JP6640577B2 - 硬質皮膜 - Google Patents
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Description
−結晶構造−
被膜内部の結晶構造は、X線回折装置(リガク社製:RINT2500 VHF)を用いて測定した。X線入射角は2°とし、回折角(2θ)は20°〜120°の範囲でX線回折スペクトルを測定した。ターゲットには銅を用いた。(111)面及び(200)面のピークを用いて格子定数を算出した。
硬質被膜表面の組成は、X線光電子分光(XPS)装置(日本電子製:JPS-9020)を用いて測定した。XPS測定の条件は、試料に対する検出角度を90度とし、X線源にはAlを用い、X線照射エネルギーを100Wとした。1回の測定時間は0.2msとし、1つの試料について32回測定を行った。炭素中を進む光電子の非弾性平均自由工程を考慮すると、表面から9nmまでの範囲について測定されると考えられる。さらに、光電子は表面から深くなるにつれて脱出しにくくなり、光電子の検出は表面から深くなるほど減衰する。従って、今回測定された情報の50%は表面からおよそ1.5nmまでの最表層の情報で占められていると考えられる。また、深さ方向の組成測定は、Ar雰囲気、圧力0.1Pa下、印加電圧500Vのエッチング処理を1分間実施後の測定する操作を20回繰り返した。このときエッチング後深さは、エッチング処理前後の膜厚差から算出したエッチングレートである9nm/minから算出した。
得られた硬質皮膜を、大気雰囲気において、900℃で1.1時間加熱し、形成された酸化膜の膜厚を測定した。酸化膜の膜厚は、エネルギー分散型X線分析(EDX)による元素マッピングを行い、酸化層の厚さから算出した。
被膜の硬度及び弾性率(ヤング率)は、ナノインデンテーション装置(Hysitron社製:TI-950 Triboindenter)により測定した。ダイヤモンドの圧子は稜線角が115°の三角錐のBerkovich型とし、ダイヤモンド圧子の押し込み加重を2600μNとして荷重−変位曲線を求め、得られた荷重−変位曲線から硬度及び弾性率を算出した。
被膜を形成したプレス用金型の摩擦係数及び破断加圧荷重は、ビード引き抜き試験により測定した。具体的に、図1に示すオス側金型311及びメス側金型312からなるプレス用金型310を準備した。図2に示すように、20×300×1.4mmの高張力鋼材SPFC980Y(100k級ハイテン)からなる鋼板315を、プレス用金型310に挟み込んだ。鋼板315を挟み込んだプレス用金型310を小型プレス機にセットし、10kNの押し付け荷重を加えた状態で、挟み込まれた鋼板315の一端を500mm/minの一定速度で引っ張った。各距離における引抜荷重F及び押付荷重Pを測定し、「摩擦係数μ=引抜荷重F/押付荷重P/2」の式より各距離における摩擦係数を算出し、引張距離が20mm〜100mmの間の摩擦係数の平均値を、各サンプルの摩擦係数とした。
まず、図1に示した形状及び寸法で、その表面がRa=0.05μm程度に鏡面仕上げされたSKD11からなるオス側金型母材及びメス側金型母材のセットを準備した。
ターゲットをチタンとし、供給ガスを窒素ガス雰囲気下で圧力4.0Paに維持し、基盤電圧を30V、アーク放電の電流を160Aとして中間層第一層である窒化チタン(TiN)膜を形成した。その後メタンガス(CH4)を導入し、圧力を2.7Pa、基盤電圧を200Vに変更し、中間層第二層である炭窒化チタン(TiCN)膜を形成した。その後、窒素ガスの供給を停止し、硬質被膜炭化チタン(TiC)膜を形成した。
中間層形成において、ターゲットをチタンとし、基盤電圧50Vにて窒化チタン(TiN)膜を形成した。また、硬質被膜形成において使用ターゲットをアルミニウムとチタン合金とし、そのモル比(Al:Ti)を50:50とした上で、基盤電圧を50Vとして窒化チタン、窒化アルミニウムからなる膜(TiAlN)とした以外は、実施例1と同様にした。
硬質皮膜形成において、ターゲットをチタン、クロム及びアルミニウムの合金(比率10:45:45)とし、基盤電圧を50Vとして窒化チタン、窒化クロム及び窒化アルミニウムからなる膜(TiCrAlN)を形成した以外は、実施例1と同様にした。
311 オス側金型
312 メス側金型
315 鋼板
Claims (9)
- アルミニウムの窒化物及びクロムの窒化物を含み、表面における、アルミニウムのアルミニウムとクロムとの合計に対するモル比が0.75以上、0.82以下であり、且つ表面における酸素の窒素と酸素との合計に対するモル比が0.25以上、0.35以下であり、
111面の格子定数が2.38以下、ピーク角度が37.7°以上であり、200面の格子定数が2.06以下、ピーク角度が43.9°以上である、硬質皮膜。 - 表面における、アルミニウムの組成比が36at%以上、41at%以下であり、クロムの組成比が8at%以上、12at%以下である請求項1に記載の硬質皮膜。
- 表面における、窒素の組成比が34at%以上、40at%以下、酸素の組成比が5at%以上、18at%以下である請求項1又は2に記載の硬質皮膜。
- 表面から深さ方向に連続的又は断続的に酸素比率が減少しており、表面から150nm以上の深さにおいて酸素の窒素と酸素との合計に対するモル比が0.15以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬質皮膜。
- ナノインデンテーション硬度Hが28GPa以上であり、ナノインデンテーション弾性率Eとの比E/Hが10.0以上である請求項1〜4のいずれかに記載の硬質皮膜。
- 中間層の上に形成されており、
前記中間層は、第一層として厚さが2μm以下の金属膜を含み、第二層として厚さが0.5μm以上、4μm以下の窒化膜又は炭窒化膜を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬質皮膜。 - 前記第一層は、Cr膜であり、前記第二層は、CrN膜である、請求項6に記載の硬質皮膜。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬質皮膜が設けられていることを特徴とするプレス用金型。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬質皮膜が設けられていることを特徴とする工具。
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