことが可能であり、より高いストレッチ効果を与えることができるマッサージ機を提供できる。
［全体構成］
以下、本発明のマッサージ機１の全体構成について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係るマッサージ機１の斜視図である。
図２はマッサージ機１のエアセルの配置を簡略化して示す図である。
図３はマッサージ機１の機能ブロック図である。
図４は起立姿勢にあるマッサージ機１の側面図である。
図５はリクライニング姿勢にあるマッサージ機１の側面図である。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、図１に示す起立姿勢のマッサージ機１に着座した使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。
以下、本発明のマッサージ機１の全体構成について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係るマッサージ機１の斜視図である。
図２はマッサージ機１のエアセルの配置を簡略化して示す図である。
図３はマッサージ機１の機能ブロック図である。
図４は起立姿勢にあるマッサージ機１の側面図である。
図５はリクライニング姿勢にあるマッサージ機１の側面図である。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、図１に示す起立姿勢のマッサージ機１に着座した使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。
図１，図２に示すとおり、本発明のマッサージ機１は、主として、使用者が着座する座部２と、座部２の後部にリクライニング可能に設けられた使用者が凭れる背凭れ部３と、座部２の前部に上下揺動可能に設けられた使用者の脚部及び足部を支持するフットレスト４と、座部２の左右両側に設けられた使用者が腕部を載置する肘掛け部５と、座部２を支持するとともに床面に設置される脚フレーム６と、を有している。
そして、背凭れ部３には、使用者の背部をマッサージするマッサージユニット７が設けられ、座部２やフットレスト４，肘掛け部５には、それぞれ対応する部位をマッサージするエアセルＡ〜エアセルＭが設けられている。
そして、背凭れ部３には、使用者の背部をマッサージするマッサージユニット７が設けられ、座部２やフットレスト４，肘掛け部５には、それぞれ対応する部位をマッサージするエアセルＡ〜エアセルＭが設けられている。
図１に示した、座部２の下方にある足フレーム６には、前後方向に伸縮する直動式のアクチュエータ１１（図３を参照）が設けられている。
アクチュエータ１１（図３を参照）は、背凭れ部３とフットレスト４の揺動手段である。
アクチュエータ１１（図３を参照）は、背凭れ部３は座部２の後部を中心として前後方向にリクライニング可能に構成されており、フットレスト４は座部２の前部を中心として上下方向に昇降可能に構成されている。背凭れ部３とフットレスト４は、夫々独立して傾倒，昇降することが可能である。また、背凭れ部３とフットレスト４は、連動して移動するよう構成されていてもよい。背凭れ部３とフットレスト４が連動する場合は、背凭れ部３が起立してフットレスト４が下降した起立姿勢（図４参照）と、背凭れ部３がリクライニングしてフットレスト４が上昇したリクライニング姿勢（図５参照）と、の間における任意の位置で停止できるようになっている。
アクチュエータ１１（図３を参照）は、背凭れ部３とフットレスト４の揺動手段である。
アクチュエータ１１（図３を参照）は、背凭れ部３は座部２の後部を中心として前後方向にリクライニング可能に構成されており、フットレスト４は座部２の前部を中心として上下方向に昇降可能に構成されている。背凭れ部３とフットレスト４は、夫々独立して傾倒，昇降することが可能である。また、背凭れ部３とフットレスト４は、連動して移動するよう構成されていてもよい。背凭れ部３とフットレスト４が連動する場合は、背凭れ部３が起立してフットレスト４が下降した起立姿勢（図４参照）と、背凭れ部３がリクライニングしてフットレスト４が上昇したリクライニング姿勢（図５参照）と、の間における任意の位置で停止できるようになっている。
脚フレーム６には、エアセルＡ〜エアセルＭに対してエアを給排気するエアポンプ５０及び電磁弁５１等からなるエアユニット１０が設けられている。
エアユニット１０は、エアセルＡ〜エアセルＭを任意の膨張量で維持可能に構成することが好ましく、この場合はエアセルＡ〜エアセルＭの膨張量を調節することができる。
図３に示すとおり、このマッサージ機１には、プログラマブルなマイコン等よりなる制御部１４が設けられており、使用者による操作器９からの指示や予め定められたプログラムに従って、マッサージユニット７、エアユニット１０及びアクチュエータ１１の各動作を制御するよう構成されている。
また、制御部１４には、所定のプログラムに従ってマッサージユニット７、エアユニット１０及びアクチュエータ１１のうち少なくともいずれか１つを自動的に動作させる複数のマッサージコースが記憶されている。使用者が所望するマッサージコースを選択すると、設定されたコース時間が経過するまで自動的に各種動作が行われる。
また、電磁弁を例示して説明しているが、ロータリー弁等を代わりに用いることも可能である。
エアユニット１０は、エアセルＡ〜エアセルＭを任意の膨張量で維持可能に構成することが好ましく、この場合はエアセルＡ〜エアセルＭの膨張量を調節することができる。
図３に示すとおり、このマッサージ機１には、プログラマブルなマイコン等よりなる制御部１４が設けられており、使用者による操作器９からの指示や予め定められたプログラムに従って、マッサージユニット７、エアユニット１０及びアクチュエータ１１の各動作を制御するよう構成されている。
また、制御部１４には、所定のプログラムに従ってマッサージユニット７、エアユニット１０及びアクチュエータ１１のうち少なくともいずれか１つを自動的に動作させる複数のマッサージコースが記憶されている。使用者が所望するマッサージコースを選択すると、設定されたコース時間が経過するまで自動的に各種動作が行われる。
また、電磁弁を例示して説明しているが、ロータリー弁等を代わりに用いることも可能である。
［背凭れ部の構成］
図１に示すとおり、背凭れ部３内には、身長方向に沿って昇降可能に構成されて使用者の背部をマッサージするマッサージユニット７が設けられている。なお、マッサージユニット７は、上下に２つ設けられていてもよい。
マッサージユニット７は、左右で対をなす施療子７ａと、施療子７ａを支持するアーム７ｂと、対の施療子７ａを近接離反させる揉みモータ１５（図３参照）と、対の施療子７ａを交互に被施療部に対して進退させる叩きモータ１６（図３参照）と、マッサージユニット７を昇降させる昇降モータ１７（図３参照）と、を有している。
この対の施療子７ａが近接離反して揉みマッサージを行い、対の施療子７ａが交互に進退して叩きマッサージを行うことができる。
また、マッサージユニット７は、被施療部に対して進退可能に構成されており、揉みマッサージや叩きマッサージと合わせて動作できるようになっている。
図１に示すとおり、背凭れ部３内には、身長方向に沿って昇降可能に構成されて使用者の背部をマッサージするマッサージユニット７が設けられている。なお、マッサージユニット７は、上下に２つ設けられていてもよい。
マッサージユニット７は、左右で対をなす施療子７ａと、施療子７ａを支持するアーム７ｂと、対の施療子７ａを近接離反させる揉みモータ１５（図３参照）と、対の施療子７ａを交互に被施療部に対して進退させる叩きモータ１６（図３参照）と、マッサージユニット７を昇降させる昇降モータ１７（図３参照）と、を有している。
この対の施療子７ａが近接離反して揉みマッサージを行い、対の施療子７ａが交互に進退して叩きマッサージを行うことができる。
また、マッサージユニット７は、被施療部に対して進退可能に構成されており、揉みマッサージや叩きマッサージと合わせて動作できるようになっている。
［座部の構成］
図１に示すとおり、座部２には、被施療部として臀部又は大腿部をマッサージするエアセルＭが設けられているこのエアセルＭは、被施療部（本実施形態では臀部又は大腿部）の外側に対応して設けられた左右で対をなしている。これらのエアセルＭによって、臀部又は大腿部に対して、挟持動作を行うことができる。
エアセルＭは、上側が内側に向かって略扇状に膨張するよう構成されている。このように構成されたエアセルＭが膨張すると、臀部又は大腿部の外側部及び上部を押圧することができる。すなわち、エアセルＭは、臀部又は大腿部の外側部に対して空気式のマッサージを行うことができる。しかも、エアセルＭは上側が内側に向かって略扇状に膨張するため、被施療部を座部２の上面との間でしっかりと押圧することができる。
なお、エアセルＭは、それぞれ独立して膨張収縮可能に構成されていることが好ましい。
図１に示すとおり、座部２には、被施療部として臀部又は大腿部をマッサージするエアセルＭが設けられているこのエアセルＭは、被施療部（本実施形態では臀部又は大腿部）の外側に対応して設けられた左右で対をなしている。これらのエアセルＭによって、臀部又は大腿部に対して、挟持動作を行うことができる。
エアセルＭは、上側が内側に向かって略扇状に膨張するよう構成されている。このように構成されたエアセルＭが膨張すると、臀部又は大腿部の外側部及び上部を押圧することができる。すなわち、エアセルＭは、臀部又は大腿部の外側部に対して空気式のマッサージを行うことができる。しかも、エアセルＭは上側が内側に向かって略扇状に膨張するため、被施療部を座部２の上面との間でしっかりと押圧することができる。
なお、エアセルＭは、それぞれ独立して膨張収縮可能に構成されていることが好ましい。
［エアユニットの構成］
エアユニット１０は、脚フレーム６に設けられている。
図３のエアユニット１０は、エアポンプ５０と、エアの給気と排気の切り換えを行う切換手段である電磁弁５１〜５３と、を有している。
また、切換手段である電磁弁５１は、三方弁であり、エアセルがポンプと連通するＯＮ状態と、エアセルが排気穴と連通してエアセル内部の空気が大気に放出されるＯＦＦ状態を切り換えるものである。
なお、電磁弁は複数あり、各エアセルに連通している。
エアユニット１０は、脚フレーム６に設けられている。
図３のエアユニット１０は、エアポンプ５０と、エアの給気と排気の切り換えを行う切換手段である電磁弁５１〜５３と、を有している。
また、切換手段である電磁弁５１は、三方弁であり、エアセルがポンプと連通するＯＮ状態と、エアセルが排気穴と連通してエアセル内部の空気が大気に放出されるＯＦＦ状態を切り換えるものである。
なお、電磁弁は複数あり、各エアセルに連通している。
［フットレストの構成］
図１，図２に示すとおり、フットレスト４は、被施療部としての脚部及び足部を支持可能であり、足の側部に沿う壁部４ｂと、足裏から脹脛の裏を支持する身体支持面４ａを有している。
身体支持面４ａはＬ字に形成され足裏や脹脛の裏側に対向し、壁部４ｂは足の側部や脹脛の側部に対向しており、身体支持面４ａの左右両側から立設されている。また、両足が振り分けて挿入できるように、左右にそれぞれ、壁部４ｂと身体支持面４ａを有している。
また、身体支持面４ａや壁部４ｂには、エアの給排気により膨張収縮し、各身体部位をそれぞれマッサージするエアセルＡ〜Ｆが設けられている。
図１，図２に示すとおり、フットレスト４は、被施療部としての脚部及び足部を支持可能であり、足の側部に沿う壁部４ｂと、足裏から脹脛の裏を支持する身体支持面４ａを有している。
身体支持面４ａはＬ字に形成され足裏や脹脛の裏側に対向し、壁部４ｂは足の側部や脹脛の側部に対向しており、身体支持面４ａの左右両側から立設されている。また、両足が振り分けて挿入できるように、左右にそれぞれ、壁部４ｂと身体支持面４ａを有している。
また、身体支持面４ａや壁部４ｂには、エアの給排気により膨張収縮し、各身体部位をそれぞれマッサージするエアセルＡ〜Ｆが設けられている。
また、図６は、フットレストの壁部４ｂを取り除いた側面図である。
図６に示す様に、前記身体支持面４ａは、関節を中心として、一方側の身体を支持する第１範囲と、他方側の身体を支持する第２範囲とを有しており、足首の関節を中心として、一方側が足先まで支持する第１範囲であり、他方側が膝付近までを支持する第２範囲である。
第１範囲には、足首関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも足首関節に近い位置に配置されている。図１，図２では、第１屈曲手段は、足首関節の近傍に配置されたエアセルＡであり、第２屈曲手段よりも足首関節に近い位置に配置されている。第２屈曲手段は、足先側に配置され、第１屈曲手段よりも足首から遠い位置に配置されたエアセルＢである。
また、第２範囲には、足首関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられている。図１，図２では、第３屈曲手段は脹脛の裏側を押圧するエアセルＣである。
また、側壁４ｂには、足先側を上方から身体支持部４ａ側に押し付けるエアセルＥが設けられ、踵の側部に設けられた挟持手段であるエアセルＤが設けられ、脹脛の側部に設けられた挟持手段であるエアセルＦが設けられている。
また、身体支持面４ａに設けられたエアセルＡは、エアセルＢと同じ止着位置に固定されている。
図６に示す様に、前記身体支持面４ａは、関節を中心として、一方側の身体を支持する第１範囲と、他方側の身体を支持する第２範囲とを有しており、足首の関節を中心として、一方側が足先まで支持する第１範囲であり、他方側が膝付近までを支持する第２範囲である。
第１範囲には、足首関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも足首関節に近い位置に配置されている。図１，図２では、第１屈曲手段は、足首関節の近傍に配置されたエアセルＡであり、第２屈曲手段よりも足首関節に近い位置に配置されている。第２屈曲手段は、足先側に配置され、第１屈曲手段よりも足首から遠い位置に配置されたエアセルＢである。
また、第２範囲には、足首関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられている。図１，図２では、第３屈曲手段は脹脛の裏側を押圧するエアセルＣである。
また、側壁４ｂには、足先側を上方から身体支持部４ａ側に押し付けるエアセルＥが設けられ、踵の側部に設けられた挟持手段であるエアセルＤが設けられ、脹脛の側部に設けられた挟持手段であるエアセルＦが設けられている。
また、身体支持面４ａに設けられたエアセルＡは、エアセルＢと同じ止着位置に固定されている。
［肘掛け部の構成］
図１，図２に示すとおり、肘掛け部５は、被施療部としての上腕及び前腕を支持可能であり、座部２から背凭れ部３にかけてその側方に設けられた側面パネル５ａと、座部２の側方において側面パネル５ａの上部に設けられた腕保持部５ｂと、により構成されている。側面パネル５ａは、その前部が脚フレーム６の側部に連結され、その後部が背凭れ部３の側部に連結されており、図４及び図５に示すように背凭れ部３のリクライニングに追従して角度を変更しながら前後方向へ移動可能となっている。
側面パネル５ａの後部上方には、側方又は前方から膨張して使用者の上腕又は肩を押圧するエアセルＬが設けられており、左右のエアセルＬが膨張することにより使用者の上半身を背凭れ部３に保持することができる。
腕保持部５ｂは、正面視で内側が開口した略コ字状に形成されており、前腕を支持可能である。腕保持部５ｂは、前腕を支持する身体支持面５ｃを有し、身体支持面５ｃの側部からは側壁５ｄが立上り、側壁５ｄからは身体支持面５ｃの上部を覆う様に天井部５ｅが設けられている。
図１，図２に示すとおり、肘掛け部５は、被施療部としての上腕及び前腕を支持可能であり、座部２から背凭れ部３にかけてその側方に設けられた側面パネル５ａと、座部２の側方において側面パネル５ａの上部に設けられた腕保持部５ｂと、により構成されている。側面パネル５ａは、その前部が脚フレーム６の側部に連結され、その後部が背凭れ部３の側部に連結されており、図４及び図５に示すように背凭れ部３のリクライニングに追従して角度を変更しながら前後方向へ移動可能となっている。
側面パネル５ａの後部上方には、側方又は前方から膨張して使用者の上腕又は肩を押圧するエアセルＬが設けられており、左右のエアセルＬが膨張することにより使用者の上半身を背凭れ部３に保持することができる。
腕保持部５ｂは、正面視で内側が開口した略コ字状に形成されており、前腕を支持可能である。腕保持部５ｂは、前腕を支持する身体支持面５ｃを有し、身体支持面５ｃの側部からは側壁５ｄが立上り、側壁５ｄからは身体支持面５ｃの上部を覆う様に天井部５ｅが設けられている。
図７は、腕保持部５ｂを簡略化して示した図である。
図７に示す様に、前記身体支持面５ｃは、関節を中心として、一方側の身体を支持する第１範囲と、他方側の身体を支持する第２範囲と、を有しており、手首の関節を中心として、一方側が手先まで支持する第１範囲であり、他方側が肘までを支持する第２範囲である。
また、第１範囲には、手首関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも前記関節に近い位置に配置されている。図１，図２では、第１屈曲手段は、手首関節の近傍に配置されたエアセルＧであり、第２屈曲手段は、手先側に配置され、第１屈曲手段より、手首から遠い位置に配置されたエアセルＨである。
また、第２範囲には、手首関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられている。図１，図２では、第３屈曲手段は前腕部の裏側を押圧するエアセルＩである。
また、天井部５ｅには、手先側にエアセルＪが設けられ、前腕側にエアセルＫが設けられている。
また、図７に示す様に、第１範囲に設けられたエアセルＧは、エアセルＨと同じ止着位置に固定されている。
図７に示す様に、前記身体支持面５ｃは、関節を中心として、一方側の身体を支持する第１範囲と、他方側の身体を支持する第２範囲と、を有しており、手首の関節を中心として、一方側が手先まで支持する第１範囲であり、他方側が肘までを支持する第２範囲である。
また、第１範囲には、手首関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも前記関節に近い位置に配置されている。図１，図２では、第１屈曲手段は、手首関節の近傍に配置されたエアセルＧであり、第２屈曲手段は、手先側に配置され、第１屈曲手段より、手首から遠い位置に配置されたエアセルＨである。
また、第２範囲には、手首関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられている。図１，図２では、第３屈曲手段は前腕部の裏側を押圧するエアセルＩである。
また、天井部５ｅには、手先側にエアセルＪが設けられ、前腕側にエアセルＫが設けられている。
また、図７に示す様に、第１範囲に設けられたエアセルＧは、エアセルＨと同じ止着位置に固定されている。
図８は、フットレスト４と腕保持部５ｂに配置される第１屈曲手段と第２屈曲手段を示している。
図８においては、第１屈曲手段と第２屈曲手段と第３屈曲手段は、エアセルで例示しているが、身体を持ち上げるまたは押し上げる作用のある構造であれば、採用可能である。
なお、本実施例では、第１屈曲手段はエアセルＡ，エアセルＧであり、第２屈曲手段はエアセルＢ，エアセルＨである。
図８の説明においては、フットレストのエアセルＡ，エアセルＢを例に説明を行う。
図８に示す様に、エアセルＡとエアセルＢは、それぞれ、膨張部と非膨張部を有している。
エアセルＢの非膨張部は、エアセルＡの非膨張部に比べて、長寸となっており、エアセルＢの膨張部は、エアセルＡの膨張部に比べて、長寸となっている。このため、エアセルＡとエアセルＢを同じ止着位置に固定すると、押圧できる箇所がそれぞれで異なることとなる。エアセルＢは、足先を持ち上げるように押圧することが可能であり、エアセルＡは土踏まずを持ち上げるように押圧することが可能となる。
なお、エアセルＨは手先を持ち上げるように押圧することが可能であり、エアセルＧは、手のひらを持ち上げることが可能となる。
また、エアセルＢの上方にエアセルＡが重合して身体支持面４ａに設けられている。また、エアセルＡの膨縮部の一部とエアセルＢの膨縮部の一部が重合して配置されている。このため、エアセルＢが膨張するとエアセルＡを持ち上げることが可能となる。
よって、エアセルＡとエアセルＢが膨張すると、エアセルＡが大きく持ち上がり、足首を２段階で屈曲させやすくなる。
また、エアセルＡとエアセルＢの非膨縮部も重合しており、被施療者の踵部分に非膨縮部が位置するようになっている。
踵部分までエアセルを配置した場合、エアセルＡやエアセルＢを膨張させた際、足全体が浮き上がってしまい、足首のストレッチが行えない。このため踵部分が非膨縮部となっている。また、エアセルＡ，Ｂのいずれかを膨張させると、膨張につれて、踵は自重でエアセルＡやエアセルＢの非膨縮部側へ自然と案内される様になっている。なお、手首部分においても、エアセルＧやエアセルＨを膨張させた場合、手全体が浮き上がってしまい、手首のストレッチが行えない。このため手首部分が非膨縮部となっている。
また、エアセルＢの膨張部は、エアセルＡの膨張部に比べて、長寸となっている例を説明したが、膨張部については、エアセルＢとエアセルＡの膨張部が同じ長さであってもよい。膨張部が同じ長さであっても一部が重合している構成とすることで、関節をより屈曲することが可能となる。
図８においては、第１屈曲手段と第２屈曲手段と第３屈曲手段は、エアセルで例示しているが、身体を持ち上げるまたは押し上げる作用のある構造であれば、採用可能である。
なお、本実施例では、第１屈曲手段はエアセルＡ，エアセルＧであり、第２屈曲手段はエアセルＢ，エアセルＨである。
図８の説明においては、フットレストのエアセルＡ，エアセルＢを例に説明を行う。
図８に示す様に、エアセルＡとエアセルＢは、それぞれ、膨張部と非膨張部を有している。
エアセルＢの非膨張部は、エアセルＡの非膨張部に比べて、長寸となっており、エアセルＢの膨張部は、エアセルＡの膨張部に比べて、長寸となっている。このため、エアセルＡとエアセルＢを同じ止着位置に固定すると、押圧できる箇所がそれぞれで異なることとなる。エアセルＢは、足先を持ち上げるように押圧することが可能であり、エアセルＡは土踏まずを持ち上げるように押圧することが可能となる。
なお、エアセルＨは手先を持ち上げるように押圧することが可能であり、エアセルＧは、手のひらを持ち上げることが可能となる。
また、エアセルＢの上方にエアセルＡが重合して身体支持面４ａに設けられている。また、エアセルＡの膨縮部の一部とエアセルＢの膨縮部の一部が重合して配置されている。このため、エアセルＢが膨張するとエアセルＡを持ち上げることが可能となる。
よって、エアセルＡとエアセルＢが膨張すると、エアセルＡが大きく持ち上がり、足首を２段階で屈曲させやすくなる。
また、エアセルＡとエアセルＢの非膨縮部も重合しており、被施療者の踵部分に非膨縮部が位置するようになっている。
踵部分までエアセルを配置した場合、エアセルＡやエアセルＢを膨張させた際、足全体が浮き上がってしまい、足首のストレッチが行えない。このため踵部分が非膨縮部となっている。また、エアセルＡ，Ｂのいずれかを膨張させると、膨張につれて、踵は自重でエアセルＡやエアセルＢの非膨縮部側へ自然と案内される様になっている。なお、手首部分においても、エアセルＧやエアセルＨを膨張させた場合、手全体が浮き上がってしまい、手首のストレッチが行えない。このため手首部分が非膨縮部となっている。
また、エアセルＢの膨張部は、エアセルＡの膨張部に比べて、長寸となっている例を説明したが、膨張部については、エアセルＢとエアセルＡの膨張部が同じ長さであってもよい。膨張部が同じ長さであっても一部が重合している構成とすることで、関節をより屈曲することが可能となる。
［動作パターン１］
図９は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ５でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１０，図１１は、図９に示したタイムチャートを、模式的に示した図である。
図１０は、足首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１１は、手首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１０ａ，図１１ａは、図９のＴ０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１０ｂ，図１１ｂは、図９のＴ１〜Ｔ５の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１がＯＮ状態、第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１０ｃ，図１１ｃは、図９のＴ５〜Ｔ１０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２がＯＮ状態となっていることを示す図である。
図９は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ５でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１０，図１１は、図９に示したタイムチャートを、模式的に示した図である。
図１０は、足首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１１は、手首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１０ａ，図１１ａは、図９のＴ０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１０ｂ，図１１ｂは、図９のＴ１〜Ｔ５の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１がＯＮ状態、第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１０ｃ，図１１ｃは、図９のＴ５〜Ｔ１０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２がＯＮ状態となっていることを示す図である。
前記マッサージ機１は、制御部１４より、エアポンプ５０と、第１電磁弁５１と、第２電磁弁５２を制御して、第１屈曲手段と、第２屈曲手段とを制御している。また、マッサージ機１は、前記第１屈曲手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
図１０では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡに空気が送気され、エアセルＡが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧される。また、エアセルＡの回動支点は踵側に設けられており、爪先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、足首を屈曲させる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。また、エアセルＢの膨張部の一部にエアセルＡの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＢが膨張状態となると、足先だけでなく、エアセルＡの解放端側を押し上げることが可能となり、土踏まず部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
図１０では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡに空気が送気され、エアセルＡが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧される。また、エアセルＡの回動支点は踵側に設けられており、爪先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、足首を屈曲させる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。また、エアセルＢの膨張部の一部にエアセルＡの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＢが膨張状態となると、足先だけでなく、エアセルＡの解放端側を押し上げることが可能となり、土踏まず部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
また、手首もストレッチすることが可能である。
図１１では、第１屈曲手段はエアセルＧであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＨであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＧに空気が送気され、エアセルＧが膨張状態となり、手のひらが押圧される。また、エアセルＧの回動支点は手首側に設けられており、手先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、手首を屈曲させる。この第１ステップにより、手首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＨにも空気が送気され、エアセルＨが膨張状態となり、手先が押圧される。また、エアセルＨの膨張部の一部にエアセルＧの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＨが膨張状態となると、手先だけでなく、エアセルＧの解放端側を押し上げることが可能となり、手のひら部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、手首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、手首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
図１１では、第１屈曲手段はエアセルＧであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＨであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＧに空気が送気され、エアセルＧが膨張状態となり、手のひらが押圧される。また、エアセルＧの回動支点は手首側に設けられており、手先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、手首を屈曲させる。この第１ステップにより、手首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＨにも空気が送気され、エアセルＨが膨張状態となり、手先が押圧される。また、エアセルＨの膨張部の一部にエアセルＧの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＨが膨張状態となると、手先だけでなく、エアセルＧの解放端側を押し上げることが可能となり、手のひら部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、手首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、手首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
［動作パターン２］
図１２は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ５でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第３電磁弁５３は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１３，図１４は、図１２に示したタイムチャートを、模式的に示した図である。
図１３は、足首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１４は、手首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１３ａ，図１４ａは、図１２のＴ０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１３ｂ，図１４ｂは、図１２のＴ１〜Ｔ５の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３がＯＮ状態、第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１３ｃ，図１４ｃは、図１２のＴ５〜Ｔ１０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３がＯＮ状態となっていることを示す図である。
図１２は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ５でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第３電磁弁５３は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１３，図１４は、図１２に示したタイムチャートを、模式的に示した図である。
図１３は、足首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１４は、手首のストレッチの動作パターンを示す図である。
図１３ａ，図１４ａは、図１２のＴ０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１３ｂ，図１４ｂは、図１２のＴ１〜Ｔ５の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３がＯＮ状態、第２電磁弁５２がＯＦＦ状態となっていることを示す図である。
図１３ｃ，図１４ｃは、図１２のＴ５〜Ｔ１０の状態を示しており、エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３がＯＮ状態となっていることを示す図である。
前記マッサージ機１は、制御部１４より、エアポンプ５０と、第１電磁弁５１と、第２電磁弁５２と、第３電磁弁５３を制御して、第１屈曲手段と、第２屈曲手段と、第３屈曲手段を制御している。また、前記マッサージ機１は、前記第１屈曲手段と第３屈曲手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有している。
図１３では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第３屈曲手段はエアセルＣであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＣに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＣが膨張状態となり、足部の土踏まずと脹脛の裏が押圧される。前述の通り、エアセルＡの回動支点は踵側に設けられており、爪先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、足首を屈曲させる。この際に、踵は身体支持部４ａの第２範囲に押し付けられるように固定される。また、エアセルＣは、使用者の膝が前方へ移動する方向に脹脛の裏を押圧することで、足首を屈曲した状態とすることができる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。また、エアセルＢの膨張部の一部にエアセルＡの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＢが膨張状態となると、足先だけでなく、エアセルＡの解放端側を押し上げることが可能となり、土踏まず部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
また、第１電磁弁５１にエアセルＡとエアセルＣを接続してもよい。第１電磁弁５１と第３電磁弁５３は、同じタイミングでＯＮ/ＯＦＦされているので、電磁弁を統一してもよい。
図１３では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第３屈曲手段はエアセルＣであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＣに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＣが膨張状態となり、足部の土踏まずと脹脛の裏が押圧される。前述の通り、エアセルＡの回動支点は踵側に設けられており、爪先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、足首を屈曲させる。この際に、踵は身体支持部４ａの第２範囲に押し付けられるように固定される。また、エアセルＣは、使用者の膝が前方へ移動する方向に脹脛の裏を押圧することで、足首を屈曲した状態とすることができる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。また、エアセルＢの膨張部の一部にエアセルＡの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＢが膨張状態となると、足先だけでなく、エアセルＡの解放端側を押し上げることが可能となり、土踏まず部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
また、第１電磁弁５１にエアセルＡとエアセルＣを接続してもよい。第１電磁弁５１と第３電磁弁５３は、同じタイミングでＯＮ/ＯＦＦされているので、電磁弁を統一してもよい。
また、手首もストレッチすることが可能である。
図１４では、第１屈曲手段はエアセルＧであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＨであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第３屈曲手段はエアセルＩであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＧとエアセルＩに空気が送気され、エアセルＧとエアセルＩが膨張状態となり、手のひらと前腕の裏側が押圧される。
また、エアセルＧの回動支点は手首側に設けられており、手先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、手首を屈曲させる。また、エアセルＩは、前腕の裏側を押圧し、エアセルＧとエアセルＩによって、手首は、Ｖ字状に屈曲した状態となる。この第１ステップにより、手首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＨにも空気が送気され、エアセルＨが膨張状態となり、手先が押圧される。また、エアセルＨの膨張部の一部にエアセルＧの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＨが膨張状態となると、手先だけでなく、エアセルＧの解放端側を押し上げることが可能となり、手のひら部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、手首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、手首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
また、第１電磁弁５１にエアセルＧとエアセルＩを接続してもよい。第１電磁弁５１と第３電磁弁５３は、同じタイミングでＯＮ/ＯＦＦされているので、電磁弁を統一してもよい。
図１４では、第１屈曲手段はエアセルＧであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＨであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第３屈曲手段はエアセルＩであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＧとエアセルＩに空気が送気され、エアセルＧとエアセルＩが膨張状態となり、手のひらと前腕の裏側が押圧される。
また、エアセルＧの回動支点は手首側に設けられており、手先側が解放端となっているため、解放端側が大きく持ち上がり、手首を屈曲させる。また、エアセルＩは、前腕の裏側を押圧し、エアセルＧとエアセルＩによって、手首は、Ｖ字状に屈曲した状態となる。この第１ステップにより、手首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＨにも空気が送気され、エアセルＨが膨張状態となり、手先が押圧される。また、エアセルＨの膨張部の一部にエアセルＧの膨張部の解放端側が重なって位置する様に重合されている。このため、エアセルＨが膨張状態となると、手先だけでなく、エアセルＧの解放端側を押し上げることが可能となり、手のひら部分を更に押し上げることが可能となっている。この第２ステップにより、手首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、手首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
また、第１電磁弁５１にエアセルＧとエアセルＩを接続してもよい。第１電磁弁５１と第３電磁弁５３は、同じタイミングでＯＮ/ＯＦＦされているので、電磁弁を統一してもよい。
［動作パターン３］
図１５は、踵を挟持する挟持手段を示す図である。
図１５に示す挟持手段は、図９や図１２の足首のストレッチ動作パターンに、追加できるものである。
前記挟持手段は、エアセルＤであり、エアセルＤは、踵を左右両側から固定・保持する様に押圧する。
エアセルＤは、第１電磁弁５１に接続されており、エアセルＡと同時に膨張する。エアセルＤは、踵を固定するので、エアセルＡが膨張して足首を屈曲させる動作を阻害せず、踵の移動を防ぐので、足首の屈曲を効果的に行えるものである。
図１５は、踵を挟持する挟持手段を示す図である。
図１５に示す挟持手段は、図９や図１２の足首のストレッチ動作パターンに、追加できるものである。
前記挟持手段は、エアセルＤであり、エアセルＤは、踵を左右両側から固定・保持する様に押圧する。
エアセルＤは、第１電磁弁５１に接続されており、エアセルＡと同時に膨張する。エアセルＤは、踵を固定するので、エアセルＡが膨張して足首を屈曲させる動作を阻害せず、踵の移動を防ぐので、足首の屈曲を効果的に行えるものである。
例えば、図９に示すストレッチ動作パターンに、挟持手段を追加した場合は、以下の様な制御を行う。
第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。また、第１電磁弁５１には、挟持手段であるエアセルＤが接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＤに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＤが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧され、踵が挟持される。踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。この場合でも。エアセルＤの踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、挟持手段であるエアセルＤを追加することで、踵の移動を防止し、より効果的に足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。また、第１電磁弁５１には、挟持手段であるエアセルＤが接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＤに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＤが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧され、踵が挟持される。踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。この場合でも。エアセルＤの踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、挟持手段であるエアセルＤを追加することで、踵の移動を防止し、より効果的に足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
例えば、図１２に示すストレッチ動作パターンに、挟持手段を追加した場合は、以下の様な制御を行う。
第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
また、第１電磁弁５１には、挟持手段であるエアセルＤが接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第３屈曲手段はエアセルＣであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＣとエアセルＤに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＣとエアセルＤが膨張状態となり、足部の土踏まずと脹脛の裏が押圧され、踵が挟持される。踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。この場合でも、エアセルＤの踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、挟持手段であるエアセルＤを追加することで、踵の移動を防止し、より効果的に足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
また、第１電磁弁５１には、挟持手段であるエアセルＤが接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
第３屈曲手段はエアセルＣであり、第３電磁弁５３に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１と第３電磁弁５３を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡとエアセルＣとエアセルＤに空気が送気され、エアセルＡとエアセルＣとエアセルＤが膨張状態となり、足部の土踏まずと脹脛の裏が押圧され、踵が挟持される。踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第１ステップにより、足首を１段階屈曲させた状態とすることができる。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を更に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢにも空気が送気され、エアセルＢが膨張状態となり、足先が押圧される。この場合でも、エアセルＤの踵の挟持によって、踵が移動しない様に固定されており、足首をより屈曲させやすい状態にすることが可能となる。この第２ステップにより、足首を２段階屈曲させた状態とすることができる。
この様に、挟持手段であるエアセルＤを追加することで、踵の移動を防止し、より効果的に足首に対して、２段階でストレッチさせることが可能となる。
［動作パターン５］
図１６は、マッサージ機１を示す図である。
図１６は、マッサージ機１の背凭れ部３が起立し、フットレスト４が上昇している。
前記制御部１４は、フットレスト４の昇降動作を利用して、前述の足首のストレッチマッサージを組み合わせることも可能である。
前記制御部１４は、前記エアユニット１０と、フットレスト４を上下に揺動させる揺動手段（アクチュエータ１１）を制御している。前記制御部１４は、フットレスト４を上昇させる第１ステップと、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる第２ステップと、第２電磁弁５２を更に駆動させる第３ステップを有している。
第１ステップにより、フットレスト４が上昇すると、使用者の大腿部から脚部までがまっすぐになる。このフットレスト４の上昇によって、第２ステップと第３ステップを実行する際に、使用者の膝が浮きにくくなり、足首がよりストレッチされる。
図１６は、マッサージ機１を示す図である。
図１６は、マッサージ機１の背凭れ部３が起立し、フットレスト４が上昇している。
前記制御部１４は、フットレスト４の昇降動作を利用して、前述の足首のストレッチマッサージを組み合わせることも可能である。
前記制御部１４は、前記エアユニット１０と、フットレスト４を上下に揺動させる揺動手段（アクチュエータ１１）を制御している。前記制御部１４は、フットレスト４を上昇させる第１ステップと、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる第２ステップと、第２電磁弁５２を更に駆動させる第３ステップを有している。
第１ステップにより、フットレスト４が上昇すると、使用者の大腿部から脚部までがまっすぐになる。このフットレスト４の上昇によって、第２ステップと第３ステップを実行する際に、使用者の膝が浮きにくくなり、足首がよりストレッチされる。
［動作パターン６］
図１７は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ７でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第３電磁弁５３は、Ｔ４でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１７は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２，第３電磁弁５３のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ７でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第３電磁弁５３は、Ｔ４でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
図１７のように、第１電磁弁５１を駆動させ、第３電磁弁５３を駆動させ、第２電磁弁を駆動させてもよい。第１ステップとして、第１電磁弁５１を駆動させることで、エアセルＡが膨張し、足首が１段階屈曲した状態とする。
次いで、第２ステップとして、第３電磁弁５３を駆動させることで、エアセルＣが膨張し、脹脛裏を押圧し、足首が２段階屈曲した状態とする。エアセルＣは、脹脛の裏を押圧し、膝が前方へ移動する方向へ力が働く。
更に、第３ステップとして、第２電磁弁５２を駆動させることで、エアセルＢが膨張し、足先が押圧され、足首が３段階屈曲された状態とする。エアセルＢは、前述の通り、足先とエアセルＡを持ち上げるように膨張する。
このように制御することで、足首を３段階ストレッチさせる動作を行うことが可能となる。
また、挟持手段のエアセルＤを膨張させて、踵を掴んだ状態でストレッチ動作をおこなってもよい。
次いで、第２ステップとして、第３電磁弁５３を駆動させることで、エアセルＣが膨張し、脹脛裏を押圧し、足首が２段階屈曲した状態とする。エアセルＣは、脹脛の裏を押圧し、膝が前方へ移動する方向へ力が働く。
更に、第３ステップとして、第２電磁弁５２を駆動させることで、エアセルＢが膨張し、足先が押圧され、足首が３段階屈曲された状態とする。エアセルＢは、前述の通り、足先とエアセルＡを持ち上げるように膨張する。
このように制御することで、足首を３段階ストレッチさせる動作を行うことが可能となる。
また、挟持手段のエアセルＤを膨張させて、踵を掴んだ状態でストレッチ動作をおこなってもよい。
［動作パターン７］
図１８は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ２〜Ｔ４の間、Ｔ５〜Ｔ７の間、Ｔ８〜Ｔ１０の間でＯＮ状態となっている。
図１８は、前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のタイムチャートである。
前記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のＯＮとＯＦＦと、ＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間が図示されている。
エアポンプ５０は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第１電磁弁５１は、Ｔ１でＯＮ状態となり、Ｔ１０までＯＮ状態となっている。
第２電磁弁５２は、Ｔ２〜Ｔ４の間、Ｔ５〜Ｔ７の間、Ｔ８〜Ｔ１０の間でＯＮ状態となっている。
図１８は、記エアポンプ５０と第１電磁弁５１，第２電磁弁５２のタイムチャートである。
図１８では、第２電磁弁５２が間欠的に動作している。
つまり、前記マッサージ機１は、第１屈曲手段を駆動させた状態で、第２屈曲手段を間欠的に駆動する動作パターンを示している。この様に制御することで、関節に対して、２段階目のストレッチ動作を複数回行うことが可能となる。
図１８では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡに空気が送気され、エアセルＡが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧される。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を間欠的に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢに給気、排気が繰り返されるようになる。このため、エアセルＢが膨張収縮し、膨張のたびに、２段階目のストレッチ動作が複数回足首に対して行われる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチを行うことが可能となり、２段階目のストレッチを複数回行うことが可能となる。
図１８では、第２電磁弁５２が間欠的に動作している。
つまり、前記マッサージ機１は、第１屈曲手段を駆動させた状態で、第２屈曲手段を間欠的に駆動する動作パターンを示している。この様に制御することで、関節に対して、２段階目のストレッチ動作を複数回行うことが可能となる。
図１８では、第１屈曲手段はエアセルＡであり、第１電磁弁５１に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。第２屈曲手段は、エアセルＢであり、第２電磁弁５２に接続されており、電磁弁のＯＮ/ＯＦＦの操作により、膨張収縮を行う様になっている。
前記制御部１４は、第１ステップとして、エアポンプ５０と第１電磁弁５１を駆動させる。この第１ステップにより、エアセルＡに空気が送気され、エアセルＡが膨張状態となり、足部の土踏まずが押圧される。
次に第２ステップとして、第２電磁弁５２を間欠的に駆動させる。この第２ステップにより、エアセルＢに給気、排気が繰り返されるようになる。このため、エアセルＢが膨張収縮し、膨張のたびに、２段階目のストレッチ動作が複数回足首に対して行われる。
この様に、ステップ１，ステップ２と順に動作させることで、足首に対して、２段階でストレッチを行うことが可能となり、２段階目のストレッチを複数回行うことが可能となる。
関節に対して２段階のストレッチを行うことが可能であり、より高いストレッチ効果を与えることができるマッサージ機を提供できる。
１ マッサージ機
２ 座部
３ 背凭れ部
４ フットレスト
４ａ，５ｃ 身体支持面（第１範囲，第２範囲）
１１ アクチュエータ（揺動機構）
Ａ エアセルＡ（第１屈曲手段）
Ｂ エアセルＢ（第２屈曲手段）
Ｃ エアセルＣ（第３屈曲手段）
Ｄ エアセルＤ（挟持手段）
Ｇ エアセルＧ（第１屈曲手段）
Ｈ エアセルＨ（第２屈曲手段）
Ｉ エアセルＩ（第３屈曲手段）
２ 座部
３ 背凭れ部
４ フットレスト
４ａ，５ｃ 身体支持面（第１範囲，第２範囲）
１１ アクチュエータ（揺動機構）
Ａ エアセルＡ（第１屈曲手段）
Ｂ エアセルＢ（第２屈曲手段）
Ｃ エアセルＣ（第３屈曲手段）
Ｄ エアセルＤ（挟持手段）
Ｇ エアセルＧ（第１屈曲手段）
Ｈ エアセルＨ（第２屈曲手段）
Ｉ エアセルＩ（第３屈曲手段）
Claims (9)
- 身体の手首の関節及び／又は身体の足首の関節を屈曲させてマッサージを行うマッサージ機において、
手先から前腕及び／又は足裏から脹脛を支持する身体支持面は、前記関節を中心として、身体の末端側を支持する第１範囲と、身体の基端側を支持する第２範囲と、を有し、
前記第１範囲には、前記関節を屈曲させる第１屈曲手段と第２屈曲手段が設けられており、
前記第１屈曲手段と前記第２屈曲手段は、前記関節側を支点に前記身体支持面に取り付けられ、
前記第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段よりも前記関節に近い位置に配置されており、
前記第１屈曲手段と前記第２屈曲手段は、エアセルであり、
前記第１屈曲手段は、前記第２屈曲手段と重なり合った重合部を有し、
前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有していることを特徴とするマッサージ機。 - 前記第２範囲には、前記関節を屈曲させる第３屈曲手段が設けられており、
前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段と前記第３屈曲手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有していることを特徴とする請求項１に記載のマッサージ機。 - 前記第１範囲には、身体の足部が支持され、
前記第１屈曲手段は、足裏の土踏まずに対応する位置に設けられ、
前記第２屈曲手段は、足裏の足先に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載のマッサージ機。 - 前記第２範囲には、身体の脚部が支持され、
前記第３屈曲手段は、脹脛の裏に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項２又は３に記載のマッサージ機。 - 前記マッサージ機は、更に踵を挟持する挟持手段を有しており、
前記マッサージ機は、前記第１屈曲手段と前記挟持手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンと、
前記第１屈曲手段と前記第３屈曲手段と前記狭圧手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有していることを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載のマッサージ機。 - 前記第１屈曲手段と、前記第２屈曲手段は、マッサージ機のフットレストに設けられており、
前記マッサージ機は、更に座部を有しており、
前記座部は、前記フットレストを上下させる揺動機構を有しており、
前記マッサージ機は、前記フットレストを上昇させた状態で、前記第１屈曲手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有していることを特徴とする請求項１に記載のマッサージ機。 - 前記第１屈曲手段と、前記第２屈曲手段と、前記第３屈曲手段と、前記挟持手段は、前記マッサージ機のフットレストに設けられており、
前記マッサージ機は、更に座部を有しており、
前記座部は、フットレストを上下させる揺動機構を有しており、
前記マッサージ機は、
前記フットレストを上昇させた状態で、前記第１屈曲手段と前記挟持手段を駆動させた後に、前記第２屈曲手段を駆動させる動作パターンと、
前記第１屈曲手段と第３屈曲手段と狭圧手段を駆動させた後に、第２屈曲手段を駆動させる動作パターンを有していることを特徴とする請求項５に記載のマッサージ機。 - 第１範囲には手部が支持され、
前記第１屈曲手段は、手のひらに対応する位置に設けられ、
前記第２屈曲手段は、手先に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載のマッサージ機。 - 第２範囲には前腕部が支持され、
前記第３屈曲手段は、前腕の裏に対応する位置に設けられることを特徴とする請求項８に記載のマッサージ機。
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